JPH10259188A - アリールハロゲンシランの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アリールハロゲンシランの製造方法を提供す
ること。 【解決手段】 一般式（１） （式中、 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は水素、炭化水素
基、ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ基等を示
す。Ｙは塩素、臭素、沃素を示す。）で示されるハロゲ
ン化アリール化合物を有機アルカリ金属化合物と混合し
た後、ジハロゲン化シランを反応させる際に、ハロゲン
化シラン存在下に反応させる一般式（４）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、重合触媒等の中間
体として有用なアリールハロゲンシランの製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】アリールハロゲンシランの製造方法とし
ては、ハロゲン化アリール化合物を有機アルカリ金属化
合物と反応させて、相当するアリール化合物の金属塩に
変換し、続いてジハロゲン化シランを反応させる方法が
知られている。この際、アリール化合物の金属塩は不安
定なため、通常は該化合物を単離することなく、反応混
合物のままジハロゲン化シランと反応させて目的のアリ
ールハロゲンシランを得ている。しかしながら、反応混
合物中に残存している有機アルカリ金属化合物が一旦生
成したアリールハロゲンシランと反応するため、アリー
ルハロゲンシランの収率および純度が低下するという問
題点があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ハロゲン化
アリール化合物を有機アルカリ金属化合物と反応させ
て、相当するアリール化合物の金属塩に変換した反応混
合物から該金属塩を単離することなく、ジハロゲン化シ
ランを反応させてアリールハロゲンシランを有利に製造
する方法を提供することを目的とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
達成するために、鋭意検討した結果、ハロゲン化シラン
を存在させることにより上記目的を達成することを見出
し、本発明を完成させるに至った。

【０００５】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式（１） （式中、 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に
水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン
原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数
６〜２０のアリールオキシ基、または炭素原子数２〜２
０の炭化水素２置換アミノ基を示す。またＲ¹、Ｒ²、Ｒ
³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は任意に結合して環を形成していてもよ
い。 Ｙは塩素原子、臭素原子、または沃素原子を示
す。）で示されるハロゲン化アリール化合物を有機アル
カリ金属化合物と混合した後、一般式（２） （式中、 Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ独立に塩素原子、臭素原
子、または沃素原子を示し、 Ｒ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ独立
に炭素原子数１〜２０の炭化水素基を示す。）で示され
るジハロゲン化シランを反応させる際に、一般式（３） Ｒ⁸Ｙ³ （３） （式中、Ｒ⁸は３置換シリル基を示し、Ｙ³は塩素原子、
臭素原子、または沃素原子を示す。）で示されるハロゲ
ン化シラン存在下に反応させることを特徴とする一般式
（４） （式中、 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｙ¹は
前記と同じ意味を示す。）で示されるアリールハロゲン
シランの製造方法を提供するものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下本発明について説明する。本
発明に用いる一般式（１）で示されるハロゲン化アリー
ル化合物において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵における
炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、例えばメチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキ
シル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル
基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基、ビニル
基、アリル基、ホモアリル基、ベンジル基、（２−メチ
ルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル
基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメ
チルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニ
ル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル
基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４
−ジメチルフェニル）メチル基、（４，６−ジメチルフ
ェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メ
チル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル
基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、
（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，
３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペン
タメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロ
ピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニ
ル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、
（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフ
ェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、
（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ−テトラデシ
ルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセ
ニルメチル基、フェニル基、２−トリル基、３−トリル
基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシ
リル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、
３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４
−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェ
ニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，
６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフ
ェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、
２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，
５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニ
ル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イ
ソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ
−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ
−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−
ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デ
シルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラ
デシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基など
が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、ビニル基、ア
リル基、ベンジル基、フェニル基、ナフチル基などが挙
げられる。

【０００７】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵におけるハロゲ
ン原子としては、Ｙよりも低原子量のハロゲン原子を示
し、Ｙが塩素原子の場合は、フッ素原子、 Ｙが臭素原
子の場合は、フッ素原子、塩素原子、 Ｙが沃素原子の
場合は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられ
る。

【０００８】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵における炭素原
子数１〜２０のアルコキシ基としては、例えばメトキシ
基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−
ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ
−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ
基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−エイコソキシ基、ビニ
ルオキシ基、アリルオキシ基、ホモアリルオキシ基、ベ
ンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、
（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェ
ニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メト
キシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、
（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフ
ェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メ
トキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキ
シ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ
基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ
基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキ
シ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メト
キシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチ
ルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メ
トキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ
−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェ
ニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メト
キシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−
オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニ
ル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキ
シ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基
などが挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、
イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ビニルオキ
シ基、アリルオキシ基、ベンジルオキシ基などが挙げら
れる。

【０００９】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵における炭素原
子数６〜２０のアリールオキシ基としては、例えばフェ
ノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノ
キシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフ
ェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−
ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ
基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチル
フェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、
２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−ト
リメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノ
キシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，
４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テ
トラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチ
ルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノ
キシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ
基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキ
シ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノ
キシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシル
フェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシル
フェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフト
キシ基、アントラセノキシ基などが挙げられ、好ましく
はフェノキシ基、ナフトキシ基などが挙げられる。

【００１０】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵における炭素原
子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基とは、２つの炭
化水素基で置換されたアミノ基であって、ここで炭化水
素基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子
数１〜１９のアルキル基、フェニル基などのアリール基
などが挙げられる。かかる炭素原子数２〜２０の炭化水
素２置換アミノ基としては、例えばジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソ
プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅ
ｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、
ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピ
ルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オク
チルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルア
ミノ基などが挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基が挙げられる。

【００１１】また置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は任
意に結合して環を形成していてもよい。

【００１２】Ｙは塩素原子、臭素原子、または沃素原子
を示す。

【００１３】かかるハロゲン化アリール化合物（１）と
しては、例えばクロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヨー
ドベンゼン、クロロトルエン、ブロモトルエン、ヨード
トルエン、クロロエチルベンゼン、ブロモエチルベンゼ
ン、エチルヨードベンゼン、クロロイソプロピルベンゼ
ン、ブロモイソプロピルベンゼン、ヨードイソプロピル
ベンゼン、tert-ブチルクロロベンゼン、ブロモ- tert
-ブチルベンゼン、 tert-ブチルヨードベンゼン、アミ
ルクロロベンゼン、アミルブロモベンゼン、アミルヨー
ドベンゼン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ヨード
スチレン、アリルクロロベンゼン、アリルブロモベンゼ
ン、アリルヨードベンゼン、ベンジルクロロベンゼン、
ベンジルブロモベンゼン、ベンジルヨードベンゼン、ク
ロロビフェニル、ブロモビフェニル、ヨードビフェニ
ル、クロロフェニルナフタレン、ブロモフェニルナフタ
レン、ヨードフェニルナフタレン、クロロフルオロベン
ゼン、ブロモフルオロベンゼン、ブロモクロロベンゼ
ン、フルオロヨードベンゼン、クロロヨードベンゼン、
ブロモヨードベンゼン、クロロメトキシベンゼン、ブロ
モメトキシベンゼン、ヨードメトキシベンゼン、クロロ
エトキシベンゼン、ブロモエトキシベンゼン、エトキシ
ヨードベンゼン、クロロイソプロポキシベンゼン、ブロ
モイソプロポキシベンゼン、イソプロポキシヨードベン
ゼン、 tert-ブトキシクロロベンゼン、ブロモ- tert
-ブトキシベンゼン、 tert-ブトキシヨードベンゼン、
クロロビニルオキシベンゼン、ブロモビニルオキシベン
ゼン、ヨードビニルオキシベンゼン、アリルオキシクロ
ロベンゼン、アリルオキシブロモベンゼン、アリルオキ
シヨードベンゼン、ベンジルオキシクロロベンゼン、ベ
ンジルオキシブロモベンゼン、ベンジルオキシヨードベ
ンゼン、クロロフェノキシベンゼン、ブロモフェノキシ
ベンゼン、ヨードフェノキシベンゼン、クロロナフトキ
シベンゼン、ブロモナフトキシベンゼン、ヨードナフト
キシベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルクロロアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルブロモアニリン、 Ｎ，Ｎ−ジメチル
ヨードアニリン、 Ｎ，Ｎ−ジエチルクロロアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルブロモアニリン、 Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルヨードアニリン、クロロイソプロピルメトキシベンゼ
ン、ブロモイソプロピルブチルメトキシベンゼン、ヨー
ドイソプロピルメトキシベンゼン、クロロイソプロピル
メトキシトルエン、ブロモイソプロピルメトキシトルエ
ン、ヨードイソプロピルメトキシトルエン、tert-ブチ
ルクロロメトキシベンゼン、ブロモ- tert-ブチルメト
キシベンゼン、 tert-ブチルヨードメトキシベンゼ
ン、 tert-ブチルクロロメトキシトルエン、ブロモ-te
rt-ブチルメトキシトルエン、 tert-ブチルヨードメト
キシトルエン、アリルオキシクロロイソプロピルベンゼ
ン、アリルオキシブロモイソプロピルブチルベンゼン、
アリルオキシヨードイソプロピルベンゼン、アリルオキ
シクロロイソプロピルトルエン、アリルオキシブロモイ
ソプロピルトルエン、アリルオキシヨードイソプロピル
トルエン、アリルオキシ-tert-ブチルクロロベンゼン、
アリルオキシブロモ- tert-ブチルベンゼン、 アリル
オキシ-tert-ブチルヨードベンゼン、 アリルオキシ-t
ert-ブチルクロロトルエン、アリルオキシブロモ- ter
t-ブチルトルエン、 アリルオキシ-tert-ブチルヨード
トルエンなどが挙げられ、好ましくはクロロイソプロピ
ルメトキシベンゼン、ブロモイソプロピルブチルメトキ
シベンゼン、ヨードイソプロピルメトキシベンゼン、ク
ロロイソプロピルメトキシトルエン、ブロモイソプロピ
ルメトキシトルエン、ヨードイソプロピルメトキシトル
エン、tert-ブチルクロロメトキシベンゼン、ブロモ-
tert-ブチルメトキシベンゼン、 tert-ブチルヨードメ
トキシベンゼン、 tert-ブチルクロロメトキシトルエ
ン、ブロモ- tert-ブチルメトキシトルエン、 tert-
ブチルヨードメトキシトルエン、アリルオキシクロロイ
ソプロピルベンゼン、アリルオキシブロモイソプロピル
ブチルベンゼン、アリルオキシヨードイソプロピルベン
ゼン、アリルオキシクロロイソプロピルトルエン、アリ
ルオキシブロモイソプロピルトルエン、アリルオキシヨ
ードイソプロピルトルエン、アリルオキシ-tert-ブチル
クロロベンゼン、アリルオキシブロモ- tert-ブチルベ
ンゼン、 アリルオキシ-tert-ブチルヨードベンゼン、
アリルオキシ-tert-ブチルクロロトルエン、アリルオ
キシブロモ- tert-ブチルトルエン、 アリルオキシ-t
ert-ブチルヨードトルエンが挙げられ、より好ましくは
アリルオキシクロロイソプロピルベンゼン、アリルオキ
シブロモイソプロピルブチルベンゼン、アリルオキシヨ
ードイソプロピルベンゼン、アリルオキシクロロイソプ
ロピルトルエン、アリルオキシブロモイソプロピルトル
エン、アリルオキシヨードイソプロピルトルエン、アリ
ルオキシ-tert-ブチルクロロベンゼン、アリルオキシブ
ロモ- tert-ブチルベンゼン、 アリルオキシ-tert-ブ
チルヨードベンゼン、 アリルオキシ-tert-ブチルクロ
ロトルエン、アリルオキシブロモ- tert-ブチルトルエ
ン、 アリルオキシ-tert-ブチルヨードトルエンが挙げ
られる。

【００１４】ジハロゲン化シラン（２）において、 Ｙ
¹、Ｙ²はそれぞれ独立に塩素原子、臭素原子、または沃
素原子を示す。

【００１５】Ｒ⁶、Ｒ⁷における炭素原子数１〜２０の炭
化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペ
ンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル
基、ｎ−エイコシル基、ビニル基、アリル基、ホモアリ
ル基、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、
（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニ
ル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル
基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５
−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフ
ェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチ
ル基、（４，６−ジメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５
−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリ
メチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチル
フェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニ
ル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、
（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニ
ル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、
（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフ
ェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペン
チルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メ
チル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デ
シルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチ
ルメチル基、アントラセニルメチル基、フェニル基、２
−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キ
シリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、
２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キ
シリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，
３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチ
ルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、
３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−
テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチ
ルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル
基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−
プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブ
チルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペ
ンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オク
チルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシル
フェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル
基、アントラセニル基などが挙げられ、好ましくはメチ
ル基、エチル基、 ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ベンジル基、フェニル基などが挙げられる。

【００１６】かかるジハロゲン化シラン（２）として
は、ジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラ
ン、ジクロロジ−ｎ−プロピルシラン、ジクロロジイソ
プロピルシラン、ジアリルジクロロシラン、ジクロロジ
ビニルシラン、ジベンジルジクロロシラン、ジクロロジ
フェニルシラン、ジクロロメチルフェニルシラン、ジブ
ロモジメチルシラン、ジヨードジメチルシランなどが例
示される。

【００１７】ジハロゲン化シラン（２）の使用量はハロ
ゲン化アリール化合物（１）に対して通常０．５〜５０
モル倍、好ましくは０．９〜５モル倍の範囲である。

【００１８】有機アルカリ金属化合物としてはメチルリ
チウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ
−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどの有
機リチウム化合物などが例示される。有機アルカリ金属
化合物の使用量はハロゲン化アリール化合物（１）に対
して通常０．５〜５モル倍であり、好ましくは０．９〜
３モル倍の範囲である。

【００１９】ハロゲン化シラン（３）において、Ｒ⁸に
おける炭化水素３置換シリル基としては、例えばトリメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピ
ルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブ
チルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−
ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリイソブチルシリル基、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチ
ルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロ
ヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げら
れ、好ましくはトリメチルシリル基が挙げられる。

【００２０】Ｙ³は塩素原子、臭素原子、または沃素原
子を示し、好ましくは塩素原子が挙げられる。

【００２１】かかるハロゲン化シラン（３）としては、
例えばクロロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラ
ン、クロロトリ−ｎ−プロピルシラン、クロロトリイソ
プロピルシラン、クロロトリ−ｎ−ブチルシラン、クロ
ロトリ−ｓｅｃ−ブチルシラン、クロロトリ−ｔｅｒｔ
−ブチルシラン、クロロトリイソブチルシラン、ｔｅｒ
ｔ−ブチルクロロジメチルシラン、クロロトリ−ｎ−ペ
ンチルシラン、クロロトリ−ｎ−ヘキシルシラン、クロ
ロトリシクロヘキシルシランおよび上記各化合物のクロ
ロをブロモ、ヨードに変更した化合物などが挙げられ、
好ましくはクロロトリメチルシランが挙げられる。その
使用量は有機アルカリ金属化合物に対して通常０．０１
〜１モル倍、好ましくは０．１〜０．５モル倍の範囲で
ある。

【００２２】本発明の製造方法は、通常、ハロゲン化ア
リール化合物（１）を有機アルカリ金属化合物と反応さ
せて、相当するアリール化合物の金属塩に変換した反応
混合物にハロゲン化シラン（３）をまず仕込み、続いて
ジハロゲン化シラン（２）を反応させることによって行
われるが、化合物（３）と（２）を併注してもよい。反
応温度は通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好まし
くは−８０〜４０℃、より好ましくは−３０〜０℃の範
囲である。

【００２３】反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中
で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族
炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチル
エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンな
どのエーテル系溶媒、 ジメチルホルミアミド、ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチル
ホスホリックアミドなどのアミド系溶媒などが挙げら
れ、好ましくはトルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン、ｔ−ブチルメチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、より好ましくはトルエン、キシレンが
挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種
以上を混合して用いられ、その使用量はハロゲン化アリ
ール化合物（１）に対して通常１〜２００重量倍、好ま
しくは３〜３０重量倍の範囲である。

【００２４】得られた反応混合物をろ過し、ろ液を濃縮
すればアリールハロゲンシラン（４）が得られるが、さ
らに再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフ処理などの方
法によって精製することもできる。

【００２５】

【発明の効果】本発明によれば、アリールハロゲンシラ
ン（４）を選択性良く製造することができる。

【００２６】

【実施例】以下、実施例及び比較例によって本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【００２７】実施例１ ｎ−ブチルリチウムの１５％ヘキサン溶液６．６２ｇに
４−アリロキシ−３−ブロモ−５−tert−ブチルトルエ
ン２．８３ｇをヘキサン１１．２ｇに溶解させた溶液を
−１４℃で２時間かけて滴下し、同温度でさらに２５分
攪拌した。次いで、クロロトリメチルシラン０．４６６
ｇを１５分間で滴下し、２０分間攪拌後、ジクロロジメ
チルシラン５．８１ｇを−１３℃で２時間滴下し、同温
度で３．５時間攪拌後、２０℃まで昇温させた。反応混
合物をろ過したろ液を濃縮後、残渣にヘキサン１０ｍｌ
を加えてろ過し、得られたろ液を濃縮し、薄黄色オイル
を得た。該オイルのＧＣ−ＩＳ分析により、（２−アリ
ロキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）クロ
ロジメチルシランが収率８５．９％生成していた。ま
た、ｎ−ブチルリチウムと反応した（２−アリロキシ−
３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）ブチルジメチ
ルシランは（２−アリロキシ−３−tert−ブチル−５−
メチルフェニル）クロロジメチルシランに対して２．５
％（ＧＣ面積百分値）副生しているのみであった。

【００２８】実施例２ ｎ−ブチルリチウムの１５％ヘキサン溶液を５．５７
ｇ、４−アリロキシ−３−ブロモ−５−tert−ブチルト
ルエンを２．８４ｇ、ヘキサンの代わりにトルエンを１
１．３ｇ、クロロトリメチルシランを０．６１１ｇ、ジ
クロロジメチルシランを５．９３ｇ使用し、ジクロロジ
メチルシランを３時間かけて滴下する以外は実施例１と
同様の操作を行った。（２−アリロキシ−３−tert−ブ
チル−５−メチルフェニル）クロロジメチルシランの収
率は８８．２％、ｎ−ブチルリチウムと反応した（２−
アリロキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）
ブチルジメチルシランの（２−アリロキシ−３−tert−
ブチル−５−メチルフェニル）クロロジメチルシランに
対するＧＣ面積百分値は４．２％であった。

【００２９】比較例１ ｎ−ブチルリチウムの１５％ヘキサン溶液を９０．７
ｇ、４−アリロキシ−３−ブロモ−５−tert−ブチルト
ルエンを４０．０ｇ、ヘキサンを１６０ｇ、ジクロロジ
メチルシランを７７ｇ使用し、クロロトリメチルシラン
は使用せず、４−アリロキシ−３−ブロモ−５−tert−
ブチルトルエンのヘキサン溶液を１時間、ジクロロジメ
チルシランを３時間かけて滴下する以外は実施例１と同
様の操作を行った。（２−アリロキシ−３−tert−ブチ
ル−５−メチルフェニル）クロロジメチルシランの収率
は７５．６％、ｎ−ブチルリチウムと反応した（２−ア
リロキシ−３−tert−ブチル−５−メチルフェニル）ブ
チルジメチルシランの（２−アリロキシ−３−tert−ブ
チル−５−メチルフェニル）クロロジメチルシランに対
するＧＣ面積百分値は１５％であった。

