JPS6154027B2 - - Google Patents

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JPS6154027B2
JPS6154027B2 JP53161335A JP16133578A JPS6154027B2 JP S6154027 B2 JPS6154027 B2 JP S6154027B2 JP 53161335 A JP53161335 A JP 53161335A JP 16133578 A JP16133578 A JP 16133578A JP S6154027 B2 JPS6154027 B2 JP S6154027B2
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hydroxy
water
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benzimidazolone
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JP53161335A
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English (en)
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JPS5498762A (en
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Arunto Otsutoo
Meesu Berunharuto
Toronihi Uorufugangu
Deiitsu Eeritsuhi
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Hoechst AG
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Hoechst AG
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Publication date
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Publication of JPS5498762A publication Critical patent/JPS5498762A/ja
Publication of JPS6154027B2 publication Critical patent/JPS6154027B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B29/00Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling
    • C09B29/10Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group
    • C09B29/18Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group ortho-Hydroxy carbonamides
    • C09B29/20Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing hydroxy as the only directing group ortho-Hydroxy carbonamides of the naphthalene series
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D235/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
    • C07D235/02Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D235/04Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
    • C07D235/24Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
    • C07D235/26Oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0001Post-treatment of organic pigments or dyes
    • C09B67/0014Influencing the physical properties by treatment with a liquid, e.g. solvents
    • C09B67/0015Influencing the physical properties by treatment with a liquid, e.g. solvents of azoic pigments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/0025Crystal modifications; Special X-ray patterns

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 5―(2′―ヒドロキシ―3′―ナフトイル―アミ
ノ)―ベンゾイミダゾロン―(2)をアゾ顔料用カツ
プリング成分として使用することは、例えば西ド
イツ特許明細書第1188229.号から公知である。併
しこの特許明細書中ではカツプリング成分の製造
に関する記載は存在しない。この化合物を2―ヒ
ドロキシ―3―ナフトエ酸と5―アミノベンゾイ
ミダゾロン―(2)を例えば西ドイツ特許明細書第
2405986号に記載の如き常法により即ち非極性有
機溶剤中で縮合して製造すれば、かなり不純な、
ろ過し難い生成物が得られる。この粗生成物は、
高堅牢性顔料を製造するための出発材料に対する
必要条件を満たさず、それ故別の精製法に於て精
製せねばならぬ。このためには原料を一般に水性
アルカリ溶液によりアルカリ塩に変えそしてその
溶液から鉱酸で沈澱させる。この様にして得られ
る沈澱生成物は、以下に「白色変態」と称する、
灰色乃至白色結晶の形で得られそして顔料の製造
に適する。追加的な時間の消費及び収率の損失と
結び付いておりそして廃水後処理を必要とする粗
生成物の経費のかかる精製は別として、公知方法
は又、縮合中生成懸濁液の撹拌が可能であること
を保証するために、著量の溶剤を必要とする限り
ではなお不利である。更に公知方法は非常に長い
反応時間を必要としそして不十分な収率を与え
る。その上生成物はろ過し難い。
本発明者は、5―(2′―ヒドロキシ―3′―ナフ
トイル―アミノ)―ベンゾイミダゾロン―(2)がな
お、その色に基いて以下に「黄色変態」と称され
る別の結晶変態で存在することを見出した。この
新規な変態は、次の格子面間隔(10-10m): 3.12;3.26;3.37;3.46;3.58;3.75;4.64;
5.26;5.43;5.93;6.47;8.74及び13.10を有する
結晶格子を特徴としている。この新規な黄色変態
は公知の「白色変態」に比較して、価値の高いア
ゾ顔料の製造に直接使用し得る、非常に純粋な形
で容易に得られると云う点で優れている。更に黄
色変態は、凝集する傾向を示さない、緻密なうろ
こ状結晶形で得られ、それ故懸濁液中で容易に撹
拌できそして著しく容易にろ過し得ると云う点で
優れている。
本発明による黄色結晶変態は、2―ヒドロキシ
―3―ナフトエ酸と5―アミノ―ベンゾイミダゾ
ロン―(2)を有機の極性非プロトン溶剤中で100℃
以上の温度で縮合するとにより簡単に得られる。
この反応媒体から結晶せる生成物は反応混合物か
ら不純物を混入せず又不純物を吸収しない。更に
本方法は優れた空間―時間―収率を示しそして廃
水が生じない。溶剤は母液から公知方法により簡
単に回収することができる。
反応媒体として、出発材料を反応条件下完全に
溶解するが併し他方生成物を容易に結晶させそし
てこの母液から溶剤を良好に回収し得る溶剤を選
択するのが好ましい。好ましい溶剤はジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、テトラメチレンスルホン(スルホラ
ン)、テトラメチル尿素、ヘキサメチル燐酸トリ
スアミド、そして特にN―メチルピロリドン併し
又例えばピコリンである。公知の方法で使用され
