JP2008247745A - メタクリル酸エステルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】アセチレン化合物と一酸化炭素およびアルコールからメタクリル酸エステル化合物を製造するのに適した触媒の成分として有用な新規な2−ホスフィノイミダゾール化合物を提供すること。
【解決手段】式(1)
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基等を表し、R3、R4はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基等を表し、R5、R6、R7、R8、R9は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子等を表す。但し、R5、R6、R7、R8およびR9のうちの少なくとも一つはフッ素原子あるいはフッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基を表し、R1とR2、R3とR4およびR5、R6、R7、R8、R9において互いに隣接する置換基は互いに結合して環を形成していても良い。)で示されるホスフィン。
【選択図】なし
【解決手段】式(1)
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基等を表し、R3、R4はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基等を表し、R5、R6、R7、R8、R9は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子等を表す。但し、R5、R6、R7、R8およびR9のうちの少なくとも一つはフッ素原子あるいはフッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基を表し、R1とR2、R3とR4およびR5、R6、R7、R8、R9において互いに隣接する置換基は互いに結合して環を形成していても良い。)で示されるホスフィン。
【選択図】なし
Description
本発明は、2−ホスフィノイミダゾール化合物、該ホスフィン化合物の製造方法、該ホスフィンからなる触媒、および当該触媒を用いるメタクリル酸メチルの製造方法等に関する。
2−ホスフィノピリジン化合物は、パラジウム触媒の存在下、メタノールをメチルアセチレンと反応させ、カルボニル化してメタクリル酸メチルを製造する反応における触媒配位子として有用なことが開示されている(特許文献1参照)。
一方、1−アリールイミダゾールとホスフィン化合物と結合させて得られる1−アリール−2−ホスフィノイミダゾール化合物は、ハロゲン化アリールとホウ素化合物の鈴木カップリング反応等における触媒成分(配位子)として有用なことが報告されている(非特許文献1参照)が、これらの配位子は、前記の2−ホスフィンピリジン化合物とは全く別異のヘテロ環系であり、しかも触媒する反応も異なるものであった。
一方、1−アリールイミダゾールとホスフィン化合物と結合させて得られる1−アリール−2−ホスフィノイミダゾール化合物は、ハロゲン化アリールとホウ素化合物の鈴木カップリング反応等における触媒成分(配位子)として有用なことが報告されている(非特許文献1参照)が、これらの配位子は、前記の2−ホスフィンピリジン化合物とは全く別異のヘテロ環系であり、しかも触媒する反応も異なるものであった。
Adv. Synth. Catal. 2004年, 346巻, 1742−1748
特開昭63−154646号公報
アセチレン化合物と一酸化炭素およびアルコールからメタクリル酸エステル化合物を製造するのに適した触媒の成分として有用な新規な2−ホスフィノイミダゾール化合物を提供する。
すなわち、本発明は、式(1)
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基を表し、R3、R4はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基および炭素原子数6〜20のアリール基からなる群から選ばれる置換基を表し、 R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数1〜20の炭化水素基で置換されたシリル基、炭素原子数1〜10の炭化水素基二つで置換されたアミノ基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基および炭素原子数6〜20のアリールオキシ基からなる群から選ばれる置換基を表す。但し、R5、R6、R7、R8およびR9のうちの少なくとも一つはフッ素原子あるいはフッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基を表し、R1とR2、R3とR4およびR5、R6、R7、R8、R9において互いに隣接する置換基は互いに結合して環を形成していても良い。)
で示されるホスフィンで示されるホスフィン、および該ホスフィンと、元素の周期表第10族金属化合物を含む事を特徴とする、アセチレン化合物のカルボニル化触媒を提供するものである。
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基を表し、R3、R4はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基および炭素原子数6〜20のアリール基からなる群から選ばれる置換基を表し、 R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数1〜20の炭化水素基で置換されたシリル基、炭素原子数1〜10の炭化水素基二つで置換されたアミノ基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基および炭素原子数6〜20のアリールオキシ基からなる群から選ばれる置換基を表す。但し、R5、R6、R7、R8およびR9のうちの少なくとも一つはフッ素原子あるいはフッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基を表し、R1とR2、R3とR4およびR5、R6、R7、R8、R9において互いに隣接する置換基は互いに結合して環を形成していても良い。)
で示されるホスフィンで示されるホスフィン、および該ホスフィンと、元素の周期表第10族金属化合物を含む事を特徴とする、アセチレン化合物のカルボニル化触媒を提供するものである。
本発明のホスフィンからなる触媒は、カルボニル化反応、特に、メタノール存在下、メチルアセチレンと一酸化炭素の反応によりメタクリル酸メチルを製造するのに適している。
以下、本発明について詳細に説明する。
式(1)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基などがあげられる。
式(1)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基などがあげられる。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数7〜20のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(3,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−ドデシルフェニル)メチル基、(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などがあげられる。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,5−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などがあげられる。
R1およびR2は好ましくは炭素原子数6〜20のアリール基であって、さらに好ましくは、フェニル基である。
R5、R6、R7、R8およびR9におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、好ましくはフッ素原子である。
R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数1〜20のアルキル基は、フッ素原子で置換されていても良く、かかるアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基などがあげられ、好ましくはトリフルオロメチル基である。
R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数7〜20のアラルキル基は、フッ素原子で置換されていても良く、かかるアラルキル基としては、例えば、(2−フルオロフェニル)メチル基、(3−フルオロフェニル)メチル基、(4−フルオロフェニル)メチル基、(2,3−ジフルオロフェニル)メチル基、(2,4−ジフルオロフェニル)メチル基、(2,5−ジフルオロフェニル)メチル基、(2,6−ジフルオロフェニル)メチル基、(3,4−ジフルオロフェニル)メチル基、(3,5−ジフルオロフェニル)メチル基、(2,3,4−トリフルオロフェニル)メチル基、(2,3,5−トリフルオロフェニル)メチル基、(2,3,6−トリフルオロフェニル)メチル基、(3,4,5−トリフルオロフェニル)メチル基、(2,4,5−トリフルオロフェニル)メチル基、(2,4,6−トリフルオロフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)メチル基、(ペンタフルオロフェニル)メチル基などがあげられる。
R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数6〜20のアリール基は、フッ素原子で置換されていてもよく、かかるアリール基としては、例えば、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2,3−ジフルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,5−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,3,4−トリフルオロフェニル基、2,3,5−トリフルオロフェニル基、2,3,6−トリフルオロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基、2,3,4,5−テトラフルオロフェニル基、2,3,4,6−テトラフルオロフェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基などがあげられる。
R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数1〜20の炭化水素で置換されたシリル基としては、例えば、炭素原子数1〜20のアルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基など)、アリール基(フェニル基など)などの炭化水素基で置換されたシリル基をあげることできる。具体的には、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの1置換シリル基;ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの2置換シリル基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−n−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−n−ブチルシリル基、トリ−sec−ブチルシリル基、トリ−tert−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、tert−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−n−ペンチルシリル基、トリ−n−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの3置換シリル基などがあげられる。
R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数1〜10炭化水素基二つで置換されたアミノ基としては、例えば、炭素原子数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基など)、アリール基(例えば、フェニル基など)などの炭化水素基2つで置換されたアミノ基をあげることできる。具体的には、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−sec−ブチルアミノ基、ジ−tert−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、tert−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基、ジ−n−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロイソインドリル基などがあげられる。
R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数1〜20のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキシ基、n−オクタデシルオキシ基、n−ノナデシルオキシ基、n−エイコソキシ基などがあげられる。
R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、(n−テトラデシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などがあげられる。
R5、R6、R7、R8およびR9における炭素原子数6〜20のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノキシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などがあげられる。
R5、R6、R7、R8およびR9のうちの少なくとも一つは、フッ素原子あるいはフッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基である。フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基としては、トリフルオロメチルが好ましい。これら置換基の中でもフッ素原子が好ましい。さらに好ましくは、R5、R6およびR7は、すべてフッ素であり、最も好ましくは、R5、R6、R7、R8およびR9の全てがフッ素原子である。
R1とR2、R3とR4、およびR5、R6、R7、R8とR9において互いに隣接する置換基は互いに結合して環構造を形成していてもよい。該環構造としては、例えば、飽和もしくは不飽和の炭化水素環などがあげられ、具体的には、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などをあげることができる。これらの環は、炭素原子数1〜20の炭化水素基などで置換されていてもよい。
かかる式(1)で示されるホスフィンとしては、1−(2−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノベンズイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−メチルイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4,5−ジメチルイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジフェニルホスフィノ−4−tert−ブチルイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(2−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ(4−メチルフェニル)ホスフィノイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジシクロヘキシルホスフィノイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−2−ジ−tert−ブチルホスフィノイミダゾールなどがあげられる。
式(1)で示されるホスフィンは、式(2)
(式中、R1およびR2は前記と同じ意味を示し、Xはハロゲン原子を示す)で示されるハロホスフィンと式(3)
(式中、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は前記式(1)に関して定義されたものと同じ意味を有する。)
で示されるイミダゾール化合物を塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
(式中、R1およびR2は前記と同じ意味を示し、Xはハロゲン原子を示す)で示されるハロホスフィンと式(3)
(式中、R3、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は前記式(1)に関して定義されたものと同じ意味を有する。)
で示されるイミダゾール化合物を塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
X、Yで示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子があげられ、好ましくは塩素原子もしくは臭素原子である。
かかる式(2)で示されるハロホスフィンとしては、ジフェニルクロロホスフィン、ジ(2−メチルフェニル)クロロホスフィン、ジ(4−メチルフェニル)クロロホスフィン、ジ(2,4−ジメチルフェニル)クロロホスフィン、ジ(2,6−ジメチルフェニル)クロロホスフィン、ジ(2,4,6−トリメチルフェニル)クロロホスフィン、ジ(1−ナフチル)クロロホスフィン、ジ(2−ナフチル)クロロホスフィン、ジ−n−ブチルクロロホスフィン、ジ−tert−ブチルクロロホスフィン、ジ−n−ヘキシルクロロホスフィン、ジシクロヘキシルクロロホスフィンおよびクロロをブロモ、ヨードとした化合物が同様に例示される。
式(3)で示されるイミダゾールとしては、1−(2−フルオロフェニル)イミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)イミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)イミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)イミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)イミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)イミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)イミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)イミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)イミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)イミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)イミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)イミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)ベンズイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)ベンズイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)ベンズイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)ベンズイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)ベンズイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)ベンズイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)ベンズイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−メチルイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−メチルイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4,5−ジメチルイミダゾール
1−(2−フルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(3−フルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(4−フルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3−ジフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,4−ジフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,5−ジフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,6−ジフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,5−トリフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,6−トリフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,4,5−トリフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,4,6−テトラフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(ペンタフルオロフェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(3−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(4−(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(2,6−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(3,4−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−tert−ブチルイミダゾール、1−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−フェニル)−4−tert−ブチルイミダゾールなどがあげられる。
式(3)で示されるイミダゾール化合物の使用量は、式(2)のハロホスフィンに対し、通常、0.1から10.0モル倍である。
塩基としては、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンなどの有機塩基、および、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、トリメチルシリルメチルリチウムなどの有機金属化合物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基があげられ、単独あるいは2種以上の混合物として用いる事ができる。使用量は、一般式(2)のハロホスフィンに対し、通常0.5モル倍以上、有機金属化合物あるいは無機塩基を塩基として用いる場合には、通常0.5から5.0モル倍、好ましくは、0.8から1.2モル倍である。
反応は溶媒の存在下で実施する事もできる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは2種以上を混合して用いられ、その使用量は式(2)で示される化合物に対して通常1〜200重量倍、好ましくは3〜50重量倍の範囲である。
反応の順序は特に限定されないが、必要に応じて溶媒の存在下、式(3)で示されるイミダゾール化合物に塩基を加えたのち、式(2)で示されるハロホスフィンを加えることによって行うことができる。反応温度は通常、−100℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−80〜100℃程度の範囲である。
得られた反応混合物に対し、水を加えて分液、あるいはろ過により、無機成分を除いた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、および/あるいは再結晶、などの精製により、式(1)で示されるホスフィンを取得することができる。
かくして得られる式(1)で示されるホスフィンは、元素の周期表第10族金属化合物との組み合わせにより、アセチレン化合物のカルボニル化触媒に用いることができる。
第10族金属としては、ニッケル、パラジウム、白金があげられ、好ましくはパラジウムをあげることができる。かかる金属化合物としては、パラジウム アセチルアセトナート、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム アセテート、酢酸パラジウム、塩化パラジウムおよびこれらの混合物をあげることができる。金属化合物の使用量は限定されないが、アセチレン化合物1モル当たり、10−1から10−5モル倍である。
式(1)で示されるホスフィンの使用量は、特に限定されないが、第10族金属の化合物に対して通常3から200モル倍、好ましくは、10から100モル倍である。
第10族金属の化合物は、通常、プロトン源の存在下にカルボニル化触媒の成分として用いられ、かかるプロトン源としては、オルトリン酸、ピロリン酸、硫酸、ハロゲン化水素酸、ベンゼンリン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、クロロスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリメチルメタンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸およびこれらの混合物が例示され、好ましくは、スルホン酸化合物、さらに好ましくはメタンスルホン酸を用いる事ができる。プロトン源の使用量は、特に限定されないが、第10族金属の化合物に対して通常3から300モル倍、好ましくは、10から150モル倍である。
アセチレン化合物としては、アセチレン、メチルアセチレン、シクロヘキシルアセチレン、フェニルアセチレン、1−ブチン、1−ペンチン、1−ヘキシン、1−ヘキシン、1−オクチン、2−ブチン、3−ヘキシン、ジフェニルアセチレンをあげることができ、そのなかでもメチルアセチレンが好ましい。本発明においては、アセチレン化合物に、アレンなどの異性体を不純物として含んでいても使用することができる。
カルボニル化反応においてアルコールを反応剤として用いる事で、不飽和エステルを合成することができ、かかるアルコールとしては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、エチレングリコールをあげることができ、好ましくは、メタノールである。好ましい実施形態としては、アセチレン化合物としてメチルアセチレンに対し、メタノールを反応させることでメタクリル酸メチルを製造する事が出来る。アルコールの使用量は特に限定されないが、アセチレン化合物に対して、通常、1.0モル倍以上である。
大過剰のアルコールの使用は、しばしば、好ましい反応結果を与える。しかし、別途、溶媒を使用することができる。例えば、スホキシド類およびスルホン類、例えば、ジメチルスルホキシド、ジイソプロピルスルホン、スルホラン;芳香族炭化水素類、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン;エステル類、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタクリル酸メチル;ケトン類、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン;エーテル類、例えば、アニソール、ジメトキシエタン、ジグライム、メチル tert−ブチル エーテル、エチル tert−ブチル エーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル;アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、およびこれらの混合物を例示する事ができる。溶媒の使用量は特に限定されない。
本発明における反応温度は特に限定されないが、好ましくは、20℃から80℃の範囲において実施される。
カルボニル化触媒反応に必要な一酸化炭素は、純粋な一酸化炭素のほか、窒素、アルゴンなどのカルボニル化反応に不活性なガスを含んでいても良い。
本発明における圧力は、好ましくは、0.5から10MPaGであり、さらに好ましくは1から7MPaGである。
上記のようにして製造したメタクリル酸メチルは、通常、精製後に重合することによりメタクリル酸メチルの重合体を製造するため用いることができる。メタクリル酸メチルを精製する方法としては、例えば、蒸留、抽出など一般的な方法を使用することができる。また、メタクリル酸メチルを重合してメタクリル酸メチルの重合物を含む重合体を製造する方法は、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等が挙げられるが、特に限定されない。
以下、本発明を実験例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実験例に限定されるものではない。
<ホスフィンの製造>
物性測定は次の方法で行った。
(1)プロトン核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR)
装置:日本電子社製 EX270、又は、Bruker社製 DPX−300
試料セル:5mmφチューブ
測定溶媒:CDCl3
試料濃度:10mg/0.5mL(CDCl3)
測定温度:室温(約25℃)
測定パラメータ:5mmφプローブ、MENUF NON、OBNUC 1H、積算回数16回
パルス角度:45度
繰り返し時間:ACQTM 3秒、PD 4秒
内部標準:CDCl3(7.26ppm)
物性測定は次の方法で行った。
(1)プロトン核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR)
装置:日本電子社製 EX270、又は、Bruker社製 DPX−300
試料セル:5mmφチューブ
測定溶媒:CDCl3
試料濃度:10mg/0.5mL(CDCl3)
測定温度:室温(約25℃)
測定パラメータ:5mmφプローブ、MENUF NON、OBNUC 1H、積算回数16回
パルス角度:45度
繰り返し時間:ACQTM 3秒、PD 4秒
内部標準:CDCl3(7.26ppm)
(2)質量スペクトル
[電子イオン化質量分析(EI−MS)]
装置:日本電子社製 JMS−T100GC
イオン化電圧:70eV
イオン源温度:230℃
加速電圧:7kV
MASS RANGE:m/z 35−1000
[電子イオン化質量分析(EI−MS)]
装置:日本電子社製 JMS−T100GC
イオン化電圧:70eV
イオン源温度:230℃
加速電圧:7kV
MASS RANGE:m/z 35−1000
実施例1
1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)と同様の方法で合成した1−(ペンタフルオロフェニル)イミダゾール(1.64g、7mmol)をピリジン(10.93g)、トリエチルアミン(0.71g、7mmol)と混合させ、5℃に冷却した。この混合物に、ジフェニルクロロホスフィン(1.54g、7mmol)とピリジン(5.46g)を仕込み、その温度で30分間攪拌した後、20℃に昇温させ、さらに12時間攪拌させた。反応混合物にトルエンを仕込み、不溶物をろ別した後に、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/2)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.10g、3.4%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.10−7.60(m、12H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):418(M+)
1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)と同様の方法で合成した1−(ペンタフルオロフェニル)イミダゾール(1.64g、7mmol)をピリジン(10.93g)、トリエチルアミン(0.71g、7mmol)と混合させ、5℃に冷却した。この混合物に、ジフェニルクロロホスフィン(1.54g、7mmol)とピリジン(5.46g)を仕込み、その温度で30分間攪拌した後、20℃に昇温させ、さらに12時間攪拌させた。反応混合物にトルエンを仕込み、不溶物をろ別した後に、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/2)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.10g、3.4%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.10−7.60(m、12H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):418(M+)
実施例2
1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)と同様の方法で合成した1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)イミダゾール(1.62g、7.5mmol)をテトラヒドロフラン(23mL)に溶解させ、−70℃に冷却した。この混合物に、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(0.96g、8.25mmol)次いで、1.60Mヘキサン溶液のn−ブチルリチウム(4.69mL、7.5mmol)を加え、前記反応温度で1時間保温した。この反応液に、ジフェニルクロロホスフィン(1.65g、7.5mmol)のテトラヒドロフラン(4mL)の溶液を滴下し、30分間保温した後に、20℃に昇温させ、さらに1時間攪拌させた。反応混合物にトルエン、水を仕込み、分液させた後に、有機層をさらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製することにより、表題化合物を取得した(2.89g、96%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.20−7.55(m、12H)、7.75−7.85(m、1H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):400(M+)
1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)と同様の方法で合成した1−(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)イミダゾール(1.62g、7.5mmol)をテトラヒドロフラン(23mL)に溶解させ、−70℃に冷却した。この混合物に、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(0.96g、8.25mmol)次いで、1.60Mヘキサン溶液のn−ブチルリチウム(4.69mL、7.5mmol)を加え、前記反応温度で1時間保温した。この反応液に、ジフェニルクロロホスフィン(1.65g、7.5mmol)のテトラヒドロフラン(4mL)の溶液を滴下し、30分間保温した後に、20℃に昇温させ、さらに1時間攪拌させた。反応混合物にトルエン、水を仕込み、分液させた後に、有機層をさらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製することにより、表題化合物を取得した(2.89g、96%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.20−7.55(m、12H)、7.75−7.85(m、1H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):400(M+)
実施例3
1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)と同様の方法で合成した1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)イミダゾール(1.49g、7.5mmol)をテトラヒドロフラン(23mL)に溶解させ、−70℃に冷却した。この混合物に、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(0.96g、8.25mmol)次いで、1.60Mヘキサン溶液のn−ブチルリチウム(4.69mL、7.5mmol)を加え、前記反応温度で1時間保温した。この反応液に、ジフェニルクロロホスフィン(1.65g、7.5mmol)のテトラヒドロフラン(4mL)の溶液を滴下し、30分間保温した後に、20℃に昇温させ、さらに1時間攪拌させた。反応混合物にトルエン、水を仕込み、分液させた後に、有機層をさらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製する事により、表題化合物を取得した(2.63g、92%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):6.90−7.08(m、2H)、7.15−7.55(m、12H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):382(M+)
1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)と同様の方法で合成した1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)イミダゾール(1.49g、7.5mmol)をテトラヒドロフラン(23mL)に溶解させ、−70℃に冷却した。この混合物に、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(0.96g、8.25mmol)次いで、1.60Mヘキサン溶液のn−ブチルリチウム(4.69mL、7.5mmol)を加え、前記反応温度で1時間保温した。この反応液に、ジフェニルクロロホスフィン(1.65g、7.5mmol)のテトラヒドロフラン(4mL)の溶液を滴下し、30分間保温した後に、20℃に昇温させ、さらに1時間攪拌させた。反応混合物にトルエン、水を仕込み、分液させた後に、有機層をさらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製する事により、表題化合物を取得した(2.63g、92%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):6.90−7.08(m、2H)、7.15−7.55(m、12H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):382(M+)
実施例4
1−(3,4−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)と同様の方法で合成した1−(3,4−ジフルオロフェニル)イミダゾール(1.35g、7.5mmol)をテトラヒドロフラン(23mL)に溶解させ、−70℃に冷却した。この混合物に、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(0.96g、8.25mmol)次いで、1.60Mヘキサン溶液のn−ブチルリチウム(4.69mL、7.5mmol)を加え、前記反応温度で1時間保温した。この反応液に、ジフェニルクロロホスフィン(1.65g、7.5mmol)のテトラヒドロフラン(4mL)の溶液を滴下し、30分間保温した後に、20℃に昇温させ、さらに1時間攪拌させた。反応混合物にトルエン、水を仕込み、分液させた後に、有機層をさらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.80g、29%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):6.95−7.05(1H)、7.10−7.50(m、14H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):364(M+)
1−(3,4−ジフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)と同様の方法で合成した1−(3,4−ジフルオロフェニル)イミダゾール(1.35g、7.5mmol)をテトラヒドロフラン(23mL)に溶解させ、−70℃に冷却した。この混合物に、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(0.96g、8.25mmol)次いで、1.60Mヘキサン溶液のn−ブチルリチウム(4.69mL、7.5mmol)を加え、前記反応温度で1時間保温した。この反応液に、ジフェニルクロロホスフィン(1.65g、7.5mmol)のテトラヒドロフラン(4mL)の溶液を滴下し、30分間保温した後に、20℃に昇温させ、さらに1時間攪拌させた。反応混合物にトルエン、水を仕込み、分液させた後に、有機層をさらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.80g、29%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):6.95−7.05(1H)、7.10−7.50(m、14H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):364(M+)
参考例1
「1−(2,4,6−トリメチルフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成」
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)に従って合成した1−(2,4,6−トリメチルフェニル)イミダゾール(2.05g、11mmol)をピリジン(13.67g)、トリエチルアミン(1.11g、11mmol)と混合させ、5℃に冷却した。この混合物に、ジフェニルクロロホスフィン(2.43g、11mmol)とピリジン(6.83g)を仕込み、その温度で30分間攪拌した後、20℃に昇温させ、さらに12時間攪拌させた。反応混合物にトルエンを仕込み、不溶物をろ別した後に、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.32g、7.8%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):1.75(6H)、2.35(3H)、6.85−7.05(m、3H)、7.20−7.52(m、11H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):370(M+)
「1−(2,4,6−トリメチルフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成」
公知文献(Organometallics 2004年,23巻,2835−2837)に従って合成した1−(2,4,6−トリメチルフェニル)イミダゾール(2.05g、11mmol)をピリジン(13.67g)、トリエチルアミン(1.11g、11mmol)と混合させ、5℃に冷却した。この混合物に、ジフェニルクロロホスフィン(2.43g、11mmol)とピリジン(6.83g)を仕込み、その温度で30分間攪拌した後、20℃に昇温させ、さらに12時間攪拌させた。反応混合物にトルエンを仕込み、不溶物をろ別した後に、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.32g、7.8%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):1.75(6H)、2.35(3H)、6.85−7.05(m、3H)、7.20−7.52(m、11H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):370(M+)
参考例2
「1−フェニル−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成」
1−フェニルイミダゾール(1.07g、7.4mmol)をヘキサン(32mL)に溶解させた。この混合物に、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(0.95g、8.2mmol)次いで、1.60Mヘキサン溶液のn−ブチルリチウム(4.64mL、7.4mmol)を加え、1時間還流させた。この反応液を室温に冷却し、ジフェニルクロロホスフィン(1.64g、7.4mmol)のヘキサン(5mL)の溶液を滴下し、30分間保温した。反応混合物にトルエン、水を仕込み、分液させた後に、有機層をさらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.28g、12%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.10−7.55(m、17H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):328(M+)
をピリジン(13.67g)、トリエチルアミン(1.11g、11mmol)と混合させ、5℃に冷却した。この混合物に、ジフェニルクロロホスフィン(2.43g、11mmol)とピリジン(6.83g)を仕込み、その温度で30分間攪拌した後、20℃に昇温させ、さらに12時間攪拌させた。反応混合物にトルエンを仕込み、不溶物をろ別した後に、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.32g、7.8%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):1.75(6H)、2.35(3H)、6.85−7.05(m、3H)、7.20−7.52(m、11H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):370(M+)
「1−フェニル−2−ジフェニルホスフィノイミダゾールの合成」
1−フェニルイミダゾール(1.07g、7.4mmol)をヘキサン(32mL)に溶解させた。この混合物に、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(0.95g、8.2mmol)次いで、1.60Mヘキサン溶液のn−ブチルリチウム(4.64mL、7.4mmol)を加え、1時間還流させた。この反応液を室温に冷却し、ジフェニルクロロホスフィン(1.64g、7.4mmol)のヘキサン(5mL)の溶液を滴下し、30分間保温した。反応混合物にトルエン、水を仕込み、分液させた後に、有機層をさらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.28g、12%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):7.10−7.55(m、17H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):328(M+)
をピリジン(13.67g)、トリエチルアミン(1.11g、11mmol)と混合させ、5℃に冷却した。この混合物に、ジフェニルクロロホスフィン(2.43g、11mmol)とピリジン(6.83g)を仕込み、その温度で30分間攪拌した後、20℃に昇温させ、さらに12時間攪拌させた。反応混合物にトルエンを仕込み、不溶物をろ別した後に、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液;ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製した後、ヘキサンで再結晶する事により、表題化合物を取得した(0.32g、7.8%)。
1H−NMR(CDCl3、δppm):1.75(6H)、2.35(3H)、6.85−7.05(m、3H)、7.20−7.52(m、11H)
質量スペクトル(EI−MS、m/z):370(M+)
<カルボニル化反応>
反応後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析して触媒の性能を求めた。「回収した生成物あたりの選択率」は以下の算出式により求めた。
「回収した生成物あたりの選択率」(%)=「生成したメタクリル酸のGCのピーク面積値」/「検出されたすべての生成物のGCのピーク面積値の総和」×100
反応後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析して触媒の性能を求めた。「回収した生成物あたりの選択率」は以下の算出式により求めた。
「回収した生成物あたりの選択率」(%)=「生成したメタクリル酸のGCのピーク面積値」/「検出されたすべての生成物のGCのピーク面積値の総和」×100
実施例5
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0056g(0.025mmol)と実施例3にて合成した1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.382g(1.0mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.192g(2.0mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを2.0g導入、一酸化炭素で加圧し3MPaに保持した。反応中は全圧が3MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は175モル/Pdモルであり、回収した生成物あたりの選択率は95.9%であった。
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0056g(0.025mmol)と実施例3にて合成した1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.382g(1.0mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.192g(2.0mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを2.0g導入、一酸化炭素で加圧し3MPaに保持した。反応中は全圧が3MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は175モル/Pdモルであり、回収した生成物あたりの選択率は95.9%であった。
実施例6
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0112g(0.05mmol)と実施例3にて合成した1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.1912g(0.5mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.072g(0.75mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを6.0g導入、一酸化炭素で加圧し1MPaに保持した。反応中は全圧が1MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は95モル/Pdモルであり、回収した生成物あたりの選択率は94.9%であった。
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0112g(0.05mmol)と実施例3にて合成した1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.1912g(0.5mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.072g(0.75mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを6.0g導入、一酸化炭素で加圧し1MPaに保持した。反応中は全圧が1MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は95モル/Pdモルであり、回収した生成物あたりの選択率は94.9%であった。
実施例7
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0045g(0.02mmol)と実施例1にて合成した1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.084g(0.2mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.029g(0.3mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを2.6g導入、一酸化炭素で加圧し1MPaに保持した。反応中は全圧が1MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は137モル/Pdモルであり、回収した生成物あたりの選択率は94.8%であった。
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0045g(0.02mmol)と実施例1にて合成した1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.084g(0.2mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.029g(0.3mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを2.6g導入、一酸化炭素で加圧し1MPaに保持した。反応中は全圧が1MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は137モル/Pdモルであり、回収した生成物あたりの選択率は94.8%であった。
比較例1
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0045g(0.02mmol)と参考例1にて合成した1−(2,4,6−トリメチルフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.074g(0.2mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.029g(0.3mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを2.53g導入、一酸化炭素で加圧し1MPaに保持した。反応中は全圧が1MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は0モル/Pdモルと低いレベルであった。
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0045g(0.02mmol)と参考例1にて合成した1−(2,4,6−トリメチルフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.074g(0.2mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.029g(0.3mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを2.53g導入、一酸化炭素で加圧し1MPaに保持した。反応中は全圧が1MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は0モル/Pdモルと低いレベルであった。
比較例2
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0045g(0.02mmol)と参考例2にて合成した1−フェニル−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.066g(0.2mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.029g(0.3mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを2.42g導入、一酸化炭素で加圧し1MPaに保持した。反応中は全圧が1MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は17モル/Pdモルと低いレベルであった。
シュレンク管中で30mLのMeOHに酢酸パラジウム(SIGMA-ALDRICH製)0.0045g(0.02mmol)と参考例2にて合成した1−フェニル−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール0.066g(0.2mmol)を溶解させた後メタンスルホン酸(nacalai製)0.029g(0.3mmol)を加え反応溶液を調製した。この反応液を窒素雰囲気下で内容積100mlのステンレス製オートクレーブに導入後、氷浴下にメチルアセチレンを2.42g導入、一酸化炭素で加圧し1MPaに保持した。反応中は全圧が1MPaとなるよう、減圧弁にて消費分の一酸化炭素を常時導入した。反応温度60℃で3時間保持した後の反応液をガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析したところ、メチルアセチレンの生成量は17モル/Pdモルと低いレベルであった。
Claims (11)
- 式(1)
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基を表し、R3、R4はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基および炭素原子数6〜20のアリール基からなる群から選ばれる置換基を表し、 R5、R6、R7、R8およびR9は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数7〜20のアラルキル基、フッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数1〜20の炭化水素基で置換されたシリル基、炭素原子数1〜10の炭化水素基二つで置換されたアミノ基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基および炭素原子数6〜20のアリールオキシ基からなる群から選ばれる置換基を表す。但し、R5、R6、R7、R8およびR9のうちの少なくとも一つはフッ素原子あるいはフッ素原子で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基を表し、R1とR2、R3とR4およびR5、R6、R7、R8、R9において互いに隣接する置換基は互いに結合して環を形成していても良い。)
で示されるホスフィン。 - R1およびR2が炭素原子数6〜20のアリール基である請求項1に記載のホスフィン。
- R5、R6およびR7がフッ素原子である請求項1あるいは2に記載のホスフィン。
- R5、R6、R7、R8およびR9がフッ素原子である請求項1から3のいずれかに記載のホスフィン。
- 1−(2,3,4−トリフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール、もしくは1−(ペンタフルオロフェニル)−2−ジフェニルホスフィノイミダゾール。
- 請求項1から5のいずれかに記載のホスフィン、元素の周期表第10族金属化合物を含む事を特徴とする、アセチレン化合物のカルボニル化触媒。
- プロトン源を含む請求項7に記載のカルボニル化触媒。
- 元素の周期表第10族金属がパラジウムである請求項7あるいは8に記載のカルボニル化触媒。
- 請求項7から9のいずれかに記載の触媒の存在下に、メチルアセチレンと一酸化炭素およびメタノールとを反応させることを特徴とするメタクリル酸メチルの製造方法。
- メタクリル酸メチルを重合させメタクリル酸メチル重合体を製造する工程をさらに含む請求項10に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
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JP2007087292A JP2008247745A (ja) | 2007-03-29 | 2007-03-29 | メタクリル酸エステルの製造方法 |
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US10544174B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-01-28 | Evonik Degussa Gmbh | Process for the alkoxycarbonylation of ethylenically unsaturated compounds with monophosphine ligands |
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2007
- 2007-03-29 JP JP2007087292A patent/JP2008247745A/ja active Pending
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