JPH10308428A - 除電方法および除電機能を備えた処理装置 - Google Patents

除電方法および除電機能を備えた処理装置

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JPH10308428A
JPH10308428A JP9131615A JP13161597A JPH10308428A JP H10308428 A JPH10308428 A JP H10308428A JP 9131615 A JP9131615 A JP 9131615A JP 13161597 A JP13161597 A JP 13161597A JP H10308428 A JPH10308428 A JP H10308428A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 イオナイザーを用いずに簡易に確実に処理装
置の除電を行うことができる除電方法、およびこのよう
な除電が可能な除電機能を有する処理装置を提供するこ
と。 【解決手段】 処理装置は、基板Ｓに処理を施す複数の
処理機構を備えた処理部２と、基板Ｓを収容する被処理
体収容部１１と、静電気中和機能を有する部材Ｎを待機
させる待機部１３と、基板Ｓおよび部材Ｎを選択的に処
理部２に対して搬入出する第１の搬送機構１１と、処理
部２内で各処理機構に対して基板Ｓまたは部材Ｎを搬入
出する第２の搬送機構１８，１９と、所定数の基板Ｓの
処理が終了した後、待機部１３から部材Ｎを取り出し、
その部材を基板Ｓの処理フロートの少なくとも一部のフ
ローで装置内にフローさせるように第１および第２の搬
送機構１１，１８，１９を制御するコントローラ４１と
を具備しており、部材Ｎにより装置内を除電する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばＬＣＤ基板
や半導体ウエハ等の被処理体に対して所定の処理を行う
処理装置を除電する除電方法および除電機能を有する処
理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばＬＣＤや半導体デバイスの製造に
おいては、被処理体としての基板にフォトレジストを塗
布し、回路パターンに対応してフォトレジストを露光
し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグ
ラフィー技術により回路が形成される。
【０００３】このようなレジスト塗布・現像工程は、基
板を洗浄する洗浄ユニット、基板に対してアドヒージョ
ン処理を行うアドヒージョンユニット、基板にレジスト
膜を塗布する塗布ユニット、基板を加熱する加熱ユニッ
ト、加熱された基板を常温まで冷却する冷却ユニット、
露光後の基板に現像処理を施す現像ユニットを備えたレ
ジスト塗布・現像システムによってなされる。
【０００４】このようなレジスト塗布・現像システムに
おいては、各ユニットにおいて基板載置台や真空チャッ
ク等が存在し、これら各ユニットに対し、搬送アームに
より基板を搬送するが、これら基板載置台、吸着チャッ
ク、および搬送アーム等は帯電しやすく、静電気が発生
しやすい。このように静電気が発生した部分はパーティ
クルが吸着しやすく、このようなパーティクルが基板に
対して悪影響を及ぼす。また、静電気破壊の原因ともな
る。このため、従来は処理装置の静電気が発生した部分
をイオナイザーを利用して除電している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、イオナ
イザーは装置が大がかりであって高価であり、しかもメ
ンテナンスが必要であるという欠点がある。また取付場
所が限定されるため、除電することができない部分が生
じる。さらに、イオナイザー自体からパーティクルが発
生するおそれがある。本発明はかかる事情に鑑みてなさ
れたものであって、イオナイザーを用いずに簡易に確実
に処理装置の除電を行うことができる除電方法、および
このような除電が可能な除電機能を有する処理装置を提
供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第１発明は、被処理体に所定の処理を施す処理装置
において、装置内を除電する除電方法であって、静電気
中和機能を有する部材を、被処理体の処理フローの少な
くとも一部のフローで装置内にフローさせて装置内を除
電することを特徴とする除電方法を提供する。
【０００７】第２発明は、第１発明において、前記静電
気中和機能を有する部材は、その面の寸法および形状が
被処理体と略同一であることを特徴とする除電方法を提
供する。
【０００８】第３発明は、被処理体に処理を施す処理機
構と、被処理体を収容する被処理体収容部と、静電気中
和機能を有する部材を待機させる待機部と、被処理体お
よび前記静電気中和機能を有する部材を選択的に前記処
理機構に対して搬入出するための搬送機構と、所定数の
被処理体の処理が終了した後、被処理体の処理フローの
少なくとも一部のフローで前記静電気中和機能を有する
部材を装置内にフローさせるように前記搬送機構を制御
する制御手段とを具備し、前記静電気中和機能を有する
部材により装置内を除電することを特徴とする、除電機
能を備えた処理装置を提供する。
【０００９】第４発明は、被処理体に処理を施す複数の
処理機構を備えた処理部と、被処理体を収容する被処理
体収容部と、静電気中和機能を有する部材を待機させる
待機部と、被処理体および前記静電気中和機能を有する
部材を選択的に前記処理部に対して搬入出するための第
１の搬送機構と、前記処理部内で各処理機構に対して被
処理体または前記静電気中和機能を有する部材を搬入出
するための第２の搬送機構と、所定数の被処理体の処理
が終了した後、前記待機部から前記静電気中和機能を有
する部材を取り出し、その部材を被処理体の処理フロー
の少なくとも一部のフローで装置内にフローさせるよう
に前記第１の搬送機構および第２の搬送機構を制御する
制御手段とを具備し、前記静電気中和機能を有する部材
により装置内を除電することを特徴とする、除電機能を
備えた処理装置を提供する。
【００１０】第５発明は、第３発明または第４発明にお
いて、前記静電気中和機能を有する部材は、その面の寸
法および形状が被処理体と略同一であることを特徴とす
る、除電機能を備えた処理装置を提供する。第６発明
は、第３発明ないし第５発明のいずれかにおいて、さら
に、前記待機部にて前記静電気中和機構を有する部材を
除電する除電手段を備えたことを特徴とする処理装置を
提供する。
【００１１】第１発明によれば、静電気を中和する機能
を有する部材を被処理体の処理フローの少なくとも一部
のフローで装置内にフローさせて装置内を除電するの
で、イオナイザーのような大がかりな装置を用いずに、
しかも被処理体によって静電気が発生する部分を確実に
除電することができる。
【００１２】第３発明および第４発明によれば、制御手
段により、所定数の被処理体の処理が終了した後、待機
部から静電気中和機能を有する部材を搬送機構により被
処理体の処理フローの少なくとも一部のフローで処理装
置内にフローさせて処理装置内を除電するので、イオナ
イザーのような大がかりな装置を用いずに、しかも被処
理体によって静電気が発生する部分を確実に、かつ自動
的に除電することができる。
【００１３】第２発明および第５発明によれば、静電気
中和機能を有する部材の面の寸法および形状を被処理体
と略同一としているので、被処理体と同様のフローで装
置内にフローさせることが容易であり、しかもその際
に、被処理体により発生した静電気を一層確実に除電す
ることができる。第６発明は、待機部にて静電気中和機
能を有する部材を除電する除電手段を有するので、静電
気中和機能を有する部材の静電気中和能力が有限であっ
ても繰り返し使用することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態について詳細に説明する。図１は、本発
明が適用されるＬＣＤ基板の塗布・現像処理システムを
示す斜視図である。
【００１５】この塗布・現像処理システムは、複数の基
板Ｓを収容するカセットＣを載置するカセットステーシ
ョン１と、基板Ｓにレジスト塗布および現像を含む一連
の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部
２と、カセットステーション１上のカセットＣと処理部
２との間で半導体ウエハの搬送を行うための搬送機構３
とを備えている。そして、カセットステーション１にお
いてシステムへのカセットＣの搬入およびシステムから
のカセットＣの搬出が行われる。また、搬送機構３はカ
セットの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を移
動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１に
よりカセットＣと処理部２との間で基板Ｓの搬送が行わ
れる。
【００１６】また、カセットステーション１には静電気
を中和する部材Ｎを待機させる待機部１３がカセットＣ
と並列に配置されている。この静電気中和機能を有する
部材Ｎは、図２に示すように、静電気を中和する機能を
有する材料からなるシート３１と芯材３２とが積層され
て構成されており、その面の寸法および形状が基板Ｓと
略同一となっている。シート１３ａとしては、静電気中
和機能を有する合成ゴム（商品名ソルディオン）、板状
芯材の表面を湿潤部材で覆いアルコール等を吸着させた
ものが挙げられる。そして、後述するように、前記搬送
アーム１１が、基板Ｓおよび静電気を中和する機能を有
する部材Ｎを選択的に搬送する。なお、待機部１３に、
静電気中和機能を有する部材Ｎを除電するイオナイザー
除電機構等の除電手段（図示せず）を設けてもよい。こ
れにより、静電気中和機能を有する部材Ｎの静電気中和
能力が有限であっても除電することにより部材Ｎを繰り
返し使用することができる。
【００１７】処理部２は、前段部分２ａと後段部分２ｂ
とに分かれており、それぞれ中央に通路１５、１６を有