る非極性溶剤と比較して本発明により使用せる極
性非プロトン溶剤については比較的少ない量が必
要であるに過ぎず、これは空間―時間―収率の改
善に寄与する。
以下に本発明による方法の好ましい若干の態様
を詳述する: 2―ヒドロキシ―3―ナフトエ酸を上記溶剤中
で無機又は有機塩基を用いて一部又は全部塩に変
える。無機塩基としてはアルカリ金属の水酸化物
又は炭酸塩殊に水酸化ナトリウム又は炭酸ナトリ
ウムが使用される。有機塩基としては窒素複素環
体例えばピリジン又はピコリンが適当であり、こ
れは場合により又溶剤として使用することができ
る。縮合媒体としてN―メチルピロリドンを使用
する場合も塩基の添加は不必要であるが、塩基を
添加すると一層高い収率が得られる。水酸化物の
使用の際生成せる中和水は反応媒体から分離し、
殊に真空中で留出する。
使用せる5―アミノベンゾイミダゾロン―(2)は
乾燥固体として、水含有ろ過ケーキとして又は極
性非プロトン有機溶剤中の溶液として2―ヒドロ
キシ―3―ナフトエ酸の中和前又は中和後添加す
ることができる。
水の分離が必要である場合には、これは有利に
は蒸留的脱水として窒素ふん囲気下5乃至150ミ
リバールの真空中で併し殊に20乃至80ミリバール
で60乃至140℃特に85乃至120℃の温度範囲で実施
される。
2―ヒドロキシ―3―ナフトエ酸は一般に20モ
ル%までの過剰で使用される、塩基が添加されれ
ばこれについて5―アミノベンゾイミダゾロン―
(2)に対し約120当量%まで併し殊に80―120当量%
の量で使用される。
極性非プロトン有機溶剤は、場合によつて行わ
れる脱水後生成物に対し200乃至400殊に300重量
%が存在する様な量で使用される。
本反応は殊に一段階法若しくはワンポツト法で
実施され、その場合普通の酸性縮合剤が添加され
る。脱水が行われる限り、縮合剤は脱水後すぐ添
加される。この様な普通の酸性縮合剤として、殊
に強鉱酸のハロゲン化物特に三塩化燐が5―アミ
ノ―ベンゾイミダゾロン―(2)に対し60モル%まで
特に30乃至60%就中47モル%の使用量で使用され
る。
たとえ一般に特別には有利でなくても、本反応
は二段階法で実施することも可能である。この場
合先ず5―アミノベンゾイミダゾロン―(2)を三塩
化燐と反応させそしてこの様にして限られた燐化
合物を2―ヒドロキシ―3―ナフトエ酸と反応さ
せることができる。二段階法の他の実施態様は、
2―ヒドロキシ―3―ナフトエ酸から先ず酸クロ
リドを製造しそしてこれを次に5―アミノ―ベン
ゾイミダゾロン―(2)と反応させることに在る。
殊に好ましいワンポツト法の場合2―ヒドロキ
シ―3―ナフトエ酸のナトリウム塩及び5―アミ
ノ―ベンゾイミダゾロン―(2)からなる脱水混合物
に縮合剤特に三塩化燐を20乃至150℃の温度で加
えそして反応を恆温条件下先ず殊に105乃至110℃
で次に125乃至150℃就中140乃至150℃で或は断熱
条件下殊に105乃至150℃就中140乃至150℃で実施
する。生成物は縮合の間に有利には105乃至120℃
殊に110乃至115℃の温度で晶出する。この様にし
て得られる稀薄な乃至適度に濃い、良好に撹拌し
得るレモン色懸濁液を1乃至4時間殊に2時間
120乃至150℃殊に145℃で後撹拌する。次いでこ
れに生成物の晶出の完全化のために徐々に水を
110乃至70℃で加える。
次に分離せる生成物を20乃至90℃殊に50℃の温
度でろ過し、次いで有機溶剤及び水からなる混合
物で次に水、水性アルカリ溶液殊にアルカリ水素
炭酸塩の溶液で最後に尚水で洗う。収率は理論値
の95%の範囲にある。
更に本発明者は、非極性溶剤中で縮合しそして
水性―アルカリ性溶液から酸で再結晶させた後得
られる、最初に記載せる「白色変態」も、これを
100乃至300℃の温度に約1乃至8時間加熱すれ
ば、本発明による「黄色変態」に変え得ることを
見出した。この場合乾燥物質ではなく懸濁液を適
当な有機液体中で加熱するのが好ましい。この場
合、場合により存在する白色形の不純物を溶解す
る液体特に有機の極性非プロトン溶剤例えばN―
メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ピコ
リン又はその様な溶剤の混合物を選択するのが有
利である。
以下に本発明による方法の好ましい実施態様を
詳述する: 「白色変態」は、乾燥物質として又は白色ろ過
