JP3712573B2 - 薬液弁 - Google Patents
薬液弁 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3712573B2 JP3712573B2 JP33371799A JP33371799A JP3712573B2 JP 3712573 B2 JP3712573 B2 JP 3712573B2 JP 33371799 A JP33371799 A JP 33371799A JP 33371799 A JP33371799 A JP 33371799A JP 3712573 B2 JP3712573 B2 JP 3712573B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pure water
- valve
- flow path
- chemical
- valve body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Weting (AREA)
- Fluid-Driven Valves (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置で使用される薬液弁に関し、さらに詳細には、薬液弁中に残留する薬液を純水で洗い流すことのできる薬液弁に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、半導体製造工程で使用される薬液として、塩酸、フッ酸、リン酸、アンモニア等の腐食性を有するものが多量に使用されており、耐食性のあるPTFE等の樹脂により形成された薬液弁が使用されている。
ここで、半導体製造工程のメインテナンス作業等のために、薬液弁を取り外すことがある。そのときには、メインテナンスの前に事前に薬液弁の内部に残留している薬液を排除しておく必要がある。そのため、薬液を一度窒素ガス等の不活性ガスで排除し、さらに壁面に付着残留している薬液を純水で洗い流すことが行われている。
【0003】
具体的には、薬液弁の出力ポートを2つの流路に分岐して、一方を出力側に接続し、他方を純水弁を介して純水供給源及び窒素ガス供給源に接続していた。そして、薬液弁の供給が終わり薬液弁が閉じられると、始めに純水弁を開いて出力ポート側に窒素ガスを供給し、次いで純水弁を開いて出力ポート側に純水を流して壁面に付着残留している薬液を純水で洗い流していた。
しかし、純水弁から供給された純水は、出力ポートより下流の分岐点からさらに下流に流れるので、分岐点から薬液弁の弁孔までの間の流路壁面に残留している薬液を純水で洗い流せない問題があった。
【0004】
その問題を解決するための手段として、従来からいくつかの提案がなされている。
例えば、特開平10−299914号公報では、図5に示すように、直線堰式の弁103を用いて、出力側流路101に洗浄用弁5の出力流路4を直接溶接しているものが提案されている。
これによれば、弁103の出力側流路に純水を直接流せるため、洗浄効果が大きいと予想される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の特開平10−299914号公報に記載されている発明には、次のような問題があった。
(1)出力流路内に滞留する薬液を純水で置換するために、出力流路を中心として、弁103と弁105とが対称的な位置関係にせざるを得ない。そのため、弁103、出力流路、弁105とが直線的に接続され、直線的な長さが大きくなり、大きなスペースを必要とする問題があった。
近年半導体製造装置においては、枚葉処理化等に伴う半導体製造設備のコンパクト化、ガス供給装置の集積化等が進められている。従って、大きなスペースを必要とする上記装置は、その要望に逆行する問題があった。
【0006】
(2)弁105により供給される純水は一般的に、弁103の出力流路の壁面に付着残留する薬液のみを除去することを目的とせず、下流の設けられている配管の壁面に残留している薬液を洗い流すことも目的としている。しかし、特開平10−299914号公報に記載されている発明においては、弁105から供給される純水がダイヤフラム106に衝突するように流れるため、供給した純水の運動エネルギが大きく減少され、下流配管の壁面に残留する薬液を除去しきれない問題がある。また、長い時間かけて純水を流して薬液を洗い流すことは可能であったが、余分な純水を消費することとなり、コストアップとなる問題があった。
【0007】
(3)半導体製造工程における設備の定期的なメインテナンス作業は通常、半年に1回程度行われている。このとき、メインテナンス担当者が、窒素ガスを流すときと、純水を流すときとに、純水手動弁を開閉する作業を行うことは煩雑であり、メインテナンスの作業効率を著しく低下させていた。
【0008】
