JPH1029146A - 球体研磨盤 - Google Patents
球体研磨盤Info
- Publication number
- JPH1029146A JPH1029146A JP8199566A JP19956696A JPH1029146A JP H1029146 A JPH1029146 A JP H1029146A JP 8199566 A JP8199566 A JP 8199566A JP 19956696 A JP19956696 A JP 19956696A JP H1029146 A JPH1029146 A JP H1029146A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steel balls
- polishing
- rotating
- steel ball
- steel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 回転コンベア内の球体案内路における球体の
流れを均一にし、球体の研磨回路通過回数を同一にする
ことにより、球体の径相互差を向上させる球体研磨盤を
提供する。 【解決手段】 回転コンベア３０の外周枠２７の内側案
内面２７ａにフッ素樹脂からなる低摩擦摺動材３１が貼
り付けられているので、当該低摩擦摺動材３１に接触す
る鋼球２２の列は、低摩擦摺動材３１からほとんど摩擦
抵抗（図２のｃ点）を受けない。この摩擦抵抗は、他の
鋼球２２との間の滑り摩擦（図２のｄ点）に比べて小さ
いので、低摩擦摺動材３１に接触する鋼球２２は自転せ
ずに鋼球案内路２８を進む鋼球２２の速度が低摩擦摺動
材３１に接触しない鋼球２２と同様にほぼ回転コンベア
３０の円状底部２６ａの移動速度と同じになり、回転コ
ンベア３０内の鋼球案内路２８内における鋼球２２の流
れを均一にする。その結果、研磨回路をパスする回数に
差が生じるのを防止し、しかも他の鋼球２２との滑りに
より鋼球２２の表面に傷がつくのを防止して、鋼球２２
の表面仕上げ状態に影響を与えない。
流れを均一にし、球体の研磨回路通過回数を同一にする
ことにより、球体の径相互差を向上させる球体研磨盤を
提供する。 【解決手段】 回転コンベア３０の外周枠２７の内側案
内面２７ａにフッ素樹脂からなる低摩擦摺動材３１が貼
り付けられているので、当該低摩擦摺動材３１に接触す
る鋼球２２の列は、低摩擦摺動材３１からほとんど摩擦
抵抗（図２のｃ点）を受けない。この摩擦抵抗は、他の
鋼球２２との間の滑り摩擦（図２のｄ点）に比べて小さ
いので、低摩擦摺動材３１に接触する鋼球２２は自転せ
ずに鋼球案内路２８を進む鋼球２２の速度が低摩擦摺動
材３１に接触しない鋼球２２と同様にほぼ回転コンベア
３０の円状底部２６ａの移動速度と同じになり、回転コ
ンベア３０内の鋼球案内路２８内における鋼球２２の流
れを均一にする。その結果、研磨回路をパスする回数に
差が生じるのを防止し、しかも他の鋼球２２との滑りに
より鋼球２２の表面に傷がつくのを防止して、鋼球２２
の表面仕上げ状態に影響を与えない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、球体研磨盤、特に
玉軸受け等に使用される鋼球を研磨する鋼球研磨盤に関
する。
玉軸受け等に使用される鋼球を研磨する鋼球研磨盤に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来この種の鋼球研磨盤としては、図３
及び図４に示される装置が知られている。ここに、図３
は、従来の鋼球研磨盤全体の斜視図であり、図４は、図
３の鋼球研磨盤の要部の斜視図である。
及び図４に示される装置が知られている。ここに、図３
は、従来の鋼球研磨盤全体の斜視図であり、図４は、図
３の鋼球研磨盤の要部の斜視図である。
【０００３】図３の鋼球研磨盤において、ベッド１上の
一端側には軸支部２がボルトで固定されており、該支持
部１上の他端側には支持部３がボルトで固定されてい
る。支持部２には図示しない駆動軸が回転自在に軸支さ
れている。支持部３に面する該駆動軸の一端には、鋼球
を研磨する砥石体からなる回転盤１０が取り付けられて
おり、該駆動軸の他端には駆動軸プーリ４が取り付けら
れている。ベッド１の中には図示しない駆動モータが配
されており、回転盤１０は駆動モータにより駆動軸プー
リ４を介して駆動される。
一端側には軸支部２がボルトで固定されており、該支持
部１上の他端側には支持部３がボルトで固定されてい
る。支持部２には図示しない駆動軸が回転自在に軸支さ
れている。支持部３に面する該駆動軸の一端には、鋼球
を研磨する砥石体からなる回転盤１０が取り付けられて
おり、該駆動軸の他端には駆動軸プーリ４が取り付けら
れている。ベッド１の中には図示しない駆動モータが配
されており、回転盤１０は駆動モータにより駆動軸プー
リ４を介して駆動される。
【０００４】支持部３には、支持部２に支持された駆動
軸と同軸的に図示しない軸が長手方向に移動自在に支持
されている。支持部２に面する該軸の一端には、固定盤
２０が取り付けられている。固定盤２０は支持部３内に
配された適宜な機構により回転盤１０に向かって押圧さ
れ、これにより、回転盤１０及び固定盤２０による鋼球
の研磨加工圧力が、例えば粗加工、中加工及び仕上げ加
工の３段階に調整される。一方、ベッド１の他端に隣接
して台５が配されており、台５の上には台座６を介して
回転コンベア３０が載置されている。
軸と同軸的に図示しない軸が長手方向に移動自在に支持
されている。支持部２に面する該軸の一端には、固定盤
２０が取り付けられている。固定盤２０は支持部３内に
配された適宜な機構により回転盤１０に向かって押圧さ
れ、これにより、回転盤１０及び固定盤２０による鋼球
の研磨加工圧力が、例えば粗加工、中加工及び仕上げ加
工の３段階に調整される。一方、ベッド１の他端に隣接
して台５が配されており、台５の上には台座６を介して
回転コンベア３０が載置されている。
【０００５】以下、図３の鋼球研磨盤の要部である回転
盤１０、固定盤２０および回転コンベア３０を図４を参
照しながら説明する。
盤１０、固定盤２０および回転コンベア３０を図４を参
照しながら説明する。
【０００６】図４において、回転する回転盤１０、及び
回転盤１０と同軸的に対向する静止した固定盤２０のそ
れぞれには、断面形状の寸法が研磨加工される鋼球２２
の曲率半径に近似した円弧状の環状溝（ボール溝）２３
が複数同心上に設けられている。回転盤１０の環状溝２
３と固定盤２０の環状溝２３は互いに対向しており、対
向する各一対の環状溝２３が研磨回路の１つを構成して
鋼球２２を研磨加工するように構成されている。回転コ
ンベア３０には１回に加工する鋼球２２が収容され、１
ロットとして管理される。固定盤２０及び回転コンベア
３０の間には、回転コンベア３０内の鋼球２２を研磨回
路に供給する供給シュート２４、及び研磨回路内で研磨
された鋼球２２を回転コンベア３０に排出する排出シュ
ート２５が設けられている。
回転盤１０と同軸的に対向する静止した固定盤２０のそ
れぞれには、断面形状の寸法が研磨加工される鋼球２２
の曲率半径に近似した円弧状の環状溝（ボール溝）２３
が複数同心上に設けられている。回転盤１０の環状溝２
３と固定盤２０の環状溝２３は互いに対向しており、対
向する各一対の環状溝２３が研磨回路の１つを構成して
鋼球２２を研磨加工するように構成されている。回転コ
ンベア３０には１回に加工する鋼球２２が収容され、１
ロットとして管理される。固定盤２０及び回転コンベア
３０の間には、回転コンベア３０内の鋼球２２を研磨回
路に供給する供給シュート２４、及び研磨回路内で研磨
された鋼球２２を回転コンベア３０に排出する排出シュ
ート２５が設けられている。
【０００７】回転コンベア３０は盆状をなしており、中
央部に回転センター部２６を有する回転自在な円状底部
２６ａ（図５（ａ）参照）と、円状底部２６ａの外周に
円状底部２６ａと別体に配されていると共に静止した外
周枠２７とを有している。供給シュート２４と排出シュ
ート２５との間において板状のストッパ２９が外周枠２
７に固定されており、回転センター部２６と外周枠２７
との間に環状の鋼球案内路２８が形成される。また、回
転コンベア３０において、円状底部２６ａは、台座６内
に配された適宜な回転機構により回転コンベア３０の上
方からみて反時計回りに回転され、回転コンベア３０の
中に収容された鋼球２２を鋼球案内路２８の排出シュー
ト２５の対応位置から供給シュート２４の対応位置に搬
送する。なお、回転コンベア３０内に収容された鋼球２
２は回転コンベア３０内で複数段状に積層された状態に
ある。
央部に回転センター部２６を有する回転自在な円状底部
２６ａ（図５（ａ）参照）と、円状底部２６ａの外周に
円状底部２６ａと別体に配されていると共に静止した外
周枠２７とを有している。供給シュート２４と排出シュ
ート２５との間において板状のストッパ２９が外周枠２
７に固定されており、回転センター部２６と外周枠２７
との間に環状の鋼球案内路２８が形成される。また、回
転コンベア３０において、円状底部２６ａは、台座６内
に配された適宜な回転機構により回転コンベア３０の上
方からみて反時計回りに回転され、回転コンベア３０の
中に収容された鋼球２２を鋼球案内路２８の排出シュー
ト２５の対応位置から供給シュート２４の対応位置に搬
送する。なお、回転コンベア３０内に収容された鋼球２
２は回転コンベア３０内で複数段状に積層された状態に
ある。
【０００８】このような従来の鋼球研磨盤の作動を以下
に説明する。
に説明する。
【０００９】回転コンベア３０の作動により、回転コン
ベア３０内の鋼球２２は供給シュート２４を通って回転
盤１０及び固定盤２０の各対をなす環状溝２３からなる
研磨回路に送られる。このように、研磨回路に送られた
鋼球２２は、前述のように固定盤２０を回転盤１０に向
かって押圧しつつ回転盤１０を回転させることにより研
磨回路内で研磨され、これらの研磨された鋼球２２は、
共通の排出シュート２５を介して回転コンベア３０に返
