JPH1025277A - ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 - Google Patents

ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法

Info

Publication number
JPH1025277A
JPH1025277A JP18310896A JP18310896A JPH1025277A JP H1025277 A JPH1025277 A JP H1025277A JP 18310896 A JP18310896 A JP 18310896A JP 18310896 A JP18310896 A JP 18310896A JP H1025277 A JPH1025277 A JP H1025277A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phenol
dichlorobenzene
dihydroxydiphenyl sulfone
reaction
isomer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP18310896A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3890387B2 (ja
Inventor
Eiji Ogata
栄治 尾形
Norio Yanase
典男 柳瀬
Nobuyuki Nate
伸之 名手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konishi Chemical Ind Co Ltd
Original Assignee
Konishi Chemical Ind Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konishi Chemical Ind Co Ltd filed Critical Konishi Chemical Ind Co Ltd
Priority to JP18310896A priority Critical patent/JP3890387B2/ja
Publication of JPH1025277A publication Critical patent/JPH1025277A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3890387B2 publication Critical patent/JP3890387B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高純度の2,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンと4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン
とを工業的に有利に併産することのできる方法を提供す
る。 【解決手段】 スルホン化剤とフェノールとを脱水反応
させてジヒドロキシジフェニルスルホンを製造するに当
たり、スルホン化剤1モルに対してフェノール2.0〜
4.0モルを、ジヒドロキシジフェニルスルホンの理論
収量の2.0〜6.5倍重量のo−ジクロロベンゼン溶
媒中で反応させ、反応終了時に、反応液中の未反応フェ
ノールとo−ジクロロベンゼンとの合計量に対する未反
応フェノールの割合を2〜20重量%とするとともに、
未反応フェノールとo−ジクロロベンゼンとの合計量を
ジヒドロキシジフェニルスルホンの理論収量の2.0〜
7.0倍重量とし、この反応液から80〜160℃で
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを析出させ
て分離し、次いで濾液から2,4′−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホンを単離する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高純度の2,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホンと4,4′−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンとを併産する方法に関する。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】2,4′
−ジヒドロキシジフェニルスルホン(以下、2,4′体
ともいう)は、様々なフェノール系化合物の中でも、感
熱紙用顕色剤として極めて有用であり、最近注目されて
いる。例えば、発色物質としてロイコ染料を含有し、顕
色物質として2,4′体を主成分として含有する感熱記