本発明は、少ない量の純水を用いて、薬液弁内に残っている薬液を速やかに純水で洗い流すことのできる薬液弁を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の薬液弁は次のような構成を有している。(1)入力ポートと出力ポートとを連通・遮断する弁座が形成された弁本体ブロックと、該弁座に当接または離間する弁体とを有する薬液弁であって、(1)弁本体ブロックに、弁座の出力ポート側近傍に形成された出力流路空間と、純水入力ポートと、出力流路空間と純水入力ポートとを連通する純水流路と、純水流路途中に設けられた純水弁座とが一体的に形成され、(2)純水弁座に当接または離間する純水弁体を有し、前記弁体が円筒状であって、前記出力流路空間が前記弁体の外周囲に形成され、円柱状の空間であって、前記出力ポートと前記純水入力ポートとが同軸上にあって対向する位置で前記出力流路空間と連通していることを特徴とする。
上記構成を有する薬液弁によれば、純水弁から純水が出力流路空間に直接流れ込み、出力流路空間に残留している薬液を洗い流すため、薬液弁内に残留する薬液を速やかに純水で洗い流すことができる。また、純水流路、純水弁座、純水入力ポートが弁本体ブロックに一体的に形成されているので従来の薬液弁と比較して、薬液弁の大きさをコンパクト化することができる。
円筒形状の弁体の外周に形成された出力流路空間の一方から供給された純水が、出力流路空間の対向する位置に設けられた連通孔から出力されるため、出力流路空間内に残留している薬液を効率的に純水を洗い流すことができる。また、出力ポートと純水入力ポート とが同軸上にあって対向する位置にあり、途中の障害物が円筒形状であるので、供給された純水の運動エネルギの減少を最小限に抑えることができ、下流配管の壁に付着残留している薬液を短時間で洗い流すことができる。それにより、消費する純水の量を低減できコストダウンが可能となる。
【0010】
【0011】
(2)(1)に記載する薬液弁において、前記薬液弁がパイロット弁であって、前記純水弁体を駆動するための純水パイロット弁が、前記弁本体ブロックに直接取り付けられていることを特徴とする。
純水パイロット弁を弁本体の側面に、弁本体と一体的に直接取り付けているので、薬液弁全体をコンパクト化することができる。さらに、純水パイロット弁を使用しているので、半導体製造工程のメインテナンスを開始するときに、作業者が個別作業を行う手間がなくなるため、メインテナンスの作業効率を高めることができる。
【0012】
(3)(1)に記載する薬液弁において、前記薬液弁が手動弁であって、前記純水弁体を駆動するための純水手動弁が、前記弁本体に直接取り付けられていることを特徴とする。
純水手動弁を弁本体の側面に、弁本体ブロックと一体的に直接取り付けているので、薬液弁全体をコンパクト化することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の薬液弁を実施した実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。図1は、第1実施の形態の薬液弁1の中央断面図を示し、図2は、図1の平面図を示す。
薬液弁1は大きく、下部ブロック19、中央ブロック11、及び手動弁部2から構成されている。このうち、中央ブロック11と下部ブロック19とより薬液弁1の弁本体が構成されている。下部ブロック19はボルトにより基板32に固設されている。薬液弁1においては、下部ブロック19、中央ブロック11の材質は、塩酸等の酸を想定して、PTFEを用いている。レジスト液等を使用するときはステンレス製とすると良い。
下部ブロック19には、薬液の入力流路33が形成されている。中央ブロック11には、下面から上向きに円孔状の入力流路18が入力流路33と連通して形成されている。入力流路18が薬液用弁孔を構成している。
入力流路18の上には段差が形成され、円柱状の空間である出力流路空間14が形成されている。その段差部には、弁座17が形成されている。出力流路空間14には、図中左側に出力流路16が連通している。また、出力流路16の180度反対側には、純水流路26が連通している。この純水流路26が純水弁孔を構成している。純水流路26には、段差部が形成され、段差部に純水弁座28が形成されている。
【0014】
出力流路空間14の中心には、ダイヤフラム弁体15が弁座17に対して当接または離間可能に保持されている。ダイヤフラム弁体15は、中央に円筒状の弁体を備え、ダイヤフラム部の外周は、中央ブロック11及びダイヤフラム固定ブロック20により挟まれて固定されている。ダイヤフラム弁体15の上端面中心には、第1軸心21が固設されている。また、第1軸心21には、第2軸心22が固設されている。
ダイヤフラム固定ブロック20は、手動弁下部ブロック12により中央ブロック11に対して取り付けられている。手動弁下部ブロック12の上部の外周には、雄ネジが形成されている。その雄ネジに手動弁調節つまみ13がネジ結合されている。手動弁調節つまみ13により、バネ押さえ25を介して圧縮バネ24がダイヤフラム弁体15を弁座17に付勢する状態で取り付けられている。手動弁下部ブロック12及びダイヤフラム固定ブロック20には、空気抜き孔23が形成されている。