送される。これらの動作が複数回行われた後研磨加工が
完了する。
ベア３０内の鋼球２２は供給シュート２４を通って回転
盤１０及び固定盤２０の各対をなす環状溝２３からなる
研磨回路に送られる。このように、研磨回路に送られた
鋼球２２は、前述のように固定盤２０を回転盤１０に向
かって押圧しつつ回転盤１０を回転させることにより研
磨回路内で研磨され、これらの研磨された鋼球２２は、
共通の排出シュート２５を介して回転コンベア３０に返
送される。これらの動作が複数回行われた後研磨加工が
完了する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところで、昨今のコン
ピュータ関連機器として使用されるＨＤＤ（ハードディ
スク）装置等に使用される玉軸受としては、いわゆる非
同期振動成分（Non Repeated Run Out)に対する要求精
度が厳しくなってきている。非同期振動成分とは、玉軸
受の回転に非同期に出る振動成分である。特定の非同期
振動成分は、１ロット内の各鋼球の寸法のバラツキであ
る鋼球２２の寸法相互差を小さくすることにより減少さ
せることができるものである。
ピュータ関連機器として使用されるＨＤＤ（ハードディ
スク）装置等に使用される玉軸受としては、いわゆる非
同期振動成分（Non Repeated Run Out)に対する要求精
度が厳しくなってきている。非同期振動成分とは、玉軸
受の回転に非同期に出る振動成分である。特定の非同期
振動成分は、１ロット内の各鋼球の寸法のバラツキであ
る鋼球２２の寸法相互差を小さくすることにより減少さ
せることができるものである。
【００１１】しかしながら、前述の従来の鋼球研磨盤で
は、以下の理由により１ロット内の鋼球２２の寸法相互
差を小さくすることができない。この寸法相互差を小さ
くするためには、少なくとも仕上げまでに研磨回路を通
過する回数が全ての鋼球に対して同一でなくてはならな
い。
は、以下の理由により１ロット内の鋼球２２の寸法相互
差を小さくすることができない。この寸法相互差を小さ
くするためには、少なくとも仕上げまでに研磨回路を通
過する回数が全ての鋼球に対して同一でなくてはならな
い。
【００１２】しかるに、回転盤１０及び固定盤２０の各
研磨回路のうち、半径方向に関して外側のものと内側の
ものとでは、加工長さ、周速度、研磨液のかかり方、流
れる鋼球の数等が異なるので研磨条件が異なる。
研磨回路のうち、半径方向に関して外側のものと内側の
ものとでは、加工長さ、周速度、研磨液のかかり方、流
れる鋼球の数等が異なるので研磨条件が異なる。
【００１３】したがって、半径方向に関して外側のもの
と内側のものとでは研磨条件が異なる同心円状の各研磨
回路を個々の鋼球２２がランダムに通ると、個々の鋼球
２２が通る研磨回路の経路の経緯の相違によって、鋼球
２２の経寸法に差が発生し、たとえ同じロット内の鋼球
２２であっても各鋼球２２の径寸法にバラツキが生ず
る。
と内側のものとでは研磨条件が異なる同心円状の各研磨
回路を個々の鋼球２２がランダムに通ると、個々の鋼球
２２が通る研磨回路の経路の経緯の相違によって、鋼球
２２の経寸法に差が発生し、たとえ同じロット内の鋼球
２２であっても各鋼球２２の径寸法にバラツキが生ず
る。
【００１４】また、回転コンベア３０内に積層状態で収
容された鋼球２２には、以下に説明する摩擦抵抗によっ
て鋼球案内路２８内における鋼球２２の流れが不均一に
なるという問題がある。
容された鋼球２２には、以下に説明する摩擦抵抗によっ
て鋼球案内路２８内における鋼球２２の流れが不均一に
なるという問題がある。
【００１５】すなわち、図５を参照しながら鋼球２２に
加わる摩擦抵抗、及び鋼球案内路２８内における鋼球２
２の挙動を説明する。ここに、図５は、鋼球２２に加わ
る摩擦抵抗、及びボール案内路２８内における鋼球２２
の挙動の説明図である。
加わる摩擦抵抗、及び鋼球案内路２８内における鋼球２
２の挙動を説明する。ここに、図５は、鋼球２２に加わ
る摩擦抵抗、及びボール案内路２８内における鋼球２２
の挙動の説明図である。
【００１６】回転コンベア３０の外周枠２７は金属板で
あったり、鋼球２２に傷がつかぬように該外周枠２７の
内側案内面２７ａにゴムシート等の緩衝材が貼り付けら
れたりしている。そのため、外周枠２７の内側案内面２
７ａに接触する鋼球２２の列は、外周枠２７の内側案内
面２７ａから大きな摩擦抵抗（図５のａ点）を受ける。
この摩擦抵抗は、他の鋼球２２との間の滑り摩擦（図５
のｂ点）に比べてはるかに大きいので、外周枠２７の内
側案内面２７ａに接触する鋼球２２は自転すると共に鋼
球案内路２８を進む速度が回転コンベア３０の底部２６
ａの移動速度より遅くなる。一方、外周枠２７の内側案
内面２７ａに接触しない鋼球２２はほぼ回転コンベア３
０の底部２６ａの移動速度と同じである。
あったり、鋼球２２に傷がつかぬように該外周枠２７の
内側案内面２７ａにゴムシート等の緩衝材が貼り付けら
れたりしている。そのため、外周枠２７の内側案内面２
７ａに接触する鋼球２２の列は、外周枠２７の内側案内
面２７ａから大きな摩擦抵抗（図５のａ点）を受ける。
この摩擦抵抗は、他の鋼球２２との間の滑り摩擦（図５
のｂ点）に比べてはるかに大きいので、外周枠２７の内
側案内面２７ａに接触する鋼球２２は自転すると共に鋼
球案内路２８を進む速度が回転コンベア３０の底部２６
ａの移動速度より遅くなる。一方、外周枠２７の内側案
内面２７ａに接触しない鋼球２２はほぼ回転コンベア３
０の底部２６ａの移動速度と同じである。
【００１７】上記のように外周枠２７の内側案内面２７
ａに接触する鋼球２２は他の鋼球２２より搬送が遅れる
ことにより、研磨回路をパスする回数に差が生じ、しか
も、他の鋼球２２との滑りにより鋼球２２の表面に傷が
つくので、鋼球２２の表面仕上げ状態に影響を受ける。
ａに接触する鋼球２２は他の鋼球２２より搬送が遅れる
ことにより、研磨回路をパスする回数に差が生じ、しか
も、他の鋼球２２との滑りにより鋼球２２の表面に傷が
つくので、鋼球２２の表面仕上げ状態に影響を受ける。
【００１８】本発明の目的は、回転コンベア内の球体案
内路における球体の流れを均一にし、球体の研磨回路通
過回数を同一にすることにより、球体の径相互差を向上
させる球体研磨盤を提供することにある。
内路における球体の流れを均一にし、球体の研磨回路通
過回数を同一にすることにより、球体の径相互差を向上
させる球体研磨盤を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】前述の目的を達成するた
めに、請求項１の球体研磨盤は、軸中心に同心的に複数
配された第１環状溝を有する非回転の固定盤と、前記固
定盤に同軸的に対向して回転すると共に、前記第１環状
溝と同心状に対向して複数の研磨回路を形成すべく複数
配された第２環状溝を有する砥石体からなる回転盤と、
前記複数の研磨回路より球体を受け取ると共に前記複数
の研磨回路に前記球体を供給する球体案内路を形成する
回転コンベアとを備える球体研磨盤において、前記回転
コンベアは、回転円状底部と、当該円状底部と協働して
前記球体案内路を形成すべく前記円状底部の外周に前記
円状底部と別体に配されていると共に静止した外周枠と
からなり、前記外周枠の内側案内面が低摩擦摺動材から
なることを特徴とする。
めに、請求項１の球体研磨盤は、軸中心に同心的に複数
配された第１環状溝を有する非回転の固定盤と、前記固
定盤に同軸的に対向して回転すると共に、前記第１環状
溝と同心状に対向して複数の研磨回路を形成すべく複数
配された第２環状溝を有する砥石体からなる回転盤と、
前記複数の研磨回路より球体を受け取ると共に前記複数
の研磨回路に前記球体を供給する球体案内路を形成する
回転コンベアとを備える球体研磨盤において、前記回転
コンベアは、回転円状底部と、当該円状底部と協働して
前記球体案内路を形成すべく前記円状底部の外周に前記
円状底部と別体に配されていると共に静止した外周枠と
からなり、前記外周枠の内側案内面が低摩擦摺動材から
なることを特徴とする。
【００２０】前記球体研磨盤において、低摩擦摺動材が
前記外周枠の内側案内面に貼り付られるか、コーティン
グされてもよい。
前記外周枠の内側案内面に貼り付られるか、コーティン
グされてもよい。
【００２１】前記球体研磨盤において、低摩擦摺動材が
セグメント状に形成されてもよい。
セグメント状に形成されてもよい。
【００２２】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に係る球体研
磨盤の基本構成は、図３を参照して説明した鋼球研磨盤
と同様である。
磨盤の基本構成は、図３を参照して説明した鋼球研磨盤
と同様である。
【００２３】即ち、図３において、ベッド１上の一端側
には軸支部２がボルトで固定されており、該支持部１上
の他端側には支持部３がボルトで固定されている。
には軸支部２がボルトで固定されており、該支持部１上
の他端側には支持部３がボルトで固定されている。
【００２４】支持部２には図示しない駆動軸が回転自在
に軸支されている。支持部３に面する該駆動軸の一端に
は、鋼球を研磨する砥石体からなる回転盤１０が取り付
けられており、該駆動軸の他端には駆動軸プーリ４が取
り付けられている。ベッド１の中には図示しない駆動モ
ータが配されており、回転盤１０は駆動モータより駆動
軸プーリ４を介して駆動される。
に軸支されている。支持部３に面する該駆動軸の一端に
は、鋼球を研磨する砥石体からなる回転盤１０が取り付
けられており、該駆動軸の他端には駆動軸プーリ４が取
り付けられている。ベッド１の中には図示しない駆動モ
ータが配されており、回転盤１０は駆動モータより駆動
軸プーリ４を介して駆動される。
【００２５】支持部３には、支持部２に支持された駆動
軸と同軸的に図示しない軸が長手方向に移動自在に支持
されている。支持部２に面する該軸の一端には、固定盤
２０が取り付けられている。固定盤２０は支持部３内に
配された適宜な機構により回転盤１０に向かって押圧さ
れ、これにより、回転盤１０及び固定盤２０による鋼球
の研磨加工圧力が、例えば粗加工、中加工及び仕上げ加
工の３段階に調整される。一方、ベッド１の他端に隣接
して台５が配されており、台５の上には台座６を介して
回転コンベア３０が載置されている。
軸と同軸的に図示しない軸が長手方向に移動自在に支持
されている。支持部２に面する該軸の一端には、固定盤
２０が取り付けられている。固定盤２０は支持部３内に
配された適宜な機構により回転盤１０に向かって押圧さ
れ、これにより、回転盤１０及び固定盤２０による鋼球
の研磨加工圧力が、例えば粗加工、中加工及び仕上げ加
工の３段階に調整される。一方、ベッド１の他端に隣接
して台５が配されており、台５の上には台座６を介して
回転コンベア３０が載置されている。
【００２６】以下、図３の鋼球研磨盤の要部である回転
盤１０、固定盤２０および回転コンベア３０を図４を参
照しながら説明する。
盤１０、固定盤２０および回転コンベア３０を図４を参
照しながら説明する。
【００２７】図４において、回転する回転盤１０、及び
回転盤１０と同軸的に対向する静止した固定盤２０のそ
れぞれには、断面形状の寸法が研磨加工される鋼球２２
の曲率半径に近似した円弧状の環状溝（ボール溝）２３
が複数同心上に設けられている。回転盤１０の環状溝２
３と固定盤２０の環状溝２３は互いに対向しており、対
向する各一対の環状溝２３が研磨回路の１つを構成して
鋼球２２を研磨加工するように構成されている。回転コ
ンベア３０には１回に加工する鋼球が収容され、１ロッ
トとして管理される。固定盤２０及び回転コンベア３０
の間には、回転コンベア３０内の鋼球２２を研磨回路に
供給する供給シュート２４、及び研磨回路内で研磨され
た鋼球２２を回転コンベア３０に排出する排出シュート
２５が設けられている。
回転盤１０と同軸的に対向する静止した固定盤２０のそ
れぞれには、断面形状の寸法が研磨加工される鋼球２２
の曲率半径に近似した円弧状の環状溝（ボール溝）２３
が複数同心上に設けられている。回転盤１０の環状溝２
３と固定盤２０の環状溝２３は互いに対向しており、対
向する各一対の環状溝２３が研磨回路の１つを構成して
鋼球２２を研磨加工するように構成されている。回転コ
ンベア３０には１回に加工する鋼球が収容され、１ロッ
トとして管理される。固定盤２０及び回転コンベア３０
の間には、回転コンベア３０内の鋼球２２を研磨回路に
供給する供給シュート２４、及び研磨回路内で研磨され
た鋼球２２を回転コンベア３０に排出する排出シュート
２５が設けられている。
【００２８】研磨加工される鋼球は直径１〜３ｍｍであ
る。また、本球体研磨盤内を循環する鋼球の総量は数１
０万個であり、そのうち９９％以上が回転コンベア３０
内に留まっている。
る。また、本球体研磨盤内を循環する鋼球の総量は数１
０万個であり、そのうち９９％以上が回転コンベア３０
内に留まっている。
【００２９】図１は、本発明の実施の形態に係る球体研
磨盤に配された回転コンベア３０の平面図である。
磨盤に配された回転コンベア３０の平面図である。
【００３０】本実施の形態において回転コンベア３０
は、図１及び図４に示されるように、盆状をなしてお
り、中央部に回転センター部２６を有する回転自在な円
状底部２６ａ（図５（ａ）参照）と、円状底部２６ａの
外周に円状底部２６ａと別体に配されていると共に静止
した外周枠２７とを有している。供給シュート２４と排
出シュート２５との間において板状のストッパ２９が外
周枠２７に固定されており、回転センター部２６と外周
枠２７との間に環状の鋼球案内路２８が形成される。ま
た、回転コンベア３０は、円状底部２６ａは、台座６内
に配された適宜な回転機構により回転コンベア３０の上
方からみて反時計回りに回転され、回転コンベア３０の
中に収容された鋼球２２を鋼球案内路２８の排出シュー
ト２５の対応位置から供給シュート２４の対応位置に搬
送する。なお、回転コンベア３０内に収容された鋼球２
２は回転コンベア３０内で複数段状に積層された状態に
ある。
は、図１及び図４に示されるように、盆状をなしてお
り、中央部に回転センター部２６を有する回転自在な円
状底部２６ａ（図５（ａ）参照）と、円状底部２６ａの
外周に円状底部２６ａと別体に配されていると共に静止
した外周枠２７とを有している。供給シュート２４と排
出シュート２５との間において板状のストッパ２９が外
周枠２７に固定されており、回転センター部２６と外周
枠２７との間に環状の鋼球案内路２８が形成される。ま
た、回転コンベア３０は、円状底部２６ａは、台座６内
に配された適宜な回転機構により回転コンベア３０の上
方からみて反時計回りに回転され、回転コンベア３０の
中に収容された鋼球２２を鋼球案内路２８の排出シュー
ト２５の対応位置から供給シュート２４の対応位置に搬
送する。なお、回転コンベア３０内に収容された鋼球２
２は回転コンベア３０内で複数段状に積層された状態に
ある。
【００３１】外周枠２７の内側案内面２７ａには低摩擦
摺動材３１が貼り付けられている。また、供給シュート
２４及び排出シュート２５の内側案内面（側部）にも上
記低摩擦摺動材３１が貼り付けられている。
摺動材３１が貼り付けられている。また、供給シュート
２４及び排出シュート２５の内側案内面（側部）にも上
記低摩擦摺動材３１が貼り付けられている。
【００３２】上記低摩擦摺動材は、該当する内側案内面
にコーティングされてもよく、内側案内面自体が低摩擦
摺動部材からなってもよい。また、低摩擦摺動材がセグ
メント状に形成されてもよい。低摩擦摺動材としては、
ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン）、ＰＦＥＰ（六フッ化エ
チレンプロピレン）、ＰＦＡ（パーフロロアルキコシ）
などのフッ素樹脂等を使用することができる。
にコーティングされてもよく、内側案内面自体が低摩擦
摺動部材からなってもよい。また、低摩擦摺動材がセグ
メント状に形成されてもよい。低摩擦摺動材としては、
ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン）、ＰＦＥＰ（六フッ化エ
チレンプロピレン）、ＰＦＡ（パーフロロアルキコシ）
などのフッ素樹脂等を使用することができる。
【００３３】以下、図１及び図４を参照して、本発明の
実施の形態に係る球体研磨盤の作動を説明する。
実施の形態に係る球体研磨盤の作動を説明する。
【００３４】回転コンベア３０の作動により、回転コン
ベア３０内の鋼球２２は供給シュート２４を通って回転
盤１０及び固定盤２０の各対をなす環状溝２３からなる
研磨回路に送られる。このように、研磨回路に送られた
鋼球２２は、前述のように固定盤２０を回転盤体１０に
向かって押圧しつつ回転盤１０を回転させることにより
研磨回路内で研磨され、これらの研磨された鋼球２２
は、共通の排出シュート２５を介して回転コンベア３０
に返送される。これらの動作が複数回行われた後研磨加
工が完了する。
ベア３０内の鋼球２２は供給シュート２４を通って回転
盤１０及び固定盤２０の各対をなす環状溝２３からなる
研磨回路に送られる。このように、研磨回路に送られた
鋼球２２は、前述のように固定盤２０を回転盤体１０に
向かって押圧しつつ回転盤１０を回転させることにより
研磨回路内で研磨され、これらの研磨された鋼球２２
は、共通の排出シュート２５を介して回転コンベア３０
に返送される。これらの動作が複数回行われた後研磨加
工が完了する。
【００３５】以下、図２を参照して、鋼球２２に加わる
摩擦抵抗、及び鋼球案内路２８内における鋼球２２の挙
動を説明する。ここに、図２は、図１の回転コンベア３
０の部分拡大図である。
摩擦抵抗、及び鋼球案内路２８内における鋼球２２の挙
動を説明する。ここに、図２は、図１の回転コンベア３
０の部分拡大図である。
【００３６】回転コンベア３０の外周枠２７の内側案内
面２７ａにフッ素樹脂等からなる低摩擦摺動材３１が貼
り付けられているので、当該低摩擦摺動材３１に接触す
る鋼球２２の列は、低摩擦摺動材３１からほとんど摩擦
抵抗（図２のｃ点）を受けない。この摩擦抵抗は、他の
鋼球２２との間の滑り摩擦（図２のｄ点）に比べて小さ
いので、低摩擦摺動材３１に接触する鋼球２２は自転せ
ず、鋼球案内路２８を進む鋼球２２の速度が低摩擦摺動
材３１に接触しない鋼球２２と同様にほぼ回転コンベア
３０の円状底部２６ａの移動速度と同じになり、回転コ
ンベア３０内の鋼球案内路２８内における鋼球２２の流
れを均一にする。その結果、研磨回路をパスする回数に
差が生じるのを防止し、しかも他の鋼球２２との滑りに
より鋼球２２の表面に傷がつくのを防止して、鋼球２２
の表面仕上げ状態に影響を与えない。
面２７ａにフッ素樹脂等からなる低摩擦摺動材３１が貼
り付けられているので、当該低摩擦摺動材３１に接触す
る鋼球２２の列は、低摩擦摺動材３１からほとんど摩擦
抵抗（図２のｃ点）を受けない。この摩擦抵抗は、他の
鋼球２２との間の滑り摩擦（図２のｄ点）に比べて小さ
いので、低摩擦摺動材３１に接触する鋼球２２は自転せ
ず、鋼球案内路２８を進む鋼球２２の速度が低摩擦摺動
材３１に接触しない鋼球２２と同様にほぼ回転コンベア
３０の円状底部２６ａの移動速度と同じになり、回転コ
ンベア３０内の鋼球案内路２８内における鋼球２２の流
れを均一にする。その結果、研磨回路をパスする回数に
差が生じるのを防止し、しかも他の鋼球２２との滑りに
より鋼球２２の表面に傷がつくのを防止して、鋼球２２
の表面仕上げ状態に影響を与えない。
【００３７】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
請求項１の球体研磨盤によれば、回転コンベアは、回転
円状底部と、円状底部と協働して球体案内路を形成すべ
く円状底部の外周に円状底部と別体に配されていると共
に静止した外周枠とからなり、前外周枠の内側案内面が
低摩擦摺動材からなるので、低摩擦摺動材に接触する球
体の列は、低摩擦摺動材からほとんど摩擦抵抗を受け
ず、この摩擦抵抗は、他の球体との間の滑り摩擦に比べ
て小さいので、低摩擦摺動材に接触する球体は自転せ
ず、球体案内路を進む球体の速度が低摩擦摺動材に接触
しない球体と同様にほぼ回転コンベアの円状底部の移動
速度と同じになり、回転コンベア内の球体案内路内にお
ける球体の流れを均一にする。その結果、研磨回路をパ
スする回数に差が生じるのを防止し、しかも他の球体と
の滑りにより鋼球の表面に傷がつくのを防止して、球体
の表面仕上げ状態に影響を与えない。
請求項１の球体研磨盤によれば、回転コンベアは、回転
円状底部と、円状底部と協働して球体案内路を形成すべ
く円状底部の外周に円状底部と別体に配されていると共
に静止した外周枠とからなり、前外周枠の内側案内面が
低摩擦摺動材からなるので、低摩擦摺動材に接触する球
体の列は、低摩擦摺動材からほとんど摩擦抵抗を受け
ず、この摩擦抵抗は、他の球体との間の滑り摩擦に比べ
て小さいので、低摩擦摺動材に接触する球体は自転せ
ず、球体案内路を進む球体の速度が低摩擦摺動材に接触
しない球体と同様にほぼ回転コンベアの円状底部の移動
速度と同じになり、回転コンベア内の球体案内路内にお
ける球体の流れを均一にする。その結果、研磨回路をパ
スする回数に差が生じるのを防止し、しかも他の球体と
の滑りにより鋼球の表面に傷がつくのを防止して、球体
の表面仕上げ状態に影響を与えない。
【図１】本発明の実施の形態に係る球体研磨盤に配され
た回転コンベア３０の平面図である。
た回転コンベア３０の平面図である。
【図２】図１の回転コンベア３０の部分拡大図である。
【図３】従来の鋼球研磨盤全体の斜視図である。
【図４】図３の鋼球研磨盤の要部の斜視図である。
【図５】（ａ）は、鋼球２２に加わる摩擦抵抗、及びボ
ール案内路２８内における鋼球２２の挙動の説明するた
めの回転コンベア３０の縦断面図であり、（ｂ）はその
平面図である。
ール案内路２８内における鋼球２２の挙動の説明するた
めの回転コンベア３０の縦断面図であり、（ｂ）はその
平面図である。
１ ベッド １０ 回転盤 ２０ 固定盤 ２２ 鋼球 ２３ 環状溝 ２４ 供給シュート ２５ 排出シュート ２６ 回転センター部 ２７ 外周枠 ２７ａ 内側案内面 ２８ 鋼球案内路 ２９ ストッパ ３０ 回転コンベア
Claims (1)
- 【請求項１】 軸中心に同心的に複数配された第１環状
溝を有する非回転の固定盤と、前記固定盤に同軸的に対
向して回転すると共に、前記第１環状溝と同心状に対向
して複数の研磨回路を形成すべく複数配された第２環状
溝を有する砥石体からなる回転盤と、前記複数の研磨回
路より球体を受け取ると共に前記複数の研磨回路に前記
球体を供給する球体案内路を形成する回転コンベアとを
備える球体研磨盤において、前記回転コンベアは、回転
円状底部と、当該円状底部と協働して前記球体案内路を
形成すべく前記円状底部の外周に前記円状底部と別体に
配されていると共に静止した外周枠とからなり、前記外
周枠の内側案内面が低摩擦摺動材からなることを特徴と
する球体研磨盤。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8199566A JPH1029146A (ja) | 1996-07-11 | 1996-07-11 | 球体研磨盤 |
| US08/835,477 US5921851A (en) | 1996-04-08 | 1997-04-08 | Sphere polisher |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8199566A JPH1029146A (ja) | 1996-07-11 | 1996-07-11 | 球体研磨盤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1029146A true JPH1029146A (ja) | 1998-02-03 |
Family
ID=16409966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8199566A Pending JPH1029146A (ja) | 1996-04-08 | 1996-07-11 | 球体研磨盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1029146A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210112922A (ko) * | 2020-03-06 | 2021-09-15 | 넥센타이어 주식회사 | 타이어의 마모 측정 장치 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04365721A (ja) * | 1991-06-13 | 1992-12-17 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 軽量ボトルの傾斜路と基準路との連絡用空気コンベア |
| JPH05253823A (ja) * | 1991-03-06 | 1993-10-05 | Nippon Seiko Kk | 球体の供給装置 |
| JPH07246434A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-26 | Murata Mach Ltd | パンチプレスのテーブル |
-
1996
- 1996-07-11 JP JP8199566A patent/JPH1029146A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05253823A (ja) * | 1991-03-06 | 1993-10-05 | Nippon Seiko Kk | 球体の供給装置 |
| JPH04365721A (ja) * | 1991-06-13 | 1992-12-17 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 軽量ボトルの傾斜路と基準路との連絡用空気コンベア |
| JPH07246434A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-26 | Murata Mach Ltd | パンチプレスのテーブル |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210112922A (ko) * | 2020-03-06 | 2021-09-15 | 넥센타이어 주식회사 | 타이어의 마모 측정 장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6145849A (en) | Disk processing chuck | |
| JP4455750B2 (ja) | 研削装置 | |
| US6905398B2 (en) | Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method | |
| US5944593A (en) | Retainer ring for polishing head of chemical-mechanical polish machines | |
| US6041465A (en) | Cleaning apparatus | |
| KR100411478B1 (ko) | 원판형 공작물의 외주연마장치 및 연마방법 | |
| US5866480A (en) | Method and apparatus for polishing semiconductor substrate | |
| CN101143422B (zh) | 圆盘状基板的内周研磨方法 | |
| US5123218A (en) | Circumferential pattern finishing method | |
| US5187901A (en) | Circumferential pattern finishing machine | |
| JPH1029146A (ja) | 球体研磨盤 | |
| US5921851A (en) | Sphere polisher | |
| JPH05243196A (ja) | ウエーハ面取部の鏡面研磨方法及び装置 | |
| JP2003305636A (ja) | 球体研摩装置 | |
| JPH1029147A (ja) | 球体研磨盤 | |
| JP2000158306A (ja) | 両面研削装置 | |
| JP2000108022A (ja) | 表面処理方法および装置 | |
| JP2005342815A (ja) | 球体研磨装置 | |
| JPH1029142A (ja) | 円盤状半導体ウェーハ面取部のミラー面取加工方法 | |
| JP2002307276A (ja) | 半導体ウエハの外周研磨装置及び研磨方法 | |
| JPH10180605A (ja) | 球体研磨装置 | |
| US3158970A (en) | Grinding workhead | |
| JPH11300605A (ja) | 球体研磨盤 | |
| JP3781576B2 (ja) | ポリッシング装置 | |
| JP2003145399A (ja) | 円盤状半導体ウェーハ面取部のミラー面取加工方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040720 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040727 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040908 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050201 |