録材料においては、発色部の可塑剤による劣化や光によ
る劣化が防止でき、低エネルギーによっても充分な濃度
で発色するという効果がある。
【0003】この2,4′体の製造方法としては、ホス
ホン酸やホスフィン酸を触媒として用いてフェノールと
硫酸とを脱水反応させる方法が知られている(特開平6-
107622号)。
【0004】しかしながら、この方法においては、触媒
を用いて反応させて2,4′体の選択率を高めているも
のの、得られた異性体混合物から2,4′体や4,4′
体(4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン)を単
離するためには、さらに複雑な分離・精製工程が必要で
ある(特開平6-107623号)。
【0005】本発明の課題は、触媒を用いることなく、
しかも複雑な分離・精製工程を必要とせずに2,4′体
と4,4′体とを容易に単離することができ、高純度の
2,4′体と4,4′体とを工業的に有利に併産するこ
とのできる方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、スルホン化剤
とフェノールとを脱水反応させてジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを製造するに当たり、スルホン化剤1モルに
対してフェノール2.0〜4.0モルを、ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの理論収量の2.0〜6.5倍重量
のo−ジクロロベンゼン溶媒中で反応させ、反応終了時
に、反応液中の未反応フェノールとo−ジクロロベンゼ
ンとの合計量に対する未反応フェノールの割合を2〜2
0重量%とするとともに、未反応フェノールとo−ジク
ロロベンゼンとの合計量をジヒドロキシジフェニルスル
ホンの理論収量の2.0〜7.0倍重量とし、この反応
液から80〜160℃で4,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンを析出させて分離し、次いで濾液から2,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを単離すること
を特徴とするジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方
法である。
【0007】本発明の製造方法によれば、2,4′体と
4,4′体との生成比率を重量比で50:50近くまで
高めることができ、しかも2,4′体と4,4′体とを
容易に単離することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明において用いられるスルホ
ン化剤としては、例えば濃硫酸、無水硫酸、発煙硫酸、
クロロスルホン酸等が挙げられる。好ましいスルホン化
剤は、濃硫酸である。
【0009】スルホン化剤とフェノールとの使用割合
は、スルホン化剤1モルに対し、フェノールが2.0〜
4.0モル、好ましくは2.1〜2.7モルである。フ
ェノールの使用割合が、スルホン化剤1モルに対し、
2.0モル未満だと4,4′体およびスルホン酸類が増
加し、4.0モルを超えると収率が低下し、4,4′体
と2,4′体の効率的な分離ができなくなる。
【0010】また、o−ジクロロベンゼンの使用量は、
ジヒドロキシジフェニルスルホンの理論収量の2.0〜
6.5倍重量、好ましくは2.5〜4.0倍重量であ
る。o−ジクロロベンゼンの使用量が、ジヒドロキシジ
フェニルスルホンの理論収量の2.0倍重量未満だと
4,4′体と2,4′体の効率的な分離ができなくな
り、6.5倍重量を超えると容量が大きくなり、経済性
の面からも好ましくない。
【0011】スルホン化剤とフェノールとの使用割合、
およびo−ジクロロベンゼンの使用量が上記の範囲内で
あれば、2,4′体と4,4′体との生成比率を重量比
で50:50近くまで高めることができる。
【0012】反応温度は、特に限定されないが、150
〜185℃とするのが好ましい。また、反応時間も、特
に限定されないが、3〜20時間とするのが好ましい。
反応系外に水を留去させて、脱水反応を進行させ、加熱
しても水が留去しなくなった時点で反応を終了させる。
【0013】反応終了時の反応液は、2,4′体、4,
4′体、トリ体(トリヒドロキシトリフェニルジスルホ
ン)、スルホン酸類、未反応フェノールおよびo−ジク
ロロベンゼンの混合液であり、本発明においては、晶析
温度における溶解度の違いを利用して、この混合液から
2,4′体と4,4′体を単離する。その際に、反応終
了時の反応液中の未反応フェノールとo−ジクロロベン
ゼンとの合計量に対する未反応フェノールの割合を2〜
20重量%とするとともに、未反応フェノールとo−ジ
クロロベンゼンとの合計量をジヒドロキシジフェニルス