【0015】
純水流路26の段差部には、純水弁座28と当接または離間可能に純水弁体29が保持されている。また、純水流路26の段差部には純水入力ポート27が連通している。純水入力ポート27は、切換弁を介して純水の供給源及び窒素ガス供給源に接続されている。
また、中央ブロック11には、ダイヤフラム固定ブロック30が固設されている。ダイヤフラム固定ブロック30の中心孔には、雌ネジが形成されている。また、ダイヤフラム固定ブロック30の雌ネジには、外周に雄ネジが形成された純水軸心31がネジ連結されている。また、純水軸心31には、純水弁体29が固設されている。
【0016】
次ぎに、上記構成を有する薬液弁1の作用について説明する。
薬液弁1は、半導体製造ラインに塩酸等の薬液を供給するための元弁として使用されている。通常は、純水軸心31
ラインでその薬液を使用する場合には、手動弁調節つまみ13を反時計方向に回転させて、圧縮バネ24がダイヤフラム弁体15を弁座17に付勢している力を減少させる。そして、入力流路18に供給されている薬液の圧力により、ダイヤフラム弁体15が上方に押し上げられて入力流路18と出力流路16とが連通し、薬液が出力流路16から下流に供給される。
ラインで薬液を使用しないときは、手動弁調節つまみ13を時計方向に回転させて、圧縮バネ24がダイヤフラム弁体15を弁座17に付勢している力を増加させる。そして、ダイヤフラム弁体15を弁座17に押圧して入力流路18と出力流路16との連通を遮断する。
【0017】
一方、半導体製造ラインをメインテナンスするときには、当然手動弁調節つまみ13により、ダイヤフラム弁体15を弁座17に当接させた状態とする。その状態で、純水軸心を反時計方向に回転させ、純水入力ポート27と純水流路26とを連通させる。そして、図示しない切換弁により窒素ガス供給源から窒素ガスを出力流路空間14内に注入する。これにより、出力流路空間14内等の薬液が出力流路16から外部に押し出される。
しかし、出力流路空間14等の壁面には、薬液が付着残留している。
【0018】
次ぎに、切換弁により純水を純水入力ポート27に供給する。供給された純水は出力流路空間14に直接流れ込み、出力流路空間14に残留している薬液を洗い流すため、薬液弁1内に残留する薬液を速やかに純水で洗い流すことができる。
また、円筒形状のダイヤフラム弁体15の外周に形成された出力流路空間14の一方から供給された純水が、出力流路空間14の対向する位置に設けられた出力流路16から出力されるため、出力流路空間14内に残留している薬液を効率的に純水を洗い流すことができると共に、出力流路16と純水流路26とが同軸上にあって対向する位置にあり、途中の障害物であるダイヤフラム弁体15が円筒形状であるので、供給された純水の運動エネルギの減少を最小限に抑えることができ、下流配管の壁に付着残留している薬液を短時間で洗い流すことができる。
【0019】
以上詳細に説明したように、本実施の形態の薬液弁1によれば、(1)弁本体に、入力流路18の出力側近傍に形成された出力流路空間14と、純水流路26と、出力流路空間14と純水入力ポート27とを連通する純水流路26と、純水流路26途中に設けられた純水弁座28とが弁本体ブロックである中央ブロック11に一体的に形成され、(2)純水弁座28に当接または離間する純水弁体29とを有しているので、純水弁から純水が出力流路空間14に直接流れ込み、出力流路空間14に残留している薬液を洗い流すため、薬液弁1内に残留する薬液を速やかに純水で洗い流すことができる。また、純水流路26、純水弁座28、純水入力ポート27が、中央ブロック11に形成されているので、従来の薬液弁と比較して、薬液弁の大きさをコンパクト化することができる。
【0020】
また、本実施の形態の薬液弁1によれば、ダイヤフラム弁体15が円筒状であって、出力流路空間14がダイヤフラム弁体15の外周囲に形成され、円柱状の空間であって、純水流路26と出力流路16とが同軸上にあって対向する位置で出力流路空間14と連通しているので、円筒形状のダイヤフラム弁体15の外周に形成された出力流路空間14の一方から供給された純水が、出力流路空間14の対向する位置に設けられた出力流路16から出力されるため、出力流路空間14内に残留している薬液を効率的に純水を洗い流すことができると共に、出力流路16と純水流路26とが同軸上にあって対向する位置にあり、途中の障害物が円筒形状であるので、供給された純水の運動エネルギの減少を最小限に抑えることができ、下流配管の壁に付着残留している薬液を短時間で洗い流すことができる。それにより、消費する純水の量を低減できコストダウンが可能となる。
【0021】
また、本実施の形態の薬液弁1によれば、薬液弁1が手動弁であって、純水弁体29を駆動するための純水手動弁が、弁本体ブロックの一部である中央ブロック11に直接取り付けられているので、薬液弁1全体をコンパクト化することができる。
