JPH10265241A

JPH10265241A - 紫外線吸収透明板

Info

Publication number: JPH10265241A
Application number: JP13200297A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Asano; 剛朝野; Noboru Takaesu; 昇高江洲; Yoshinori Nishikitani; 禎範錦谷
Original assignee: Nippon Oil Corp
Current assignee: Eneos Corp
Priority date: 1996-06-28
Filing date: 1997-05-22
Publication date: 1998-10-06

Abstract

(57)【要約】【課題】耐候性、耐熱性に優れ、且つ長期使用において
も紫外線吸収剤がブリードアウトせず、可視領域の透過
率を低下させずに紫外線の長波長領域までカットするこ
とが可能な紫外線吸収透明板を提供すること。【解決手段】少なくとも、透明基板および該基板上に形
成された紫外線吸収層を備え、該紫外線吸収層が、アミ
ド結合およびＳｉ−Ｏ結合を有している紫外線吸収透明
板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線遮断能が付
与された紫外線吸収透明板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から一般にガラス板等の透明基板に
紫外線吸収性を付与するには、（１）紫外線吸収性の物
質を用いて透明基板を処理する方法と、（２）多層膜に
よる多重反射を利用する方法とがある。（２）の多層膜
による多重反射は、カット波長を自由に調節できる、ク
リアカットが可能であるという点で優れているが、作業
工程が多くコスト的に問題がある。（１）の紫外線吸収
性の物質で処理する方法には、無機系紫外線吸収剤を用
いる場合と有機系紫外線吸収剤を用いる場合がある。

【０００３】無機系紫外線吸収剤（例えば特開平５−３
３９０３３号公報、特開平５−３４５６３９号公報、特
開平６−５６４６６号公報等）では、耐候性、耐熱性等
の耐久性が優れる反面、吸収波長が化合物のバンドギャ
ップによって決定されるため、自由度が少なく、また４
００ｎｍ近辺の紫外線領域までクリアにカットできるも
のはなく、さらに長波長カットでは着色を伴うものが多
い。

【０００４】これに対して有機系紫外線吸収剤は吸収帯
に幅があるため、吸収剤の種類や濃度、膜厚を選ぶこと
により様々な吸収波長のものを得ることができる。これ
まで種々の有機系紫外線吸収剤を用いた系が検討されて
おり、長波長領域までカットする場合には、最大吸収波
長が長波長領域にあるものを用いるか、濃度もしくは膜
厚を大きくするかの２通りが考えられている。しかし、
最大吸収波長が長波長領域にあるもの（例えば特開平６
−１４５３８７号公報等）は耐光性が悪く、吸収能が時
間とともに減少してしまう。前記特開平６−１４５３８
７号公報においては、蛍光増白剤を用いるため蛍光によ
り透視性が悪くなるという問題もある。

【０００５】これに対してベンゾフェノン系やベンゾト
リアゾール系の紫外線吸収剤は比較的耐光性も良く、濃
度や膜厚を大きくすれば長波長領域まで比較的クリアに
カットできる。しかし、通常これらの紫外線吸収剤を樹
脂等に混ぜて塗布する場合、膜厚は数十μｍ程度が限界
である。この膜厚で長波長領域までカットしようとする
とかなり高濃度に紫外線吸収剤を添加する必要がある。
しかしながら、単に高濃度に添加しただけでは紫外線吸
収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じると
いう問題がある。そこで、樹脂と反応させてこれらを防
ごうという試みが多くなされている。例えばアクリル樹
脂等に共重合させる等の試みがなされているが（特開平
２−２４８４１２号公報、特開平６−８８０６４号公報
等）、アクリル樹脂自体が耐候性、耐熱性に難があるた
め、とても長期使用には耐えられない。また耐候性、耐
熱性に優れるシリコーン樹脂と反応しうる紫外線吸収剤
を用いた系についても種々検討がなされている（例えば
特公昭６１−５４８００号公報、特開平２−１１７９２
８号公報、特公平３−４５０９４号公報等）。しかし、
紫外線吸収剤の合成が工業的に難しかったり、耐久性に
問題が生じるものが多いのが実状である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
解決するためになされたものであり、その目的は、耐候
性、耐熱性に優れ、且つ長期使用においても紫外線吸収
剤がブリードアウトせず、可視領域の透過率を低下させ
ずに紫外線の長波長領域までカットすることが可能な紫
外線吸収透明板を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明によれば、
少なくとも、透明基板および該基板上に形成された紫外
線吸収層を備え、該紫外線吸収層が、アミド結合および
Ｓｉ−Ｏ結合を有していることを特徴とする紫外線吸収
透明板が提供される。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明についてさらに詳細
に説明する。本発明の紫外線吸収透明板は、少なくと
も、透明基板および該基板上に形成された紫外線吸収層
を備える。

【０００９】透明基板としては、特に限定されないが、
例えば無色あるいは有色ガラス、網入りガラス、ガラス
ブロック等が用いられる他、無色あるいは有色の透明性
を有する樹脂でも良い。透明性を有する樹脂としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリサルフ
ォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケトン、
ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリ
イミド、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等が
挙げられる。本発明における透明とは、１０〜１００％
の透過率を有することであり、また、本発明における基
板とは、常温において平滑な面を有するものであり、そ
の面は平面あるいは曲面であってもよく、また応力によ
って変形するものであってもよく、また容器状のもので
あってもよい。

【００１０】透明基板上に形成される紫外線吸収層は、
アミド結合（−ＣＯＮＨ−）およびＳｉ−Ｏ結合を有す
ることが必須である。好ましくは、アミド結合とＳｉ−
Ｏ結合とが、さらに何らかの結合基により結合している
構造を具備するのが望ましい。結合基としては、例えば
(a)炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキレン
基、(b)一般式−(ＣＨ₂)m−ＮＨ−（ｍは１≦ｍ≦４の
整数）で表される２価の基、(c)前記(a)または(b)に由
来する残基等が挙げられる。紫外線吸収層中のアミド結
合およびＳｉ−Ｏ結合の含有量は、アミド結合１モルに
対してＳｉ−Ｏ結合が、通常１〜５０モル、好ましくは
１〜３０モル、さらに好ましくは１〜１５モルの範囲が
望ましい。

【００１１】本発明の紫外線吸収透明板の好適な態様と
しては、透明基板と紫外線吸収層からなる紫外線吸収透
明板を沸騰アセトンで２４時間抽出した際に、下記数式
（１）

【００１２】

【数１】

【００１３】（ただし、抽出前の吸光度が実質１におけ
る紫外線領域の任意の一波長での吸光度を用いて計算す
る）にて定義される紫外線吸収能変化率が４０％以下、
好ましくは３０％以下、さらに好ましくは１５％以下で
あることが望ましい。なお、紫外線吸収能の変化は紫外
線吸収スペクトルにより容易に確認できる。例えば、図
８に紫外線吸収能変化率の求め方の原理をモデル的に示
したが、この図から明らかなように、抽出前の吸光度が
１における波長は、約３８３ｎｍであり、一方、当該波
長における抽出後の吸光度は約０．０７である。したが
って、この場合の紫外線吸収能変化率は９３％と算出さ
れる。

【００１４】紫外線吸収能変化率は、通常、紫外線吸収
層を形成する際に用いる紫外線吸収性化合物（通常、有
機紫外線吸収性化合物である）に由来する成分がアセト
ン中に溶出するため起こるのであるが、紫外線吸収層内
において紫外線吸収成分が他の部材と化学的結合を形成
している場合、紫外線吸収成分は実質的に溶出しない。
例えば、紫外線吸収層を形成する際に紫外線吸収性化合
物として、ベンゾトリアゾール骨格またはベンゾフェノ
ン骨格を有する有機紫外線吸収剤（後述）を用いる場
合、得られる紫外線吸収層としては、通常ベンゾトリア
ゾール骨格、ベンゾフェノン骨格またはそれに由来する
構造を有するが、本発明においては、紫外線吸収層中の
紫外線吸収性化合物がアミド結合を介して母材と結合し
ているので、係る紫外線吸収層をアセトン中にて煮沸し
ても、紫外線吸収剤に由来する構造が抽出されないか、
またはその抽出量が極めて少なくなるため、紫外線吸収
能の変化量が前記特定量以下となり、極めて小さい変化
量となりうる。

【００１５】このような特定の紫外線吸収層の製造法は
特に限定されるものでなく、任意の方法により得ること
ができ、好適な方法としては、以下の方法が挙げられ
る。即ち、（ａ）下記一般式（１）に示されるようなア
ミノシラン化合物またはその誘導体（以下、「成分
Ａ」）および（ｂ）分子内にカルボン酸残基を有する紫
外線吸収剤（以下「成分Ｂ」）を少なくとも反応させ、
前記アミノシラン化合物またはその誘導体に由来するア
ミド結合を生成せしめた成分を含む塗布成分を、透明基
板上に塗布し、硬化させる方法等が挙げられる。

【００１６】

【化１】

【００１７】式中、Ｒ¹は炭素数１〜１０、好ましくは
１〜５のアルキレン基または一般式−(ＣＨ₂)m−ＮＨ−
（ｍは１≦ｍ≦４の整数）で表される２価の基を示す。
Ｒ¹のアルキレン基としてはメチレン基、エチレン基、
トリメチレン基、プロピレン基等が例示される。式中、
各々のＲ²は同一若しくは異なる基であって、水素原
子、水酸基、炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアル
キル基、炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルコキ
シ基、炭素数６〜１０、好ましくは６〜８のアリール基
を示す。全てのＲ²のうち少なくとも１つは、好ましく
は炭素数１〜５のアルコキシ基である。Ｒ²のアルキル
基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、i−プロ
ピル基等、アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、i−プロポキシ基等、アリール基と
しては、フェニル基、トリル基等が例示される。ｎはｎ
≧０、好ましくは０≦ｎ≦３の整数を示す。

【００１８】一般式（１）で示されるアミノシラン化合
物としては、好ましくは３−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシ
シラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
３−アミノプロピルポリジメチルシロキサン、Ｎ−（２
−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエトキシエ
トキシ）シラン等が挙げられ、アミノシラン化合物の誘
導体としては、これらの加水分解物等を好ましく挙げる
ことができる。

【００１９】これらのアミノシラン化合物又はその誘導
体は公知の方法により製造できる。

【００２０】成分Ｂとしての分子内にカルボン酸残基を
有する紫外線吸収剤としては、分子の側鎖にカルボキシ
ル基を１個または２個以上有する化合物、好ましくは有
機化合物が挙げられ、ベンゾトリアゾール骨格またはベ
ンゾフェノン骨格を有する化合物等が挙げられる。ベン
ゾトリアゾール骨格を有する化合物としては、例えば下
記一般式（２）で表される化合物が好適に挙げられる。

【００２１】

【化２】

【００２２】式中、Ｒ³は、水素原子、ハロゲン原子ま
たは炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基を
示す。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素等、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、i−プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、シク
ロヘキシル基等が例示できる。Ｒ³の置換位置として
は、ベンゾトリアゾール骨格の４位または５位である
が、ハロゲン原子及びアルキル基は通常４位に位置す
る。式中Ｒ⁴は、水素原子または炭素数１〜１０、好ま
しくは１〜６のアルキル基を示す。アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル
基、ブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等が例
示できる。式中Ｒ⁵は、炭素数１〜１０、好ましくは１
〜３のアルキレン基またはアルキリデン基を示す。アル
キレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチ
レン基、プロピレン基等が、アルキリデン基としては、
エチリデン基、プロピリデン基等が挙げられる。

【００２３】一般式（２）で示される化合物としては、
３−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−５−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキ
シ−ベンゼンプロパン酸、３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４−ヒドロキシベンゼンエタン酸、
３−（５−メチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−５−（１−メチルエチル）−４−ヒドロキシベン
ゼンプロパン酸等が挙げられる。