ケーキとして適当な溶剤殊にN―メチルピロリド
ン中の懸濁液に変えそして約2時間100乃至150殊
に130℃に加熱する。この場合溶剤は、加熱時固
体の大部分が不溶であるが併し懸濁液はなお良好
に撹拌し得るほどの量で使用される。
好ましいN―メチルピロリドンの場合出発材料
1重量部当り10重量部まで使用する。当然定量的
変換に必要な時間は、温度に依存しそして約150
℃での数分間と100℃での数時間との間にある。
出発材料が水性ろ過ケーキの形で使用されれば、
水を予め常法により分離する。変換の最後は試料
の採取によりそしてその顕微鏡的及びX線的評価
により確認することができる。
次の例では部及びパーセントの記載は、特記し
ない限り、重量に関する。
例 1 N―メチルピロリドン(=NMP)550部に5―
アミノベンゾイミダゾロン―(2)(約70% 水湿潤
物として)75部及び2―ヒドロキシ―3―ナフト
エ酸115部を溶かす。一部炭酸ナトリウム23部で
中和しそして窒素ふん囲気下20乃至80ミリバール
の真空中で120℃までの底部温度で水(水/NMP
―混合物約150部の形で)を留出する。留出せる
H2O/NMP―混合物中NMPの含有率は、屈折率
及び検量線により測定しそして留出せるNMPは
純NMPの形で補充する(一般に約50部)。
次いで20―30分以内にHCのない純三塩化燐
32部を弱冷却下反応混合物の表面上に、温度が
105―110℃のまゝである様に、滴加する。更に10
―30分後145℃に加熱する。2時間この温度で後
撹拌し、約100―110℃に冷却しそして徐々に水
500部を流入させる。生成物を50℃でろ別しそし
て50℃で順々にNMP―水―混合物(1:1)300
部、水500部、炭酸水素ナトリウムの2%溶液500
部及び再び水500部で洗滌する。5―(2′―ヒド
ロキシ―3′―ナフトイル―アミノ)―ベンゾイミ
ダゾロン―(2)(以下に「ナフトロン」と称され
る)150部(=理論値の94%)が約60―70%の黄
色水性生成物の形で得られる。生成物を真空中で
60―120℃で乾燥する。
X線回折スペクトル(CuKα)は次の照角を
有する反射を示す(強度はw=弱、m=中、s=
強、vs=非常に強により示される): 3.4(m)、5.1(m)、6.85(vs)、7.5(m)、8.2
(s)、8.45(w)、9.6(w)、11.9(w)、12.45
(m)、12.9(s)、13.2(s)、13.7(m)及び
14.3(w)。
これからは次の格子面間隔(10-10m)が判明
する: 16.1;8.74;6.47;5.93;5.43;5.26;4.64;
3.75;3.58;3.46;3.37;3.26及び3.12。
例 2 例1を繰り返すが、但し炭酸ナトリウムの代り
に33%苛性ソーダ液68部を2―ヒドロキシ―3―
ナフトエ酸の部分的中和に使用する。収率及びX
線回折スペクトルは例1に於て示された記載に相
当する。
例 3 テトラメチレンスルホン(スルホラン)1300部
に5―アミノベンゾイミダゾロン―(2)(約70%
水湿潤物として)75部、2―ヒドロキシ―3―ナ
フトエ酸115部及び33%苛性ソーダ液68部を導入
する。135℃の底部温度にまで15ミリバールで水
を留出させた後三塩化燐32部を流入させる。短時
間後ナフトロンがその黄色変態で晶出する。懸濁
液を尚3時間135℃で後撹拌しそして50℃で加圧
過器を通してろ過する。スルホラン300部で、
次に水1000部で洗滌しそしてろ過物を真空中120
℃で乾燥する。乾燥ナフトロン150部(理論値の
94%に相当する)が得られる。X線スペクトルは
例1に於て示された記載に相当する。
例 4 ホーロー引き撹拌式釜(360)中でNMP(工
業用)110Kgを仕込み、順次5―アミノベンゾイ
ミダゾロン―(2)(含有率93%、工業用湿潤物)16
Kg、2―ヒドロキシ―3―ナフトエ酸23Kg及び無
水炭酸ナトリウム4.5Kgを導入する。
105℃の内部温度にまで15ミルバールの最終真
空中で、留出物の屈折率が最後に25℃で1.4700に
なるまで、水及びNMPの混合物を留出する。水
と留出せるNMPを留出物の分折(屈折率)に準
じて混合物中で90Kgに補う。次に約20分以内に三
塩化燐6.4Kgを反応混合物の表面上に加えるが、
その際温度は135―145℃に上昇しそして生成物は
晶出し始める。2時間145℃で後撹拌し、黄色懸
濁液を80―100℃で飲料水150で稀釈しそして加
圧ヌツチエによりろ過する。ろ過後ろ過ケーキを
NMP/水―混合物(1:1)60Kgで洗い、次に
3回飲料水夫々100で洗滌するが、その際2回
目の洗滌水には炭酸水素ナトリウム2Kgが添加さ
れている。ろ過ケーキを吹込乾燥しそして真空中
60―80℃で乾燥する。ナフトロン約29Kg(理論値
の91%、工業用乾燥物)が得られる。母液及び洗
滌液から中和後溶剤を再生する。
例 5 2―アミノベンゾイミダゾロン―(2)(約70%
水湿潤物として)149部をNMP1500部に溶かす。
溶液を15mmHgの真空中で銀ジヤケツトービグロ
ー塔(40cm)によつて還流比3:1で一定の頂部
温度にまで脱水する。窒素を充満させた混合物に
ピコリン(α―、B―及びγ―ピコリンからなる
混合物)400部を加え、次いで三塩化燐75部を60
℃で加える。1時間以内に130℃に加熱し、次に
2―ヒドロキシ―3―ナフトエ酸207部を導入す
る。
3時間130―140℃で後撹拌し、ナフトロンを水
1000部で1時間に於て沈澱させそしてろ過して単
離する。洗滌及び乾燥は例1に於ける如く実施す
る。純度約98%の黄色ナフトロン260部が、5―
アミノベンゾイミダゾロン―(2)に関し、理論値の
82%の収率で得られる。
例 6 水不含の5―アミノベンゾイミダゾロン―(2)
149部をピコリン(例5に於ける如き混合物)
2000部に懸濁させそして65℃で三塩化燐75部を加
える。2時間加熱還流する(127℃)。この場合二
液相が生ずる。次いで2―ヒドロキシ―3―ナフ
トエ酸207部を導入しそして更に3時間還流下加
熱する。この場合黄色ナフトロンの懸濁液が生成
する。黄色懸濁液に1時間以内に110℃で水500部
を加える。ナフトロンをろ過し、順次ピコリン/
水、稀釈塩酸及び水で洗滌しそして120℃で真空
乾燥する。純度約98%及び収率5―アミノベンゾ
イミダゾロン―(2)に関し理論値の82%である黄色
ナフトロン260部が得られる。
例 7 水不含のNMP250部中2―ヒドロキシ―3―ナ
フトエ酸110酸の溶液に三塩化燐32部を導入す
る。反応混合物を25から約50℃に加温する。この
溶液をNMP150部及びピリジン44部よりなる水不
含の混合物中水不含の5―アミノベンゾイミダゾ
ロン―(2)75部の溶液に加える。反応混合物を25か
ら約60℃に加温し次に更に140―145℃に加熱す
る。この場合黄色ナフトロンが晶出する。尚3時
間この温度で後撹拌し、次にイソブタノール120
部で稀釈する。ナフトロンをろ過しそして熱いイ
ソブタノールで洗滌する。黄色ナフトロン114部
が得られる。NMP及びピリジンの再生の際母液
の蒸留残留物から不純ナフトロン約40部を単離し
得、これは次の仕込み混合物に加える。この条件
下黄色の純ナフトロン135―140部(=理論値の86
%)が得られる。
次の例に於て、変態変換によるナフトロンの黄
色結晶変態の製造を記載する。
出発生成物としてナフトロンを使用するが、こ
れは水性アルカリに溶かし、活性炭により清澄化
しそして鉱酸で沈澱させて精製しそしてそのX線
回折スペクトルは次のX線回折スペクトルが特徴
である(Cu―Kα―線): 2.4(w)、3.1(w)、4.3(w)、4.6(m)、7.25
(vs)、8.0(m)、12.2(w)、13.2(s)、13.4
(s)、13.9(s)、14.5(w)及び15.9(m)。
これからは次の格子面間隔(10-10m)が判明
する: 18.30;14.20;10.20;9.50;6.11;5.55;3.65;
3.38;3.33;3.21;3.08;2.81。
例 8 X線回折スペクトルに於て上記の格子面間隔を
特徴とする、固形分22%の白色ナフトロンの水性
ろ過ケーキ136部にNMP300部を加える。撹拌下
水―NMP―混合物を、粘稠な懸濁液の内部温度
が120―130℃に上昇するまで、留出する。2乃至
3時間後懸濁液は希薄液状になる。同時にその色
は淡灰色から薄黄色に急変する。100℃で水100部
を滴加し、室温で吸引ろ過しそして熱水で後洗滌
する。
固形分48.5%を含有する水性ろ過ケーキ60部が
得られる。乾燥生成物は例1による生成物と同じ
X線回折スペクトルを有する。
例 9 例8を繰り返すが、但しNMPの代りにジメチ
ルホルムアミド300部を使用する点が異なる。
白色ナフトロンの黄色結晶変態への変換は110
―120℃で2乃至3時間以内に行われる。
生成物のX線回折スペクトルは、黄色結晶変態
に就て例1に於て記載したスペクトルに相当す
る。
例 10 例8を繰り返すが、但しNMPの代りにジメチ
ルスルホキシド300部を使用する点が異なる。
白色ナフトロンの黄色結晶変態への変換は約
110―120℃で行われる。生成物のX線回折スペク
トルは例1に記載せるスペクトルに相当する。
例 11 固形分22%の白色ナフトロンの水性ろ過ケーキ
136部をNMP300部及び水200部とオートクレープ
中で3時間150℃に加熱する。室温で吸引ろ過後
湿潤ろ過ケーキ62部(乾燥物29.5部に相当する)
が得られる。生成物はX線回折ペクトルによりナ
フトロンの黄色結晶変態を示す。
例 12 白色ナフトロンの乾燥試料10部を開放型フラス
コ中で溶剤を添加せずに3時間300℃に加熱す
る。
この様に処理した試料のX線回折スペクトル
は、黄色結晶変態に特有な反射を特徴としてい
る。
白色ナフトロンの乾燥試料の代りに水湿潤ろ過
ケーキを使用すれば同じ成果が得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の格子面間隔(10-10m): 3.12;3.26;3.37;3.46;3.58;3.75;4.64;
    5.26;5.43;5.93;6.47;8.74及び13.10を有する
    結晶格子を特徴とする、5―(2′―ヒドロキシ―
    3′―ナフトイル―アミノ)―ベンゾイミダゾロン
    ―(2)。 2 次の格子面間隔(10-10m): 3.12;3.26;3.37;3.46;3.58;3.75;4.64;
    5.26;5.43;5.93;6.47;8.74及び13.10を有する
    結晶格子を特徴とする、5―(2′―ヒドロキシ―
    3′―ナフトイル―アミノ)―ベンゾイミダゾロン
    ―(2)を製造するために、2―ヒドロキシ―ナフト
    エ酸と5―アミノ―ベンゾイミダゾロン―(2)を有
    機の極性非プロトン溶剤中で100℃以上の温度で
    縮合することを特徴とする、上記製法。 3 次の格子面間隔(10-10m): 3.12;3.26;3.37;3.46;3.58;3.75;4.64;
    5.26;5.43;5.93;6.47;8.74及び13.10を有する
    結晶格子を特徴とする、5―(2′―ヒドロキシ―
    3′―ナフトイル―アミノ)―ベンゾイミダゾロン
    ―(2)を製造するために、2―ヒドロキシ―3―ナ
    フトエ酸及び5―アミノ―ベンゾイミダゾロン―
    (2)を非極性溶剤中で縮合し、そして水性―アルカ
    リ性溶液から酸で再沈殿させて得られる生成物を
    100乃至300℃の温度に加熱することを特徴とす
    る、上記製法。 4 乾燥せる生成物を加熱する、特許請求の範囲
    第3項記載の製法。 5 生成物を極性―非プロトン溶剤中で加熱す
    る、特許請求の範囲第3項記載の製法。 6 極性―非プロトン溶剤がN―メチル―ピロリ
    ドンである、特許請求の範囲第3項又は第5項記
    載の製法。 7 生成物を200℃までに加熱する、特許請求の
    範囲第3項、第5項又は第6項記載の製法。 8 次の格子面間隔(10-10m): 3.12;3.26;3.37;3.46;3.58;3.75;4.64;
    5.26;5.43;5.93;6.47;8.74及び13.10を有する
    結晶格子を特徴とする、5―(2′―ヒドロキシ―
    3′―ナフトイル―アミノ)―ベンゾイミダゾロン
    ―(2)を、アゾ顔料用カツプリング成分として使用
    する方法。
JP16133578A 1977-12-30 1978-12-28 Novel crystal modification of 55*2**hydroxyy 3**naphthoyllamino**benzoimidazolonee*2** its manufacture and use Granted JPS5498762A (en)

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