JPH10308344A - 反射屈折投影光学系 - Google Patents
反射屈折投影光学系Info
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- JPH10308344A JPH10308344A JP9127926A JP12792697A JPH10308344A JP H10308344 A JPH10308344 A JP H10308344A JP 9127926 A JP9127926 A JP 9127926A JP 12792697 A JP12792697 A JP 12792697A JP H10308344 A JPH10308344 A JP H10308344A
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- JP
- Japan
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- optical system
- catadioptric projection
- beam splitter
- optical
- projection optical
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】紫外線波長域で大きな開口数を達成し、重力等
によるレンズの非対称な変形を生じず、クオーターミク
ロン単位の解像度を有する反射屈折投影光学系を提供す
る。 【解決手段】複数のレンズと少なくとも１つの凹面鏡と
を含み、第１面Ｒの縮小像を第２面Ｗに結像させる反射
屈折投影光学系において、すべてのレンズの光軸が互い
に平行となるように構成したことを特徴とする。
によるレンズの非対称な変形を生じず、クオーターミク
ロン単位の解像度を有する反射屈折投影光学系を提供す
る。 【解決手段】複数のレンズと少なくとも１つの凹面鏡と
を含み、第１面Ｒの縮小像を第２面Ｗに結像させる反射
屈折投影光学系において、すべてのレンズの光軸が互い
に平行となるように構成したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体素
子、または液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で
製造する際に使用される投影光学系に関し、特に光学系
の要素として屈折系のほかに反射系を用いることによ
り、紫外線波長域でクオーターミクロン単位の解像度を
有する反射屈折投影光学系に関する。
子、または液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で
製造する際に使用される投影光学系に関し、特に光学系
の要素として屈折系のほかに反射系を用いることによ
り、紫外線波長域でクオーターミクロン単位の解像度を
有する反射屈折投影光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子等を製造するためのフォトグ
ラフィ工程において、フォトマスクまたはレチクル（以
下、まとめて「レチクル」という）のパターン像を投影
光学系を介して、フォトレジスト等が塗布されたウエハ
（またはガラスプレート等）上に露光する投影露光装置
が使用されている。半導体素子等の集積度が向上するに
つれて、投影露光装置に使用されている投影光学系に要
求される解像力は益々高まっている。この要求を満足す
るために、照明光の波長を短く且つ投影光学系の開口数
（Ｎ．Ａ．）を大きくする必要が生じた。しかし、照明
光の波長が短くなると、光の吸収によって実用に耐える
硝材の種類は限られ、波長が３００ｎｍ以下になると実
用上使える硝材は合成石英と蛍石だけとなる。両者のア
ッベ数は、色収差を補正するのに十分な程は離れていな
いので、波長が３００ｎｍ以下になった場合には、屈折
系だけで投影光学系を構成すると、色収差をはじめとす
る諸収差の補正が困難となる。
ラフィ工程において、フォトマスクまたはレチクル（以
下、まとめて「レチクル」という）のパターン像を投影
光学系を介して、フォトレジスト等が塗布されたウエハ
（またはガラスプレート等）上に露光する投影露光装置
が使用されている。半導体素子等の集積度が向上するに
つれて、投影露光装置に使用されている投影光学系に要
求される解像力は益々高まっている。この要求を満足す
るために、照明光の波長を短く且つ投影光学系の開口数
（Ｎ．Ａ．）を大きくする必要が生じた。しかし、照明
光の波長が短くなると、光の吸収によって実用に耐える
硝材の種類は限られ、波長が３００ｎｍ以下になると実
用上使える硝材は合成石英と蛍石だけとなる。両者のア
ッベ数は、色収差を補正するのに十分な程は離れていな
いので、波長が３００ｎｍ以下になった場合には、屈折
系だけで投影光学系を構成すると、色収差をはじめとす
る諸収差の補正が困難となる。
【０００３】これに対して反射系は色収差がないため、
反射系と屈折系とを組み合わせたいわゆる反射屈折光学
系によって投影光学系を構成した種々の技術が提案され
ている。反射系に対する光束の入出力を行うための光路
変換用ビームスプリッターを有する反射屈折縮小光学系
としては、特公平７−１１７６４８号公報、特開平６−
３００９７３号公報、特開平５−８８０８９号公報、特
開平３−２８２５２７号公報及びＰＣＴ／ＥＰ９５／０
１７１９等に開示されている。
反射系と屈折系とを組み合わせたいわゆる反射屈折光学
系によって投影光学系を構成した種々の技術が提案され
ている。反射系に対する光束の入出力を行うための光路
変換用ビームスプリッターを有する反射屈折縮小光学系
としては、特公平７−１１７６４８号公報、特開平６−
３００９７３号公報、特開平５−８８０８９号公報、特
開平３−２８２５２７号公報及びＰＣＴ／ＥＰ９５／０
１７１９等に開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
は、ビームスプリッターに入射する前の光路に配置した
レンズと、ビームスプリッターから射出した後の光路に
配置したレンズとは、光軸の方向が互いに平行ではなか
った。近時、光学系の開口数及び露光領域の増加にとも
ない、光学系を構成する各レンズや凹面反射鏡は大型化
し、投影露光装置搭載時の重力による変形は、要求され
る解像力を考慮すると、無視することはできない大きな
問題となった。このような状況の中、光軸の方向が同一
でないレンズの採用は、光軸に対して非対称な変形を生
じ、製造時に補正することのできない非対称収差を発生
するため、十分な解像力を得ることは不可能である。
は、ビームスプリッターに入射する前の光路に配置した
レンズと、ビームスプリッターから射出した後の光路に
配置したレンズとは、光軸の方向が互いに平行ではなか
った。近時、光学系の開口数及び露光領域の増加にとも
ない、光学系を構成する各レンズや凹面反射鏡は大型化
し、投影露光装置搭載時の重力による変形は、要求され
る解像力を考慮すると、無視することはできない大きな
問題となった。このような状況の中、光軸の方向が同一
でないレンズの採用は、光軸に対して非対称な変形を生
じ、製造時に補正することのできない非対称収差を発生
するため、十分な解像力を得ることは不可能である。
【０００５】本発明はかかる点に鑑み、紫外線波長域で
大きな開口数を達成し、重力等によるレンズの非対称な
変形を生じず、クオーターミクロン単位の解像度を有す
る反射屈折投影光学系を提供することを課題とする。
大きな開口数を達成し、重力等によるレンズの非対称な
変形を生じず、クオーターミクロン単位の解像度を有す
る反射屈折投影光学系を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述の課題を達成するた
めに、本発明による投影光学系は、複数のレンズと少な
くとも１つの凹面鏡とを含み、第１面の縮小像を第２面
に結像させる反射屈折投影光学系において、すべてのレ
ンズの光軸が互いに平行となるように構成している。そ
の際、少なくとも偏向面を２面以上含むように構成する
ことが好ましい。上述の構成の如き本発明においては、
反射屈折投影光学系を構成する全てのレンズの光軸を同
一にし、重力等のレンズに変形を生じさせる力の作用す
る方向と一致させることにより非対称な変形を防ぐこと
ができ、したがってクオーターミクロン以下の解像力を
もつ投影光学系を実現できる。この際、反射屈折投影光
学系を構故するすべてのレンズの光軸と凹面鏡の光軸
を、いずれも重力方向と平行とすることにより、凹面鏡
の非対称変形も防ぐことができる。また、第１面を含む
平面と第２面を含む平面との間に、反射屈折投影光学系
を構成する光学要素がすべて存在することにより、レチ
クル及びウエハが第１面を含む平面及び第２面を含む平
面上を自由に走査できるため、大型ウエハの使用や走査
型露光が可能となる。
めに、本発明による投影光学系は、複数のレンズと少な
くとも１つの凹面鏡とを含み、第１面の縮小像を第２面
に結像させる反射屈折投影光学系において、すべてのレ
ンズの光軸が互いに平行となるように構成している。そ
の際、少なくとも偏向面を２面以上含むように構成する
ことが好ましい。上述の構成の如き本発明においては、
反射屈折投影光学系を構成する全てのレンズの光軸を同
一にし、重力等のレンズに変形を生じさせる力の作用す
る方向と一致させることにより非対称な変形を防ぐこと
ができ、したがってクオーターミクロン以下の解像力を
もつ投影光学系を実現できる。この際、反射屈折投影光
学系を構故するすべてのレンズの光軸と凹面鏡の光軸
を、いずれも重力方向と平行とすることにより、凹面鏡
の非対称変形も防ぐことができる。また、第１面を含む
平面と第２面を含む平面との間に、反射屈折投影光学系
を構成する光学要素がすべて存在することにより、レチ
クル及びウエハが第１面を含む平面及び第２面を含む平
面上を自由に走査できるため、大型ウエハの使用や走査
型露光が可能となる。
【０００７】反射屈折投影光学系の構成としては、第１
面から光線が通る順に、第１光学系と、平面鏡と、ビー
ムスプリッターと、ビームスプリッターの透過光路と反
射光路とのうちのいずれか一方の光路に配置した第２光
学系と、ビームスプリッターの反射光路の反対側の光路
に配置した第３光学系とから構成し、且つ第２光学系が
凹面鏡を含むことにより、開口数が大きく、露光領域の
広い投影光学系を実現できる。またビームスプリッター
を、一対の直角３角プリズムの貼り合わせ面に形成する
ことで、板状のビームスプリッターを採用したときに発
生する非点収差及びコマ収差の発生を防ぐことができ
る。
面から光線が通る順に、第１光学系と、平面鏡と、ビー
ムスプリッターと、ビームスプリッターの透過光路と反
射光路とのうちのいずれか一方の光路に配置した第２光
学系と、ビームスプリッターの反射光路の反対側の光路
に配置した第３光学系とから構成し、且つ第２光学系が
凹面鏡を含むことにより、開口数が大きく、露光領域の
広い投影光学系を実現できる。またビームスプリッター
を、一対の直角３角プリズムの貼り合わせ面に形成する
ことで、板状のビームスプリッターを採用したときに発
生する非点収差及びコマ収差の発生を防ぐことができ
る。
【０００８】また第１光学系は正の屈折力を有し、第１
光学系の結像倍率をβ1としたとき、 −１．０＜１／β1＜１．０ （１） なる条件式を満足することが望ましい。この条件式の上
限を越えると、光路折り曲げ用の平面鏡とビームスプリ
ッターとを続けて配置することが難しくなる。下限を越
えると、第１光学系の大型化を招くばかりでなく、軸外
収差の補正が困難となる。条件式（１）の下限は０とす
ることが望ましく、更に上限を０．７、下限を０．４と
することが一層望ましい。
光学系の結像倍率をβ1としたとき、 −１．０＜１／β1＜１．０ （１） なる条件式を満足することが望ましい。この条件式の上
限を越えると、光路折り曲げ用の平面鏡とビームスプリ
ッターとを続けて配置することが難しくなる。下限を越
えると、第１光学系の大型化を招くばかりでなく、軸外
収差の補正が困難となる。条件式（１）の下限は０とす
ることが望ましく、更に上限を０．７、下限を０．４と
することが一層望ましい。
【０００９】更に、ビームスプリッターと第３光学系と
の間、又は第３光学系の内部に、可変開口絞りを有する
ことで、露光パターンに最適となるように解像力と焦点
深度を調節することができる。また第２面側にテレセン
トリックな光学系とすることで、第２面のたわみなどの
光軸方向のずれによる像歪みを無視できる量にすること
ができる。またフレアーの発生や光量損失を妨げるため
に、ビームスプリッターとして偏光状態によって光束を
透過または反射する透過反射面を有する偏光ビームスプ
リッターを用い、この偏光ビームスプリッターと凹面鏡
の間に１／４波長板を有することが望ましい。
の間、又は第３光学系の内部に、可変開口絞りを有する
ことで、露光パターンに最適となるように解像力と焦点
深度を調節することができる。また第２面側にテレセン
トリックな光学系とすることで、第２面のたわみなどの
光軸方向のずれによる像歪みを無視できる量にすること
ができる。またフレアーの発生や光量損失を妨げるため
に、ビームスプリッターとして偏光状態によって光束を
透過または反射する透過反射面を有する偏光ビームスプ
リッターを用い、この偏光ビームスプリッターと凹面鏡
の間に１／４波長板を有することが望ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面によっ
て説明する。図１は本発明による反射屈折投影光学系の
第１実施例を示し、図３は第２実施例を示す。両実施例
の投影光学系は、レチクルＲ上のパターンのうちの露光
領域Ａの像を縮小倍率にてウエハＷ上に結像させ、レチ
クルＲとウエハＷとを互いに縮小倍率に対応した速度比
にて同期して走査することにより、レチクルＲ上のパタ
ーンのすべての像をウエハＷに投影する光学系である。
この光学系は、レチクルＲ側から順に、第１光学系Ｇ1
と、ビームスプリッターＢＳと、ビームスプリッターＢ
Ｓの反射光路に配置した第２光学系Ｇ2と、ビームスプ
リッターＢＳの反射光路の反対側の光路に配置した第３
光学系Ｇ3とから構成されている。第２光学系Ｇ2には、
１個の凹面鏡が含まれている。第１光学系Ｇ1とビーム
スプリッターＢＳとの間には、光路を９０°折り曲げる
平面鏡Ｍが配置されており、ビームスプリッターＢＳも
光路を９０°折り曲げるように配置されているから、第
１〜第３光学系Ｇ1〜Ｇ3中のすべてのレンズと凹面鏡の
光軸は、互いに平行となっている。本実施例では、この
平行な方向を重力方向と一致させている。また、ビーム
スプリッターＢＳと第３光学系Ｇ3との間には、可変開
口絞りＡＳが配置されている。
て説明する。図１は本発明による反射屈折投影光学系の
第１実施例を示し、図３は第２実施例を示す。両実施例
の投影光学系は、レチクルＲ上のパターンのうちの露光
領域Ａの像を縮小倍率にてウエハＷ上に結像させ、レチ
クルＲとウエハＷとを互いに縮小倍率に対応した速度比
にて同期して走査することにより、レチクルＲ上のパタ
ーンのすべての像をウエハＷに投影する光学系である。
この光学系は、レチクルＲ側から順に、第１光学系Ｇ1
と、ビームスプリッターＢＳと、ビームスプリッターＢ
Ｓの反射光路に配置した第２光学系Ｇ2と、ビームスプ
リッターＢＳの反射光路の反対側の光路に配置した第３
光学系Ｇ3とから構成されている。第２光学系Ｇ2には、
１個の凹面鏡が含まれている。第１光学系Ｇ1とビーム
スプリッターＢＳとの間には、光路を９０°折り曲げる
平面鏡Ｍが配置されており、ビームスプリッターＢＳも
光路を９０°折り曲げるように配置されているから、第
１〜第３光学系Ｇ1〜Ｇ3中のすべてのレンズと凹面鏡の
光軸は、互いに平行となっている。本実施例では、この
平行な方向を重力方向と一致させている。また、ビーム
スプリッターＢＳと第３光学系Ｇ3との間には、可変開
口絞りＡＳが配置されている。
【００１１】上記両実施例の露光領域は、走査方向と直
交する方向に長辺ａを有し、走査方向に短辺ｂを有する
長方形スリット状であり、この長方形スリット状露光領
域の中心位置は、投影光学系の光軸と一致している。ま
た上記両実施例では、一対の直角３角プリズムの貼り合
わせ面にビームスプリッターＢＳを形成しているが、ビ
ームスプリッターとしては、スプリット面の方向に広が
る平板状のものを用いることもできる。
交する方向に長辺ａを有し、走査方向に短辺ｂを有する
長方形スリット状であり、この長方形スリット状露光領
域の中心位置は、投影光学系の光軸と一致している。ま
た上記両実施例では、一対の直角３角プリズムの貼り合
わせ面にビームスプリッターＢＳを形成しているが、ビ
ームスプリッターとしては、スプリット面の方向に広が
る平板状のものを用いることもできる。
【００１２】第１実施例と第２実施例の諸元をそれぞれ
表１と表２に示す。各表の［主要諸元］中、露光領域は
レチクルＲ上での値を示す。また［光学部材諸元］中、
第１欄ＮｏはレチクルＲ側からの各光学面の番号、第２
欄ｒは各光学面の曲率半径、第３欄ｄは各光学面の間
隔、第４欄は各光学部材の硝材、第５欄は各光学部材又
は光学面の属する群番号を表す。曲率半径ｒは光線の進
行方向側に曲率中心があるときを正とし、光線の進行方
向の反対側に曲率中心があるときを負としている。但
し、光線が反射面によって反射するたびに、正負を反転
して表示している。各光学面の間隔ｄも、光線が反射面
によって反射するたびに、正負を反転して表示してい
る。
表１と表２に示す。各表の［主要諸元］中、露光領域は
レチクルＲ上での値を示す。また［光学部材諸元］中、
第１欄ＮｏはレチクルＲ側からの各光学面の番号、第２
欄ｒは各光学面の曲率半径、第３欄ｄは各光学面の間
隔、第４欄は各光学部材の硝材、第５欄は各光学部材又
は光学面の属する群番号を表す。曲率半径ｒは光線の進
行方向側に曲率中心があるときを正とし、光線の進行方
向の反対側に曲率中心があるときを負としている。但
し、光線が反射面によって反射するたびに、正負を反転
して表示している。各光学面の間隔ｄも、光線が反射面
によって反射するたびに、正負を反転して表示してい
る。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】図２と図４にそれぞれ第１実施例と第２実
施例の横収差を示す。横収差図中、Ｙは像高を表す。各
収差図に示されるように、両実施例とも優れた結像性能
を有することが解る。
施例の横収差を示す。横収差図中、Ｙは像高を表す。各
収差図に示されるように、両実施例とも優れた結像性能
を有することが解る。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、紫外線波
長域で大きな開口数を達成し、重力等によるレンズの非
対称な変形を生じず、クオーターミクロン単位の解像度
を有する反射屈折投影光学系が得られた。
長域で大きな開口数を達成し、重力等によるレンズの非
対称な変形を生じず、クオーターミクロン単位の解像度
を有する反射屈折投影光学系が得られた。
【図１】第１実施例を示す構成図
【図２】第１実施例の横収差図
【図３】第２実施例を示す構成図
【図４】第２実施例の横収差図
Ｇ1…第１光学系 Ｇ2…第２光学系 Ｇ3…第３光学系 ＡＳ…開口絞り Ｍ…平面鏡 ＢＳ…ビームスプリ
ッター Ｒ…レチクル Ｗ…ウエハ
ッター Ｒ…レチクル Ｗ…ウエハ
Claims (9)
- 【請求項１】複数のレンズと少なくとも１つの凹面鏡と
を含み、第１面の縮小像を第２面に結像させる反射屈折
投影光学系において、 すべてのレンズの光軸が互いに平行であることを特徴と
する反射屈折投影光学系。 - 【請求項２】少なくとも偏向面を２面以上含むことを特
徴とする請求項１記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項３】すべてのレンズの光軸と前記凹面鏡の光軸
とがいずれも重力方向と平行であることを特徴とする請
求項１又は２記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項４】前記第１面を含む平面と前記第２面を含む
平面との間に、反射屈折投影光学系を構成する光学要素
がすべて存在することを特徴とする請求項１、２又は３
記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項５】前記第１面から光線が通る順に、第１光学
系と、平面鏡と、ビームスプリッターと、該ビームスプ
リッターの透過光路と反射光路とのうちのいずれか一方
の光路に配置した第２光学系と、前記ビームスプリッタ
ーの反射光路の反対側の光路に配置した第３光学系とか
ら構成され、 前記第２光学系は前記凹面鏡を含むことを特徴とする請
求項１、２、３又は４記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項６】前記ビームスプリッターは、一対の直角３
角プリズムの貼り合わせ面に形成されていることを特徴
とする請求項５記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項７】前記第１光学系は正の屈折力を有し、該第
１光学系の結像倍率をβ1としたとき、 −１．０＜１／β1＜１．０ なる条件式を満足することを特徴とする請求項５又は６
記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項８】前記ビームスプリッターと前記第３光学系
との間、又は前記第３光学系の内部に、可変開口絞りを
有し、 前記第２面側にテレセントリックであることを特徴とす
る請求項５、６又は７記載の反射屈折投影光学系。 - 【請求項９】前記ビームスプリッターは偏光ビームスプ
リッターであり、該偏光ビームスプリッターと前記凹面
鏡の間に１／４波長板を有することを特徴とする請求項
５、６、７又は８記載の反射屈折投影光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12792697A JP3812051B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | 反射屈折投影光学系 |
| US09/070,536 US6208473B1 (en) | 1997-04-30 | 1998-04-30 | Catadioptric projection lens |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12792697A JP3812051B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | 反射屈折投影光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10308344A true JPH10308344A (ja) | 1998-11-17 |
| JP3812051B2 JP3812051B2 (ja) | 2006-08-23 |
Family
ID=14972058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12792697A Expired - Fee Related JP3812051B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | 反射屈折投影光学系 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6208473B1 (ja) |
| JP (1) | JP3812051B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003504687A (ja) * | 1999-07-07 | 2003-02-04 | ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション | ブロードバンド紫外線カタディオプトリックイメージングシステム |
| JP2009258736A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Asml Holding Nv | オブスキュレーションがない高開口数の反射屈折対物系及びそのアプリケーション |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1277088A1 (en) * | 2000-04-25 | 2003-01-22 | Silicon Valley Group, Inc. | Optical reduction system with elimination of reticle diffraction induced bias |
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