しており、これら通路の両側に各処理ユニットが配設さ
れている。そして、これらの間には中継部１７が設けら
れている。
【００１８】前段部２ａは、通路１５に沿って移動可能
なメインアーム１８を備えており、通路１５の一方側に
は、ブラシ洗浄ユニット２１、水洗ユニット２２、アド
ヒージョン処理ユニット２３、および冷却ユニット２４
が、他方側には２つのレジスト塗布ユニット２５が配置
されている。一方、後段部２ｂは、通路１６に沿って移
動可能なメインアーム１９を備えており、通路１９の一
方側には複数の加熱処理ユニット２６および冷却ユニッ
ト２７からなる熱系ユニット群２８が、他方側には２つ
の現像処理ユニット２９が配置されている。熱系ユニッ
ト群２８は、ユニットが２段積層されてなる組が通路１
９に沿って３つ並んでおり、上段が加熱処理ユニット２
６であり、下段が冷却ユニット２７である。加熱処理ユ
ニット２６は、レジストの安定化のためのプリベーク、
露光後のポストエクスポージャーベーク、および現像後
のポストベーク処理を行うものである。なお、後段部２
ｂの後端には露光装置（図示せず）との間で基板Ｓの受
け渡しを行うためのインターフェース部３０が設けられ
ている。
【００１９】上記メインアーム１８は、搬送機構３のア
ーム１１との間で基板Ｓの受け渡しを行うとともに、前
段部２ａの各処理ユニットに対する基板Ｓの搬入・搬
出、さらには中継部１７との間で基板Ｓの受け渡しを行
う機能を有している。また、メインアーム１９は中継部
１７との間で基板Ｓの受け渡しを行うとともに、後段部
２ｂの各処理ユニットに対する基板Ｓの搬入・搬出、さ
らにはインターフェース部３０との間の基板Ｓの受け渡
しを行う機能を有している。
【００２０】カセットステーションの搬送アーム１１お
よびメインアーム１８，１９の駆動系は、図３に示すよ
うに、コントローラ４１に接続され、コントローラ４１
からの制御信号により制御される。そして、このコント
ローラ４１はシステム全体の制御を行うＣＰＵ４２によ
って制御される。コントローラ４１は、所定数例えば１
ロットの基板Ｓの塗布・現像処理が終了した後、待機部
１３から静電気中和機能を有する部材Ｎを取り出し、基
板Ｓと同様のフローで前記静電気中和機能を有する部材
を装置内にフローさせるように、搬送アーム１１および
メインアーム１８、１９の駆動系を制御する。
【００２１】このように構成される塗布・現像処理シス
テムにおいては、カセットＣ内の基板Ｓが、処理部２に
搬送され、まず、洗浄ユニット２１および水洗ユニット
２２により洗浄処理され、レジストの定着性を高めるた
めにアドヒージョン処理ユニット２３にて疎水化処理さ
れ、冷却ユニット２４で冷却後、レジスト塗布ユニット
２５でレジストが塗布される。その後、基板Ｓは、加熱
処理ユニット２６の一つでプリベーク処理され、冷却ユ
ニット２７で冷却された後、インターフェース部３０を
介して露光装置に搬送されてそこで所定のパターンが露
光される。そして、再びインターフェース部３０を介し
て搬入され、加熱処理ユニット２６の一つでポストエク
スポージャーベーク処理が施される。その後、冷却ユニ
ット２７で冷却された基板Ｓは、現像処理ユニット２９
で現像処理され、所定の回路パターンが形成される。現
像処理された基板Ｓは、メインアーム１９，１８および
搬送機構３の搬送アーム１１によってカセットステーシ
ョン１上の所定のカセットに収容される。
【００２２】このような処理工程が、所定数例えば１ロ
ットの基板Ｓについて終了した後、コントローラ４１
は、待機部１３から静電気中和機能を有する部材Ｎを取
り出し、基板Ｓの処理フローの少なくとも一部のフロー
で前記静電気中和機能を有する部材Ｎを装置内にフロー
させるように、搬送アーム１１およびメインアーム１
８、１９の駆動系を制御する。
【００２３】このように静電気中和機能を有する部材Ｎ
を基板Ｓの処理フローの少なくとも一部のフローで装置
内にフローされるので、各ユニットの載置台や真空チャ
ック、および搬送アーム１１、メインアーム１８，１９
等が帯電していても、その静電気が静電気中和機能を有
する部材Ｎにより中和され、静電気がほぼキャンセルさ
れる。
【００２４】このように、静電気中和機能を有する部材
Ｎを基板Ｓの処理フローの少なくとも一部のフローで処
理装置内にフローさせて処理装置内を除電するので、イ
オナイザーのような大がかりな装置を用いずに、しかも
基板Ｓによって静電気が発生する部分を確実に、かつ自
動的に除電することができる。また、静電気中和機能を
有する部材Ｎの面の寸法および形状を基板Ｓと略同一と
したので、基板Ｓと同様のフローで装置内にフローさせ
ることが容易であり、しかもその際に、基板Ｓにより発
生した静電気を一層確実に除電することができる。
【００２５】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態
では、本発明の装置をレジスト塗布・現像ユニットに適
用した例を示したが、これに限らず他の処理に適用して
もよい。被処理体としてＬＣＤ基板を用いた場合につい
て示したが、これに限らず半導体ウエハ等他の被処理体
の処理の場合にも適用可能であることはいうまでもな
い。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、第１発明によれ
ば、静電気を中和する機能を有する部材を被処理体の処
理フローの少なくとも一部のフローで装置内にフローさ
せて装置内を除電するので、イオナイザーのような大が
かりな装置を用いずに、しかも被処理体によって静電気
が発生する部分を確実に除電することができる。
【００２７】第３発明および第４発明によれば、制御手
段により、所定数の被処理体の処理が終了した後、待機
部から静電気中和機能を有する部材を搬送機構により被
処理体の処理フローの少なくとも一部のフローで処理装
置内にフローさせて処理装置内を除電するので、上記の
効果に加えて自動的に除電することができるといった効
果が付加される。
【００２８】第２発明および第５発明によれば、静電気
中和機能を有する部材の面の寸法および形状を被処理体
と略同一としているので、被処理体と同様のフローで装
置内にフローさせることが容易であり、しかもその際
に、被処理体により発生した静電気を一層確実に除電す
ることができる。第６発明によれば、待機部にて静電気
中和機能を有する部材を除電する除電手段を有するの
で、静電気中和機能を有する部材の静電気中和能力が有
限であっても繰り返し使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用されるレジスト塗布・現像システ
ムを示す斜視図。
【図２】本発明に用いられる静電気中和機能を有する部
材の一例を示す斜視図。
【図３】図１の塗布・現像システムに適用される搬送ア
ームおよびメインアームの制御系を示す模式図。
【符号の説明】
１……カセットステーション ２……処理部 ３……搬送機構 １１……搬送アーム １３……待機部 １８，１９……メインアーム ４１……コントローラ ４２……ＣＰＵ ４６……穴 Ｎ……静電気中和機能を有する部材 Ｓ……基板

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 被処理体に所定の処理を施す処理装置に
    おいて、装置内を除電する除電方法であって、 静電気中和機能を有する部材を、被処理体の処理フロー
    の少なくとも一部のフローで装置内にフローさせて装置
    内を除電することを特徴とする除電方法。
  2. 【請求項２】 前記静電気中和機能を有する部材は、そ
    の面の寸法および形状が被処理体と略同一であることを
    特徴とする請求項１に記載の除電方法。
  3. 【請求項３】 被処理体に処理を施す処理機構と、 被処理体を収容する被処理体収容部と、 静電気中和機能を有する部材を待機させる待機部と、 被処理体および前記静電気中和機能を有する部材を選択
    的に前記処理機構に対して搬入出するための搬送機構
    と、 所定数の被処理体の処理が終了した後、被処理体の処理
    フローの少なくとも一部のフローで前記静電気中和機能
    を有する部材を装置内にフローさせるように前記搬送機
    構を制御する制御手段とを具備し、前記静電気中和機能
    を有する部材により装置内を除電することを特徴とす
    る、除電機能を備えた処理装置。
  4. 【請求項４】 被処理体に処理を施す複数の処理機構を
    備えた処理部と、 被処理体を収容する被処理体収容部と、 静電気中和機能を有する部材を待機させる待機部と、 被処理体および前記静電気中和機能を有する部材を選択
    的に前記処理部に対して搬入出するための第１の搬送機
    構と、 前記処理部内で各処理機構に対して被処理体または前記
    静電気中和機能を有する部材を搬入出するための第２の
    搬送機構と、 所定数の被処理体の処理が終了した後、前記待機部から
    前記静電気中和機能を有する部材を取り出し、その部材
    を被処理体の処理フローの少なくとも一部のフローで装
    置内にフローさせるように前記第１の搬送機構および第
    ２の搬送機構を制御する制御手段とを具備し、前記静電
    気中和機能を有する部材により装置内を除電することを
    特徴とする、除電機能を備えた処理装置。
  5. 【請求項５】 前記静電気中和機能を有する部材は、そ
    の面の寸法および形状が被処理体と略同一であることを
    特徴とする、請求項３または請求項４に記載の除電機能
    を備えた処理装置。
  6. 【請求項６】 さらに、前記待機部にて前記静電気中和
    機構を有する部材を除電する除電手段を備えたことを特
    徴とする請求項３ないし請求項５のいずれか１項に記載
    の処理装置。
JP13161597A 1997-05-07 1997-05-07 除電方法ならびに処理装置および処理方法 Expired - Fee Related JP3610187B2 (ja)

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