JPH10274707A - 回折格子 - Google Patents

回折格子

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JPH10274707A
JPH10274707A JP9080119A JP8011997A JPH10274707A JP H10274707 A JPH10274707 A JP H10274707A JP 9080119 A JP9080119 A JP 9080119A JP 8011997 A JP8011997 A JP 8011997A JP H10274707 A JPH10274707 A JP H10274707A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光がいずれの領域を透過しても同等の透過率
を示す回折格子を実現すること。 【解決手段】 回折格子1では、屈折率が1.52の透
明基板2に対して、屈折率が1.4、光学的膜厚が30
0nmの格子膜3が形成されている。さらに、格子膜3
の表面および透明基板2の露出部分202の表面には、
屈折率が1.4、光学的膜厚が45nmの透過率調整膜
4を形成してあるので、透明基板2の露出部分202を
透過する光P1の透過率と、透明基板2および格子膜3
を透過する光P2の透過率とが同等である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子の一つで
ある回折格子に関するものである。さらに詳しくは、回
折格子において格子膜の有る領域と無い領域を透過する
光量を均一化するための技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】基板の表面に光学膜を形成した後、それ
をエッチングして得た回折格子では、図8に示すよう
に、ガラス基板等の透明基板2の表面21に格子膜3が
格子状に形成された構造になっている。従って、回折格
子1では、その表面に格子膜3と透明基板2とが交互に
露出している状態にある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ここで、透明基板2と
格子膜3とはその屈折率が異なっているため、透明基板
2の露出部分を透過する光P1の透過率と、透明基板2
および格子膜3を透過する光P2の透過率とが相違す
る。従って、従来の回折格子では、いずれの光路を通っ
てきた光(回折光)を基準にして各光学部品の設計を行
っても、他方の光路を通ってきた光には適正な設計とい
えない。このようなずれは、単なる反射防止膜を形成し
ても解消できない性質のものである。
【0004】そこで、本発明の課題は、いずれの領域を
透過しても同等の透過率を得ることのできる回折格子を
実現することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、透明基板の表面に格子膜および前記透
明基板の露出部分が交互に形成された回折格子におい
て、前記格子膜および前記露出部分に対応する領域に
は、前記透明基板の露出部分を透過する光の透過率と、
前記透明基板および前記格子膜を透過する光の透過率と
を同等とするような光学的膜厚を有する透過率調整膜が
形成されていることを特徴とする。
【0006】本願明細書における光学的膜厚ndとは、
屈折率nと幾何学的膜厚dとの積のことをいう。
【0007】本発明では、透過率調整膜によって、これ
まで単なる反射防止膜では解消し得なかった光透過率の
均一化を実現できるので、回折光の強度が所望の値から
ずれてしまうことを防止できる。
【0008】本発明において、前記透過率調整膜は、前
記透明基板の表面側で前記格子膜および前記透明基板の
露出部分を覆うように形成されていることが好ましい。
【0009】このような透過率調整膜は、たとえば以下
の光学的条件を満たすことによって実現できる。すなわ
ち、前記格子膜と前記透過率調整膜とは、屈折率n1
同一で、かつ、前記格子膜の光学的膜厚、前記透過率調
整膜の光学的膜厚、および入射してくる光の波長をそれ
ぞれn1 1 、n1 2 、およびλとしたときに、n1
1 、n1 2 、およびλは、下式 n1 2 =(λ−2・n1 1 )/4 を満たすように構成する。
【0010】
【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明の実施の
形態を説明する。
【0011】[回折格子の基本構造]図1は、本例の回
折格子の断面図である。本例の回折格子1は透過型の回
折格子であり、透明基板2を有している。この表面20
1には等間隔でストライプ状に格子膜3が形成され、こ
の格子膜3の表面および透明基板2の表面201には、
後述するように設定された光学的膜厚を備える透過率調
整膜4が形成されている。
【0012】透明基板2は、ガラス基板、シリコン基
板、プラスチック基板等から形成されている。また、透
明基板2は、本例の回折格子1に入射する光の波長に対
して透明なものとされている。
【0013】格子膜3は、ストライプ状に形成された二
酸化ケイ素、フッ化マグネシウム等から形成されてい
る。従って、透明基板2の表面201には、格子膜3の
部分と透明基板2の露出部分202とが交互に形成され
ている。また、格子膜3は、本例の回折格子1に入射す
る光の波長に対して透明なものとされている。
【0014】また、透過率調整膜4は、透明基板2の露
出部分202を透過する光P1の透過率と、透明基板2
および格子膜3を透過する光P2の透過率とを同等とす
るような光学的膜厚を有する膜で、二酸化ケイ素、フッ
化マグネシウム等から形成されている。勿論、透過率調
整膜4も、本例の回折格子1に入射する光の波長に対し
て透明なものとされている。このような透過率調整膜4
の形成にあたっては、真空蒸着法やスパッタ法が利用さ
れ、その膜厚は均一である。
【0015】[実施の形態1]透明基板2の表面側に形
成した透過率調整膜4によって、透明基板2の露出部分
202を透過する光P1の透過率と、透明基板2および
格子膜3を透過する光P2の透過率とを同等とするため
に、格子膜3と透過率調整膜4とは、屈折率n1 が同一
の場合には、格子膜3の光学的膜厚、透過率調整膜4の
光学的膜厚、および入射してくる光の波長をそれぞれn
1 1 、n1 2 、およびλとしたときに、n1 1
1 2 、およびλは、下式 n1 2 =(λ−2・n1 1 )/4 を満たすように設定される。
【0016】すなわち、本形態では、格子膜3と透過率
調整膜4とは、屈折率n1 が同一であるため、それぞれ
を単層膜と見做すことができる。この場合の光学的膜厚
と反射率との関係は、図2に示すように表される。かか
る技術的説明は、東京大学出版会から1994年9月2
0日に発行された「薄膜・光デバイス」の第17頁に詳
しい。
【0017】図2からわかるように、単層膜では、光学
的膜厚の変化に伴い、反射率が周期的に変化する。従っ
て、透明基板2の露出部分202を透過する光P1は、
透過率調整膜4に相当する光学的膜厚n1 2 の単層膜
を透過すると見做すことができるので、それに相当する
条件を図2に点Qで表す。これに対して、透明基板2お
よび格子膜3を透過する光P2は、格子膜3の光学的膜
厚n1 1 と透過率調整膜4の光学的膜厚n1 2 との
和(n1 1 +n1 2 )に相当する光学的膜厚の単層
膜を透過すると見做すことができるので、それに相当す
る条件は矢印Rで示すように、図2の点Qからみれば右
側にシフトするはずである。そこで、本形態では、格子
膜3の光学的膜厚n1 1 、および入射してくる光の波
長λに対応させて、上式を満たすような光学的膜厚n1
2 の透過率調整膜4を形成する。その結果、格子膜3
の光学的膜厚n1 1 と透過率調整膜4の光学的膜厚n
12 との和(n1 1 +n1 2 )に相当する光学的
膜厚の単層膜に相当する条件は、図2に点Sとして表す
ことができ、透明基板2の露出部分202を透過する光
P1の透過率と、透明基板2および格子膜3を透過する
光P2の透過率とを同等とすることができる。
【0018】それ故、図3(A)に示すように、屈折率
nが1.52の透明基板2に対して、屈折率nが1.
4、光学的膜厚ndが300nmの格子膜3が形成され
ているだけの従来の回折格子では、透明基板2の露出部
分202を透過する光P1の透過率T0 が95.8%で
あり、透明基板2および格子膜3を透過する光P2の透
過率T0 が96.9%であったものが、図3(B)に示
すように、格子膜3の表面および透明基板2の露出部分
202の全面に、屈折率nが1.4、光学的膜厚ndが
45nmの透過率調整膜4を形成した本形態の回折格子
1では、透明基板2の露出部分202を透過する光P1
の透過率T0 、および透明基板2および格子膜3を透過
する光P2の透過率T0 のいずれもを96.1%と同等
とすることができる。
【0019】[実施の形態2]上記の形態では、格子膜
3と透過率調整膜4とは屈折率が同一であるため、それ
らを単層膜と見做したが、格子膜3と透過率調整膜4と
の間で屈折率が相違している場合には、多層膜との扱い
をして各領域を透過してくる光P1、P2の透過率を同
等とすればよい。このような多層膜における透過率(反
射率)についても、前記の文献(東京大学出版会から1
994年9月20日に発行された「薄膜・光デバイス」
の第17、18頁)に詳しい。
【0020】すなわち、多層膜の場合には、図4を示す
ように、各層毎で起きる透過、反射を積算していく必要
がある。ここでは、いわゆる有効フレネル係数を用いな
がらその光学的計算を進めていくときの概略のみを説明
するが、いずれの計算もコンピュータを用いて計算が行
われる。
【0021】まず、図4および以下に説明する式におい
て、振幅反射率、フレネル係数、光の波長、屈折率、幾
何学的膜厚、入射角をそれぞれ、R、r、λ、n、d、
φと、多層膜をN層としたとき、第1層からの振幅反射
率は、下式(1)で表される。
【0022】
【数1】
【0023】この第1層を、式(1)で表された反射率
(有効フレネル係数)をもつ単一境界と見做せば、第2
層からの振幅反射率は、下式(2)で表される。
【0024】
【数2】
【0025】このような手続きを最上層まで進めていっ
て多層膜の反射率を得ることができる。この方法は、第
j層からの増幅反射率の下式(3)をサブルーチン化し
ておき、j=1からNまで繰り返すようなプラグラムで
任意のN層の多層膜の反射率を求めることができる。
【0026】
【数3】
【0027】ここで、R0 およびδj は下式(4)で表
される。
【0028】
【数4】
【0029】従って、上記のアルゴリズムに基づいて、
透明基板2の露出部分202を通って透過率調整膜4だ
けを通る光P1の透過率と、格子膜3および透過率調整
膜4からなる多層膜を透過する光P2の透過率とが等し
くなるように、透過率調整膜4の光学的膜厚を、格子膜
3の光学的膜厚、および入射してくる光の波長λに対応
させる。
【0030】たとえば、図5(A)に示すように、屈折
率nが1.52の透明基板2に対して、屈折率nが2.
0、光学的膜厚ndが300nmの格子膜3が形成され
ているだけの従来の回折格子では、透明基板2の露出部
分202を透過する光P1の透過率T0 が95.8%で
あり、透明基板2および格子膜3を透過する光P2の透
過率T0 が88.0%であったものが、図5(B)に示
すように、格子膜3の表面および透明基板2の露出部分
202の全面に、屈折率nが1.45、光学的膜厚nd
が202nmの透過率調整膜4を形成した本形態の回折
格子1では、透明基板2の露出部分202を透過する光
P1の透過率T0 、および透明基板2および格子膜3を
透過する光P2の透過率T0 のいずれをも97.4%と
同等とすることができる。
【0031】[回折格子1の使用例]図6は回折格子1
を備えた光ピックアップ装置の概略構成図である。本例
の光ピックアップ装置10は、コンパクトディスク等の
光記録媒体17に記録されている情報を再生するための
装置である。この光ピックアップ装置10は、光源であ
る半導体レーザ11からの出射光を光記録媒体17に集
光するための往路と、光記録媒体17からの反射光を受
光素子であるフォトダイオード16a、16b、16c
を介して光検出器(図示せず)に導くための復路とに分
けることができる。
【0032】往路には、半導体レーザ11から光記録媒
体17にむかって、コリメートレンズ12、偏光ビーム
スプリッター13、1/4波長板14、対物レンズ15
がこの順に配置されている。従って、まず、半導体レー
ザ11から出射されたレーザビームはコリメートレンズ
12によって平行光に変換される。次に、この平行光は
偏光ビームスプリッター13を透過した後、1/4波長
板14によって直線偏光から円偏光に変換される。しか
る後、この円偏光に変換されたレーザビームは対物レン
ズ15によって光記録媒体17に集光される。集光され
たレーザビームは、光記録媒体17に記録されたデータ
に基づいて強度変調を受けながら反射されて復路に導か
れる。
【0033】復路には、フォトダイオード16a、16
b、16cにむかって、対物レンズ15、1/4波長板
14、偏光ビームスプリッター13、回折格子1がこの
順に配置されている。従って、まず、反射光は、対物レ
ンズ15を透過した後、1/4波長板14によって円偏
光から直線偏光に戻される。この直線偏光の偏光面は、
半導体レーザ11から出射されたレーザビームの偏光面
に比して90°分だけずれている。次に、直線偏光に戻
された反射光は、偏光ビームスプリッター13によって
反射され、回折格子1へと導かれる。しかる後、反射光
は回折格子1によって回折され、3つのフォトダイオー
ド16a、16b、16cに集光される。従って、フォ
トダイオード16a、16b、16cの検出結果に基づ
いて、光記録媒体17に記録さているデータの再生を行
うことができる。
【0034】このように、本例の回折格子1を光ピック
アップ装置10を構成する光学素子として使用すること
ができる。
【0035】[その他の実施の形態]なお、図7は、そ
の他の実施の形態に係る回折格子の断面図である。この
回折格子1は、透明基板2に格子膜3を形成するのに先
立って、透明基板の表面201に一様に透過率調整膜4
を形成し、この透過率調整膜4の表面に等間隔でストラ
イプ状に格子膜3を形成したものである。このように構
成した場合でも、前記の形態と同様、透明基板2の露出
部分202を通って透過率調整膜4だけを通る光P1の
透過率と、格子膜3および透過率調整膜4を透過する光
P2の透過率とが等しくなるように、透過率調整膜4の
光学的膜厚を、格子膜3の光学的膜厚、および入射して
くる光の波長λに対応させればよい。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明を適用した
回折格子では、透明基板の表面側などには、透明基板の
露出部分を透過する光の透過率と、透明基板および格子
膜を透過する光の透過率とを同等とするような光学的膜
厚を有する透過率調整膜が形成されているため、いずれ
の領域を透過した場合も透過率が等しい。従って、本発
明によれば、光学部品の設計時に基準とした光が不適切
であったため回折光の強度がずれてしまうということを
防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した回折格子の断面図である。
【図2】単層膜における光学的膜厚と反射率との関係を
示すグラフである。
【図3】本発明を適用した回折格子の効果を説明するた
めの図である。
【図4】多層膜の反射率を求めるための説明図である。
【図5】本発明を適用した別の回折格子の効果を説明す
るための図である。
【図6】回折格子を用いた光ピックアップ装置の概略構
成図である。
【図7】本発明を適用したさらに別の回折格子の断面図
である。
【図8】従来の回折格子の断面図である。
【符号の説明】
1 回折格子 2 透明基板 3 格子膜 4 透過率調整膜 10 光ピックアップ装置 11 半導体レーザ 12 コリメートレンズ 13 偏光ビームスプリッタ 14 1/4波長板 15 対物レンズ 16a、16b、16c フォトダイオード 17 光記録媒体 201 基板の表面 202 基板の露出部分

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板の表面に格子膜および前記透明
    基板の露出部分が交互に形成された回折格子において、
    前記格子膜および前記露出部分に対応する領域には、前
    記透明基板の露出部分を透過する光の透過率と、前記透
    明基板および前記格子膜を透過する光の透過率とを同等
    とするような光学的膜厚を有する透過率調整膜が形成さ
    れていることを特徴とする回折格子。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記透過率調整膜
    は、前記透明基板の表面側で前記格子膜および前記透明
    基板の露出部分を覆うように形成されていることを特徴
    とする回折格子。
  3. 【請求項3】 請求項1または2において、前記格子膜
    と前記透過率調整膜とは、屈折率n1 が同一で、かつ、
    前記格子膜の光学的膜厚、前記透過率調整膜の光学的膜
    厚、および入射してくる光の波長をそれぞれn1 1
    1 2 、およびλとしたときに、n1 1 、n
    1 2 、およびλは、下式 n1 2 =(λ−2・n1 1 )/4 を満たす関係にあることを特徴とする回折格子。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011138169A (ja) * 2004-07-26 2011-07-14 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透過型回折光学素子
WO2012165549A1 (ja) * 2011-06-02 2012-12-06 株式会社ブイ・テクノロジー 寸法測定装置
JP2016046290A (ja) * 2014-08-20 2016-04-04 日本板硝子株式会社 外部共振器型半導体レーザ用回折格子

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