【００３０】実施例３ ｎ−ブチルリチウムの１５％ヘキサン溶液６．６２ｇに
３−ブロモ−５−tert−ブチル−４−メトキシトルエン
２．５７ｇをヘキサン１０．２ｇに溶解させた溶液を−
１５℃で１時間かけて滴下し、クロロトリメチルシラン
０．４６６ｇとジクロロジメチルシラン５．８１ｇの混
合物を同温度で１時間滴下し、同温度で３．５時間攪拌
後、２０℃まで昇温させた。反応混合物をろ過したろ液
を濃縮後、残さにヘキサン１０ｍｌを加えてろ過しして
得られたろ液を濃縮し、薄黄色オイルを得た。該オイル
のＧＣ−ＩＳ分析により、（３−tert−ブチル−２−メ
トキシ−５−メチルフェニル）クロロジメチルシランが
収率９０．１％生成していた。また、ｎ−ブチルリチウ
ムと反応した（３−tert−ブチル−２−メトキシ−５−
メチルフェニル）ブチルジメチルシランは（３−tert−
ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）クロロジ
メチルシランに対して１．０％（ＧＣ面積百分値）副生
しているのみであった。

【００３１】実施例４ ｎ−ブチルリチウムの１５％ヘキサン溶液６．６２ｇに
４−ブロモトルエン１．７１ｇをヘキサン８．６ｇに溶
解させた溶液を−１０℃で１時間かけて滴下し、次いで
クロロトリメチルシラン０．４６６ｇを１５分、ジクロ
ロジメチルシラン５．０６ｇを１時間かけて滴下し、−
１０℃で３．５時間攪拌後、２０℃まで昇温させた。反
応混合物をろ過したろ液を濃縮後、残渣にヘキサン１０
ｍｌを加えてろ過して得られたろ液を濃縮し、薄黄色オ
イルを得た。該オイルのＧＣ−ＩＳ分析により、クロロ
ジフェニル−ｐ−トリルシランが収率８７．５％生成し
ていた。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） （式中、 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵はそれぞれ独立に
   水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン
   原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数
   ６〜２０のアリールオキシ基、または炭素原子数２〜２
   ０の炭化水素２置換アミノ基を示す。またＲ¹、Ｒ²、Ｒ
   ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は任意に結合して環を形成していてもよ
   い。 Ｙは塩素原子、臭素原子、または沃素原子を示
   す。）で示されるハロゲン化アリール化合物を有機アル
   カリ金属化合物と混合した後、一般式（２） （式中、 Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ独立に塩素原子、臭素原
   子、または沃素原子を示し、 Ｒ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ独立
   に炭素原子数１〜２０の炭化水素基を示す。）で示され
   るジハロゲン化シランを反応させる際に、一般式（３） Ｒ⁸Ｙ³ （３） （式中、Ｒ⁸は３置換シリル基を示し、Ｙ³は塩素原子、
   臭素原子、または沃素原子を示す。）で示されるハロゲ
   ン化シラン存在下に反応させることを特徴とする一般式
   （４） （式中、 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｙ¹は
   前記と同じ意味を示す。）で示されるアリールハロゲン
   シランの製造方法。
2. 【請求項２】一般式（１）で示されるハロゲン化アリー
   ル化合物を有機アルカリ金属化合物と混合した後、一般
   式（３）で示されるハロゲン化シランを加え、次いで一
   般式（２）で示されるジハロゲン化シランを反応させる
   請求項１記載のアリールハロゲンシランの製造方法。
3. 【請求項３】一般式（３）で示されるハロゲン化シラン
   の使用量が、有機アルカリ金属化合物に対し０．１〜
   ０．５モル倍である請求項１または２記載のアリールハ
   ロゲンシランの製造方法。
4. 【請求項４】ハロゲン化シランがクロロトリメチルシラ
   ンである請求項１〜３のいずれかに記載のアリールハロ
   ゲンシランの製造方法。
5. 【請求項５】一般式（１）におけるＲ⁵が、炭素原子数
   １〜２０のアルコキシ基である請求項１〜４のいずれか
   に記載のアリールハロゲンシランの製造方法。