JPH10284239A - ファン付き加熱調理装置およびそれを用いた加熱調理装置システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 上下に複数の加熱調理装置を配置する加熱調
理装置システムにおけるファン付きの加熱調理装置に関
するものであり、下方に設けた加熱調理装置から発生す
る生成ガスの換気効率をよくすると共に自身の機械室を
効率よく冷却することを目的とする。 【解決手段】 上部に設定したファン付きの第１の加熱
調理装置７は被加熱物を加熱する加熱手段を収納するた
め第１の吸気口１より空気を取り入れる第１のファン３
と下部の第２の加熱調理装置８の排ガスを下部に設けた
第２の吸気口５より取り入れる第２のファン６とを備
え、前記第１のファン３を機械室２の上部に設置する構
成とした。これにより広い換気通路を確保することがで
きるようになり、換気効率をよくすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はファン付き加熱調理
装置、特に下方に加熱調理装置がある状態で用いられる
ファン付き加熱調理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来この種のファン付き加熱調理装置
は、図３に示されているように機器上部に設けた第１の
吸気口１から取り入れた空気を機械室２の後部に設けた
第１のファン３に送風し、機器上部に設けた排気口４か
ら排気し、一方別途下方に設けた加熱調理装置から発生
する生成ガスを換気するために第２の吸気口５から取り
入れた生成ガスを換気用に設けた第２のファン６より戸
外に排気するようになっていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ファン付き加熱調理装置では、第１のファンを機械室の
後部に収納しているため、機械室の奥行きが大きく、か
つ、第２のファンの吸気通路をふさいでしまうため、排
気効率が悪いという問題があった。また、第１の吸気口
と排気口が隣り合っているため、機械室を冷却した空気
が再び第１の吸気口に吸い込まれやすく、冷却風が循環
し冷却効率が悪いという問題を有していた。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために上方に第１の加熱調理装置があり、下方に第
２の加熱調理装置がある構成において、第１のファンを
機械室の上部に設置したものである。また、機械室底面
にあけられた開口部と、開口部を通った空気が加熱室底
部を通り次に前記機械室と反対側を通るように設けた排
気通路と、第１の吸気口の反対側に設けた排気口とを有
するものである。

【０００５】上記発明によれば、第１のファンが機械室
の上部にあるため、機械室の奥行きを小さくすることが
でき、機械室後部に広い換気用通路を設けることができ
るため、換気用の第２のファンに空気を吸い込み易くす
ることができ、換気効率をよくすることができる。ま
た、冷却風が加熱室の底部を通って機械室の反対側の排
気口から排気する事ができるため、冷却風が再度第１の
吸気口に入ることが無く、機械室を効率よく冷却するこ
とができる。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明は被加熱物を収納する加熱
室と、前記被加熱物を加熱する加熱手段と、前記加熱手
段を収納する機械室と、前記加熱室および前記機械室の
換気を行う第１のファンと、前記第１のファンに送風す
る空気を取り入れる第１の吸気口と、下方の空気を取り
入れる第２のファンと、前記第２のファンにより空気を
取り入れる第２の吸気口とを備え、前記第１のファンを
前記機械室の上部に設置したものである。

【０００７】そして、第１のファンが機械室の上部にあ
るため、機械室の奥行きを小さくすることができ、機械
室後部に広い換気用通路を設けることができるため、換
気用の第２のファンに空気を吸い込み易くすることがで
き、換気効率をよくすることができる。

【０００８】また、機械室と、前記機械室の上方に設置
した第１のファンと、前記機械室底面に設けた開口部
と、前記開口部を通った空気が加熱室底部を通り次に前
記機械室と反対側を通るように設けた排気通路と、第１
の吸気口の反対側に設けた排気口とを有する構成とした
ものである。

【０００９】そして、冷却風が加熱室の底部を通って機
械室の反対側の排気口から排気する事ができるため、冷
却風が再度第１の吸気口に入ることが無く、機械室を効
率よく冷却することができる。

【００１０】また、機体外の温度を検知する手段を備
え、機体外の温度が設定された温度以上になると、第２
のファンが作動する構成としたものである。

【００１１】そして、近接する機器からの熱伝達による
機械室内の部品の温度上昇を防ぐことができる。

【００１２】また、上方に第１の加熱調理装置があり、
下方に第２の加熱調理装置がある構成において、前記第
１の加熱調理装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前
記被加熱物を加熱する加熱手段と、前記加熱手段を収納
する機械室と、前記加熱室および前記機械室の換気を行
う第１のファンと、前記第１のファンに送風する空気を
取り入れる第１の吸気口と、前記第２の加熱調理装置か
ら発生する生成ガスを換気する第２のファンと、前記第
２のファンに前記第２の加熱装置から発生する生成ガス
を取り入れる第２の吸気口とを備え、前記第１のファン
を前記機械室の上部に設置する構成としたものである。

【００１３】そして、第１のファンが機械室の上部にあ
るため、機械室の奥行きを小さくすることができ、機械
室後部に広い換気用通路を設けることができるため、換
気用の第２のファンに第２の加熱調理装置から発生する
生成ガスを吸い込み易くすることができ、換気効率をよ
くすることができる。

【００１４】また、第１の加熱調理装置システムの温度
を検知する手段を備え、機体外の温度が設定された温度
以上になると、第２のファンが作動する構成としたもの
である。

【００１５】そして、第１の加熱調理装置の機体外から
の熱伝達による機械室内の部品の温度上昇を防ぐことが
できる。

【００１６】また、第２の加熱調理装置が使用される
と、第１の加熱調理装置の第２のファンを作動させる構
成としたものである。

【００１７】そして、第２の加熱調理装置からの熱伝達
による機械室内の部品の温度上昇を防ぐことができる。

【００１８】また、第１の加熱調理装置の上方に前記第
１の加熱調理装置の排気を外部に排出する換気扇を設け
る構成としたものである。

【００１９】そして、第１及び第２の加熱調理装置から
の排気を効率よく換気することができ、機械室内の部品
の温度上昇を防ぐことができる。

【００２０】以下、本発明の実施例について図面を用い
て説明する。 （実施例１）図１は本発明の一実施例のファン付き加熱
調理装置の要部断面図、また図２はファン付き加熱調理
装置を用いた加熱調理装置システムの概略構成図であ
る。

【００２１】図１および２において、７はファン付き加
熱調理装置からなる第１の加熱調理装置であり、８は第
１の加熱調理装置の下方に設けられたガスコンロ等の第
２の加熱調理装置である。９は第１の加熱調理装置の上
方に設けられた換気扇である。第１の加熱調理装置７は
被加熱物を収納する加熱室１０と、高周波を発生するマ
グネトロン等の加熱手段１１からなる機械室２とを収納
している。１は機械室２に冷却用の空気を取り込む第１
の吸気口であり、第１のファン３によって吸気する。第
１のファン３は機械室２の上方に設置し、機械室２後方
に空間を確保している。機械室２底部には開口部１２が
あり、機械室２内部の部品を冷却した冷却風を排気通路
１３を通して排気口４から排気し、換気扇９から戸外に
排出している。排気口４と第１の吸気口１は加熱室１０
を挟んで機器の両端に分離独立して設置している。

【００２２】一方、第２の加熱調理装置８から発生する
生成ガスは、第１の加熱調理装置７底面に設けた第２の
吸気口５から機械室２後部の換気用通路１４を通って第
２のファン６から戸外に排気される。第２のファン６は
加熱室の上方かつ後方に設置し、ファンの吸い込み口１
５は機械室後部の換気用通路１４につながっている。

【００２３】１６はサーミスタ等からなる温度検知手段
であり機器底部に設けている。第１の加熱調理装置７を
使用したり、第２の加熱調理装置８を使用すると、熱対
流あるいは輻射熱により温度を検知する。

【００２４】次に動作、作用について説明すると第１の
ファン３を機械室２の上方に設置しているため、機械室
２後方の換気用通路１４を遮ることが無く、第２のファ
ン６は効率よく第２の加熱調理装置８からの生成ガスを
換気することができる。また、第１の吸気口１と排気口
４は分離独立して設置しているため、機械室２を冷却し
た空気が再び第１の吸気口１に吸い込まれることが無
く、機械室２内部の部品を効率よく冷却することができ
る。なお、第１の吸気口１は機器の上部、第２の吸気口
５は機器の下部に離れて設置しているため、第２の加熱
調理装置８から発生する排気は、主に第２の吸気口５に
吸い込まれ、第１の加熱調理装置７上部の雰囲気温度は
上昇しないので、第１の吸気口１は、冷たい空気を取り
入れることができ、機械室２内部の部品を効率よく冷却
することができる。

【００２５】さらに温度検知手段１６は、使用者が第２
のファン６を作動させていないときに第１の加熱調理装
置７を使用することによる熱伝導で機器温度が上昇する
と、自動的に第２のファン６を作動させ、また、第２の
加熱調理装置８を使用し輻射熱により機器温度が上昇す
ると自動的に第２のファン６を作動させ、機械室２内部
の部品の温度を効率よく低減させることができるもので
ある。

【００２６】

【発明の効果】以上のように本発明によれば第１のファ
ンを前記機械室の上部に設置しているので、機械室の奥
行きを小さくすることができ、機械室後部に広い換気用
通路を設けることができるため、第２の加熱調理装置か
ら発生する生成ガスを第２のファンに吸い込み易くする
ことができ、換気効率をよくすることができるという有
利な効果を有する。

【００２７】また、機械室底面に設けた開口部と、前記
開口部を通った空気が加熱室底部を通り次に前記機械室
と反対側を通るように設けた排気通路と、第１の吸気口
の反対側に設けた排気口とを有しているので、冷却風が
加熱室の底部を通って機械室の反対側の排気口から排気
する事ができるため、冷却風が再度第１の吸気口に入る
ことが無く、機械室を効率よく冷却することができる。

【００２８】さらに第１の加熱調理装置システムの温度
を検知する手段を備え、機体外の温度が設定された温度
以上になると、第２のファンが作動するので、機体外か
らの熱伝達による機械室内の部品の温度上昇を防ぐこと
ができる。

【００２９】また、第２の加熱調理装置が使用される
と、第１の加熱調理装置の第２のファンを作動するの
で、第２の加熱調理装置からの熱伝達による機械室内の
部品の温度上昇を防ぐことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の加熱調理装置の要部断面図

【図２】同加熱調理装置システムの概略構成図

【図３】従来の加熱調理装置システムの概略構成図

【符号の説明】

１ 第１の吸気口 ２ 機械室 ３ 第１のファン ４ 排気口 ５ 第２の吸気口 ６ 第２のファン ７ 第１の加熱調理装置 ８ 第２の加熱調理装置 ９ 換気扇 １０ 加熱室 １１ 加熱手段 １２ 開口部 １３ 排気通路 １６ 温度検知手段

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被加熱物を収納する加熱室と、前記被加熱
   物を加熱する加熱手段と、前記加熱手段を収納する機械
   室と、前記加熱室および前記機械室の換気を行う第１の
   ファンと、前記第１のファンに送風する空気を取り入れ
   る第１の吸気口と、下方の空気を取り入れる第２のファ
   ンと、前記第２のファンにより空気を取り入れる第２の
   吸気口とを備え、前記第１のファンを前記機械室の上部
   に設置したファン付き加熱調理装置。
2. 【請求項２】機械室と、前記機械室の上方に設置した第
   １のファンと、前記機械室底面に設けた開口部と、前記
   開口部を通った空気が加熱室底部を通り次に前記機械室
   と反対側を通るように設けた排気通路と、第１の吸気口
   の反対側に設けた排気口とを有する構成とした請求項１
   記載のファン付き加熱調理装置。
3. 【請求項３】機体外の温度を検知する手段を備え、機体
   外の温度が設定された温度以上になると、第２のファン
   が作動する構成とした請求項１または２記載のファン付
   き加熱調理装置。
4. 【請求項４】上方に第１の加熱調理装置があり、下方に
   第２の加熱調理装置があるシステムにおいて、前記第１
   の加熱調理装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記
   被加熱物を加熱する加熱手段と、前記加熱手段を収納す
   る機械室と、前記加熱室および前記機械室の換気を行う
   第１のファンと、前記第１のファンに送風する空気を取
   り入れる第１の吸気口と、前記第２の加熱調理装置から
   発生する生成ガスを換気する第２のファンと、前記第２
   のファンに前記第２の加熱装置から発生する生成ガスを
   取り入れる第２の吸気口とを備え、前記第１のファンを
   前記機械室の上部に設置する構成とした加熱調理装置シ
   ステム。
5. 【請求項５】第１の加熱調理装置システムの温度を検知
   する手段を備え、機体外の温度が設定された温度以上に
   なると、第２のファンが作動する構成とした請求項４記
   載の加熱調理装置システム。
6. 【請求項６】第２の加熱調理装置が使用されると、第１
   の加熱調理装置の第２のファンを作動させる構成とした
   請求項４または５記載の加熱調理装置システム。
7. 【請求項７】第１の加熱調理装置の上方に前記第１の加
   熱調理装置の排気を外部に排出する換気扇を設ける構成
   とした加熱調理装置システム。