JPH10202778A

JPH10202778A - 紫外線吸収複層板

Info

Publication number: JPH10202778A
Application number: JP9024334A
Authority: JP
Inventors: Masaki Minami; 昌樹南; Takeshi Asano; 剛朝野; Noboru Takaesu; 昇高江洲; Yoshinori Nishikitani; 禎範錦谷
Original assignee: Nippon Oil Corp
Current assignee: Eneos Corp
Priority date: 1997-01-23
Filing date: 1997-01-23
Publication date: 1998-08-04

Abstract

(57)【要約】【課題】断熱性、遮音性、耐候性、耐熱性に優れた紫
外線吸収複層板の提供。【解決手段】２枚の透明基板を積層させた構造にある
複層板において、その一方の基板上にアミノシラン化合
物由来のアミド結合を含有する紫外線吸収層を形成させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線遮断能が付
与された紫外線吸収複層板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から一般にガラス板等の透明基板に
紫外線吸収性を付与するには（１）紫外線吸収性の物質
を用いて透明基板を処理をする方法と、（２）多層膜に
よる多重反射を利用する方法とがある。（２）の多層膜
による多重反射は、カット波長を自由に調節できる、ク
リアカットが可能であるという点で優れているが、作業
工程が多くコスト的に問題がある。（１）の紫外線吸収
性の物質で処理をする方法には無機系紫外線吸収剤を用
いる場合と有機系紫外線吸収剤を用いる場合がある。無
機系紫外線吸収剤（例えば特開平５−３３９０３３，特
開平５−３４５６３９，特開平６−５６４６６号公報
等）では耐候性、耐熱性等の耐久性が優れる反面、吸収
波長が化合物のバンドギャップによって決定されるた
め、自由度が少なく、また４００ｎｍ近辺の紫外線領域
までクリアにカットできるものはなく、さらに長波長カ
ットでは着色を伴うものが多い。これに対して有機系の
紫外線吸収剤は吸収帯に幅があるため、吸収剤の種類や
濃度、膜厚を選ぶことにより様々な吸収波長のものを得
ることができる。これまで種々の有機系紫外線吸収剤を
用いた系が検討されており、長波長領域までカットする
場合には、最大吸収波長が長波長領域にあるものを用い
るか、濃度もしくは膜厚を大きくするかの２通りが考え
られている。しかし、最大吸収波長が長波長領域にある
もの（例えば特開平６−１４５３８７号公報等）は耐光
性が悪く、吸収能が時間とともに減少してしまう。前記
特開平６−１４５３８７公報においては蛍光増白剤を用
いるため蛍光により透視性が悪くなるという問題もあ
る。これに対してベンゾフェノン系やベンゾトリアゾー
ル系の紫外線吸収剤は比較的耐光性も良く、濃度や膜厚
を大きくすれば長波長領域まで比較的クリアにカットで
きる。しかし通常これらの紫外線吸収剤を樹脂等に混ぜ
て塗布する場合、膜厚的には数十μｍ程度が限界であ
る。この膜厚で長波長領域までカットしようとするとか
なり高濃度に紫外線吸収剤を添加する必要がある。しか
しながら、単に高濃度に添加しただけでは紫外線吸収剤
の析出や長期使用によるブリードアウトが生じるという
問題がある。そこで樹脂と反応させてこれらを防ごうと
いう試みが多くなされている。例えばアクリル樹脂など
に共重合させる等の試みがなされているが（特開平２−
２４８４１２，特開平６−８８０６４号公報等）、アク
リル樹脂自体が耐候性、耐熱性に難があるため，とても
長期使用には耐えられない。また耐候性、耐熱性に優れ
るシリコーン樹脂と反応しうる紫外線吸収剤を用いた系
についても種々検討がなされている（例えば特公昭６１
−５４８００，特開平２−１１７９２８，特公平３−４
５０９４号公報等）。しかし，紫外線吸収剤の合成が工
業的に難しかったり、耐久性に問題が生じるものが多い
のが実状である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
解決するためになされたものであり、その目的は、断熱
性、遮音性、耐候性、耐熱性に優れ、且つ長期使用にお
いても紫外線吸収剤がブリードアウトせず、可視領域の
透過率は低下させずに紫外線の長波長領域までカットす
ることが可能な紫外線吸収性複層板を提供することにあ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、２枚以
上の透明基板を積層した複層板であって、該透明基板の
少なくとも１枚は紫外線吸収透明板であり、該紫外線吸
収透明板が、少なくとも、透明基板および該基板上に形
成された紫外線吸収層を備え、該紫外線吸収層が、少な
くとも、（ａ）下記の一般式（１）に示されるアミノシ
ラン化合物またはその誘導体（以下、「成分Ａ」）と、
（ｂ）分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤
（以下「成分Ｂ」）とを少なくとも反応させ、前記アミ
ノシラン又はその誘導体に由来するアミド結合を生成せ
しめた成分を、透明基板の上に塗布、硬化することによ
って作製されることを特徴とする紫外線吸収複層板が提
供される。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明において用いられる紫外線
吸収透明板は、少なくとも、透明基板および該基板上に
形成された紫外線吸収層を備える。透明基板としては、
特に限定されないが、例えば無色あるいは有色ガラス，
曇りガラス、網入りガラス，熱線反射ガラス，熱線吸収
ガラス，強化ガラス，ガラスブロック等が用いられる
他、無色あるいは有色の透明性を有する樹脂でも良い。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミ
ド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルホン、ポリフェ
ニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリイミド、
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、などが挙げ
られる。本発明における透明とは、３〜１００％の透過
率を有することであり、また、本発明における基板と
は、常温において平滑な面を有するものであり、その面
は平面あるいは曲面であってもよく、また応力によって
変形するものであってもよい。本発明において成分Ａと
して用いるアミノシラン化合物は、下記一般式（１）に
示すものである。

【化２】一般式（１）に於いて、Ｒ¹は炭素数１〜１０、好まし
くは１〜５のアルキレン基、または一般式−（ＣＨ₂）
_m−ＮＨ−［ｍは１≦ｍ≦４の整数］で表される２価の
基を示す。該アルキレン基としては具体的にはメチレン
基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基等が例
示される。各々のＲ²は同一若しくは異なる基であっ
て、水素原子、水酸基、塩素、臭素等のハロゲン原子、
炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキル基若しく
はアルコキシ基、または炭素数６〜１０、好ましくは６
〜８のアリール基を示す。但し、全てのＲ²のうち少な
くとも一つはアルコキシ基である。前記Ｒ²のアルキル
基としてはメチル基、エチル基。プロピル基、i-プロピ
ル基等が例示でき、アリール基としてはフェニル基、ト
リル基などが例示できる。アルコキシ基としてはメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、i-プロポキシ基等が
例示できる。ｎはｎ≧０、好ましくは０≦ｎ≦３の整数
を示す。一般式（１）で示されるアミノシラン化合物の
好適な例としては、３- アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、３- アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラ
ン、３- アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３-
アミノプロピルトリクロロシラン、３- アミノプロピル
ポリジメチルシロキサン、Ｎ- （２- アミノエチル）-
３- アミノプロピルトリメトキシシラン、３- アミノプ
ロピルトリス（メトキシエトキシエトキシ）シラン等が
挙げられる。また、アミノシラン化合物の誘導体として
は、前記好適な化合物の加水分解物等が好ましく挙げら
れる。これらのアミノシラン化合物又はその誘導体であ
る成分Ａは公知の方法により製造できる。また、本発明
においては、一般式（１）で示されるアミノシラン化合
物の誘導体を用いることもできる。かかる誘導体として
は、前記化合物の加水分解物が好ましいものとして挙げ
られる。

【０００６】成分Ｂとして用いる分子内にカルボキシル
基を有する紫外線吸収剤としては、分子の側鎖にカルボ
キシル基を１個または２個以上有する化合物が挙げら
れ、例えばベンゾトリアゾール骨格またはベンゾフェノ
ン骨格を有する化合物等が挙げられる。ベンゾトリアゾ
ール骨格を有する化合物としては、下記一般式（２）に
より表される化合物が好適に挙げられる。

【化３】一般式（２）中のＲ³は、水素原子、ハロゲン原子また
は炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基を示
す。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素
等が、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、シクロ
ヘキシル基等が例示できる。Ｒ³の置換位置は、ベンゾ
トリアゾール骨格の４位または５位であるが、ハロゲン
原子及びアルキル基は通常４位に位置する。式中のＲ⁴
は、水素原子または炭素数１〜１０、好ましくは１〜６
のアルキル基を示す。アルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブ
チル基、シクロヘキシル基等が例示できる。式中のＲ⁵
は、炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアルキレン基
または、アルキリデン基を示す。アルキレン基として
は、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピ
レン基等が、アルキリデン基としては、エチリデン、プ
ロピリデン基等が挙げられる。一般式（２）で示される
化合物としては、３−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチ
ル）−４−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸、３−（２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ
ベンゼンエタン酸、３−（５−メチル−２Ｈ−ベンゾト
リアゾール−２−イル）−５−（１−メチルエチル）−
４−ヒドロキシベンゼンプロパン酸等が挙げられる。

【０００７】前記ベンゾフェノン骨格を有する化合物と
して、下記一般式（３）〜（６）にて示されるベンゾフ
ェノン系化合物等が好適に挙げられる。

【化４】

【化５】

【化６】

【化７】一般式（３）〜（６）に於いて、Ｒ⁷及びＲ⁸は同一若
しくは異なる基であって、水素原子、水酸基、炭素数１
〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基又はアルコキシ
基を示す。ｎ、ｍは、０≦ｍ≦３、０≦ｎ≦３の範囲の
整数を示す。アルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル
基、シクロヘキシル基等が、アルコキシ基としては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i-プロポキシ
基、ブトキシ基等が具体的に例示される。式中Ｒ⁶は、
炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアルキレン基又
は、アルキリデン基を示す。アルキレン基としては、メ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基
等が、アルキリデン基としてはエチリデン基、プロピリ
デン基等が挙げられる。このようなベンゾフェノン骨格
を有する化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン−５−カルボン酸、２，２’
−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−カ
ルボン酸、４−（２−ヒドロキシベンゾイル）−３−ヒ
ドロキシベンゼンプロパン酸等が好適に挙げられる。前
記ベンゾトリアゾール骨格又はベンゾフェノン骨格を有
する紫外線吸収剤は公知の方法により製造できる。

【０００８】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいて、前記成分Ａと成分Ｂとを少なくとも反応させ
て、成分Ａに由来するアミド結合を生成せしめる反応は
通常脱水反応が主である。この際、反応により生成する
アミド結合の量は、特に限定されないが、通常、成分Ａ
の全アミノシランの１０モル％以上、好ましくは、５０
モル％以上に対してアミド結合が生じるようにすれば良
く、上限は通常１００モル％であるが、上限が１００モ
ル％未満でも差し支えない。本発明に用いられる塗布成
分の製造方法においては、上記のとおり、少なくとも成
分Ａおよび成分Ｂを反応させれば良いが、係る反応の
際、または反応後に本発明の目的を損なわない範囲で任
意成分をさらに共存・添加してもよい。次にこれらの任
意成分について説明する。

【０００９】任意成分の一例としてはシリコーン樹脂
（以下、「成分Ｃ」と称す）が挙げられる。成分Ｃとし
ては反応性シリコーン樹脂、即ち、成分Ａのアルコキシ
シリル基部分と反応（通常脱水反応および／または脱ア
ルコール反応等）しうる官能基を有するシリコーン樹脂
が好ましい。官能基としてはアルコキシシリル基やシラ
ノール基等が好ましい。このような反応性シリコーン樹
脂は、一般的にアルコキシシランやクロロシラン類の部
分加水分解反応とそれに続く縮合反応によって容易に合
成することができる。市販品では、純シリコーンワニス
（例えば、商品名「ＸＯ７９３１−クリヤー」：オキツ
モ（株）製）、シリコーンレジン（例えば、商品名「Ｓ
Ｒ２４１０」：東レ・ダウコーニングシリコーン（株）
製）、アクリル変性シリコーン樹脂（例えば、商品名
「サイラコート１０００」：チッソ（株）製）等が好適
に挙げられる。また、シリコーン樹脂を本発明の目的を
損なわない範囲で各種溶剤を用いた溶液の形で用いるこ
とができる。溶剤としては、特に限定されないが、各種
炭化水素系溶剤、ケトン類、エーテル類、エステル類、
エーテル・エステル類などが挙げられる。また、シリコ
ーン樹脂を各種変性したものを用いても良い。成分Ｃ
は、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際、または反応後のい
ずれにおいても共存させられるが、成分Ａおよび成分Ｂ
の反応の際に共存させることが特に好ましい。

【００１０】前記任意成分の他の例としては、各種のエ
ポキシシラン類（以下「成分Ｄ」と称す）が挙げられ、
好ましくは下記一般式（８）〜（９）に示すようなエポ
キシシラン類が挙げられる。

【化８】

【化９】一般式（８）〜（９）に於いて、Ｒ⁹およびＲ¹¹は同一
若しくは異なる基であって、炭素数１〜１０、好ましく
は１〜５のアルキレン基又は、式−Ｒ−Ｏ−Ｒ' −（但
し、Ｒ及びＲ' は各々炭素数１〜１０、好ましくは１〜
５のアルキレン基を示す）により示される２価の基を示
し、各々のＲ¹⁰は同一若しくは異なる基であって、水素
原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜１０、好まし
くは１〜５のアルキル基若しくはアルコキシ基、または
炭素数６〜１０好ましくは６〜８のアリール基を示す。
但し、全てのＲ¹⁰のうち少なくとも１つはアルコキシ基
である。ｎはｎ≧０、好ましくは０≦ｎ≦３の整数を示
す。前記アルキレン基としては、メチレン基、トリメチ
レン基、テトラメチレン基等が好適に例示できる。前記
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、、オクチル基等が好適に
挙げられ、前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、t-ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、前
記アリール基としては、フェニル基、トリル基等が挙げ
られる。成分Ｄの具体例としては、３- グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、ジメトキシ- ３- グリシド
キシプロピルメチルシラン、２- （３，４- エポキシシ
クロヘキシルエチル）トリメトキシシラン、ジメチルエ
トキシ- ３- グリシドキシプロピルシラン、１，３−ビ
ス（３−グリシドキシプロピル）−１，３−ジメチル−
１，３−ジメトキシジシロキサン又はこれらの混合物等
が好適に挙げられる。成分Ｄは予め加水分解して用いて
も良い。また予め適当な重合触媒でエポキシ基を開環重
合させて用いることもできる。重合触媒としては、三フ
ッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウム、
ジエチル亜鉛等のルイス酸触媒が好適である。また、エ
ポキシ基を開環重合させる際の重合条件は特に限定され
ないが、通常、−８０℃〜１３０℃、好ましくは−２０
℃〜８０℃程度が望ましく、反応時間は反応条件、反応
様式等により適宜選択でき、通常１０分〜１０時間、好
ましくは１時間〜６時間程度が望ましい。この際用いる
溶媒は特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素溶媒、各種のケトン類やエステル
類等が挙げられる。成分Ｄは、成分Ａおよび成分Ｂの反
応の際、または反応後のいずれにおいても共存させられ
るが、成分Ａおよび成分Ｂの反応の後に加えることが好
ましい。但し、前記予め成分Ｄのエポキシ基を開環重合
させたものを用いる場合には、成分Ａ及び成分Ｂの反応
の際に加えるのが好ましい。

【００１１】他の任意成分としては、ポリエーテル変性
ポリシロキサン類（以下「成分Ｅ」と称す）が挙げら
れ、好ましくは、下記一般式（９）で示されるポリエー
テル変性ポリシロキサン類が例示される。

【化１０】（式中、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は同一若しくは異なる基
であって、炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキ
レン基を示し、各々のＲ¹⁵は同一若しくは異なる基であ
って、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０、好ましくは１〜５のアルキル基若しくはアルコキシ
基、または炭素数６〜１０好ましくは６〜８のアリール
基を示す。またＲ¹⁵のうち少なくとも一つはアルコキシ
基である。ｍ、ｎ、ｐは、各々ｍ≧０、好ましくは０≦
ｍ≦１００、ｎ≧０、好ましくは０≦ｎ≦１０、ｐ≧
０、好ましくは０≦ｐ≦１０の整数を示す。）前記アル
キレン基としては、メチレン基、トリメチレン基、テト
ラメチレン基などが好適に挙げられる。前記アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピ
ル基、ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、、オクチル基等が好適に挙げられる。
前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオ
キシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。前記アリー
ル基としては、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
一般式（９）にて表される成分Ｅの具体例としては、テ
トラエチレングリコール- ビス（トリエトキシシリルエ
チル）エーテル、ポリエチレングリコール- ビス（トリ
エトキシシリルエチル）エーテル、ポリプロピレングリ
コール- ビス（トリエトキシシリルエチル）エーテル又
はこれらの混合物が挙げられる。成分Ｅは、予め加水分
解して用いても良い。成分Ｅは、成分Ａおよび成分Ｂの
反応の際、または反応後のいずれにおいても共存させら
れるが、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際に加えるのが好
ましい。任意成分として特に、前記成分Ｄのエポキシシ
ラン類や成分Ｅのポリエーテル変性ポリシロキサン類を
用いることにより、当該基板上の紫外線吸収性被膜は、
耐熱性を損なうことなく基板への密着性が改善され、厚
膜にしても割れにくくなる等、さらに優れた効果を奏す
る。

【００１２】他の任意成分としては、無機微粒子分散液
（以下、「成分Ｆ」と称す）が挙げられる。成分Ｆとし
ては、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、酸化チ
タン、酸化アンチモン等の微粒子の分散液等が挙げられ
る。微粒子の粒子径は１〜１００nm程度であり、分散媒
としては水、メタノール、キシレン、メチルエチルケト
ン、等が挙げられる。市販品ではＬＵＤＯＸ L Ｓ（デ
ュポン社製）や、ＸＢＡ−ＳＴ（日産化学社製）などが
好適に挙げられる。成分Ｆは、成分Ａおよび成分Ｂの反
応の際、または反応後のいずれにおいても共存させられ
るが、成分Ａおよび成分Ｂの反応の後に加えることが好
ましい。成分Ｆを加えることで，表面硬度を改善し，耐
摩耗性，耐薬品性などを向上させることができる。な
お、任意成分はいずれも公知の方法により製造できる。

【００１３】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいては、前述のとおり、少なくとも、成分Ａと成分Ｂ
とを反応させるか、若しくは必要に応じて前記任意成分
の共存下反応させることにより、塗布成分（反応混合
物）を容易に製造することができる。この反応条件は、
成分Ａに由来するアミド結合が生成する条件であれば特
に限定されなく、その条件は適宜選択されるところであ
るが、通常、成分Ａおよび成分Ｂ、さらに所望により任
意成分を溶媒中にて混合したのち、溶媒の存在下におい
て、室温〜３５０℃、好ましくは６０〜２５０℃におい
て、通常５分〜５０時間、好ましくは１０分〜１５時間
の条件で好適に行うことができる。これらの反応操作は
繰り返し行うことができる。この反応に用いる溶媒とし
ては、本発明の目的を損なわない限り特に限定されない
が、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤や、
シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、またはこれらの混
合物が挙げられる。溶媒は、反応後除去してもよく、除
去せずに溶液の状態でも良い。前記反応において、成分
Ａと成分Ｂとの使用割合は、特に限定されないが、成分
Ｂの使用量が、成分Ａと成分Ｂとの総量に対し、通常５
〜９０質量％、好ましくは１０〜８０質量％の範囲で任
意に選択することができる。塗布成分は、このような反
応終了後直ちに、そのままの形態で塗布に供してもよ
く、また上記の反応終了後、即ち塗布成分を得た後、各
種成分を加えたものを塗布液として使用することもでき
る。各種成分は、本発明の目的を損なわない限り、特に
限定されないが、例えば、酸化防止剤、クエンチャーも
しくはラジカル捕捉剤、または塩酸、硫酸、酢酸などの
無機酸や有機酸、３フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯
体、６フッ化アンチモン酸ナトリウム等のルイス酸、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、
アニリンなどの塩基、ジブチルスズジラウレート、チタ
ンテトライソプロポキサイドなどの有機金属に例示され
るような、硬化促進作用を有するする触媒（紫外線吸収
材料に対して、通常０．１〜５．０質量％であることが
好ましい）、トルエン、キシレン、エタノール、イソプ
ロパノール、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノ
ン、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン等、各種シ
ンナー等の溶剤、などが使用可能であって、これらの成
分を加えたものを塗布液として使用することができる。

【００１４】また、任意成分であるシリコーン樹脂の使
用量としては、特に限定されないが、成分Ａと成分Ｂの
総量１００質量部に対して、５〜３００質量部、好まし
くは２０〜１５０質量部が望ましい。また、エポキシシ
ラン類の使用量としては、特に限定されないが、成分Ａ
と成分Ｂの総量１００質量部に対して、１０〜５００質
量部、好ましくは１００〜４００質量部が望ましい。ま
た、ポリエーテル変性ポリシロキサン類の使用量として
は、特に限定されないが、成分Ａと成分Ｂの総量１００
質量部に対して、１０〜５００質量部、好ましくは１０
０〜４００質量部が望ましい。また、コロイダルシリカ
の使用量としては、特に限定されないが、成分Ａと成分
Ｂの総量１００質量部に対して、５〜４００質量部、好
ましくは１０〜２００質量部が望ましい。

【００１５】本発明の特定の紫外線吸収層は、かくして
得られた塗布成分を、透明基板の上に塗布、硬化するこ
とによって得られる。塗布成分は通常、液状であり、そ
の塗布方法は、特に限定されなく適宜公知の方法が選択
されるところである。例えば、スピンコート、スプレー
コート、ディップコート、キャストコート、ブレードコ
ート、フローコートなどが、目的に応じて適宜使用され
る。硬化反応は、前記硬化促進作用を有する触媒を用い
た場合は、通常室温から２５０℃、好ましくは４０℃〜
２００℃程度で硬化させることができる。また該触媒を
用いなくても通常室温〜３５０℃、好ましくは６０℃〜
２５０℃で加熱することによって硬化させることができ
る。硬化に要する時間は、適宜選択されるところである
が、通常１０分〜５時間程度である。透明基板上に形成
される紫外線吸収層の膜厚は、特に限定されなく適宜選
択されるところであるが、通常０. ５〜５０μｍ程度の
範囲内で用いられる。０. ５μｍ以下では充分な紫外線
遮断能力を出すことが難しい場合があり、５０μｍ以上
では亀裂を生じさせずに塗布するのが難しい場合があ
る。

【００１６】本発明の紫外線吸収複層板は、３００〜４
００nmの紫外線領域の透過光を大部分または完全にカッ
トすることができ、具体的には９５％以上、好ましい態
様では９８％以上、さらに好ましい態様では９９％以上
の紫外線領域の透過光をカットすることができる。ま
た、本発明の透明基板上に形成される紫外線吸収層は実
質的に透明であり、基板の有する可視領域の透過率低下
をほとんど起こさないかまたは全く起こさないものであ
り、最終的な紫外線吸収複層板としても透明なものであ
る。

【００１７】本発明において用いられる紫外線吸収透明
板には、紫外線吸収層上に、さらにオーバーコート層を
設けることで耐摩耗性、耐薬品性などの機能を付与する
ことができる。用いるオーバーコート剤としては一般的
に知られている様々なものが挙げられるが、その中でも
シリコーン系のオーバーコート剤が最適である。シリコ
ーン系オーバーコート剤としてはコロイダルシリカなど
の無機微粒子を分散させたシリコーンレジン系やアルコ
キシシラン，クロロシランなどのシラン類の部分加水分
解生成物及び部分重縮合生成物などが挙げられる。具体
的には，市販品ではトスガード510 （東芝シリコーン
製）やAPZ7703 、APZ7705 （日本ユニカー製）が挙げら
れる。またエポキシシランの部分加水分解生成物もオー
バーコート剤として耐摩耗性などが優れていることが知
られている。オーバーコート層の作製方法としては、特
に限定されなく適宜公知の方法が選択されるところであ
る。スピンコート、スプレーコート、キャストコート、
ブレードコート、ディップコートなどが、目的に応じて
適宜使用される。硬化方法も紫外線吸収被膜の場合と同
様の方法が適用できる。また，オーバーコート作製前に
光表面改質やプライマー処理を施すことで，オーバーコ
ート材の塗れ性改善や，オーバーコート層の紫外線吸収
層への密着性を改善することもできる。本発明において
用いられる紫外線吸収透明板は，さらにその上に，熱線
反射機能や断熱機能のある金属酸化物等の薄膜を真空蒸
着やスパッタリング，ゾルゲル法等の方法により成膜
し，熱線反射機能や断熱機能を付与することもできる。

【００１８】本発明の紫外線吸収複層板は前述の通り２
枚以上の透明基板から構成され、かつ紫外線吸収透明板
を必須に有する限り、その態様は目的に応じて適宜選択
されるところである。透明基板の組み合わせとしては以
下の態様が例示される。 (1) 紫外線吸収透明板と紫外線層を具備しない透明板
（則ち透明基板） (2) ２枚の紫外線吸収透明板を使用 (3) 紫外線吸収透明板と熱線反射性透明板 (4) 紫外線吸収透明板と紫外線反射性透明板 (5) 紫外線吸収透明板、非紫外線吸収透明板と熱線反射
性透明板 (6) 紫外線吸収透明板と選択波長反射性透明板 (7) 紫外線吸収透明板と低輻射率透明板もちろん、透明板の材質は同一でも異なってもよい。ま
た、紫外線吸収透明板を用いる際、該透明板において具
備される紫外線吸収層は、複層板としたときに外側に露
出する形でも、内側に内蔵される形のどちらでもよい
が、内側に内蔵されるほうがより好ましい。また、これ
らの透明板同志は密着させてもよく、また透明板同志を
機能性材料を介して密着させてもよく、また透明板間を
適当な間隔を隔てて配置し、その間を真空、乾燥空気や
不活性ガスや機能性材料を充填した形態でも良い。本発
明の紫外線吸収複層板は、前述のようにして作製された
紫外線吸収透明板を少なくとも１枚以上用いること以外
は、公知の方法により作製することができる。以下に具
体的な複層板としての例を挙げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。例えば複層ガラスの場合は、
スペーサー、コーナーキー、乾燥剤、封着剤、シール材
などを適宜組み合わせることにより容易に作製でき、ま
たそれらの材質は特に限定されないが、例えば、スペー
サーとしては通常アルミや合金等の金属製のものや、塩
ビ等の樹脂製のものが用いられる。またスペーサーを組
み合わせるコーナーキーには通常金属や樹脂製のもの等
が用いられる。スペーサーの中に入れる乾燥剤としては
通常シリカゲルやゼオライト等の多孔質性物質が用いら
れる。また一次シールとしてはブチルゴム等を基本とし
たポリイソブチレン系の封着材等が用いられる。二次シ
ールとしてはポリサルファイド系等のものが用いられ
る。また、例えば合わせガラスの場合は、中間膜として
はポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体等が通常用いられる。また耐貫
通性を良くするためにポリカーボネートやポリエステル
等の樹脂フィルムを２枚のガラスの間に中間膜を介して
挟み込むことも行われる。以上、本発明について詳細に
説明してきたが、本発明の紫外線吸収複層板に関して好
適な実施態様としては以下の態様が挙げられる。１．前記塗布成分が、少なくとも（ａ）前記一般式
（１）に示されるアミノシラン化合物またはその誘導
体、および（ｂ）前記分子内にカルボン酸残基を有する
紫外線吸収剤を反応させる際に、その反応を前記シリコ
ーン樹脂の存在下で行うことにより得られるものである
ことを特徴とする本願発明の紫外線吸収複層板。２．前記塗布成分が、少なくとも、（ａ）前記一般式
（１）に示されるアミノシラン化合物またはその誘導
体、および（ｂ）前記分子内にカルボン酸残基を有する
紫外線吸収剤を反応させ、該アミノシランに由来するア
ミド結合を生成せしめたのち、前記エポキシシラン類を
さらに加えることにより得られるものであることを特徴
とする本願発明の紫外線吸収複層板。３．前記塗布成分が、少なくとも、（ａ）前記一般式
（１）に示されるアミノシラン化合物またはその誘導
体、および（ｂ）前記分子内にカルボン酸残基を有する
紫外線吸収剤を反応させ、前記アミノシラン類に由来す
るアミド結合を生成せしめたのち、コロイダルシリカを
さらに加えることにより得られるものであることを特徴
とする本願発明の紫外線吸収複層板。

【００１９】

【発明の効果】本発明の紫外線吸収複層板は、紫外線吸
収剤を母材であるシリコーン樹脂とアミド結合を介して
結合させることにより，高濃度に吸収剤を含有させても
良好な耐久性を維持し、可視領域の透過率低下をほとん
ど起こさず長波長領域までクリアにカットできるもので
ある。

【００２０】

【実施例】以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明
するが、本発明は実施例に限定されるものではない。

【００２１】実施例１カルボン酸残基含有紫外線吸収剤の合成２２５ｇ（０. ４６モル）の３- （５- クロロ- ２Ｈ-
ベンゾトリアゾール-２- イル）- ５- （１, １- ジメ
チルエチル）- ４- ヒドロキシ- ベンゼンプロパン酸オ
クチルエステル（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、商標名、Ｃ
ｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製）を７００ｍｌのアセトンに溶
解し、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液６００ｍｌを加えて
室温で２４時間攪拌した。２Ｎ塩酸６５０ｍｌを加えて
酸性にした後、不溶化した生成物を濾別し、蒸留水で濾
液が中性になるまで洗浄した。この生成物を真空乾燥し
た後、トルエンからの再結晶を行うことで３- （５- ク
ロロ- ２Ｈ- ベンゾトリアゾール- ２- イル）- ５-
（１, １- ジメチルエチル）- ４- ヒドロキシ- ベンゼ
ンプロパン酸［化合物Ｉ］を得た。紫外線吸収性塗布液の製造３−アミノプロピルトリエトキシシラン３ｇをキシレン
３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しながら、前記化合物Ｉ
５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３０℃まで昇温
し、３時間還流した。放冷後、３−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランを１６ｇ添加し、これを紫外線吸
収性塗布液とした。得られた塗布液を¹³Ｃ−ＮＭＲによ
り分析したところ、アミド結合に由来するカルボニルの
ピーク（約１７３ｐｐｍ）が観測され、原料のアミノシ
ラン類に由来するアミド結合が存在していることを確認
した。紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分放置後２００℃で２０分加熱し、厚さ
約１７μｍの紫外線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラス
を作製した。この紫外線吸収ガラスの紫外可視吸収スペ
クトルを図１に示した。スペクトルに示されるように４
００nm以下の紫外線を完全に遮断するガラス基板が得ら
れた。紫外線吸収複層ガラスの作製上記紫外線吸収ガラスと市販のソーダライムガラスを用
いて、通常の方法により複層ガラスを作製した。尚、ア
ルミスペーサー、コーナーキー、ブチルゴム、乾燥剤、
ポリサルファイドはテイパ化工製のものを使用した。断
熱性に優れ、長寿命の、紫外線を完全に遮断する複層ガ
ラスが得られた。

【００２２】実施例２紫外線吸収性塗布液の製造３ｇの３- アミノプロピルトリエトキシシランをキシレ
ン４０ｇに溶解し６０℃に加熱しつつ、５ｇの実施例１
における化合物Ｉを徐々に加えた。添加終了後、１３０
℃まで昇温し、３時間還流し、溶液状の紫外線吸収性塗
布液を得た。得られた溶液を¹³Ｃ−ＮＭＲにより分析し
たところ、アミド結合に由来するカルボニルのピーク
（約１７３ｐｐｍ）が観測され、原料のアミノシラン類
に由来するアミド結合が存在していることを確認した。紫外線吸収透明板の製造前記塗布液をガラス基板上にスプレー塗布し、室温で２
０分放置後１３０℃で３０分加熱し、厚さ約１０μｍの
紫外線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラスを作製した。
この紫外線吸収ガラスの紫外可視吸収スペクトルを測定
したところ、実施例１と同様に紫外線を完全に遮断する
ガラス基板が得られた。紫外線吸収複層ガラスの作製上記紫外線吸収ガラスと市販のソーダライムガラスを用
いて、通常の方法により複層ガラスを作製した。尚、ア
ルミスペーサー、コーナーキー、ブチルゴム、乾燥剤、
ポリサルファイドはテイパ化工製のものを使用した。断
熱性に優れ、長寿命の、紫外線を完全に遮断する複層ガ
ラスが得られた。

【００２３】実施例３紫外線吸収性塗布液の製造シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３- アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３
０℃まで昇温し３時間還流し、溶液状の紫外線吸収性塗
布液を得た。紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分放置後、２００℃で２０分加熱し、厚
さ約１７μｍの紫外線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラ
スを作製した。この紫外線吸収ガラスに対して碁盤目試
験を行ったところ、５０％剥離が見られた。この紫外線
吸収ガラスの紫外可視吸収スペクトルを図２に示した。
スペクトルに示されるように４００nm以下の紫外線を完
全に遮断するガラス基板が得られた。鉛筆硬度は２Ｈだ
った。また、この紫外線吸収透明基板を沸騰アセトンで
２４時間抽出を行ったところ、重量減少はなかった。こ
のことから、紫外線吸収剤はアミノシランを介して樹脂
と結合していることがわかった。紫外線吸収複層ガラスの作製上記紫外線吸収ガラスと市販のソーダライムガラスを用
いて、通常の方法により複層ガラスを作製した。尚、ア
ルミスペーサー、コーナーキー、ブチルゴム、乾燥剤、
ポリサルファイドはテイパ化工製のものを使用した。断
熱性に優れ、長寿命の、紫外線を完全に遮断する複層ガ
ラスが得られた。

【００２４】実施例４紫外線吸収性塗布液の製造シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３
０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、３- グリシド
キシプロピルトリメトキシシランを１６ｇ添加し、紫外
線吸収性塗布液を得た。紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分放置後、２００℃で２０分加熱し、厚
さ約１７μｍの紫外線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラ
スを作製した。このガラス基板の紫外可視吸収スペクト
ルを図３に示した。また、実施例３のように碁盤目試験
での剥離は認められなかった。紫外線吸収複層ガラスの作製上記紫外線吸収ガラスと市販のソーダライムガラスを用
いて、通常の方法により複層ガラスを作製した。尚、ア
ルミスペーサー、コーナーキー、ブチルゴム、乾燥剤、
ポリサルファイドはテイパ化工製のものを使用した。断
熱性に優れ、長寿命の、紫外線を完全に遮断する複層ガ
ラスが得られた。

【００２５】実施例５紫外線吸収性塗布液の製造シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３- アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３
０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、３- グリシド
キシプロピルトリメトキシシランを１６ｇ、コロイダル
シリカ分散液（日産化学製、MIBK-ST ）を８ｇ添加し紫
外線吸収性塗布液を得た。紫外線吸収透明板の製造前記紫外線吸収性塗布液をガラス基板上にスプレー塗布
し、室温で２０分放置後、２００℃で２０分加熱し、厚
さ約１７μｍの紫外線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラ
スを作製した。鉛筆硬度は４Ｈであった。このガラス基
板の紫外可視吸収スペクトルを図４に示した。紫外線吸収複層ガラスの作製上記紫外線吸収ガラスと市販のソーダライムガラスを用
いて、通常の方法により複層ガラスを作製した。尚、ア
ルミスペーサー、コーナーキー、ブチルゴム、乾燥剤、
ポリサルファイドはテイパ化工製のものを使用した。

【００２６】実施例６エポキシシランの重合３- グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２００ｇ
をキシレン７５ｇに溶解させ、３フッ化ホウ素・ジエチ
ルエーテル錯体４ｍｌを室温で徐々に加えた後、４時間
撹拌しエポキシ基の開環重合を行った。得られたポリマ
ーの分子量はＭｗ＝３３００（ポリスチレン換算）であ
った。紫外線吸収性塗布液の製造シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３- アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン２９ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３
０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、上記エポキシ
シラン重合体溶液を２２ｇを加え紫外線吸収材料を得
た。紫外線吸収透明板の製造前記溶液状の紫外線吸収材料をコーテング液として、こ
れをガラス基板上にスプレー塗布し、室温で２０分放置
後、１５０℃で３０分加熱し、厚さ約１５μｍの紫外線
吸収層のついたガラス基板を作製した。鉛筆硬度は６Ｈ
であった。このガラス基板の紫外可視吸収スペクトルを
図５に示した。紫外線吸収複層ガラスの作製上記紫外線吸収ガラスと市販のソーダライムガラスを用
いて、通常の方法により複層ガラスを作製した。尚、ア
ルミスペーサー、コーナーキー、ブチルゴム、乾燥剤、
ポリサルファイドはテイパ化工製のものを使用した。

【００２７】実施例７紫外線吸収塗布液の製造３- アミノプロピルトリエトキシシラン３ｇと実施例６
のエポキシシラン重合体溶液１１ｇをキシレン３２ｇに
溶解し、８０℃に加熱しながら化合物Ｉ５ｇを徐々に添
加した。添加終了後、１３０℃まで昇温し３時間還流
し、紫外線吸収材料を得た。紫外線吸収透明板の製造前記溶液状の紫外線吸収材料をコーテング液として、こ
れをガラス基板上にスプレー塗布し、室温で２０分放置
後、１５０℃で３０分加熱し、厚さ約１５μｍの紫外線
吸収層のついたガラス基板を作製した。鉛筆硬度は５Ｈ
であった。このガラス基板の紫外可視吸収スペクトルを
図６に示した。紫外線吸収複層ガラスの作製上記紫外線吸収ガラスと市販のソーダライムガラスを用
いて、通常の方法により複層ガラスを作製した。尚、ア
ルミスペーサー、コーナーキー、ブチルゴム、乾燥剤、
ポリサルファイドはテイパ化工製のものを使用した。紫外線吸収合わせガラスの作製上記紫外線吸収ガラスと市販のソーダライムガラスを用
いて、通常の方法により合わせガラスを作製した。断熱
性に優れ、長寿命の、紫外線を完全に遮断する複層ガラ
スが得られた。

【００２８】比較例１シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）２２．２ｇに、３ー（５ークロロー２Ｈーベンゾ
トリアゾールー２ーイル）ー５ー（１, １ージメチルエ
チル）ー４ーヒドロキシーベンゼンプロパン酸オクチル
エステル（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、商標名、Ｃｉｂａ
−Ｇｅｉｇｙ社製）１０ｇを加え、さらにジ- ｎーブチ
ルスズジラウレート２０μｌを添加し、ＤＭＦ２０ｍｌ
で希釈した後、ガラス基板上にスプレー塗布した。ホッ
トプレート上６０℃で１５分乾燥した後、オーブンに入
れ２００℃で１時間加熱硬化し、厚さ約２０μｍの紫外
線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラスを得た。しかしこ
の紫外線吸収ガラスは吸収剤の析出により白濁してしま
った。

【００２９】比較例２シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）２２．２ｇに、３ー（５ークロロー２Ｈーベンゾ
トリアゾールー２ーイル）ー５ー（１, １ージメチルエ
チル）ー４ーヒドロキシーベンゼンプロパン酸オクチル
エステル（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、商標名、Ｃｉｂａ
−Ｇｅｉｇｙ社製）２．２ｇを加え、さらにジ- ｎーブ
チルスズジラウレート２０μｌを添加し、ＤＭＦ２０ｍ
ｌで希釈した後、ガラス基板上にスプレー塗布した。ホ
ットプレート上６０℃で１５分乾燥した後、オーブンに
入れ２００℃で１時間加熱硬化し、厚さ約１５μｍの紫
外線吸収被膜を有する紫外線吸収ガラスを得た。この紫
外線吸収ガラスは比較例１のように白濁しなかったが、
紫外線カット能は図７の透過率スペクトルに示したよう
に不十分なものであった。また作製した紫外線吸収ガラ
スを用いて実施例３と同様に沸騰アセトンで抽出を行っ
たところ、４８％の重量減少が観察され、紫外線吸収能
も大幅に低下した。このことから大部分の紫外線吸収剤
が溶出していることが分かった。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で作製した紫外線吸収透明板の紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図２】実施例３で作製した紫外線吸収透明板の紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図３】実施例４で作製した紫外線吸収透明板の紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図４】実施例５で作製した紫外線吸収透明板の紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図５】実施例６で作製した紫外線吸収透明板の紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図６】実施例７で作製した紫外線吸収透明板の紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

【図７】比較例２で作製した紫外線吸収透明板の紫外可
視吸収スペクトルを示すグラフである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者錦谷禎範横浜市中区千鳥町８番地日本石油株式会社中央技術研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】２枚以上の透明基板を積層した複層板で
あって、該透明基板の少なくとも１枚は紫外線吸収透明
板であり、該紫外線吸収透明板が、少なくとも、透明基
板および該基板上に形成された紫外線吸収層を備え、該紫外線吸収層が、少なくとも、（ａ）一般式（１）に示されるアミノシラン化合物また
はその誘導体と、【化１】（式中、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキレン基、または
一般式−（ＣＨ₂）_m−ＮＨ−［ｍは１≦ｍ≦４の整
数］で表される２価の基を示し、各々のＲ²は同一若し
くは異なる基であって、水素原子、水酸基、ハロゲン原
子、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０の
アルコキシ基を示す。但し全てのＲ²のうち少なくとも
一つはアルコキシ基を示す。ｎはｎ≧０の整数を示
す。）（ｂ）分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤と
を反応させ、前記アミノシラン化合物又はその誘導体に
由来するアミド結合を生成せしめた成分を、透明基板の
上に塗布、硬化することによって作製されたことを特徴
とする紫外線吸収複層板。