JPH10256070A

JPH10256070A - 絶縁被覆磁性金属板およびその製造方法

Info

Publication number: JPH10256070A
Application number: JP9051498A
Authority: JP
Inventors: Takasuke Kaneda; 敬右金田; Yukio Terajima; 由紀夫寺島; Kenichi Sasaki; 賢一佐々木
Original assignee: Toyota Motor Corp
Current assignee: Toyota Motor Corp
Priority date: 1997-03-06
Filing date: 1997-03-06
Publication date: 1998-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】磁性金属板の組成に係わらず塑性加工および
磁気焼鈍に耐えて安定に絶縁特性を維持できる絶縁皮膜
を備えた絶縁被覆磁性金属板を提供する。【解決手段】金属または合金から成る磁性金属板の表
面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：
自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液を用いゾル
−ゲル法により形成された絶縁皮膜を設ける。金属アル
コキシド溶液にセラミックス粒子および／または絶縁性
粘性物質を添加した溶液を用いることにより、更に高い
絶縁性が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁被覆磁性金属
板およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁性金属板を積層した電磁アクチュエー
タ用コア、変圧器用コア等の電磁コアは、渦電流損を軽
減するために、磁性金属板を薄板化すると共に磁性金属
板の表面を絶縁処理した後に積層してコアを形成してい
る。通常１〜３％程度のＳｉを含有する電磁鋼板（珪素
鋼板）の場合、冷間圧延鋼板の表面にＭｇＯ粉末を塗布
した後に、圧延歪み取り焼鈍を行うと、この焼鈍中に鋼
板表面のＭｇＯと下地鋼板中のＳｉとが反応してＭｇＯ
とＳｉＯ₂の複合酸化物であるフォルステライトが鋼板
表面に形成される。その後、塩化物、硝酸塩、硫化物、
硫酸塩、燐酸塩を塗布し焼き付ける工程でガラス質とな
り絶縁皮膜が形成される。この絶縁皮膜は上記のように
渦電流損を軽減するために必須であり、コア形状に応じ
て絶縁被覆鋼板を打ち抜き等により塑性加工する際、お
よびこの塑性加工時の歪みによる局部的な磁気特性の劣
化を回復するための磁気焼鈍の際に、剥離や脱落するこ
となく安定して絶縁特性が維持される必要がある。

【０００３】しかし、上記電磁鋼板における絶縁皮膜形
成は、鋼板中に存在するＳｉを利用したものであり、Ｓ
ｉを含まない磁性金属板、例えばパーメンジュール、パ
ーマロイ等の軟磁性金属板に適用することはできない。
単に積層した際の層間絶縁を確保するのみであれば、絶
縁紙や絶縁テープあるいは絶縁油等を用いればよいが、
塑性加工および磁気焼鈍に耐えて絶縁特性を安定して維
持することができないため、高性能の電磁コアの製造に
は適さない。

【０００４】また、コア作製上、塑性加工・磁気焼鈍を
必要としない場合でも、絶縁紙や絶縁テープによる層間
絶縁は可能ではあるが、積層コアやインボリュートコア
を作製する際に、余分な絶縁紙・絶縁テープの除去が煩
雑であり手間がかかる。そのため、電磁鋼板におけるＳ
ｉのような特定の成分の含有を必要とせずに、打ち抜き
等の塑性加工にも、加工歪みを除去する磁気焼鈍にも耐
え得る安定な絶縁皮膜を形成することが求められてい
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、磁性金属板
の組成に係わらず塑性加工および磁気焼鈍に耐えて安定
に絶縁特性を維持できる絶縁皮膜を備えた絶縁被覆磁性
金属板およびその製造方法を提供することを目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本願各発明により下記の絶縁被覆磁性金属板およ
びその製造方法が提供される。なお、磁性金属板とは、
アモルファス磁性金属薄帯のような薄帯も含める。第１
発明によれば、金属または合金から成る磁性金属板の表
面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：
自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液を用いゾル
−ゲル法により形成された絶縁皮膜を設けたことを特徴
とする絶縁被覆磁性金属板が提供される。

【０００７】これにより、金属アルコキシドの溶液を用
いゾル−ゲル法を行うことにより、下地金属に接合し且
つ耐熱性に優れた絶縁皮膜が形成されるので、コア作製
時の打ち抜き等の塑性加工にも耐え、その後の磁気焼鈍
にも耐えて、安定して絶縁特性を維持することができ
る。第２発明によれば、金属または合金から成る磁性金
属板の表面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル
基、ｎ：自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液に
セラミックス粒子を分散させた溶液を用いゾル−ゲル法
により形成された絶縁皮膜を設けたことを特徴とする絶
縁被覆磁性金属板が提供される。

【０００８】これにより、上記第１発明の作用効果に加
えて、磁性金属板の表面にセラミックス粒子が散在する
ので、積層した際に金属板間に間隔を確保でき、より高
い絶縁性が得られる。第３発明によれば、金属または合
金から成る磁性金属板の表面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金
属、Ｒ：アルキル基、ｎ：自然数〕で表される金属アル
コキシドの溶液に絶縁性粘性物質を添加した溶液を用い
ゾル−ゲル法により形成された絶縁皮膜を設けたことを
特徴とする絶縁被覆磁性金属板が提供される。

【０００９】これにより、上記第１発明の作用効果に加
えて、溶液の粘性が高まるのでゾル−ゲル法により形成
される皮膜を厚くすることができるため、更に絶縁性を
高めることができる。第４発明によれば、金属または合
金から成る磁性金属板の表面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金
属、Ｒ：アルキル基、ｎ：自然数〕で表される金属アル
コキシドの溶液にセラミックス粒子を分散させ且つ絶縁
性粘性物質を添加した溶液を用いゾル−ゲル反応により
形成された絶縁皮膜を設けたことを特徴とする絶縁被覆
磁性金属板が提供される。

【００１０】これにより、上記第１発明の作用効果に加
え、第２発明に比べて溶液の粘性が高いためセラミック
ス粒子が溶液内で沈澱せずに均一に分散し易くなる作用
効果と、かつ第３発明に比べてセラミックス粒子の分散
により皮膜厚さがより均一になる作用効果との相乗作用
により、絶縁性を著しく高めることができる。第５発明
によれば、上記第２発明の絶縁被覆磁性金属板を製造す
る方法であって、該磁性金属板の表面に該セラミックス
粒子を塗布した後に、該磁性金属板を積層しあるいは巻
いて、該セラミックス粒子により該磁性金属板同士の間
に形成された間隙に、該金属アルコキシドの溶液を含浸
させ、該ゾル−ゲル反応を行わせることを特徴とする絶
縁被覆磁性金属板の製造方法が提供される。

【００１１】これにより、積層された金属板同士の間に
はセラミックス粒子の介在により間隔が確保されるの
で、この間隙に容易に溶液を含浸させることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の絶縁被覆磁性金属板を構
成する磁性金属板は、特に化学組成を限定する必要はな
く、電磁コアを形成するために従来から用いられている
金属または合金から成る磁性金属板であればよい。勿
論、Ｓｉを含有する電磁鋼板であってもよいが、本発明
は特に、Ｓｉを含有しない化学組成の磁性金属板を用い
た場合に有利である。すなわち、電磁鋼板のように下地
金属中のＳｉと表面に塗布されたＭｇＯとの反応による
フォルステライト皮膜を利用できない場合でも、本発明
による絶縁皮膜は下地金属中のＳｉ等の特定成分との反
応を必要とせずに形成できる点に一つの大きな特徴があ
る。このような磁性金属板としては、従来から電磁コア
材料として用いられている電磁軟鉄板、パーメンジュー
ル板、パーマロイ板、アモルファス薄帯のような軟磁性
金属板が典型的である。

【００１３】本発明の絶縁皮膜は、上記のような磁性金
属板に被覆した後に、コア形状に応じた打ち抜き等によ
る塑性加工と、この加工による歪みを除去し磁気特性を
回復させるための磁気焼鈍とを行って電磁コアを作製す
る場合に適用すると、高性能の電磁コアを作製する上で
最も有利である。ただし本発明の絶縁皮膜は、打ち抜き
等の塑性加工後に被覆してもよいし、磁気焼鈍を行わな
い用途に適用してもよいことは言うまでもない。

【００１４】本発明の絶縁被覆磁性金属板は、例えばス
パイラル積層加工、トロイダル巻き加工等を行った後
に、電磁コア作製に必要な磁気焼鈍のような熱処理をを
施すことができる。これにより、コア作製時の加工歪み
による磁気特性の低下を回復させて高性能の電磁コアが
作製できる。また、この磁気焼鈍は、ゾル−ゲル法によ
り形成された絶縁皮膜のゲル化を更に進行させる熱処理
の役割も兼ねることができる。これにより、絶縁皮膜自
体の機械的強度と下地金属との接合強度とを更に向上さ
せることができる。

【００１５】本発明の絶縁皮膜は、金属アルコキシドの
溶液のゾル−ゲル反応により形成する。この金属アルコ
キシドは一般式Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル
基、ｎ：自然数〕で表され、Ｍ、Ｒ、ｎは特に限定する
必要はなく、ゾル−ゲル法により安定な絶縁皮膜が形成
されるものであればよい。安定な絶縁皮膜とは、打ち抜
き等による塑性加工およびその後の磁気焼鈍によって実
質的に破壊されず所期の絶縁特性を維持できるものを言
う。金属Ｍは、安定した酸化物を形成する元素が一般に
望ましく、例えばＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等であってよ
い。金属アルコキシドは、１種を単独に用いてもよい
し、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００１６】金属アルコキシド溶液中に分散させるセラ
ミックス粒子も特に限定する必要はなく、コストや製造
上の利便性等により適宜選択すればよい。一般に、アル
ミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）、シリカ（ＳｉＯ₂）、マグネシア
（ＭｇＯ）等の粉末を用いればよい。金属アルコキシド
溶液に添加する絶縁性粘性物質は、溶液の粘性を増加さ
せることにより、皮膜厚さを増大させ、またセラミック
ス粒子と共存するときにはその沈澱を抑制して溶液中に
均一に分散させ、それにより皮膜の絶縁性を高める。こ
のような作用を有する絶縁性粘性物質としては、天然粘
性物質（例えば植物粘質物としてアラビアゴム、動物粘
質物としてゼラチン）、半合成粘性物質（例えばセルロ
ール誘電体系粘性物質としてメチルセルロース）、合成
粘性物質（非イオン系、陰イオン系、陽イオン系）等を
用いることができる。

【００１７】以下に、添付図面を参照して、実施例によ
り本発明を更に詳細に説明する。

【００１８】

【実施例】

〔実施例１〕第１発明により、電磁軟鉄板、パーメンジ
ュール板、パーマロイ板、アモルファス薄帯等の磁性金
属板上に、金属アルコキシド溶液としてＴＥＯＳ（テト
ラエトキシシリコン）およびＭＴＥＯＳ（メチルトリエ
トキシシラン）のエタノール溶液を用い、ゾル−ゲル法
により絶縁皮膜を形成した。〔１〕ゾル−ゲル溶液の作成図１(1) に示した手順で、ゾル−ゲル溶液を作成した。

【００１９】すなわち、表１に示した配合組成で、金属
アルコキシドとしてのＴＥＯＳに別の金属アルコキシド
としてのＭＴＥＯＳと溶媒としてのエタノールとを順次
添加し、約３０分間攪拌して金属アルコキシド溶液を調
製した。別に、加水分解の反応体としての水に加水分解
の触媒としての０．１Ｎ塩酸を表１に示す配合組成で調
合した溶液を準備し、これを上記の金属アルコキシド溶
液に攪拌しながら徐々に添加してゾル−ゲル溶液とし
た。ここで添加を徐々に行ったのは、急激に添加すると
ゲル化してしまうからである。

【００２０】水は、加水分解の反応体の一つとして必要
であり、加水分解を起こさせるために十分な配合量とす
る。一方、塩酸は加水分解の触媒として作用し、加水分
解によるゲル化反応を起こさせるために必要であるが、
多すぎると溶液調製中にゲル化が起きてしまい、塗布が
困難になる。塗布前および塗布中のゲル化を防止し、塗
布後にゲル化反応が起きるように、適正な塩酸の配合量
とする。表１に示した塩酸の配合量の範囲はこの点を考
慮して設定したものである。〔２〕絶縁皮膜の形成連続塗布・乾燥処理による皮膜形成図３に示したように、薄帯状の磁性金属板を素材ロール
から引き出し、ゾル−ゲル溶液槽内を通して該溶液を塗
布し、引き上げながら自然乾燥後に乾燥機を通して強制
乾燥した後に、被覆材ロールに巻き取る一連の操作を連
続して行った。このような連続処理により、皮膜形成の
効率を高め、電磁コア製造コストを低減することができ
る。

【００２１】槽からの引き上げ速度は、処理効率の観点
からは速いほど望ましいが、速すぎると均質な膜が形成
できなくなる。一般に、引き上げ速度は１０mm／sec 程
度以下とすることが望ましい。この範囲で引き上げ速度
を選択することにより、皮膜厚さを制御することができ
る。皮膜厚さは薄すぎると十分な絶縁性が得らない。逆
に、厚すぎると皮膜の剥離による絶縁不良が起き易くな
る上、金属板の占積率が低下しコアの磁束密度が低下す
る。通常０．１μｍ〜２０μｍ程度が適当である。

【００２２】ゾル−ゲル溶液から引き上げた後に、自然
乾燥（例えば２分程度）を経て強制乾燥を行う処理ライ
ンが望ましい。乾燥を余り急激に行うと皮膜の密着性が
得られず剥離してしまう。強制乾燥は、１５０〜２５０
℃程度で２０分〜２時間程度行えば十分である。図３に
は示していないが、強制乾燥後に、非酸化性雰囲気で５
００℃以上、３０分以上の熱処理を行うと、皮膜自体の
機械的強度および下地金属との接合強度が顕著に向上
し、皮膜の剥離防止に極めて有効である。

【００２３】なお、図３において、皮膜形成後の帯材の
進行方向を変えるガイドドラム１および巻き取りドラム
２は、ガイド時および巻き取り時の皮膜剥離防止の観点
からドラム径を１００mm以上とすることが望ましい。こ
のようにして作製した絶縁被覆磁性金属板から電磁コア
を作製するには、コア形状に応じた打ち抜き等の塑性加
工を行った後に、積層またはインボリュート化のような
加工を行い、電磁アクチュエータ、変圧器、インダクタ
等の用途に供する。

【００２４】その際、高性能の電磁コアを得るには、打
ち抜き等の塑性加工および積層やインボリュート化等の
加工後に、これらの加工歪みによる局部的な磁気特性の
低下を回復させるための磁気焼鈍を行う必要がある。上
記強制乾燥後の熱処理をこの磁気焼鈍とを兼ねて行う
と、製造コストおよび製造効率上有利である。その場合
には、強制乾燥した状態で上記の各加工を施し、その後
に熱処理を行う。

【００２５】バッチ式塗布・乾燥処理による皮膜形
成コアが小型で作製個数が少ない場合には、上記のような
連続塗布・乾燥処理よりもバッチ式塗布・乾燥処理によ
り皮膜形成する方が適している。この場合は、まず磁性
金属板を打ち抜き等によりコア形状に応じた必要な形状
に加工した後、図４のように個々の打ち抜き材をゾル−
ゲル溶液に浸漬し、引き上げる。この浸漬に際して注意
すべきことは、打ち抜き材の保持方法である。すなわ
ち、鰐口クリップ等で掴むと、掴んだクリップ周辺の溶
液が引き上げ時に垂れて局部的に皮膜が厚くなり、その
部分が剥離し易くなる。この防止策として、例えば図５
に示したように打ち抜き材を磁石で吸着すると、液垂れ
が生じ難い。

【００２６】塗布後、乾燥以降の処理を上記と同様に
行って、絶縁被覆磁性金属板を作製する。以下の実施例
において、実施例１で最終的にゾル−ゲル溶液として作
成した表１の組成を基本液組成と呼ぶ。実施例１におい
て基本液組成のゾル−ゲル溶液により絶縁皮膜を形成し
た絶縁被覆磁性金属板の断面形態を図２(1) に模式的に
示す。〔実施例２〕第２発明により、基本液組成にセラミック
ス粒子としてアルミナ粉末を添加した表２の組成のゾル
−ゲル溶液を用い、実施例１と同じ磁性金属板上にゾル
−ゲル法により絶縁皮膜を形成した。〔１〕ゾル−ゲル溶液の作成図１(2) に示した手順で、ゾル−ゲル溶液を作成した。

【００２７】実施例１と同じ手順で基本液組成を作成し
た後、最後に平均粒径１０μｍのアルミナ粉末を表２に
示す配合組成で添加し、攪拌して均一化し、ゾル−ゲル
溶液とした。このようにセラミックス粒子であるアルミ
ナ粒子を添加することにより、積層時の金属板間隔が確
保できるため、基本液のみで形成した皮膜に比べて絶縁
性が向上する。

【００２８】添加するセラミックス粒子の粒径は、２０
μｍ程度以下とすることが望ましい。粒径が余り大きす
ぎると溶液中での分散性が悪くなり均一に塗布し難くな
り、また膜厚が増加して金属板の占積率が低下し、コア
の磁束密度が低下する。また、セラミックス粒子の配合
量は上記の効果を得るためにある程度以上必要である
が、余り多すぎると皮膜が剥離し易くなる。表２の示し
たアルミナ粒子の配合量の範囲はこの点を考慮して設定
したものである。〔２〕絶縁皮膜の形成実施例１と同様に連続塗布・乾燥処理およびバッチ
式塗布・乾燥処理によりそれぞれ皮膜を形成した。

【００２９】実施例２において基本液組成にアルミナ粒
子を添加した組成のゾル−ゲル溶液により絶縁皮膜を形
成した絶縁被覆磁性金属板の断面形態を図２(2) に模式
的に示す。〔実施例３〕第３発明により、基本液組成にポリビニル
アルコールを添加した表３の組成のゾル−ゲル溶液を用
い、実施例１と同じ磁性金属板上に絶縁皮膜を形成し
た。〔１〕ゾル−ゲル溶液の作成図１(3) に示した手順でゾル−ゲル溶液を作成した。

【００３０】先ず、表１および表３の配合組成となる量
で、純水にポリビニルアルコールを添加し、５０〜８０
℃で加熱攪拌し、透明な溶液を作成する。別に、表１の
配合組成でＴＥＯＳ、ＭＴＥＯＳ、エタノールを混合し
た溶液を作成し、これを先に作成した溶液に反応しない
ように攪拌しながら添加した。次に、０．１Ｎ塩酸を徐
々に攪拌しながら添加して、表１の基本液組成および表
３のポリビニルアルコール添加量のゾル−ゲル溶液とし
た。

【００３１】このように絶縁性粘性物質であるポリビニ
ルアルコールを添加することにより、基本液組成のみの
場合に比べてゾル−ゲル溶液の粘性が高くなり、皮膜厚
さを増大できるので、絶縁性が向上する。絶縁性粘性物
質は上記効果を得るためにある程度以上は必要である
が、余り多すぎると皮膜が厚くなり過ぎて剥離し易くな
る。表３に示したポリビニルアルコールの配合量の範囲
はこの点を考慮して設定したものである。〔２〕絶縁皮膜の形成実施例１と同様に連続塗布・乾燥処理およびバッチ
式塗布・乾燥処理によりそれぞれ皮膜を形成した。

【００３２】実施例３において基本液組成にポリビニル
アルコールを添加した組成のゾル−ゲル溶液により絶縁
皮膜を形成した絶縁被覆磁性金属板の断面形態を図２
(3) に模式的に示す。〔実施例４〕第４発明により、基本液組成にポリビニル
アルコールおよびセラミックス粒子を添加した表４の組
成のゾル−ゲル溶液を用い、実施例１と同じ磁性金属板
上に絶縁皮膜を形成した。〔１〕ゾル−ゲル溶液の作成図１(3) に示した手順でゾル−ゲル溶液を作成した。

【００３３】先ず、実施例３と同じ手順で表３のゾル−
ゲル溶液と同じ組成の溶液を作成し、最後に実施例２と
同じアルミナ粉末を添加し、表４の組成のゾル−ゲル溶
液とした。このように絶縁性粘性物質であるポリビニル
アルコールおよびセラミックス粒子であるアルミナ粒子
を添加することにより、基本液組成にセラミックス粒子
のみを添加した実施例２（第２発明）の場合に比べてゾ
ル−ゲル溶液の粘性が高くなるため、セラミックス粒子
が溶液内で沈澱せず均一に分散し易くなる作用と、基本
組成にポリビニルアルコールのみを添加した実施例３
（第３発明）の場合に比べて皮膜中にセラミックス粒子
が均一に分散するため膜厚も均一になる作用との相乗作
用により、皮膜の絶縁性が著しく向上する。〔２〕絶縁皮膜の形成実施例１と同様に連続塗布・乾燥処理およびバッチ
式塗布・乾燥処理によりそれぞれ皮膜を形成した。

【００３４】実施例４において基本液組成にポリビニル
アルコールおよびセラミックス粒子を添加した組成のゾ
ル−ゲル溶液により絶縁皮膜を形成した絶縁被覆磁性金
属板の断面形態を図２(4) に模式的に示す。

【００３５】

【表１】

【００３６】

【表２】

【００３７】

【表３】

【００３８】

【表４】

【００３９】上記の実施例１〜４でバッチ式塗布・乾燥
処理により絶縁皮膜を形成した絶縁被覆磁性金属板につ
いて、絶縁抵抗を測定した。表５に、同表中に示した組
成のゾル−ゲル溶液を用いた場合についての測定結果を
示す。ただし、溶液塗布時の引き上げ速度は１０mm／se
c 、自然乾燥３０分の後、強制乾燥を２００℃で２時間
行った後の絶縁抵抗である。測定は図６に示す方法によ
り行った。

【００４０】

【表５】

【００４１】表５に示したように、素材の磁性金属板で
は絶縁抵抗が０Ωであったのに対し、第１発明により基
本液組成（表１）を用いた実施例１（第１発明）では１
Ωの絶縁抵抗が得られ、第２発明により基本液組成にセ
ラミックス粒子としてアルミナ粉末を添加した実施例２
では３５Ω、第３発明により基本液組成に絶縁性粘性物
質としてポリビニルアルコールを添加した実施例３では
１２Ωと、それぞれ基本液組成のみの場合に比べてより
高い絶縁抵抗が得られており、更に第４発明により基本
液組成にアルミナ粉末とポリビニルアルコールとを添加
した実施例４では、絶縁抵抗が１０ＫΩと顕著に向上し
ていることが分かる。〔実施例５〕第５発明により、本発明のゾル−ゲル溶液
を磁性金属板に塗布して絶縁被覆磁性金属板を作製する
例を説明する。

【００４２】先ず磁性金属板を所望形状に打ち抜き、こ
の打ち抜き材を積層あるいはインボリュート化によりコ
ア状に形成し、これをゾル−ゲル溶液に浸漬した状態で
真空含浸を行う。その際に、先ず所望形状の打ち抜き材
に、エタノール、アセトン等の有機溶剤またはこれらの
溶剤に有機ろう材を添加した溶液にセラミックス粒子を
添加した液を塗布すれば、積層した板間の間隙を確保で
きるので、ゾル−ゲル溶液を容易に真空含浸できる。こ
れに自然乾燥および強制乾燥後、磁気焼鈍を兼ねた熱処
理を施すことにより、皮膜自体の機械的強度および下地
金属との接合強度が高く、実施例２と同様にセラミック
ス粒子添加による絶縁性向上により高性能の電磁コアが
作製される。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
磁性金属板の組成に係わらず塑性加工および磁気焼鈍に
耐えて安定に絶縁特性を維持できる絶縁皮膜を備えた絶
縁被覆磁性金属板およびその製造方法が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１(1) 〜(4) は、第１発明〜第４発明により
それぞれゾル−ゲル溶液を作成する手順を示す工程図で
ある。

【図２】図２(1) 〜(4) は、第１発明〜第４発明による
ゾル−ゲル溶液を用いてそれぞれ絶縁皮膜を形成した絶
縁被覆磁性金属板の断面形態を模式的に示す断面図であ
る。

【図３】図３は、本発明のゾル−ゲル溶液を磁性金属板
に連続的に塗布および乾燥する装置を模式的に示す断面
図である。

【図４】図４は、本発明のゾル−ゲル溶液を磁性金属板
にバッチ式で塗布する装置を模式的に示す断面図であ
る。

【図５】図５は、図４のバッチ式塗布において磁性金属
板を磁力保持する装置を模式的に示す正面図である。

【図６】図６は、絶縁皮膜の絶縁抵抗を測定する装置を
模式的に示す配置図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】金属または合金から成る磁性金属板の表
面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：
自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液を用いゾル
−ゲル法により形成された絶縁皮膜を設けたことを特徴
とする絶縁被覆磁性金属板。
【請求項２】金属または合金から成る磁性金属板の表
面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：
自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液にセラミッ
クス粒子を分散させた溶液を用いゾル−ゲル法により形
成された絶縁皮膜を設けたことを特徴とする絶縁被覆磁
性金属板。
【請求項３】金属または合金から成る磁性金属板の表
面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：
自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液に絶縁性粘
性物質を添加した溶液を用いゾル−ゲル法により形成さ
れた絶縁皮膜を設けたことを特徴とする絶縁被覆磁性金
属板。
【請求項４】金属または合金から成る磁性金属板の表
面に、Ｍ（ＯＲ）ｎ〔Ｍ：金属、Ｒ：アルキル基、ｎ：
自然数〕で表される金属アルコキシドの溶液にセラミッ
クス粒子を分散させ且つ絶縁性粘性物質を添加した溶液
を用いゾル−ゲル反応により形成された絶縁皮膜を設け
たことを特徴とする絶縁被覆磁性金属板。
【請求項５】請求項２記載の絶縁被覆磁性金属板を製
造する方法であって、該磁性金属板の表面に該セラミッ
クス粒子を塗布した後に、該磁性金属板を積層しあるい
は巻いて、該セラミックス粒子により該磁性金属板同士
の間に形成された間隙に、該金属アルコキシドの溶液を
含浸させ、該ゾル−ゲル反応を行わせることを特徴とす
る絶縁被覆磁性金属板の製造方法。