ルホンの理論収量の2.0〜7.0倍重量とする。好ま
しくは、未反応フェノールとo−ジクロロベンゼンとの
合計量に対する未反応フェノールの割合を2〜10重量
%とするとともに、未反応フェノールとo−ジクロロベ
ンゼンとの合計量をジヒドロキシジフェニルスルホンの
理論収量の2.5〜4.5倍重量とする。
【0014】反応終了時の反応液における未反応フェノ
ールとo−ジクロロベンゼンとの合計量に対する未反応
フェノールの割合、およびジヒドロキシジフェニルスル
ホンの理論収量に対する未反応フェノールとo−ジクロ
ロベンゼンとの合計量の割合が上記の範囲内であれば、
2,4′体と4,4′体とを容易に単離することができ
る。
【0015】すなわち、反応終了後に、反応液を80〜
160℃に冷却して4,4′体を析出させて濾過等によ
り分離し、次いで、濾液から2,4′体を単離すること
ができる。濾液から2,4′体を単離するには、(1)濾
液をさらに冷却して2,4′体を析出させて濾過する
か、(2)濾液に水と塩基性アルカリ金属化合物を加え、
水相に2,4′体を溶解させて有機相と分離した後に、
水相に酸を加えて2,4′体を析出させて濾過するか、
または、(3)濾液を蒸発乾固させて2,4′体を取得す
ることができる。
【0016】
【実施例】
実施例1 フェノール216.4g(2.3モル)およびo−ジク
ロロベンゼン(o−DCB)975g(ジヒドロキシジ
フェニルスルホンの理論収量の3.9倍重量)の混合物
に撹拌下で98%硫酸100.0g(1.0モル)を滴
下した後に昇温した。150℃付近で反応液が沸騰し始
め、o−DCBとともに反応生成水が留出し始めた。留
出物はコンデンサーで凝縮されてトラップで2相に分離
され、下相のo−DCB相は連続的に反応系内に戻され
た。昇温から約5時間後に、反応系の温度が180℃に
なり、水の生成が停止して、トラップの水量が38ml
で一定化した。この時点で反応液をガスクロマトグラフ
ィーにより分析すると、反応液中の未反応フェノールと
o−DCBとの合計量に対する未反応フェノールの割合
が4.8重量%であり、未反応フェノールとo−DCB
との合計量がジヒドロキシジフェニルスルホンの理論収
量の4.1倍重量であった。
【0017】また、この時点で反応液を高速液体クロマ
トグラフィーにより分析した結果、反応物の組成は、重
量比で2,4′体:4,4′体:トリ体=47.3:4
9.3:3.4であった。
【0018】次いで、反応液を120℃まで冷却し、同
温度にて30分撹拌した後に、析出した結晶を濾別して
ウェットケーキ(A)122.0gを得た。さらに、濾
液を25℃まで冷却した後に、析出した結晶を濾別して
ウェットケーキ(B)234.8gを得た。ウェットケ
ーキ(A)の高速液体クロマトグラフィーによる分析結
果(o−DCBを除く)は、重量比で、2,4′体:
4,4′体:トリ体=4.8:94.3:0.9であ
り、使用硫酸に対する収率(乾燥品として計算)は4
2.4%であった。また、ウェットケーキ(B)の高速
液体クロマトグラフィーによる分析結果(o−DCBを
除く)は、重量比で、2,4′体:4,4′体:トリ体
=85.8:8.6:5.6であり、使用硫酸に対する
収率(乾燥品として計算)は46.9%であった。ウェ
ットケーキ(A)および(B)の使用硫酸に対する収率
(乾燥品として計算)は89.3%であった。
【0019】実施例2 実施例1と同様にして反応を行った後、反応液を120
℃まで冷却し、析出した結晶を濾別してウェットケーキ
(A)122.0gを得た。この濾液に水350mlと
48%NaOH水溶液78.0gとを加え、50℃で完
全に溶解させた後に静置して分液し、下相の有機相を除
去した。次いで、水相に65%硫酸70.0gを加え、
析出した結晶を25℃で濾別した後、水洗・乾燥して乾
燥品(C)119gを得た。ウェットケーキ(A)の高
速液体クロマトグラフィーによる分析結果(o−DCB
を除く)は、重量比で、2,4′体:4,4′体:トリ
体=4.8:94.3:0.9であり、使用硫酸に対す
る収率(乾燥品として計算)は42.4%であった。ま
た、乾燥品(C)の高速液体クロマトグラフィーによる
分析結果は、重量比で、2,4′体:4,4′体:トリ
体=86.0:8.5:5.5であり、使用硫酸に対す
る収率は47.1%であった。ウェットケーキ(A)お
よび乾燥品(C)の使用硫酸に対する収率(乾燥品とし
て計算)は89.5%であった。
【0020】比較例1 フェノール282.3g(3.0モル)およびo−DC
B250g(ジヒドロキシジフェニルスルホンの理論収
量の1.0倍重量)の混合物に撹拌下で98%硫酸10
0.0g(1.0モル)を滴下した後に昇温した。15
0℃付近で反応液が沸騰し始め、o−DCBとともに反
応生成水が留出し始めた。留出物はコンデンサーで凝縮
されてトラップで2相に分離され、下相のo−DCB相
は連続的に反応系内に戻された。昇温から約5時間後