【００２４】前記ベンゾフェノン骨格を有する化合物と
して、下記一般式（３）〜（６）で示されるベンゾフェ
ノン系化合物等が好適に挙げられる。

【００２５】

【化３】

【００２６】式中Ｒ⁷及びＲ⁸は、同一若しくは異なる基
であって、水酸基、炭素数１〜１０、好ましくは１〜６
のアルキル基又はアルコキシ基を示す。ｎ、ｍは、０≦
ｍ≦３、０≦ｎ≦３の範囲の整数を示す。アルキル基と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等
が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ基等が例示
される。式中Ｒ⁶は、炭素数１〜１０、好ましくは１〜
３のアルキレン基又はアルキリデン基を示す。アルキレ
ン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、プロピレン基等が、アルキリデン基としては、エチ
リデン基、プロピリデン基等が挙げられる。

【００２７】このようなベンゾフェノン骨格を有する化
合物としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン−５−カルボン酸、２，２’−ジヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン−５−カルボン酸、４−（２
−ヒドロキシベンゾイル）−３−ヒドロキシベンゼンプ
ロパン酸等が好適に挙げられる。

【００２８】前記ベンゾトリアゾール骨格又はベンゾフ
ェノン骨格を有する紫外線吸収剤は公知の方法により製
造できる。

【００２９】本発明において、透明基板上にアミド結合
およびＳｉ−Ｏ結合を有する紫外線吸収層を形成するに
あたって使用できる前記塗布成分は、好ましくは前記成
分Ａと成分Ｂとを少なくとも反応させて、成分Ａに由来
するアミド結合を生成せしめた成分を含む。この反応
は、通常脱水反応が主である。この際、反応により生成
するアミド結合の量は、特に限定されないが、通常、成
分Ａの全アミノシランの１００モル％であるが、１００
モル％未満でも差し支えない。尚、下限は５０モル％程
度である。

【００３０】前記塗布成分には、本発明の目的を損なわ
ない範囲で成分Ａおよび成分Ｂに更に他の成分を共存さ
せることができる。他の成分は、成分Ａ及び成分Ｂの反
応の際、または反応後に共存させることができる。次に
これらの他の成分について説明する。

【００３１】他の成分の一例としてシリコーン樹脂（以
下、「成分Ｃ」と称す）が挙げられる。成分Ｃとして
は、反応性シリコーン樹脂、即ち、成分Ａのアルコキシ
シリル基部分と反応（通常脱水反応及び／又は脱アルコ
ール反応等）しうる官能基を有するシリコーン樹脂が好
ましい。官能基としてはアルコキシシリル基やシラノー
ル基等が好ましい。

【００３２】このような反応性シリコーン樹脂は、一般
的にアルコキシシランやクロロシラン類の部分加水分解
反応とそれに続く縮合反応によって容易に合成すること
ができる。市販品では、純シリコーンワニス（例えば、
商品名「ＸＯ７９３１−クリヤー」：オキツモ（株）
製）、シリコーンレジン（例えば、商品名「ＳＲ２４１
０」：東レ・ダウコーニングシリコーン（株）製）、ア
クリル変性シリコーン樹脂（例えば、商品名「サイラコ
ート１００」：チッソ（株）製）等が好適に挙げられ
る。また、シリコーン樹脂を本発明の目的を損なわない
範囲で各種溶剤を用いた溶液の形で用いることができ
る。溶剤としては、特に限定されないが、各種炭化水素
系溶剤、ケトン類、エーテル類、エステル類、エーテル
・エステル類等が挙げられる。また、シリコーン樹脂を
各種変性したものを用いても良い。

【００３３】成分Ｃは、成分Ａおよび成分Ｂの反応の
際、または反応後のいずれにおいても共存させられる
が、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際に共存させることが
特に好ましい。

【００３４】前記他の成分としては、各種のエポキシシ
ラン類（以下、「成分Ｄ」と称す）も挙げられ、好まし
くは下記一般式に示すエポキシシラン類等が挙げられ
る。

【００３５】

【化４】

【００３６】式中、Ｒ⁹およびＲ¹¹は同一若しくは異な
る基であって、炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のア
ルキレン基又は、式−Ｒ−Ｏ−Ｒ’−（但し、Ｒ及び
Ｒ’は各々炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキ
レン基を示す）により示される２価の基を示し、各々の
Ｒ¹⁰は、同一若しくは異なる基であって、水素原子、水
酸基、炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキル基
若しくはアルコキシ基、または炭素数６〜１０、好まし
くは６〜８のアリール基を示す。但し、全てのＲ¹⁰のう
ち少なくとも１つはアルコキシ基、好ましくは炭素数１
〜５のアルコキシ基である。ｎはｎ≧０、好ましくは０
≦ｎ≦３の整数を示す。

【００３７】前記アルキレン基としては、メチレン基、
トリメチレン基、テトラメチレン基等が好適に例示でき
る。前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が
好適に挙げられ、前記アルコキシ基としては、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ｔ−ブト
キシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げ
られ、前記アリール基としては、フェニル基、トリル基
等が挙げられる。

【００３８】成分Ｄとしては、３−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、ジメトキシ−３−グリシドキシ
プロピルメチルシラン、２−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシルエチル）トリメトキシシラン、ジメチルエトキ
シ−３−グリシドキシプロピルシラン、１，３−ビス
（３−グリシドキシプロピル）−１，３−ジメチル−
１，３−ジメトキシジシロキサン又はこれらの混合物等
が好適に挙げられる。

【００３９】成分Ｄは、予め加水分解して用いても良
い。また予め適当な重合触媒でエポキシ基を開環重合さ
せて用いることもできる。重合触媒としては、三フッ化
ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウム、ジエ
チル亜鉛等のルイス酸触媒が好適である。また、エポキ
シ基を開環重合させる際の重合条件は特に限定されない
が、通常、−８０℃〜１３０℃、好ましくは−２０〜８
０℃程度が望ましく、反応時間は反応条件や反応様式等
により適宜選択でき、通常１０分間〜１０時間、好まし
くは１時間〜６時間程度が望ましい。この際用いる溶媒
は特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素溶媒、各種ケトン類、エステル類等が
挙げられる。

【００４０】成分Ｄは、成分Ａおよび成分Ｂの反応の
際、または反応後のいずれにおいても共存させられる
が、成分Ａおよび成分Ｂの反応の後に加えるのが好まし
い。但し、前記予め成分Ｄのエポキシ基を開環重合させ
たものを用いる場合には、成分Ａおよび成分Ｂの反応の
際に加えるのが好ましい。

【００４１】前記他の成分として、ポリエーテル変性ポ
リシロキサン類（以下「成分Ｅ」と称す）も挙げられ、
好ましくは、下記一般式で示されるポリエーテル変性ポ
リシロキサン類が例示される。

【００４２】

【化５】

【００４３】式中、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は同一若しく
は異なる基であって、炭素数１〜１０、好ましくは１〜
５のアルキレン基を示し、各々のＲ¹⁵は同一若しくは異
なる基であって、水素原子、水酸基、炭素数１〜１０、
好ましくは１〜５のアルキル基若しくはアルコキシ基、
または炭素数６〜１０、好ましくは６〜８のアリール基
を示す。好ましくは全てのＲ¹⁵のうち少なくとも１つは
炭素数１〜１０のアルコキシ基である。ｍ、ｎ、ｐは、
各々ｍ≧０、好ましくは０≦ｍ≦１００、ｎ≧０、好ま
しくは０≦ｎ≦１０、ｐ≧０、好ましくは０≦ｐ≦１０
の整数を示す。

【００４４】前記アルキレン基としては、メチレン基、
トリメチレン基、テトラメチレン基等が好適に挙げられ
る。前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が
好適に挙げられる。前記アルコキシ基としては、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ｔ−ブ
トキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙
げられる。前記アリール基としては、フェニル基、トリ
ル基等が挙げられる。

【００４５】このような一般式で表される成分Ｅとして
は、具体的には、テトラエチレングリコール−ビス（ト
リエトキシシリルエチル）エーテル、ポリエチレングリ
コール−ビス（トリエトキシシリルエチル）エーテル、
ポリプロピレングリコール−ビス（トリエトキシシリル
エチル）エーテル又はこれらの混合物等が挙げられる。
成分Ｅとしては、予め加水分解したものを用いても良
い。

【００４６】成分Ｅは、成分Ａおよび成分Ｂの反応の
際、または反応後のいずれにおいても共存させられる
が、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際に加えるのが好まし
い。

【００４７】他の成分として特に、前記成分Ｄのエポキ
シシラン類や成分Ｅのポリエーテル変性ポリシロキサン
類を用いることにより、得られる紫外線吸収層の耐熱性
を損なうことなく基板への密着性を改善し、厚膜に形成
しても割れにくくできる等、さらに優れた効果を発揮さ
せることができる。

【００４８】前記他の成分としては、無機微粒子分散液
（以下、「成分Ｆ」と称す）も挙げられる。成分Ｆとし
ては、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、酸化チ
タン、酸化アンチモン等の微粒子の分散液等が挙げられ
る。微粒子の粒子径は１〜１００ｎｍ程度であり、分散
媒としては水、メタノール、キシレン、メチルエチルケ
トン等が挙げられる。市販品では、商品名「ＬＵＤＯＸ
・ＬＳ」（デュポン社製）や商品名「ＸＢＡ−ＳＴ」
（日産化学社製）等が好適に挙げられる。

【００４９】成分Ｆは、成分Ａおよび成分Ｂの反応の
際、または反応後のいずれにおいても共存させられる
が、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際に加えるのが好まし
い。

【００５０】以上の各他の成分は公知の方法により製造
できる。

【００５１】本発明において、透明基板上に前記特定の
紫外線吸収層を形成しうる前記塗布成分の調製は、例え
ば、成分Ａと成分Ｂとを少なくとも反応させる方法、若
しくは必要に応じて前記他の成分の共存下反応させる方
法、これらの反応終了後、前記他の成分等を添加する方
法等により得ることができる。この反応条件は、成分Ａ
に由来するアミド結合が生成する条件であれば特に限定
されず、適宜選択されるが、通常、成分Ａおよび成分
Ｂ、さらに所望により他の成分を溶媒中にて混合したの
ち、溶媒の存在下において反応させるには、室温〜３５
０℃、好ましくは６０〜２５０℃において、通常、５分
〜５０時間、好ましくは１０分〜２０時間の条件で好適
に行なうことができる。これらの反応操作は繰り返し行
うことができる。

【００５２】この反応に用いる溶媒としては、本発明の
目的を損なわない限り特に限定されないが、例えば、ト
ルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；シクロヘキサノン
等のケトン系溶剤又はこれらの混合物等が挙げられる。

【００５３】前記反応において、成分Ａと成分Ｂとの使
用割合は、特に限定されないが、成分Ｂの使用量が、成
分Ａと成分Ｂとの総量に対して、通常５〜９０質量％、
好ましくは１０〜８０質量％の範囲で任意に選択するこ
とができる。

【００５４】前記他の成分を用いて反応させる場合、若
しくは反応後に添加して共存させる他の成分の各使用量
は特に限定されるものではないが、シリコーン樹脂（成
分Ｃ）の使用量は、成分Ａと成分Ｂとの総量１００質量
部に対して、５〜３００質量部、好ましくは２０〜１５
０質量部が望ましい。エポキシシラン類（成分Ｅ）の使
用量は、成分Ａと成分Ｂとの総量１００質量部に対し
て、１０〜５００質量部、好ましくは１００〜４００質
量部が望ましい。ポリエーテル変性ポリシロキサン類
（成分Ｅ）の使用量は、成分Ａと成分Ｂとの総量１００
質量部に対して、１０〜５００質量部、好ましくは１０
０〜４００質量部が望ましい。無機微粒子分散液（成分
Ｆ）の使用量は、成分Ａと成分Ｂとの総量１００質量部
に対して、無機微粒子として５〜４００質量部、好まし
くは１０〜２００質量部が望ましい。

【００５５】得られた塗布成分は、前記反応終了後直ち
に、そのままの形態や他の成分を添加した後に塗布して
も良く、また塗布成分を得た後、更に各種任意成分等を
加えてから塗布しても良い。

【００５６】前記任意成分の例としては、各種の酸化防
止剤；クエンチャー；ラジカル捕捉剤；塩酸、硫酸、酢
酸等の無機酸や有機酸；３フッ化ホウ素・ジエチルエー
テル錯体、６フッ化アンチモン酸ナトリウム等のルイス
酸；水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、トリエチルア
ミン、アニリン等の塩基；ジブチルスズジラウレート、
チタンテトライソプロポキサイド等の有機金属に例示さ
れるような、硬化促進作用を有する触媒（紫外線吸収性
材料に対して、通常０．１〜５．０ｍａｓｓ％の使用が
好ましい）；トルエン、キシレン、エタノール、イソプ
ロパノール、シンナー、ジメチルホルムアミド、シクロ
ヘキサノン、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン等
の溶剤等が挙げられる。

【００５７】本発明において、紫外線吸収層の形成は、
前記塗布成分等を、透明基板上に塗布し、硬化させる方
法等により行なうことができる。塗布成分は通常、液状
であり、塗布方法は、特に限定されなく適宜公知の方法
が選択できる。例えば、スピンコート、スプレーコー
ト、キャストコート、ブレードコート、ディップコー
ト、フローコート等が挙げられる。硬化反応は、前記硬
化促進作用を有する触媒を用いた場合は、通常室温〜２
５０℃、好ましくは４０〜２００℃程度で行なうことが
できる。前記触媒を用いなくても通常室温〜３５０℃、
好ましくは６０〜２５０℃で硬化させることができる。
硬化に要する時間は、適宜選択され、通常１０分〜５時
間程度である。

【００５８】透明基板上に形成する紫外線吸収層の膜厚
は、特に限定されず、適宜選択でき、通常０.５〜５０
μｍ程度の範囲である。０.５μｍ未満では充分な紫外
線遮断能力が得られない場合があり、５０μｍを超える
と亀裂を生じさせずに塗布するのが難しい場合がある。
このような好ましい方法等により、アミド結合およびＳ
ｉ−Ｏ結合を有する紫外線吸収層を透明基板上に具備す
る紫外線吸収透明板を得ることができる。

【００５９】本発明の紫外線吸収透明板は、好ましくは
３００〜４００ｎｍの紫外線領域の透過光を大部分また
は完全にカットすることができ、具体的には９５％以
上、好ましい態様では９８％以上、さらに好ましい態様
では９９％以上の紫外線領域の透過光をカットすること
ができる。本発明において、紫外線吸収層は実質的に透
明であり、基板の有する可視領域の透過率低下をほとん
ど起こさないかまたは全く起こさないものが好ましい。
従って、最終的な紫外線吸収板も透明なものが好まし
い。

【００６０】本発明の紫外線吸収透明板は、少なくと
も、透明基板と、紫外線吸収層とを具備するが、該紫外
線吸収層上に、さらにオーバーコート層を設けることで
耐摩耗性、耐薬品性等の機能を付与することができる。
オーバーコート層を形成する材料としては一般的に知ら
れている様々なものが使用できるが、特にシリコーン系
のオーバーコート材料が最適である。シリコーン系オー
バーコート材料としては、コロイダルシリカ等の無機微
粒子を分散させたシリコーンレジン系やアルコキシシラ
ン、クロロシラン等のシラン類の部分加水分解生成物又
は部分重縮合生成物等が挙げられる。市販品では、商品
名「トスガード510」（東芝シリコーン社製）、商品名
「APZ7703」、「APZ7705」（日本ユニカー社製）等が挙
げられる。またエポキシシランの部分加水分解生成物も
オーバーコート材料として耐摩耗性等が優れることが知
られている。

【００６１】オーバーコート層の作製方法としては、特
に限定されず適宜公知の方法が選択でき、例えばスピン
コート、スプレーコート、キャストコート、ブレードコ
ート、ディップコート、フローコート等が挙げられる。
硬化方法も紫外線吸収層の場合と同様の方法が適用でき
る。また、オーバーコート層作製前に紫外線吸収層の光
表面改質やプライマー処理を施すことで、オーバーコー
ト層の塗れ性改善や、オーバーコート層の紫外線吸収層
への密着性を改善することもできる。

【００６２】本発明の紫外線吸収透明板は、さらにオー
バーコート層上に、熱線反射機能や断熱機能を有する金
属酸化物等の薄膜を備えていても良い。該薄膜は、真空
蒸着やスパッタリング、ゾルゲル法等の方法により形成
でき、紫外線吸収透明板に熱線反射機能や断熱機能を付
与することができる。本発明の紫外線吸収透明板は従来
のものより長波長領域までの紫外線をカットできるのが
大きな特徴であり、用途としては特に限定されないが、
紫外線カットガラス、複層ガラス、合わせガラス、熱線
反射紫外線カットガラス、紫外線・熱線吸収ガラス、防
曇性紫外線カットガラス等の住宅用窓、ショーウインド
ウ、自動車、車両、航空機、船舶用等の機能性ガラス
や、樹脂フィルム等の透明基板に前記紫外線吸収層が形
成された構造を有する紫外線カットフィルム、農業用、
温室用フィルム等が挙げられる。またショーケース、標
本箱、掲示板、額縁の他に、眼鏡、サングラス、ブラウ
ン管、ＬＣＤ（液晶ディスプレー）（ＴＮ（ツイステッ
ドネマチック）、ＳＴＮ（スーパーツイステッドネマチ
ック）、ＤＳＴＮ（ダブルレイヤースーパーツイステッ
ドネマチック）、ＦＳＴＮ（フィルムコンペンセイテッ
ドスーパーツイステッドネマチック）、ＯＭＩ（オプテ
ィカルモードインターフェアレンス）、ＲＯＣＢ（リフ
レクティブオプティカルモードインターフェアレン
ス）、ＢＴＮ（バイステーブルツイステッドネマチッ
ク）、ＥＣＢ（エレクトリカリーコントロールドバイフ
リージェンス）、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、
Ｇ／Ｈ（ゲストホスト）、ミックスドモード、ＰＤＬＣ
（ポリマーディスパーズド液晶）、ＩＰＳ（インプレー
ンスイッチング）、ＦＬＣ（強誘電性液晶）、ＡＦＬＣ
（反強誘電性液晶）等の各種ＬＣＤ）、ＰＤＰ（プラズ
マディスプレー）、ＦＥＤ（フィールドエミッションデ
ィスプレー）、発光ダイオード、サーモクロミック素
子、エレクトロクロミック素子、フォトクロミック素
子、エレクトロルミネッセンス素子、照明基材、食品・
清涼飲料水・酒や化粧品等の瓶類や樹脂製容器、プラス
チック成型品等を基板とし、該基板に直接前記紫外線吸
収層を設けたものも本発明の紫外線吸収透明板として使
用することができる。また、本発明の紫外線吸収透明板
の用途としては、各種の光学フィルター、例えば、前記
各種素子等の外側又は内側に配置される紫外線吸収作用
を発揮する各種のフィルターとしての用途も、好適なも
のとして挙げることができる。なお、該フィルターとし
ての本発明の紫外線吸収透明板の形態としては、上に例
示したもの等の各種のＬＣＤ用基板、エレクトロクロミ
ック素子用基板、フォトクロミック素子用基板、ＰＤＰ
素子用基板、ＦＥＤ素子用基板、発光ダイオード素子用
基板、サーモクロミック素子用基板、エレクトロルミネ
ッセンス素子用基板等を基板とし、これに直接前記紫外
線吸収層を設けたものや、透明ガラス、透明プラスチッ
クフィルム等を基板とし、これに前記紫外線吸収層を設
けたもの等が挙げられる。これらの光学フィルターは各
種素子等の任意の位置に設けることができる。

【００６３】本発明の紫外線吸収透明板の好ましい態様
を以下に示す。１．紫外線吸収透明板を沸騰アセトン中、２４時間抽出
した際に、前記数式（１）で算出した紫外線吸収能変化
率が４０％以下である紫外線吸収透明板。２．少なくとも、透明基板および該基板上に形成された
紫外線吸収層を備え、該紫外線吸収層がアミド結合及び
Ｓｉ−Ｏ結合を有し、且つベンゾトリアゾール骨格およ
び／またはベンゾフェノン骨格を有する紫外線吸収透明
板。３．紫外線吸収層が、（ａ）前記一般式（１）に示され
るアミノシラン化合物またはその誘導体、および（ｂ）
分子内にカルボン酸残基を有する紫外線吸収剤を少なく
とも反応させ、前記アミノシラン化合物またはその誘導
体に由来するアミド結合を生成せしめた成分を含む塗布
成分を、透明基板上に塗布し、硬化させることによって
得られた紫外線吸収透明板。４．前記３に記載の塗布成分が、（ａ）前記一般式
（１）に示されるアミノシラン化合物またはその誘導
体、および（ｂ）前記分子内にカルボン酸残基を有する
紫外線吸収剤を少なくとも反応させる際に、前記シリコ
ーン樹脂（成分Ｃ）の存在下で行うことにより得られた
ことを特徴とする紫外線吸収透明板。５．前記３に記載の塗布成分が、（ａ）前記一般式
（１）に示されるアミノシラン化合物またはその誘導
体、および（ｂ）前記分子内にカルボン酸残基を有する
紫外線吸収剤を少なくとも反応させ、該アミノシラン化
合物またはその誘導体に由来するアミド結合を生成せし
めたのち、前記エポキシシラン類（成分Ｄ）をさらに加
えることにより得られたことを特徴とする紫外線吸収透
明板。６．前記３に記載の塗布成分が、少なくとも、（ａ）前
記一般式（１）に示されるアミノシラン化合物またはそ
の誘導体、および（ｂ）前記分子内にカルボン酸残基を
有する紫外線吸収剤を少なくとも反応させ、前記アミノ
シラン化合物またはその誘導体に由来するアミド結合を
生成せしめたのち、コロイダルシリカをさらに加えるこ
とにより得られたことを特徴とする紫外線吸収透明板。

【００６４】

【発明の効果】本発明の紫外線吸収透明板は、紫外線吸
収層としてアミド結合およびＳｉ−Ｏ結合を有するもの
であり、紫外線吸収剤成分を高濃度に含有させても良好
な耐久性を維持し、しかも、耐候性、耐熱性にも優れ、
可視領域の透過率低下をほとんど起こさず長波長領域ま
でクリアに紫外線をカットできる。

【００６５】

【実施例】以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
尚、例中の紫外線吸収能変化率を求めるための紫外線吸
光度及び光透過率の測定は、（株）日立製作所製、商品
名「Ｕ−３３００型分光光度計」を用いて、波長範囲約
３００ｎｍ〜５００ｎｍにて行った。

【００６６】実施例１カルボン酸残基含有紫外線吸収剤の合成２２５ｇ（０.４６モル）の３−（５−クロロ−２Ｈ−
ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１,１−ジメ
チルエチル）−４−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オ
クチルエステル（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、商標、Ｃｉ
ｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製）を７００ｍｌのアセトンに溶解
し、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液６００ｍｌを加えて室
温で２４時間撹拌した。２Ｎ塩酸６５０ｍｌを加えて酸
性にした後、不溶化した生成物を濾別し、蒸留水で濾液
が中性になるまで洗浄した。この生成物を真空乾燥した
後、トルエンからの再結晶を行うことで３−（５−クロ
ロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−
（１,１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−ベンゼ
ンプロパン酸（以下、化合物Ａと称す）を得た。

【００６７】紫外線吸収性塗布液の製造３−アミノプロピルトリエトキシシラン３ｇをキシレン
３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しながら、前記化合物Ａ
５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３０℃まで昇温
し、３時間還流した。放冷後、３−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランを１６ｇ添加し、これを紫外線吸
収性塗布液とした。得られた塗布液を¹³Ｃ−ＮＭＲによ
り分析したところ、アミド結合に由来するカルボニルの
ピーク（約１７３ｐｐｍ）が観測され、原料のアミノシ
ラン化合物に由来するアミド結合が存在していることを
確認した。

【００６８】紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分間放置後２００℃で２０分間加熱し、
厚さ約１７μｍの紫外線吸収層を有する紫外線吸収ガラ
スを作製した。紫外線吸収層の一部を削りとり、¹³Ｃ−
ＮＭＲにより分析したところ、アミド結合に由来するカ
ルボニルのピーク（約１７３ｐｐｍ）が観測され、²⁹Ｓ
ｉ−ＮＭＲにより同様にＳｉ−Ｏ結合の存在も確認され
た。この紫外線吸収ガラスの紫外可視吸収スペクトルの
測定結果を図１に示す。図１に示されるようにこのガラ
スは、４００ｎｍ以下の紫外線を完全に遮断していた。
また、このガラスは長期間にわたり、優れた紫外線遮断
効果を発揮した。

【００６９】実施例２紫外線吸収性塗布液の製造３ｇの３−アミノプロピルトリエトキシシランをキシレ
ン４０ｇに溶解し６０℃に加熱しつつ、５ｇの実施例１
で調製した化合物Ａを徐々に加えた。添加終了後、１３
０℃まで昇温し、３時間還流し、溶液状の紫外線吸収性
塗布液を得た。得られた溶液を¹³Ｃ−ＮＭＲにより分析
したところ、アミド結合に由来するカルボニルのピーク
（約１７３ｐｐｍ）が観測され、原料のアミノシラン化
合物に由来するアミド結合が存在していることを確認し
た。

【００７０】紫外線吸収透明板の製造前記塗布液をガラス基板上にスプレー塗布し、室温で２
０分間放置後１３０℃で３０分間加熱し、厚さ約１０μ
ｍの紫外線吸収層を有する紫外線吸収ガラスを作製し
た。紫外線吸収層の一部を削りとり、¹³Ｃ−ＮＭＲによ
り分析したところ、アミド結合に由来するカルボニルの
ピーク（約１７３ｐｐｍ）が観測され、²⁹Ｓｉ−ＮＭＲ
により同様にＳｉ−Ｏ結合の存在も確認された。この紫
外線吸収ガラスの紫外可視吸収スペクトルを測定したと
ころ、実施例１と同様に紫外線を完全に遮断しているこ
とがわかった。このガラスは長期間にわたり、優れた紫
外線遮断効果を発揮した。

【００７１】実施例３紫外線吸収性塗布液の製造シリコーンワニス（商品名：ＸＯ−７９３１−クリヤ
ー、オキツモ（株）製）１７．７ｇと３−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン３ｇとをキシレン３５ｇに溶解
し、８０℃に加熱しながら実施例１で調製した化合物Ａ
５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３０℃まで昇温
し３時間還流し、溶液状の紫外線吸収性塗布液を得た。

【００７２】紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分間放置後、２００℃で２０分間加熱
し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収層を有する紫外線吸収
ガラスを作製した。紫外線吸収層の一部を削りとり、¹³
Ｃ−ＮＭＲにより分析したところ、アミド結合に由来す
るカルボニルのピーク（約１７３ｐｐｍ）が観測され、
²⁹Ｓｉ−ＮＭＲにより同様にＳｉ−Ｏ結合の存在も確認
された。この紫外線吸収ガラスを沸騰アセトンで２４時
間抽出し、前述の数式（１）により紫外線吸収能変化率
を測定したところ、３％程度であった。このことから、
紫外線吸収剤はアミノシランを介して樹脂と結合してい
ることがわかった。この紫外線吸収ガラスの紫外可視吸
収スペクトルを測定した結果を図２に示す。図２に示さ
れるようにこのガラスは４００ｎｍ以下の紫外線を完全
に遮断していることがわかった。また紫外線吸収層のＪ
ＩＳＫ５４００鉛筆硬度試験の結果は２Ｈだった。こ
の紫外線吸収ガラスをサンシャインウェザーメーター中
１０００時間放置しても、紫外線吸収能変化は２％以下
であった。

【００７３】実施例４紫外線吸収性塗布液の製造シリコーンワニス（商品名：ＸＯ−７９３１−クリヤ
ー、オキツモ（株）製）１７．７ｇと３−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン３ｇとをキシレン３５ｇに溶解
し、８０℃に加熱しながら実施例１で調製した化合物Ａ
５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３０℃まで昇温
し３時間還流した。放冷後、３−グリシドキシプロピル
トリメトキシシランを１６ｇ添加し、紫外線吸収性塗布
液を得た。紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分間放置後、２００℃で２０分間加熱
し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収層を有する紫外線吸収
ガラスを作製した。紫外線吸収層の一部を削りとり、¹³
Ｃ−ＮＭＲにより分析したところ、アミド結合に由来す
るカルボニルのピーク（約１７３ｐｐｍ）が観測され、
²⁹Ｓｉ−ＮＭＲにより同様にＳｉ−Ｏ結合の存在も確認
された。このガラス板の紫外可視吸収スペクトルを測定
した結果を図３に示す。図３より、このガラスは実施例
１と同様に優れた紫外線遮断能を有することがわかっ
た。この紫外線吸収ガラスは長期間にわたり、優れた紫
外線遮断効果を発揮した。

【００７４】実施例５紫外線吸収性塗布液の製造シリコーンワニス（商品名：ＸＯ−７９３１−クリヤ
ー、オキツモ（株）製）１７．７ｇと３−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン３ｇとをキシレン３５ｇに溶解
し、８０℃に加熱しながら実施例１で調製した化合物Ａ
５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３０℃まで昇温
し３時間還流した。放冷後、３−グリシドキシプロピル
トリメトキシシランを１６ｇ、コロイダルシリカ分散液
（日産化学社製、商品名：MIBK-ST）を８ｇ添加し紫外
線吸収性塗布液を得た。

【００７５】紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分間放置後、２００℃で２０分間加熱
し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収層を有する紫外線吸収
ガラスを作製した。紫外線吸収層のＪＩＳＫ５４００
鉛筆硬度試験結果は４Ｈであった。紫外線吸収層の一部
を削りとり、¹³Ｃ−ＮＭＲにより分析したところ、アミ
ド結合に由来するカルボニルのピーク（約１７３ｐｐ
ｍ）が観測され、²⁹Ｓｉ−ＮＭＲにより同様にＳｉ−Ｏ
結合の存在も確認された。このガラス板の紫外可視吸収
スペクトルの測定結果を図４に示す。図４より、このガ
ラスは実施例１と同様に優れた紫外線遮断能を有するこ
とがわかった。この紫外線吸収ガラスは長期間にわた
り、優れた紫外線遮断効果を発揮した。

【００７６】実施例６エポキシシラン重合体溶液の製造３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２００ｇ
をキシレン７５ｇに溶解させ、３フッ化ホウ素・ジエチ
ルエーテル錯体４ｍｌを室温で徐々に加えた後、４時間
攪拌しエポキシ基の開環重合を行ってエポキシシラン重
合体溶液を調製した。得られた重合体の分子量はＭｗ＝
３３００（ポリスチレン換算）であった。

【００７７】紫外線吸収性塗布液の製造シリコーンワニス（商品名：ＸＯ−７９３１−クリヤ
ー、オキツモ（株）製）１７．７ｇと３−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン３ｇとをキシレン２９ｇに溶解
し、８０℃に加熱しながら実施例１で調製した化合物Ａ
５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３０℃まで昇温
し３時間還流した。放冷後、上記エポキシシラン重合体
溶液２２ｇを加え紫外線吸収性塗布液を得た。

【００７８】紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収材性塗布液をガラス基板上にスプレー塗
布し、室温で２０分間放置後、１５０℃で３０分間加熱
し、厚さ約１５μｍの紫外線吸収層が形成されたガラス
板を作製した。紫外線吸収層のＪＩＳＫ５４００鉛筆
硬度試験結果は６Ｈであった。紫外線吸収層の一部を削
りとり、¹³Ｃ−ＮＭＲにより分析したところ、アミド結
合に由来するカルボニルのピーク（約１７３ｐｐｍ）が
観測され、²⁹Ｓｉ−ＮＭＲにより同様にＳｉ−Ｏ結合の
存在も確認された。このガラス板の紫外可視吸収スペク
トルの測定結果を図５に示す。図５より、このガラスは
実施例１と同様に優れた紫外線遮断能を有していること
がわかった。この紫外線吸収ガラスは長期間にわたり、
優れた紫外線遮断効果を発揮した。

【００７９】実施例７紫外線吸収性塗布液の製造３−アミノプロピルトリエトキシシラン３ｇと実施例６
で調製したエポキシシラン重合体溶液１１ｇとをキシレ
ン３２ｇに溶解し、８０℃に加熱しながら実施例１で調
製した化合物Ａ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１
３０℃まで昇温し３時間還流し、紫外線吸収性塗布液を
得た。

【００８０】紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分間放置後、１５０℃で３０分間加熱
し、厚さ約１５μｍの紫外線吸収層が形成されたガラス
板を作製した。紫外線吸収層のＪＩＳＫ５４００鉛筆
硬度試験結果は５Ｈであった。紫外線吸収層の一部を削
りとり、¹³Ｃ−ＮＭＲにより分析したところ、アミド結
合に由来するカルボニルのピーク（約１７３ｐｐｍ）が
観測され、²⁹Ｓｉ−ＮＭＲにより同様にＳｉ−Ｏ結合の
存在も確認された。このガラス板の紫外可視吸収スペク
トルの測定結果を図６に示す。図６より、この紫外線吸
収ガラスは実施例１と同様に優れた紫外線遮断能を有し
ていることがわかった。この紫外線吸収ガラスは長期間
にわたり、優れた紫外線遮断効果を発揮した。

【００８１】比較例１シリコーンワニス（商品名：ＸＯ−７９３１−クリヤ
ー、オキツモ（株）製）２２．２ｇに、３−（５−クロ
ロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−
（１,１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−ベンゼ
ンプロパン酸オクチルエステル（ＴＩＮＵＶＩＮ１０
９、商標、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製）１０ｇを加え、
さらにジ−ｎ−ブチルスズジラウレート２０μｌを添加
し、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２０ｍｌで希釈し
た後、ガラス基板上にスプレー塗布した。ホットプレー
ト上６０℃で１５分間乾燥した後、オーブンに入れ２０
０℃で１時間加熱硬化し、厚さ約２０μｍの紫外線吸収
層を有する紫外線吸収ガラスを得た。しかし、この紫外
線吸収ガラスは紫外線吸収剤の析出により白濁してしま
った。

【００８２】比較例２シリコーンワニス（商品名：ＸＯ−７９３１−クリヤ
ー、オキツモ（株）製）２２．２ｇに、３−（５−クロ
ロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−
（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−ベンゼ
ンプロパン酸オクチルエステル（ＴＩＮＵＶＩＮ１０
９、商標、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製）２．２ｇを加
え、さらにジ−ｎ−ブチルスズジラウレート２０μｌを
添加し、ＤＭＦ２０ｍｌで希釈した後、ガラス基板上に
スプレー塗布した。ホットプレート上６０℃で１５分間
乾燥した後、オーブンに入れ２００℃で１時間加熱硬化
し、厚さ約１５μｍの紫外線吸収層を有する紫外線吸収
ガラスを得た。この紫外線吸収ガラスは比較例１のよう
に白濁しなかったが、紫外線カット能は図７の透過率ス
ペクトルに示したように不十分であった。また作製した
紫外線吸収ガラスを用いて実施例３と同様に沸騰アセト
ンで抽出を行ったところ、紫外線吸収能変化率は９５％
となり、ほとんどの紫外線吸収剤が溶出してしまった。
作製した紫外線吸収ガラスをサンシャインウェザーメー
ター中１０００時間放置したところ紫外線吸収能変化は
５０％とかなり紫外線遮断能が低下していた。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で作成した紫外線吸収ガラスの紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図２】実施例３で作成した紫外線吸収ガラスの紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図３】実施例４で作成した紫外線吸収ガラスの紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図４】実施例５で作成した紫外線吸収ガラスの紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図５】実施例６で作成した紫外線吸収ガラスの紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図６】実施例７で作成した紫外線吸収ガラスの紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図７】比較例２で作成した紫外線吸収ガラスの紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図８】紫外線吸収能変化率の求め方の原理をモデル的
に説明するためのグラフである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０９Ｋ 3/00 １０４Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｚ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも、透明基板および該基板上に
形成された紫外線吸収層を備え、該紫外線吸収層が、ア
ミド結合およびＳｉ−Ｏ結合を有していることを特徴と
する紫外線吸収透明板。