JP2005162637A - ホスフィン化合物および製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 重合用触媒となりうる中間体を提供すること。
【解決手段】式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７およびＲ^８は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基等、Ｒ^９は、水素原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を示す。）で示されるホスフィンカルボニル化合物。
【選択図】 なし

Description

本発明はホスフィン化合物および製造方法に関する。

ホスフィン化合物は、遷移金属化合物の配位子として有用であり、炭素−炭素形成反応などの種々触媒反応に用いられている。この中には、官能基を有する化合物も含まれており二座配位あるいは多座配位することで中心金属原子周辺の環境を精密に制御できると考えられている。これらの触媒機能を支配する重要な成分は配位子に依存しており、さらなる開発が望まれている。官能基変換が可能なカルボニル基を有するホスフィン化合物を容易に合成することができれば、当分野の発展に寄与するものと考えられる。

本発明は、官能基変換が容易な合成中間体として有用なホスフィンカルボニル化合物およびその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは上記の目的を達成するために、鋭意研究を続けてきた。その結果、変換容易な新規なホスフィンカルボニル化合物およびその製造方法を見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明は式（１）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７およびＲ^８は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基を示し、Ｒ^９は、水素原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を示す。）
で示されるホスフィンカルボニル化合物、式（２）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、前記と同じ意味を表し、Ｒ^１０は、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基または置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を示す。ただしＲ^１０はメチル基ではない。）
で示されるカルボニル化合物、式（３）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９およびＲ^１０は、前記と同じ意味を表し、Ｒ^１１およびＲ^１２は同一または相異なり、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基または置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を示し、またＲ^１１とＲ^１２は互いに結合して環を形成していてもよい。）
で示されるトリアリールホスフィン化合物、およびこれらの製造方法を提供するものである。

本発明により、金属化合物の配位子や官能基変換容易な合成中間体として有用なホスフィンカルボニル化合物を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
式（１）、（２）および（３）で示される化合物において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８における、ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子である。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８における置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基が例示され、さらにこれらがハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換された置換基が例示され、置換されたアルキル基の具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリクロロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、トリメチルシリルメチル基などが例示される。これらのうち、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の好ましいものとして、メチル基、エチル基、イソプロピル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基等が例示され、さらに好ましくはメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメチル基等が例示され、さらに例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素基で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、
（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としてはベンジル基が例示される。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
これらは、さらに例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の具体例としては、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基などが例示される。好ましい置換されていてもよいアリール基としては、フェニル基が例示される。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８における炭素原子数１〜１０のアルコキシル基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基が例示される。これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示される。
置換されたアルコキシル基の具体例としては、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フルオロエトキシ基、ジフルオロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロプロポキシ基、パーフルオロブチルオキシ基、パーフルオロペンチルオキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、パーフルオロデシルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、メトキシメトキシ基、フェノキシメトキシ基、ジメチルアミノメトキシ基、トリメチルシリルメトキシ基などが例示される。好ましい置換されていてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、 ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が例示される。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８における置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基とは炭素数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基であって、ここでの炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などの炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。かかる炭素数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基としては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの１置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの２置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリ−イソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの３置換シリル基等が挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基、 ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基が挙げられる。これらの置換シリル基はいずれもがその炭化水素基がハロゲン原子、例えば、フッ素原子で置換されたものも例示される。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８におけるとしては、ベンジルオキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基が例示され、
これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の具体例としては、例えば、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ペンチルフェニル）メトキシ基、（ネオペンチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ドデシルフェニル）メトキシ基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としてはベンジルオキシ基が例示される。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基が挙げられる。
これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、
２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基２−フルオロフェノキシ基、３−フルオロフェノキシ基、４−フルオロフェノキシ基、３，５−ジフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−フェノキシフェノキシ基、４−ジメチルアミノフェノキシ基、４−トリメチルシリルフェノキシ基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基が例示される。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７またはＲ^８における置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基において、ここでの炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などの炭素原子数６〜２０のアリール基、またはピロール基等が挙げられる。かかる炭素数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、 ｔｅｒｔ −ブチルイソプロピルアミノ基、 ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロール基等が挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロール基が挙げられる。

式（１）、（２）または（３）で示される化合物においてＲ^９における置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基が例示され、さらにこれらがハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換された置換基が例示され、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリクロロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、トリメチルシリルメチル基などが例示される。これらのうち、メチル基、エチル基、イソプロピル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基等が好ましいものとして例示され、さらに好ましくはメチル基が挙げられる。

Ｒ^９における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメチル基等が例示され、これらはさらに、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基の具体例としては、
（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、
（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、
（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示され、好ましくは、ベンジル基が例示される。

Ｒ^９におけるとしては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
これらは、さらに例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の具体例としては、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基などが例示され、好ましくは、フェニル基が例示される。

式（２）、（３）で示される化合物においてＲ^１０における置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基が例示され、さらにこれらの置換基がハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換された置換基が例示され、その具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリクロロメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、トリメチルシリルメチル基などが例示される。これらのうち、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、トリメチルシリルエトキシメチル基、１−エトキシエチル基等が好ましいものとして例示され、さらに好ましくはメトキシメチル基、エトキシメチル基である。

Ｒ^１０における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメチル基等が例示され、これらは、さらに例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基の具体例としては、例えば、
（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示され、より好ましくは、ベンジル基が例示される。

Ｒ^１０における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
これらはさらに、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の具体例としては、例えば、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基などが例示され、より好ましくは、フェニル基が例示される。

式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物において、Ｒ^１１およびＲ^１２における置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基が例示され、さらにこれらがハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換された置換基が例示され、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリクロロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、トリメチルシリルメチル基などが例示され、これらのうち、メチル基、エチル基、イソプロピル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基等が好ましいものとして例示され、さらに好ましくはメチル基が挙げられる。

Ｒ^１１およびＲ^１２における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメチル基等が例示され、これらはさらに、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基の具体例としては、例えば、
（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示され、好ましくはベンジル基が例示される。

Ｒ^１１およびＲ^１２における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
これらはさらに、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の具体例としては、例えば、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基などが例示され、好ましくは、フェニル基が例示される。

また、Ｒ^１２とＲ^１３は、互いに結合して環を形成していてもよい。

式（１）で示されるホスフィンカルボニル化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。

式（２）で示されるカルボニル化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。

式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物の具体例は、以下に示す化合物が挙げられる。

かかるホスフィンカルボニル化合物（１）は、式（２）で示されるカルボニル化合物と酸とを反応させることにより製造することができる。式（２）で示されるカルボニル化合物、酸の反応モル比は特に限定されないが、１：０．００１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．１から１：５
の範囲である。

上記反応における酸としては、例えば、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、硫酸、硝酸などのブレンステッド酸などが挙げられ、好ましくは塩化水素が挙げられる。

上記反応で用いられる塩化水素は、塩化水素ガスを用いてもよいし、酸クロライドとアルコールにより系中で発生させてもよい。

上記反応は通常、有機溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチルなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのプロトン性溶媒などが挙げられる。好ましくは非プロトン性溶媒が挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２）で示されるカルボニル化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

上記反応温度は通常−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃程度の範囲である。

得られた反応混合物から通常の方法、例えば溶媒を留去するなどの手法により、式（１）で示されるホスフィンカルボニル化合物を取得することができる。また必要に応じて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどの方法により精製できる。

式（２）で示されるカルボニル化合物は、前記式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物と酸とを反応させることにより製造することができる。式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物、酸の反応モル比は特に限定されないが、１：０．００１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．１から１：５の範囲である。

上記反応における酸とは、酢酸、シュウ酸、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、硫酸、硝酸などのブレンステッド酸などが挙げられ、好ましくは硫酸が挙げられる。

上記反応は通常、有機溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチルなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのプロトン性溶媒などが挙げられる。好ましくは非プロトン性溶媒が挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

上記反応温度は通常−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃程度の範囲である。

得られた反応混合物から通常の方法、例えば溶媒を留去するなどの手法により、式（２）で示されるカルボニル化合物を取得することができる。また必要に応じて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなどの方法により精製できる。

かかる式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物は、式（４）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^１０は、前記と同じ意味を表し、Ｘ^１はハロゲン原子を表す。）
で示されるホスフィンハライドと式（５）

（式中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１１およびＲ^１２は、前記と同じ意味を表し、Ｘ²はハロゲン原子を示し、Ｍアルカリ金属またはアルカリ土類金属を示し、ｎは０または１を示す。）
で示される金属アリールとを反応させることにより製造することができる。
式（４）で示されるホスフィンハライド、式（５）で示される金属アリールの反応モル比は特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：５の範囲である。

反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（５）で示される金属アリールに対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

本反応は通常、式（５）で示される金属アリールに式（４）で示されるホスフィンハライドを加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。

得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物を得ることができる。

式（４）、式（５）において、Ｘ^１またはＸ²のハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。

式（５）で示されるＭにおけるアルカリ金属の具体例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムなどが挙げられ、好ましくはリチウムが挙げられる。

式（５）で示されるＭにおけるアルカリ土類金属の具体例としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどが挙げられ、好ましくはマグネシウムが挙げられる。

また、式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物は式（６）

（式中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＸ^１は、前記と同じ意味を示す。）
で示されるホスフィンジハライドと式（７）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^１０、Ｘ²、Ｍ、ｎは、前記と同じ意味を示す。）
で示される金属アリール化合物とを反応させることにより製造することができる。
式（６）で示されるホスフィンジハライド、式（７）で示される金属アリール化合物の反応モル比は特に限定されないが、１：１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：１．５から１：５の範囲である。

反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（７）で示される金属アリール化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

本反応は通常、式（７）で示される金属アリール化合物に式（６）で示されるホスフィンジハライドを加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。

得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物を得ることができる。

式（４）で示されるホスフィンハライドは、式
Ｐ（Ｘ^１）_３
（Ｘ^１は前記と同じ意味を表す。）
で示されるホスフィントリハライドと式（７）で示される金属アリール化合物との反応により製造される。ホスフィントリハライド、式（７）で示される金属アリール化合物の反応モル比は特に限定されないが、１：１から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：１．５から１：２．５の範囲である。

かかるホスフィントリハライドは例えば三塩化リン、三臭化リン、三ヨウ化リンなどが挙げられ、好ましくは三塩化リンが挙げられる。

反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（７）で示される金属アリール化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

本反応は通常、ホスフィントリハライドに式（７）で示される金属アリール化合物を加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。

得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（４）で示されるホスフィンハライドを得ることができる。

式（５）で示される金属アリールは、式（８）

（式中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１１およびＲ^１２は、前記と同じ意味を表し、Ｘ³は水素原子またはハロゲン原子を示す。）
で示されるアリール化合物と例えばリチウム化剤、マグネシウム金属等を反応させることにより製造することができる。
式（８）で示されるアリール化合物とリチウム化剤の反応モル比は特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：２．５の範囲である。かかるリチウム化剤としてはメチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウムなどが挙げられ、好ましくはｎ−ブチルリチウムが挙げられる。

反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（８）で示されるアリール化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

本反応は通常、式（８）で示されるアリール化合物に例えばリチウム化剤を加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。

式（６）で示されるホスフィンジハライドは、式
Ｐ（Ｘ^１）_３
（Ｘ^１は前記と同じ意味を示す。）
で示されるホスフィントリハライドと式（５）で示される金属アリールとの反応により製造される。ホスフィントリハライド、式（５）で示される金属アリールの反応モル比は特に限定されないが、１：１から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：１．５から１：２．５の範囲である。

かかるホスフィントリハライドは例えば三塩化リン、三臭化リン、三ヨウ化リンなどが挙げられ、好ましくは三塩化リンが挙げられる。

反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（５）で示される金属アリールに対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

本反応は通常、ホスフィントリハライドに式（５）で示される金属アリールを加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。

得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（６）で示されるホスフィンジハライドを得ることができる。

金属アリール化合物（７）は、式（９）

（Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^１３、Ｘ^３はそれぞれ前記と同じ意味を示す。）
で示される芳香族化合物と例えばリチウム化剤、マグネシウム金属等を反応させることにより製造することができる。式（９）で示される芳香族化合物とリチウム化剤の反応モル比は特に限定されないが、１：１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：１から１：２．５の範囲である。かかるリチウム化剤としてはメチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウムなどが挙げられ、好ましくはｎ−ブチルリチウムが挙げられる。

反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（９）で示される芳香族化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。

本反応は通常、式（９）で示される芳香族化合物に例えばリチウム化剤を加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。

式（４）で示されるホスフィンハライドの具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。

またこれらの化合物の塩素原子を臭素原子またはヨウ素原子に変換した化合物が挙げられる。

式（５）で示される金属アリールの具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。

式（６）で示されるホスフィンジハライドの具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。

式（７）で示される金属アリール化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。

式（８）で示されるで示されるアリール化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。

式（９）で示される芳香族化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。

本発明で得られるホスフィンカルボニル化合物（１）とＲ¹³ＡＨ_２とを反応させ式

（Ｒ¹〜Ｒ⁹は前記と同じ意味を表し、Ａは元素の周期律表の第１５族の元素を示し、Ｒ¹³は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基等を示す。）
で示される置換フェノールを得ることができ、これと式

（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の元素を示し、Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基等を示し、Ｌはエーテル、スルフィド、アミン、ホスフィン、オレフィンなどの中性配位子を示し、ｌ'、ｍ'、ｎ'は独立に０〜２の整数を示し、ｌ'、ｍ'、ｎ'の和は、３、４、または５である。）
で示される遷移金属化合物とを反応させることによって式

（式中、Ａ、Ｍ、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ¹³およびＲ¹〜Ｒ⁹は前記と同じ意味を表す。）
示される遷移金属錯体を得ることができる。
得られた遷移金属錯体は、例えば、オレフィンの重合用触媒成分として有用である。

以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

合成
［実施例１］
［化合物１の合成］

１-メトキシメトキシ−２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルベンゼン（２．０８ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２３．５ｍＬ）に−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（７．０５ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を三塩化リン（０．６９g、５．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２３．５mL）に−７８℃にて滴下し、室温に昇温し５時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより化合物１を定量的に得た。
^１Ｈ ＮＭＲ(ＣＤ_２Ｃｌ_２) δ１．３８（１８Ｈ）、２．２５（６Ｈ）、３．６０（６Ｈ）、５．０６−５．２６（４Ｈ）、７．０７−７．２７（４Ｈ）
^３１Ｐ ＮＭＲ(ＣＤ_２Ｃｌ_２) ７９．１５

［実施例２］
［化合物２の合成］

２−（ｏ−ブロモフェニル）−１，３−ジオキソラン（１１．１５ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１８０．６ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（３５．３ｍL）を滴下し、室温まで昇温し２時間攪拌した。反応混合液を−７８℃に冷却し、化合物１（２４．０５g、５０．０mmol）のテトラヒドロフラン溶液（７７．４mL）を滴下し、室温まで昇温し１０時間攪拌した。脱イオン水（２００．０ｍＬ）とトルエン（２００．０ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し、淡黄色油状として粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=３０/１→４/１）により精製を行い、白色固体の化合物２を９．５２ｇ（収率３２．０％）得た。
^１Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣｌ_３) δ１．３７（１８Ｈ）、２．１０（６Ｈ）、３．４５（６Ｈ）、３．９３−４．１４（４Ｈ）、５．１１−５．１３（４Ｈ）、５．２０（１Ｈ）、６．３４（２Ｈ）、６．４４（２Ｈ）、６．９２−７．６６（５Ｈ）

［実施例３］
［化合物３の合成］

２−（ｏ−ブロモフェニル）−１，３−ジオキサン（６．８７ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１４５．０ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（２１．２ｍL）を滴下し、室温まで昇温し２時間攪拌した。反応混合液を−７８℃に冷却し、三塩化リン（８．２４g、６０．０mmol）のジエチルエーテル溶液（１１６．０mL）を添加し、室温まで昇温し１０時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより化合物３を得た。
^３１Ｐ ＮＭＲ(ＣＤ_２Ｃｌ_２) δ１６０．８

［実施例４］
［化合物２の合成］
２−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メトキシメトキシ−４−メチルベンゼン（１０．０ｇ、４８．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１５８ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（３３．８ｍL）を滴下し、室温まで昇温し２時間攪拌した。反応混合液を−７８℃に冷却し、化合物３（６．０３g、２４．０mmol）のテトラヒドロフラン溶液（６７．５mL）を滴下し、室温まで昇温し１０時間攪拌した。後処理は実施例２と同様に行い化合物２を得た。

［実施例５］
［化合物４の合成］

化合物２（１．４９ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン/水＝１０/１溶液（４６．３ｍＬ）に室温で９８％硫酸（１．３２ｇ）を加え室温で３時間攪拌した。脱イオン水（７０．０ｍＬ）とトルエン（５０．０ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（７０ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し淡黄色油状として化合物４を定量的に得た。
^１Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣｌ_３) δ１．４０（１８Ｈ）、２．１０（６Ｈ）、３．５０（６Ｈ）、５．２６（４Ｈ）、６．２７（２Ｈ）、６．９７−７．９８（６Ｈ）、１０．６（１Ｈ）

［実施例６］
［化合物５の合成］

化合物４（２．７５ｇ、５．００ｍｍｏｌ）の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液（１１０．０ｍＬ）に室温でアセチルクロライド（１．９６ｇ、２５．０ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間攪拌した。溶媒を減圧留去することにより、黄色油状として粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=２０/１→４/１→０/１）により精製を行い、黄色固体の化合物５を０．６４ｇ（収率６４．０％）得た。
^１Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣｌ_３) δ１．３４（１８Ｈ）、２．０９（６Ｈ）、６．３３（２Ｈ）、６．５１（２Ｈ）、７．０７−７．８７（６Ｈ）、１０．１（１Ｈ）
^３１Ｐ ＮＭＲ(Ｃ_６Ｄ_６) δ−５２．８

Claims (13)

1. 式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７およびＲ^８は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基を示し、Ｒ^９は、水素原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を示す。）
   で示されるホスフィンカルボニル化合物；または
   式（２）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、前記と同じ意味を表し、Ｒ^１０は、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を示す。ただしＲ^１０はメチル基ではない。）
   で示されるカルボニル化合物。
2. Ｒ^１０が置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基である請求項１に記載のカルボニル化合物。
3. Ｒ^１０がメトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、トリメチルシリルエトキシメチル基または１−エトキシエチル基である請求項２に記載のカルボニル化合物。
4. 請求項１に記載の式（２）で示されるカルボニル化合物と酸を反応させることを特徴とする請求項１に記載の式（１）で示されるホスフィンカルボニル化合物の製造方法。
5. 酸が塩化水素である請求項４に記載の製造方法。
6. 式（３）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９およびＲ^１０は、前記と同じ意味を表し、Ｒ^１１およびＲ^１２は同一または相異なり、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基または置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を示し、またＲ^１１とＲ^１２は互いに結合して環を形成していてもよい。）
   で示されるトリアリールホスフィン化合物。
7. 請求項６記載の式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物と酸とを反応させることを特徴とする請求項１記載の式（２）で示されるホスフィンカルボニル化合物の製造方法。
8. 式（４）
   

   

   
   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^１０は、前記と同じ意味を表し、Ｘ^１はハロゲン原子をす。）
   で示されるホスフィンハライド。
9. 請求項８記載の式（４）で示されるホスフィンハライドと、式（５）
   

   

   （式中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１１およびＲ^１２は、前記と同じ意味を表し、Ｘ²はハロゲン原子を示し、Ｍアルカリ金属またはアルカリ土類金属を示し、ｎは０または１を示す。）
   で示される金属アリールとを反応させることを特徴とする請求項６記載の式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物の製造方法。
10. 式（６）
    

    

    （式中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＸ^１は、前記と同じ意味を示す。）
    で示されるホスフィンジハライド。
11. 請求項10記載の式（６）で示されるホスフィンジハライドと、式（７）
    

    

    （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^１０、Ｘ^１、Ｍおよびｎは、前記と同じ意味を示す。）
    で示される金属アリール化合物とを反応させることを特徴とする請求項６記載の式（３）で示されるトリアリールホスフィン化合物の製造方法。
12. 式
    Ｐ（Ｘ’）_３
    （Ｘ’はハロゲン原子を示す。）
    で示されるホスフィントリハライドと請求項11記載の式（７）で示される金属アリール化合物とを反応させることを特徴とする請求項8記載の式（４）で示されるホスフィンハライドの製造方法。
13. 式
    Ｐ（Ｘ’）_３
    （Ｘ’はハロゲン原子を示す。）
    で示されるホスフィントリハライドと請求項９記載の式（５）で示される金属アリールとを反応させることを特徴とする請求項10記載の式（６）で示されるホスフィンジハライドの製造方法。