に、反応系の温度が180℃になり、水の生成が停止し
て、トラップの水量が37mlで一定化した。この時点
で反応液をガスクロマトグラフィーにより分析すると、
反応液中の未反応フェノールとo−DCBとの合計量に
対する未反応フェノールの割合が29.3重量%であ
り、未反応フェノールとo−DCBとの合計量がジヒド
ロキシジフェニルスルホンの理論収量の1.6倍重量で
あった。
【0021】また、この時点で反応液を高速液体クロマ
トグラフィーにより分析した結果、反応物の組成は、重
量比で2,4′体:4,4′体:トリ体=30.9:6
8.4:0.7であった。
【0022】次いで、反応液を120℃まで冷却し、同
温度にて30分撹拌した後に、析出した結晶を濾別して
ウェットケーキ(A)153.9gを得た。さらに、濾
液を25℃まで冷却した後に、析出した結晶を濾別して
ウェットケーキ(B)132.7gを得た。ウェットケ
ーキ(A)の高速液体クロマトグラフィーによる分析結
果(o−DCBを除く)は、重量比で、2,4′体:
4,4′体:トリ体=11.7:88.1:0.2であ
り、使用硫酸に対する収率(乾燥品として計算)は5
3.5%であった。また、ウェットケーキ(B)の高速
液体クロマトグラフィーによる分析結果(o−DCBを
除く)は、重量比で、2,4′体:4,4′体:トリ体
=62.2:36.4:1.4であり、使用硫酸に対す
る収率(乾燥品として計算)は31.8%であった。ウ
ェットケーキ(A)および(B)の使用硫酸に対する収
率(乾燥品として計算)は85.3%であった。
【0023】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、2,4′体
と4,4′体との生成比率を重量比で50:50近くま
で高めることができ、しかも2,4′体と4,4′体と
を容易に単離することができるので、高純度の2,4′
体と4,4′体とを工業的に有利に併産することができ
る。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 スルホン化剤とフェノールとを脱水反応
    させてジヒドロキシジフェニルスルホンを製造するに当
    たり、スルホン化剤1モルに対してフェノール2.0〜
    4.0モルを、ジヒドロキシジフェニルスルホンの理論
    収量の2.0〜6.5倍重量のo−ジクロロベンゼン溶
    媒中で反応させ、反応終了時に、反応液中の未反応フェ
    ノールとo−ジクロロベンゼンとの合計量に対する未反
    応フェノールの割合を2〜20重量%とするとともに、
    未反応フェノールとo−ジクロロベンゼンとの合計量を
    ジヒドロキシジフェニルスルホンの理論収量の2.0〜
    7.0倍重量とし、この反応液から80〜160℃で
    4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを析出させ
    て分離し、次いで濾液から2,4′−ジヒドロキシジフ
    ェニルスルホンを単離することを特徴とするジヒドロキ
    シジフェニルスルホンの製造方法。
  2. 【請求項2】 スルホン化剤1モルに対してフェノール
    2.1〜2.7モルを、ジヒドロキシジフェニルスルホ
    ンの理論収量の2.5〜4.0倍重量のo−ジクロロベ
    ンゼン溶媒中で反応させることを特徴とする請求項1に
    記載の方法。
  3. 【請求項3】 反応終了時に、反応液中の未反応フェノ
    ールとo−ジクロロベンゼンとの合計量に対する未反応
    フェノールの割合を2〜10重量%とするとともに、未
    反応フェノールとo−ジクロロベンゼンとの合計量をジ
    ヒドロキシジフェニルスルホンの理論収量の2.5〜
    4.5倍重量とすることを特徴とする請求項1または2
    に記載の方法。
JP18310896A 1996-07-12 1996-07-12 ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 Expired - Fee Related JP3890387B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18310896A JP3890387B2 (ja) 1996-07-12 1996-07-12 ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18310896A JP3890387B2 (ja) 1996-07-12 1996-07-12 ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1025277A true JPH1025277A (ja) 1998-01-27
JP3890387B2 JP3890387B2 (ja) 2007-03-07