【0022】
次ぎに、本発明の第2の実施の形態の薬液弁3について説明する薬液弁3の基本的構成は、薬液弁1と同じであるので、相違する点についてのみ説明し、同じ部分については説明を省略する。
第1に、薬液弁3は、ダイヤフラム弁体15がパイロット弁部4により駆動される点が相違している。第2に、薬液弁3は、純水弁体29がパイロット弁により駆動されている点が相違している。
パイロット弁部4の構成について説明する。パイロット弁ブロック49の内側には、シリンダ室51が形成され、ピストン45が摺動可能に保持されている。ピストン45の下端にダイヤフラム弁体15の上端が固設されている。ピストン45は圧縮バネ46により下方に向けて付勢されている。シリンダ室51のピストン45の両側には、駆動空気ポート47,48が形成されている。
【0023】
次ぎに純水弁の構成を説明する。中央ブロック11の側面に純水ブロック53が固設されている。この純水ブロック53も弁本体の一部を構成している。純水ブロックの内側には、シリンダ室52が形成されている。シリンダ室52には、ピストン41が摺動可能に保持されている。ピストン41の左端に純水弁体29の右端が固設されている。ピストン41は圧縮バネ42により左方向に付勢されている。シリンダ室52のピストン41の両側には、駆動空気ポート43,44が形成されている。
【0024】
次ぎに、薬液弁3の作用効果を説明する。薬液弁3は、薬液弁1と異なり、駆動空気ポート47に駆動空気を供給してピストン45を移動させることにより、ダイヤフラム弁体15を移動されるため、作業者が逐一作業する必要がなく、便利である。
また、メインテナンスときには、駆動空気ポート44に駆動空気を供給してピストン41を移動させることにより、純水弁体29を移動させるため、作業者が逐一作業する必要がなく、便利である。
【0025】
薬液弁3によれば、純水弁体29を駆動するための純水パイロット弁が、弁本体ブロックである中央ブロック11に一体的に直接取り付けられているので、薬液弁3全体をコンパクト化することができる。さらに、純水パイロット弁を使用しているので、半導体製造工程のメインテナンスを開始するときに、作業者が個別作業を行う手間がなくなるため、メインテナンスの作業効率を高めることができる。
【0026】
以上本発明の薬液弁について詳細に説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されることなく、色々な応用が可能である。
例えば、本実施の形態においては、純水流路26及び出力流路16を出力流路空間14の中心より下側に設けたが、両者をダイヤフラム部の近傍に設けても良い。
また、本実施の形態においては、出力流路16に接続する継手として複数種類の大きさの継手を想定しているため、ダイヤフラム弁体15の円筒部の長さを長くしているが、ダイヤフラム弁体15の円筒部の長さを短くとることも可能である。
また、本実施の形態においては、薬液を排除するときに始めに窒素ガスを供給し、その後純水で洗い流すことを行っているが、始めから純水により置換することも可能である。
【0027】
【発明の効果】
本発明の薬液弁によれば、(1)入力ポートと出力ポートとを連通する弁孔が形成された弁本体ブロックと、弁孔に当接または離間する弁体とを有する薬液弁であって、(1)弁本体ブロックに、出力ポート側の弁孔近傍に形成された出力流路空間と、純水入力ポートと、出力流路空間と純水入力ポートとを連通する純水流路と、純水流路途中に設けられた純水弁孔とが一体的に形成され、(2)純水弁孔に当接または離間する純水弁体を有しているので、純水弁から純水が出力流路空間に直接流れ込み、出力流路空間に残留している薬液を洗い流すため、薬液弁内に残留する薬液を速やかに純水で洗い流すことができる。また、純水流路、純水弁孔、純水入力ポートが弁本体ブロックに一体的に形成されているので従来の薬液弁と比較して、薬液弁の大きさをコンパクト化することができる。
【0028】
また、本発明の薬液弁によれば、弁体が円筒状であって、出力流路空間が弁体の外周囲に形成され、円柱状の空間であって、出力ポートと純水入力ポートとが同軸上にあって対向する位置で出力空間と連通しているので、円筒形状の弁体の外周に形成された出力流路空間の一方から供給された純水が、出力流路空間の対向する位置に設けられた連通孔から出力されるため、出力流路空間内に残留している薬液を効率的に純水を洗い流すことができる。また、出力ポートと純水入力ポートとが同軸上にあって対向する位置にあり、途中の障害物が円筒形状であるので、供給された純水の運動エネルギの減少を最小限に抑えることができ、下流配管の壁に付着残留している薬液を短時間で洗い流すことができる。それにより、消費する純水の量を低減できコストダウンが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施の形態である薬液弁1の構成を示す断面図である。
【図2】 薬液弁1の平面図である。
【図3】 本発明の第2実施の形態である薬液弁3の構成を示す断面図である。
【図4】 薬液弁3の平面図である。
【図5】 従来の薬液弁の構成を示す部分断面図である。
【符号の説明】
1 薬液弁
2 手動弁部
3 薬液弁
4 パイロット弁部
11 中央ブロック
14 出力流路空間
15 ダイヤフラム弁体
16 出力流路
17 弁座
18 入力流路
26 純水流路
28 純水弁座
Claims (1)
- 入力ポートと出力ポートとを連通・遮断するための弁座が形成された弁本体ブロックと、該弁座に当接または離間する弁体とを有する薬液弁において、
前記弁本体ブロックに、
前記弁座の前記出力ポート側近傍に形成された出力流路空間と、
純水入力ポートと、
前記出力流路空間と前記純水入力ポートとを連通する純水流路と、
前記純水流路途中に設けられた純水弁座とが一体的に形成され、
前記純水弁座に当接または離間する純水弁体を有し、
前記弁体が円筒状であって、
前記出力流路空間が前記弁体の外周囲に形成され、円柱状の空間であって、
前記出力ポートと前記純水入力ポートとが、同軸上にあって対向する位置で、前記出力流路空間と連通していること、
前記純水弁体を駆動するための純水手動弁が、前記純水流路と同じ方向に純水弁体が移動するように、前記弁本体ブロックの側面の前記純水ポートに直接取り付けられていることを特徴とする薬液弁。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33371799A JP3712573B2 (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 薬液弁 |
TW89110493A TW477884B (en) | 1999-11-25 | 2000-05-30 | Chemical liquid valve |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33371799A JP3712573B2 (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 薬液弁 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001149844A JP2001149844A (ja) | 2001-06-05 |
JP3712573B2 true JP3712573B2 (ja) | 2005-11-02 |
Family
ID=18269186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33371799A Expired - Lifetime JP3712573B2 (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 薬液弁 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3712573B2 (ja) |
TW (1) | TW477884B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1293314C (zh) * | 2004-08-04 | 2007-01-03 | 浙江大学 | 纯水电磁开关阀 |
CN1300475C (zh) * | 2004-08-04 | 2007-02-14 | 浙江大学 | 纯水电磁球阀 |
CN101069035B (zh) | 2004-11-30 | 2012-05-23 | 喜开理株式会社 | 用于流体装置的连接密封结构 |
JP4653551B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2011-03-16 | シーケーディ株式会社 | 薬液弁取付方法 |
CN103573735B (zh) * | 2013-11-14 | 2015-09-16 | 浙江大学 | 应用位移-力反馈原理的先导大流量负载控制阀 |
KR102476802B1 (ko) * | 2021-05-12 | 2022-12-12 | 주식회사 이엠텍 | 액상 약품 주입기용 밸브 |
-
1999
- 1999-11-25 JP JP33371799A patent/JP3712573B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-05-30 TW TW89110493A patent/TW477884B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001149844A (ja) | 2001-06-05 |
TW477884B (en) | 2002-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3737869B2 (ja) | プロセスガス供給ユニット | |
EP0806573B1 (en) | Fluid control device | |
JP5887089B2 (ja) | 液体供給装置 | |
KR980011819A (ko) | 가스공급유닛 | |
US7418978B2 (en) | Methods and apparatus for providing fluid to a semiconductor device processing apparatus | |
US20130333768A1 (en) | Point of use valve manifold for semiconductor fabrication equipment | |
US20060272721A1 (en) | Gas-panel assembly | |
WO2003001093A1 (fr) | Soupape de collecteur | |
JP3712573B2 (ja) | 薬液弁 | |
EP2025981B1 (en) | Fluid device unit structure | |
US20100163125A1 (en) | Fluid apparatus unit structure | |
WO2024179497A1 (zh) | 转接装置及半导体工艺设备 | |
JP3871438B2 (ja) | プロセスガス供給ユニット | |
JPH09184599A (ja) | ガス供給集積ユニット | |
KR100372251B1 (ko) | 반도체 설비용 가스 분배장치 | |
KR100614656B1 (ko) | 밸브 어셈블리 및 이를 가지는 반도체 제조 장치, 그리고트랩을 세정하는 방법 | |
JP2008106811A (ja) | 流体制御ユニット | |
JP4077998B2 (ja) | プロセスガス供給ユニット | |
JP5046423B2 (ja) | 原料液供給ユニット | |
JP2017141896A (ja) | バルブ及びこれを用いたマニホールドバルブ | |
JPH06117559A (ja) | バルブ構造 | |
JPH1069317A (ja) | マスフローコントローラ取付構造 | |
KR200205120Y1 (ko) | 블록 조립식 가스 공급장치 | |
TW202436784A (zh) | 轉接裝置及半導體製程設備 | |
JPH1026300A (ja) | ガス供給ユニット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040914 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041112 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050405 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050518 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050620 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050802 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050817 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3712573 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080826 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090826 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100826 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110826 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110826 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120826 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120826 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130826 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130826 Year of fee payment: 8 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |