JPH10275525A - 透明導電性フイルム - Google Patents
透明導電性フイルムInfo
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- JPH10275525A JPH10275525A JP9094854A JP9485497A JPH10275525A JP H10275525 A JPH10275525 A JP H10275525A JP 9094854 A JP9094854 A JP 9094854A JP 9485497 A JP9485497 A JP 9485497A JP H10275525 A JPH10275525 A JP H10275525A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高度に透明で、かつ、電気伝導性に優れた
透明導電性フィルムを提供すること。 【解決手段】 光線透過率８５％以上、厚さ１２〜２５
０μｍの透明重合体フィルムの表面に、少なくとも表面
側に酸化錫の薄膜が存在する酸化錫及び銀の積層薄膜か
らなる導電層を形成したことを特徴とする。
透明導電性フィルムを提供すること。 【解決手段】 光線透過率８５％以上、厚さ１２〜２５
０μｍの透明重合体フィルムの表面に、少なくとも表面
側に酸化錫の薄膜が存在する酸化錫及び銀の積層薄膜か
らなる導電層を形成したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明導電性フィル
ム、特に、透明ヒーター部材、電磁障害シールド及び赤
外線反射材料などに使用するのに好適な透明導電性フィ
ルムに関するものである。更に詳しくは、プラズマディ
スプレイの電磁障害シールド及び赤外線反射材料として
使用される透明導電性フィルムに関するものである。
ム、特に、透明ヒーター部材、電磁障害シールド及び赤
外線反射材料などに使用するのに好適な透明導電性フィ
ルムに関するものである。更に詳しくは、プラズマディ
スプレイの電磁障害シールド及び赤外線反射材料として
使用される透明導電性フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の透明導電性フィルムとしては、イ
ンジュウム・錫酸化物薄膜積層フィルム（以下ＩＴＯフ
ィルムという）がある。ＩＴＯフィルムは透明なプラス
チックフィルム上にスパッタ法等のドライプロセスによ
り、インジウム・錫酸化物の薄膜を形成して導電性を持
たせたものであり、１０3Ω／□程度の表面抵抗と５５
０ｎｍの波長で８０％以上の光線透過率を有するフィル
ムである。しかしながら、これらのＩＴＯフィルムは、
電磁障害シールド等に使用するには導電性が十分ではな
かった。
ンジュウム・錫酸化物薄膜積層フィルム（以下ＩＴＯフ
ィルムという）がある。ＩＴＯフィルムは透明なプラス
チックフィルム上にスパッタ法等のドライプロセスによ
り、インジウム・錫酸化物の薄膜を形成して導電性を持
たせたものであり、１０3Ω／□程度の表面抵抗と５５
０ｎｍの波長で８０％以上の光線透過率を有するフィル
ムである。しかしながら、これらのＩＴＯフィルムは、
電磁障害シールド等に使用するには導電性が十分ではな
かった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
透明導電性フィルムの有する問題点を解決し、高度に透
明で、かつ、電気伝導性に優れた透明導電性フィルム、
特に、透明なシールド材料に有用な透明導電性フィルム
を提供するものである。さらに、プラズマディスプレイ
の表示部など透明性を必要とするシールド材料に適して
いる。
透明導電性フィルムの有する問題点を解決し、高度に透
明で、かつ、電気伝導性に優れた透明導電性フィルム、
特に、透明なシールド材料に有用な透明導電性フィルム
を提供するものである。さらに、プラズマディスプレイ
の表示部など透明性を必要とするシールド材料に適して
いる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の透明導電性フィルムは、光線透過率８５％
以上、厚さ１２〜２５０μｍの透明重合体フィルムの表
面に、少なくとも表面側に酸化錫の薄膜が存在する酸化
錫及び銀の積層薄膜からなる導電層を形成したことを特
徴とする。
め、本発明の透明導電性フィルムは、光線透過率８５％
以上、厚さ１２〜２５０μｍの透明重合体フィルムの表
面に、少なくとも表面側に酸化錫の薄膜が存在する酸化
錫及び銀の積層薄膜からなる導電層を形成したことを特
徴とする。
【０００５】上記の構成からなる本発明の透明導電性フ
ィルムは、高度に透明で電気伝導性に優れ、透明なシー
ルド材料、特に、プラズマディスプレイの表示部など透
明性を必要とする電磁障害シールド材料や透明ヒーター
部材、赤外線反射材等に適している。
ィルムは、高度に透明で電気伝導性に優れ、透明なシー
ルド材料、特に、プラズマディスプレイの表示部など透
明性を必要とする電磁障害シールド材料や透明ヒーター
部材、赤外線反射材等に適している。
【０００６】本発明の好適な実施態様としては、透明重
合体フィルムの他方の面にハードコート層を形成するこ
とができる。
合体フィルムの他方の面にハードコート層を形成するこ
とができる。
【０００７】また、好適な実施態様としては、透明導電
性フィルムの表面に粘着剤膜、離型膜を順に形成するこ
とができる。
性フィルムの表面に粘着剤膜、離型膜を順に形成するこ
とができる。
【０００８】また、好適な実施態様としては、透明導電
性フィルムの全光線透過率が８０％以上であることがで
きる。
性フィルムの全光線透過率が８０％以上であることがで
きる。
【０００９】また、好適な実施態様としては、導電層の
表面抵抗値が１ＯΩ／□以下であることができる。
表面抵抗値が１ＯΩ／□以下であることができる。
【００１０】また、好適な実施態様としては、導電層が
酸化錫／銀／酸化錫の３層薄膜であることができる。
酸化錫／銀／酸化錫の３層薄膜であることができる。
【００１１】さらに、好適な実施態様としては、透明ヒ
ーター部材、電磁障害シールド材料及び赤外線反射材料
に使用することを特徴とする。
ーター部材、電磁障害シールド材料及び赤外線反射材料
に使用することを特徴とする。
【００１２】上記本発明の透明導電性フィルムは、光線
透過率８５％以上、厚さ１２〜２５０μｍの透明重合体
フィルムの表面に、少なくとも表面側に酸化錫の薄膜が
存在するように、酸化錫及び銀の積層薄膜を交互にスパ
ッタ法等のドライプロセスにより多層構成する事で得る
ことができ、その好ましい特性は表面抵抗１０Ω／□以
下という高導電性と５５Ｏｎｍの波長での光線透過率が
８０％以上という高光線透過率として示すことができ
る。
透過率８５％以上、厚さ１２〜２５０μｍの透明重合体
フィルムの表面に、少なくとも表面側に酸化錫の薄膜が
存在するように、酸化錫及び銀の積層薄膜を交互にスパ
ッタ法等のドライプロセスにより多層構成する事で得る
ことができ、その好ましい特性は表面抵抗１０Ω／□以
下という高導電性と５５Ｏｎｍの波長での光線透過率が
８０％以上という高光線透過率として示すことができ
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の透明導電性フィル
ムの実施の形態を説明する。
ムの実施の形態を説明する。
【００１４】本発明の透明導電性フィルムの構成の一例
を図１に示す。図において、透明重合体フィルム（４）
の片面に酸化錫薄膜（２）、銀薄膜（３）、酸化錫薄膜
（２）粘着剤膜（１）が、透明重合体フィルム（４）の
反対面にハードコート膜（５）が積層されている。
を図１に示す。図において、透明重合体フィルム（４）
の片面に酸化錫薄膜（２）、銀薄膜（３）、酸化錫薄膜
（２）粘着剤膜（１）が、透明重合体フィルム（４）の
反対面にハードコート膜（５）が積層されている。
【００１５】本発明で用いる透明重合体フィルムは、ジ
アセチルセルロース、トリアセチルセルロースに代表さ
れるセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンに
代表されるポリオレフィン樹脂、ポリメチル（メタ）ア
クリレート、ポリエチル（メタ）アクリレートに代表さ
れるアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート
に代表されるポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリ
エーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹
脂、ポリアリレート樹脂、ポリアミドイミド樹脂などの
熱可塑性重合体からなるフィルム、あるいはポリマレイ
ミド樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
エポキシ樹脂、アクリレート樹脂などの熱硬化性や光硬
化性重合体からなるフィルムを通常用いる。
アセチルセルロース、トリアセチルセルロースに代表さ
れるセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンに
代表されるポリオレフィン樹脂、ポリメチル（メタ）ア
クリレート、ポリエチル（メタ）アクリレートに代表さ
れるアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート
に代表されるポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリ
エーテルスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹
脂、ポリアリレート樹脂、ポリアミドイミド樹脂などの
熱可塑性重合体からなるフィルム、あるいはポリマレイ
ミド樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
エポキシ樹脂、アクリレート樹脂などの熱硬化性や光硬
化性重合体からなるフィルムを通常用いる。
【００１６】そして、透明性や複屈折などの光学特性
や、ガラス転移点や熱変形温度などの耐熱特性のバラン
スからはポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスル
ホン、またはポリアミドイミドからなるフィルムが好ま
しく、さらに、シンジオタクティックポリスチレン、１
軸延伸ポリエチレンテレフタレート、脂環族ポリアミド
イミドからなるフィルムも好ましい。
や、ガラス転移点や熱変形温度などの耐熱特性のバラン
スからはポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスル
ホン、またはポリアミドイミドからなるフィルムが好ま
しく、さらに、シンジオタクティックポリスチレン、１
軸延伸ポリエチレンテレフタレート、脂環族ポリアミド
イミドからなるフィルムも好ましい。
【００１７】本発明で用いる透明重合体フィルムは単層
であっても、２層以上の積層体であってもよい。
であっても、２層以上の積層体であってもよい。
【００１８】１軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムは、縦あるいは横の一方向にのみ延伸したフィルム
であり、屈折率の異方性の軸が揃っており、１００ミク
ロン厚程度のフィルムのリタデーション値は数百から数
千ｎｍ前後となる。
ルムは、縦あるいは横の一方向にのみ延伸したフィルム
であり、屈折率の異方性の軸が揃っており、１００ミク
ロン厚程度のフィルムのリタデーション値は数百から数
千ｎｍ前後となる。
【００１９】脂環族ポリアミドイミドからなるフィルム
は、イソホロンジアミンやシクロヘキサンジアミン、メ
チレンジシクロヘキサンジアミンなどの脂環族ジアミン
成分、あるいはイソホロンジイソシアネートやシクロヘ
キサンジイソシアネート、メチレンジシクロヘキサンジ
イソシアネートなどの脂環族ジイソシアネート成分と、
トリメリット酸無水物の縮合ポリマからなるフィルムで
あって、高光線透過率と高耐熱性とを両立しているのが
特徴である。 脂環族ポリアミドイミドのフィルム化の
手段としては、アミド系溶剤などによる溶液キャスト法
がよく用いられるが、脂環族ポリアミドイミドは、テト
ラヒドロキシフランやシクロヘキサノンなどの比較的低
沸点の溶剤にも溶解させることが可能なため、キャスト
したフィルムの乾燥が低温、短時間ですむ、という特徴
をもっている。キャスト法により製膜されたフィルムの
最大の特徴としては、光学的に等方性で複屈折が極めて
少ないということであるが、溶融押し出し法によって製
膜されたフィルムに比べ高粘度のレジンが使用でき、熱
による劣化も少なく、高分子量、高強度のフィルムが製
膜できるなどの利点がある。
は、イソホロンジアミンやシクロヘキサンジアミン、メ
チレンジシクロヘキサンジアミンなどの脂環族ジアミン
成分、あるいはイソホロンジイソシアネートやシクロヘ
キサンジイソシアネート、メチレンジシクロヘキサンジ
イソシアネートなどの脂環族ジイソシアネート成分と、
トリメリット酸無水物の縮合ポリマからなるフィルムで
あって、高光線透過率と高耐熱性とを両立しているのが
特徴である。 脂環族ポリアミドイミドのフィルム化の
手段としては、アミド系溶剤などによる溶液キャスト法
がよく用いられるが、脂環族ポリアミドイミドは、テト
ラヒドロキシフランやシクロヘキサノンなどの比較的低
沸点の溶剤にも溶解させることが可能なため、キャスト
したフィルムの乾燥が低温、短時間ですむ、という特徴
をもっている。キャスト法により製膜されたフィルムの
最大の特徴としては、光学的に等方性で複屈折が極めて
少ないということであるが、溶融押し出し法によって製
膜されたフィルムに比べ高粘度のレジンが使用でき、熱
による劣化も少なく、高分子量、高強度のフィルムが製
膜できるなどの利点がある。
【００２０】本発明で用いる透明重合体フィルムの厚さ
は、１２〜２５０ミクロンが好ましく、さらに好ましく
は２５〜２００ミクロンである。上記透明重合体フィル
ムのガラス転移点（Ｔｇ）もしくは熱変形温度は、６０
℃以上が好ましく、耐熱性が求められる用途には熱変形
温度が１２０℃以上、さらに１５０℃以上のフィルムが
好ましい。
は、１２〜２５０ミクロンが好ましく、さらに好ましく
は２５〜２００ミクロンである。上記透明重合体フィル
ムのガラス転移点（Ｔｇ）もしくは熱変形温度は、６０
℃以上が好ましく、耐熱性が求められる用途には熱変形
温度が１２０℃以上、さらに１５０℃以上のフィルムが
好ましい。
【００２１】また、透明重合体フィルムとしては光線透
過率（本明細書中では何れも５５０ｎｍで測定した）が
８５％以上のフィルムを用いる。また、透明重合体フィ
ルムの表面粗さは、触針式粗さ測定器で測定した中心線
平均粗さ（Ｒａ）が１００ｎｍ以下であるのが好まし
く、さらに好ましくは、１０ｎｍ以下である。
過率（本明細書中では何れも５５０ｎｍで測定した）が
８５％以上のフィルムを用いる。また、透明重合体フィ
ルムの表面粗さは、触針式粗さ測定器で測定した中心線
平均粗さ（Ｒａ）が１００ｎｍ以下であるのが好まし
く、さらに好ましくは、１０ｎｍ以下である。
【００２２】なお、透明重合体フィルムの複屈折は、極
端に小さいか、極端に大きいことが好ましい。溶液キャ
スト法により製膜したフィルムのように、極端に小さい
場合は、レタデーション値が３０ｎｍ以下が好ましく、
さらに好ましくは１０ｎｍ以下である。１軸延伸フィル
ムのように、極端に大きい場合は、複屈折の軸が揃って
おり、なおかつ５０００ｎｍ以上であるのが好ましく、
さらに好ましくは８０００ｎｍ以上である。
端に小さいか、極端に大きいことが好ましい。溶液キャ
スト法により製膜したフィルムのように、極端に小さい
場合は、レタデーション値が３０ｎｍ以下が好ましく、
さらに好ましくは１０ｎｍ以下である。１軸延伸フィル
ムのように、極端に大きい場合は、複屈折の軸が揃って
おり、なおかつ５０００ｎｍ以上であるのが好ましく、
さらに好ましくは８０００ｎｍ以上である。
【００２３】本発明の透明導電性フィルムは高度に透明
な重合体フィルムの表面に、少なくとも表面側に酸化錫
の薄膜が存在する酸化錫及び銀の積層薄膜からなる導電
層を形成したことで、高導電性と高光線透過率をともに
有する透明導電性フィルムを得ている。すなわち、高い
導電率を持つ銀を薄膜形成することで、表面抵抗を下
げ、銀薄膜を酸化錫薄膜でサンドイッチすることで銀層
の酸化防止を行い、銀層の膜厚を下げることで高光線透
過率を実現している。
な重合体フィルムの表面に、少なくとも表面側に酸化錫
の薄膜が存在する酸化錫及び銀の積層薄膜からなる導電
層を形成したことで、高導電性と高光線透過率をともに
有する透明導電性フィルムを得ている。すなわち、高い
導電率を持つ銀を薄膜形成することで、表面抵抗を下
げ、銀薄膜を酸化錫薄膜でサンドイッチすることで銀層
の酸化防止を行い、銀層の膜厚を下げることで高光線透
過率を実現している。
【００２４】導電層の構成は２層以上であって、２層の
場合酸化錫薄膜の層は表面側に、銀薄膜は透明重合体フ
ィルム側に位置する。導電層の構成は、好ましくは３層
又はそれ以上であって、典型的な一例は透明重合体フィ
ルム／酸化錫／銀／酸化錫の層構成で、導電層は３層で
ある。銀薄膜の厚さは通常１００〜３００Åであり、好
ましくは１００〜２００Åである。酸化錫薄膜の厚さは
通常１００〜１０００Åであり、好ましくは２００〜７
００Å、さらに好ましくは４００〜６００Åである。
場合酸化錫薄膜の層は表面側に、銀薄膜は透明重合体フ
ィルム側に位置する。導電層の構成は、好ましくは３層
又はそれ以上であって、典型的な一例は透明重合体フィ
ルム／酸化錫／銀／酸化錫の層構成で、導電層は３層で
ある。銀薄膜の厚さは通常１００〜３００Åであり、好
ましくは１００〜２００Åである。酸化錫薄膜の厚さは
通常１００〜１０００Åであり、好ましくは２００〜７
００Å、さらに好ましくは４００〜６００Åである。
【００２５】本発明の透明導電性フィルムを製造するの
に、透明重合体フィルムの表面に酸化錫、銀の薄膜を形
成するには、典型的な方法としてドライプロセス、即ち
スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング等のＰ
ＶＤ法（物理蒸着法）、ＣＶＤ法（化学蒸着法）等の高
真空中での薄膜形成法を用いることが好ましい。例え
ば、スパッタ法においては、ターゲット材料として銀及
び酸化錫が用いられる。また、酸化錫の薄膜形成におい
ては錫をターゲットにした反応性スパッタにより行って
もよい。その際、導入される反応性ガスとしては、酸
素、水蒸気等が挙げられるが、これらのガスを導入する
代わりに、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を用い
てもよい。この方法においては、本発明の目的を損なわ
ない限りにおいて、基材にバイアスなどを加えたり、基
材の温度を上昇、あるいは冷却したりしてもよい。蒸着
法、イオンプレーティング、ＣＶＤ法などの他の作成法
でも同様に作成条件を変更することができる。
に、透明重合体フィルムの表面に酸化錫、銀の薄膜を形
成するには、典型的な方法としてドライプロセス、即ち
スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング等のＰ
ＶＤ法（物理蒸着法）、ＣＶＤ法（化学蒸着法）等の高
真空中での薄膜形成法を用いることが好ましい。例え
ば、スパッタ法においては、ターゲット材料として銀及
び酸化錫が用いられる。また、酸化錫の薄膜形成におい
ては錫をターゲットにした反応性スパッタにより行って
もよい。その際、導入される反応性ガスとしては、酸
素、水蒸気等が挙げられるが、これらのガスを導入する
代わりに、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を用い
てもよい。この方法においては、本発明の目的を損なわ
ない限りにおいて、基材にバイアスなどを加えたり、基
材の温度を上昇、あるいは冷却したりしてもよい。蒸着
法、イオンプレーティング、ＣＶＤ法などの他の作成法
でも同様に作成条件を変更することができる。
【００２６】本発明において透明重合体フィルムの他方
の面に形成することのできるハードコート層とは、公知
の熱硬化性樹脂塗料の塗布、硬化によって形成できる
が、硬化に要する時間が短く、また、硬化の際に熱を要
しない点で、電離放射線硬化性塗料の塗布、及び電離放
射線の照射によって形成するのがより好ましい。
の面に形成することのできるハードコート層とは、公知
の熱硬化性樹脂塗料の塗布、硬化によって形成できる
が、硬化に要する時間が短く、また、硬化の際に熱を要
しない点で、電離放射線硬化性塗料の塗布、及び電離放
射線の照射によって形成するのがより好ましい。
【００２７】上記電離放射線硬化性塗料は、電離放射線
硬化性樹脂、たとえば、不飽和ポリエステル、ポリエー
テルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンア
クリレート、スピロアスタールアクリレート、ポリブタ
ジエン、ポリチォールポリエン等を用いて作成すること
ができる。電離放射線硬化塗料には上記の電離放射線硬
化樹脂に加えて２官能モノマー、たとえば、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等、もし
くは３官能モノマー、たとえば、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等
の多官能モノマーを混合して用いることができる。多官
能モノマーとしてはこの他、４官能、５官能、もしくは
６官能のモノマーも使用できる。
硬化性樹脂、たとえば、不飽和ポリエステル、ポリエー
テルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンア
クリレート、スピロアスタールアクリレート、ポリブタ
ジエン、ポリチォールポリエン等を用いて作成すること
ができる。電離放射線硬化塗料には上記の電離放射線硬
化樹脂に加えて２官能モノマー、たとえば、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等、もし
くは３官能モノマー、たとえば、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等
の多官能モノマーを混合して用いることができる。多官
能モノマーとしてはこの他、４官能、５官能、もしくは
６官能のモノマーも使用できる。
【００２８】電離放射線硬化性塗料には、上記の電離放
射線硬化性樹脂、必要に応じて加える多官能モノマー以
外に、紫外線照射で硬化させる場合には光開始剤、たと
えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイ
ルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメ
チルチウラムモノサルファイド、チオキサンソン類等
や、増感剤、たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエチル
アミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を添加するとよ
い。
射線硬化性樹脂、必要に応じて加える多官能モノマー以
外に、紫外線照射で硬化させる場合には光開始剤、たと
えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイ
ルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメ
チルチウラムモノサルファイド、チオキサンソン類等
や、増感剤、たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエチル
アミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を添加するとよ
い。
【００２９】電離放射線硬化性樹脂の塗装方法として
は、ブレードコーティング法、グラビアコーティング
法、ロッドコーティング法、ナイフコーティング法、リ
バースロールコーティング法、キスコーテイング法、ス
プレイコーティング法、オフセットグラビアコーティン
グ法等をいずれも利用できるが、薄い膜を厚みムラなく
コーティングできる点で、グラビアコーティング法、リ
バースロールコーティング法、もしくはオフセットグラ
ビアコーティング法が好ましい。コーティング厚みは１
〜１０μｍ、好ましくは３〜７μｍである。
は、ブレードコーティング法、グラビアコーティング
法、ロッドコーティング法、ナイフコーティング法、リ
バースロールコーティング法、キスコーテイング法、ス
プレイコーティング法、オフセットグラビアコーティン
グ法等をいずれも利用できるが、薄い膜を厚みムラなく
コーティングできる点で、グラビアコーティング法、リ
バースロールコーティング法、もしくはオフセットグラ
ビアコーティング法が好ましい。コーティング厚みは１
〜１０μｍ、好ましくは３〜７μｍである。
【００３０】本発明の透明導電性フィルムにおいて、そ
の実施態様の１つとして導電層上に設ける粘着剤膜は、
透明性を有し、導電性を損なわないものであれば広く適
用できる。公知の粘着剤の中でもアクリル系粘着剤が特
に好ましい。この粘着剤層の厚みは２〜５００μｍが適
当である。実際の使用では、導電層上又は導電層の反対
面に粘着剤を設けたフィルムを、アクリル、ポリカーボ
ネート等のプラスチック板、ガラスのような堅固な支持
板に張り付けて使用する。支持板の厚さとしては、２〜
５ｍｍ程度が適当である。
の実施態様の１つとして導電層上に設ける粘着剤膜は、
透明性を有し、導電性を損なわないものであれば広く適
用できる。公知の粘着剤の中でもアクリル系粘着剤が特
に好ましい。この粘着剤層の厚みは２〜５００μｍが適
当である。実際の使用では、導電層上又は導電層の反対
面に粘着剤を設けたフィルムを、アクリル、ポリカーボ
ネート等のプラスチック板、ガラスのような堅固な支持
板に張り付けて使用する。支持板の厚さとしては、２〜
５ｍｍ程度が適当である。
【００３１】このように、導電層の上に粘着剤を塗布
し、アクリル板等の支持板に貼り合わせ、導電層の反対
面にハードコート層をコーティングすることで、高い耐
擦傷性を持った、実用的な電磁障害シールド材となる。
し、アクリル板等の支持板に貼り合わせ、導電層の反対
面にハードコート層をコーティングすることで、高い耐
擦傷性を持った、実用的な電磁障害シールド材となる。
【００３２】本発明によって、高い電磁障害シールド特
性、透明性、耐擦傷性を有する、プラズマディスプレイ
等のディスプレイ用に最適な電磁障害シールド材を提供
するものである。
性、透明性、耐擦傷性を有する、プラズマディスプレイ
等のディスプレイ用に最適な電磁障害シールド材を提供
するものである。
【００３３】また、本発明の透明導電性フィルムは、そ
の透明重合体フィルムを十分耐熱性のある重合体から形
成されたものを選び、導電層に通電できる構造にするこ
とにより優れた透明ヒーター部材として利用することが
できる。
の透明重合体フィルムを十分耐熱性のある重合体から形
成されたものを選び、導電層に通電できる構造にするこ
とにより優れた透明ヒーター部材として利用することが
できる。
【００３４】さらに、本発明の透明導電性フィルムは赤
外線反射材料に用いることができる。
外線反射材料に用いることができる。
【００３５】
【実施例】以下に実施例、比較例を示す。なお、本明細
書中、各特性値の測定は以下の方法で行った。
書中、各特性値の測定は以下の方法で行った。
【００３６】（表面抵抗）４端子法により測定した。導
電層側に粘着剤をコーティングする場合はコーティング
前に測定した。
電層側に粘着剤をコーティングする場合はコーティング
前に測定した。
【００３７】（電磁障害シールド特性）電磁障害シール
ド効果の測定はアドバンテスト社製スペクトラムアナラ
イザー「Ｒ３３６１Ａ」、及びシールドボックス「ＴＲ
１７３０１Ａ」を用い、電界、磁界についてそれぞれ測
定した。測定周渡数は０〜１ＧＨｚで行った。
ド効果の測定はアドバンテスト社製スペクトラムアナラ
イザー「Ｒ３３６１Ａ」、及びシールドボックス「ＴＲ
１７３０１Ａ」を用い、電界、磁界についてそれぞれ測
定した。測定周渡数は０〜１ＧＨｚで行った。
【００３８】（耐擦傷性）導電層の反対面をスチールウ
ール（＃００００）により強く擦り耐擦傷性を測定し
た。この方法により、著しく傷が付くものは×、傷が付
かないものを○として評価した。
ール（＃００００）により強く擦り耐擦傷性を測定し
た。この方法により、著しく傷が付くものは×、傷が付
かないものを○として評価した。
【００３９】（光線透過率）ＪＩＳ Ｋー７１２５に準
じ、日本電色工業社製濁度計（ＮＤＨ−１００１ＤＰ
型）を用い、光線の波長を５５０ｎｍに設定し、透過光
は直進光だけを測定して入射光に対する透過光の割合で
示した。
じ、日本電色工業社製濁度計（ＮＤＨ−１００１ＤＰ
型）を用い、光線の波長を５５０ｎｍに設定し、透過光
は直進光だけを測定して入射光に対する透過光の割合で
示した。
【００４０】（実施例１）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面上にスパッタ法によ
り、酸化錫／銀／酸化錫の薄膜を順次積層した。膜厚
は、酸化錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化錫：５００
Åで行った。
ンテレフタレートフィルムの片面上にスパッタ法によ
り、酸化錫／銀／酸化錫の薄膜を順次積層した。膜厚
は、酸化錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化錫：５００
Åで行った。
【００４１】（実施例２）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面上にスパッタ法によ
り、酸化錫／銀／酸化錫／銀／酸化錫の薄膜を順次積層
した。膜厚は酸化錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化
錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化錫：５００Åで行っ
た。
ンテレフタレートフィルムの片面上にスパッタ法によ
り、酸化錫／銀／酸化錫／銀／酸化錫の薄膜を順次積層
した。膜厚は酸化錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化
錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化錫：５００Åで行っ
た。
【００４２】（実施例３）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面上にスパッタ法によ
り、酸化錫／銀／酸化錫の薄膜を順次積層した。膜厚
は、酸化錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化錫：５００
Åで行った。さらに、導電層の反対面にアクリル酸エス
テル／アクリルアミド系樹脂からなるハードコート剤を
リバースコーターにより塗布し、塗布面上１２．５ｃｍ
に設置した１６０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプ２灯を使用し
て紫外線照射により硬化させた。その際のフィルムの通
過速度は１０ｍ／分で行った。ハードコート層の厚みは
３．５μｍで行った。
ンテレフタレートフィルムの片面上にスパッタ法によ
り、酸化錫／銀／酸化錫の薄膜を順次積層した。膜厚
は、酸化錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化錫：５００
Åで行った。さらに、導電層の反対面にアクリル酸エス
テル／アクリルアミド系樹脂からなるハードコート剤を
リバースコーターにより塗布し、塗布面上１２．５ｃｍ
に設置した１６０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプ２灯を使用し
て紫外線照射により硬化させた。その際のフィルムの通
過速度は１０ｍ／分で行った。ハードコート層の厚みは
３．５μｍで行った。
【００４３】（実施例４）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面上にスパッタ法によ
り、酸化錫、銀、酸化錫の薄膜を順次積層した。膜厚
は、酸化錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化錫：５ＯＯ
Åで行った。さらに、導電層上にアクリル系の粘着剤を
厚さ５０μｍで塗布し、厚さ２ｍｍのアクリル板と貼り
合わせた。また、導電層の反対面にアクリル酸エステル
系樹脂からなるハードコート剤をリバースコーターによ
り実施例３と同様な方法で塗布した。ハードコート層の
厚みは３．５μｍで行った。
ンテレフタレートフィルムの片面上にスパッタ法によ
り、酸化錫、銀、酸化錫の薄膜を順次積層した。膜厚
は、酸化錫：５００Å／銀：１２０Å／酸化錫：５ＯＯ
Åで行った。さらに、導電層上にアクリル系の粘着剤を
厚さ５０μｍで塗布し、厚さ２ｍｍのアクリル板と貼り
合わせた。また、導電層の反対面にアクリル酸エステル
系樹脂からなるハードコート剤をリバースコーターによ
り実施例３と同様な方法で塗布した。ハードコート層の
厚みは３．５μｍで行った。
【００４４】（比較例１）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面上に厚み２ＯＯÅのＩ
ＴＯ膜（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９：１（重量比））をス
パッタ法により形成した。
ンテレフタレートフィルムの片面上に厚み２ＯＯÅのＩ
ＴＯ膜（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９：１（重量比））をス
パッタ法により形成した。
【００４５】（比較例２）厚さ１８８μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面上に厚み４００ÅのＩ
ＴＯ膜（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９：１（重量比））をス
パッタ法により形成した。
ンテレフタレートフィルムの片面上に厚み４００ÅのＩ
ＴＯ膜（Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９：１（重量比））をス
パッタ法により形成した。
【００４６】以上の実施例１〜４と比較例１〜２の表面
抵抗、光線透過率、電磁障害シールド特性、及び耐擦傷
性を測定した。その結果を表１に示す。
抵抗、光線透過率、電磁障害シールド特性、及び耐擦傷
性を測定した。その結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
【００４８】
【発明の効果】本発明請求項１記載の透明導電性フィル
ムは、高度に透明で電気伝導性に優れ、透明なシールド
材料、特に、プラズマディスプレイの表示部等、透明性
を必要とする電磁障害シールド材料や透明ヒーター部
材、赤外線反射材等に用いることが好ましい。
ムは、高度に透明で電気伝導性に優れ、透明なシールド
材料、特に、プラズマディスプレイの表示部等、透明性
を必要とする電磁障害シールド材料や透明ヒーター部
材、赤外線反射材等に用いることが好ましい。
【図１】本発明の透明導電性フィルムの一例の概略図で
ある。
ある。
１ 粘着剤層 ２ 酸化錫薄膜 ３ 銀薄膜 ４ プラスチックフィルム基盤 ５ ハードコート層
Claims (9)
- 【請求項１】 光線透過率８５％以上、厚さ１２〜２５
０μｍの透明重合体フィルムの表面に、少なくとも表面
側に酸化錫の薄膜が存在する酸化錫及び銀の積層薄膜か
らなる導電層を形成したことを特徴とする透明導電性フ
イルム。 - 【請求項２】 透明重合体フィルムの他方の面にハード
コート層を形成したことを特徴とする請求項１記載の透
明導電性フィルム。 - 【請求項３】 透明導電性フィルムの表面に粘着剤膜、
離型膜を順に形成したことを特徴とする請求項１又は２
記載の透明導電性フィルム。 - 【請求項４】 光線透過率が８０％以上であることを特
徴とする請求項１記載の透明導電性フィルム。 - 【請求項５】 導電層の表面抵抗値が１ＯΩ／□以下で
あることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の透
明導電性フィルム。 - 【請求項６】 導電層が酸化錫／銀／酸化錫の３層薄膜
であることを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記
載の透明導電性フィルム。 - 【請求項７】 請求項１、２、３、４、５又は６記載の
透明導電性フィルムを発熱体とすることを特徴とする透
明ヒーター部材。 - 【請求項８】 請求項１、２、３、４、５又は６記載の
透明導電性フィルムを電磁障害シールド材とすることを
特徴とする電磁障害シールド材料。 - 【請求項９】 請求項１、２、３、４、５又は６記載の
透明導電性フィルムを赤外線反射材とすることを特徴と
する赤外線反射材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09485497A JP3882259B2 (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | プラズマディスプレイの電磁障害シールド用透明導電性フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09485497A JP3882259B2 (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | プラズマディスプレイの電磁障害シールド用透明導電性フイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10275525A true JPH10275525A (ja) | 1998-10-13 |
| JP3882259B2 JP3882259B2 (ja) | 2007-02-14 |
Family
ID=14121630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09485497A Expired - Fee Related JP3882259B2 (ja) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | プラズマディスプレイの電磁障害シールド用透明導電性フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3882259B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000158578A (ja) * | 1998-11-26 | 2000-06-13 | Mitsui Chemicals Inc | 透明積層体及びそれを用いたディスプレイ用フィルター |
| JP2007305957A (ja) * | 2006-04-12 | 2007-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 金属箔張り積層板、樹脂付き金属箔及び多層プリント配線板 |
| WO2008083308A1 (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-10 | 3M Innovative Properties Company | Nucleation layer for thin film metal layer formation |
| JP2010271509A (ja) * | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料 |
| CN103745766A (zh) * | 2013-12-30 | 2014-04-23 | 南京汇金锦元光电材料有限公司 | 柔性消影透明导电薄膜及触摸屏 |
-
1997
- 1997-03-28 JP JP09485497A patent/JP3882259B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000158578A (ja) * | 1998-11-26 | 2000-06-13 | Mitsui Chemicals Inc | 透明積層体及びそれを用いたディスプレイ用フィルター |
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| JP2010514597A (ja) * | 2006-12-28 | 2010-05-06 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 薄膜金属層形成のための核形成層 |
| KR101511799B1 (ko) * | 2006-12-28 | 2015-04-13 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 박막 금속 층 형성을 위한 핵형성 층 |
| US9822454B2 (en) | 2006-12-28 | 2017-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Nucleation layer for thin film metal layer formation |
| JP2010271509A (ja) * | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光干渉縞緩和性に優れた湾曲面を有する光透過型電磁波シールド材料 |
| CN103745766A (zh) * | 2013-12-30 | 2014-04-23 | 南京汇金锦元光电材料有限公司 | 柔性消影透明导电薄膜及触摸屏 |
| CN103745766B (zh) * | 2013-12-30 | 2017-08-25 | 南京汇金锦元光电材料有限公司 | 柔性消影透明导电薄膜及触摸屏 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3882259B2 (ja) | 2007-02-14 |
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