Family

ID=16129921

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18310896A Expired - Fee Related JP3890387B2 (ja) 1996-07-12 1996-07-12 ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3890387B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003029203A1 (fr) * 2001-09-28 2003-04-10 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Procede de production d'un melange d'isomeres de dihydroxydiphenylsulfone
WO2003029204A1 (fr) * 2001-09-28 2003-04-10 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Procede pour produire un melange d'isomeres de dihydroxydiphenylsulfone
WO2003062194A1 (fr) * 2002-01-23 2003-07-31 Nicca Chemical Co., Ltd. Procede pour produire du sulfone 2,4'-dihydroxydiphenylique
WO2003068733A1 (fr) * 2002-02-15 2003-08-21 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Procede de fabrication de melanges isomeriques de dihydroxydiphenyle-sulfone
WO2003091206A1 (fr) * 2002-04-25 2003-11-06 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Procede de production de dihydroxydiphenyle sulfone
JP2005263942A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Sumitomo Bakelite Co Ltd フォトレジスト用フェノール樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物
DE112010004627T5 (de) 2009-12-01 2013-01-17 Ratanakar Hemant Bandodkar Verfahren zur Herstellung eines Sulfonmonomers
WO2021187215A1 (ja) * 2020-03-16 2021-09-23 小西化学工業株式会社 ジフェニルスルホン化合物の製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6965054B2 (en) 2001-09-28 2005-11-15 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Process for producing mixture of dihydroxydiphenylsulfone isomers
WO2003029204A1 (fr) * 2001-09-28 2003-04-10 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Procede pour produire un melange d'isomeres de dihydroxydiphenylsulfone
WO2003029203A1 (fr) * 2001-09-28 2003-04-10 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Procede de production d'un melange d'isomeres de dihydroxydiphenylsulfone
US6861562B2 (en) 2001-09-28 2005-03-01 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Process for producing mixture of dihydroxydiphenylsulfone isomers
WO2003062194A1 (fr) * 2002-01-23 2003-07-31 Nicca Chemical Co., Ltd. Procede pour produire du sulfone 2,4'-dihydroxydiphenylique
CN100393697C (zh) * 2002-01-23 2008-06-11 日华化学株式会社 制备2,4'-二羟基二苯砜的方法
US7189880B2 (en) 2002-01-23 2007-03-13 Nicca Chemical Co., Ltd. Process for producing 2,4′-dihydroxydiphenylsulfone
WO2003068733A1 (fr) * 2002-02-15 2003-08-21 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Procede de fabrication de melanges isomeriques de dihydroxydiphenyle-sulfone
WO2003091206A1 (fr) * 2002-04-25 2003-11-06 Konishi Chemical Ind. Co., Ltd. Procede de production de dihydroxydiphenyle sulfone
JP2005263942A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Sumitomo Bakelite Co Ltd フォトレジスト用フェノール樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物
JP4661064B2 (ja) * 2004-03-18 2011-03-30 住友ベークライト株式会社 フォトレジスト用フェノール樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物
DE112010004627T5 (de) 2009-12-01 2013-01-17 Ratanakar Hemant Bandodkar Verfahren zur Herstellung eines Sulfonmonomers
WO2021187215A1 (ja) * 2020-03-16 2021-09-23 小西化学工業株式会社 ジフェニルスルホン化合物の製造方法
KR20220002677A (ko) * 2020-03-16 2022-01-06 고니시가가꾸고오교가부시끼가이샤 디페닐설폰 화합물의 제조 방법
US11634386B2 (en) 2020-03-16 2023-04-25 Konishi Chemical Ind. Co. Ltd. Method for producing diphenylsulfone compound

Also Published As

Publication number Publication date
JP3890387B2 (ja) 2007-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1025277A (ja) ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法
KR100261980B1 (ko) 히드록시안식향산의 제조방법
JPH04145061A (ja) 高純度4,4´―ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造法
US4404140A (en) Manufacture of alkylanthraquinones
JP3486633B2 (ja) 2,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの精製法
JPS632256B2 (ja)
JP4226258B2 (ja) 2,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法
JP4124319B2 (ja) 2,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法
JP2965755B2 (ja) 2,6−ジ−t−ブチル−4−メルカプト−フェノールの製造方法
US4153632A (en) 2-Methyl-3-nitrobenzophenone
JPS5855452A (ja) 1−ナフチルアミン−4,8−ジスルホン酸の製造方法
WO1991004245A1 (en) Process for preparing 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone
US4242275A (en) Process for the preparation of isomer-free toluene-4-sulfonic acid
JP2815071B2 (ja) ジクロロジフェニルスルホンの製造方法
EP0461272B1 (en) Process for producing 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone
JPS6154027B2 (ja)
RU2066323C1 (ru) Способ получения флуоранов
SU899542A1 (ru) Способ получени ароматических моносульфохлоридов
SU1740365A1 (ru) Способ получени м-феноксифенола
JPS60163854A (ja) ジフエニル‐4,4′‐ジスルフオン酸の製造法
JPH045252A (ja) 4,4’‐ジヒドロキシ‐3,3’,5,5’‐テトラメチルジフェニルメタンの製造方法
JP3903269B2 (ja) 低融点型の2−アニリノ−3−メチル−6−(n−エチル−n−イソペンチルアミノ)フルオランの製造法
SU755780A1 (ru) Способ получения дифенила 4-сульфохлорида 1
SU649701A1 (ru) Способ получени 2-хлорантрахинона
SU1657492A1 (ru) Способ получени пара-этилбензолсульфокислоты

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060719

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060913

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061018

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061106

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101215

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111215

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111215

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121215

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121215

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131215

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees