JPH10242129A - ガスエッチング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチング装置 - Google Patents
ガスエッチング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチング装置Info
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- JPH10242129A JPH10242129A JP9058341A JP5834197A JPH10242129A JP H10242129 A JPH10242129 A JP H10242129A JP 9058341 A JP9058341 A JP 9058341A JP 5834197 A JP5834197 A JP 5834197A JP H10242129 A JPH10242129 A JP H10242129A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エッチング対象物のエッチングしたい部分の
みを精度良くエッチングできるガスエッチング方法及び
ガス噴出用ノズルを提供すること。 【解決手段】 エッチング対象物に対してガス噴出用ノ
ズルからエッチング用ガスを噴出し、該エッチング対象
物をエッチングするガスエッチング方法であって、エッ
チング用ガスを噴出するガス噴出パイプと噴出したガス
を排気する排気パイプを具備し、該ガス噴出パイプと排
気パイプとを同軸の２重管構造とし、該ガス噴出パイプ
からエッチング対象物に向けて噴出すると同時に反応余
剰ガスを該排気パイプを通して排気する。
みを精度良くエッチングできるガスエッチング方法及び
ガス噴出用ノズルを提供すること。 【解決手段】 エッチング対象物に対してガス噴出用ノ
ズルからエッチング用ガスを噴出し、該エッチング対象
物をエッチングするガスエッチング方法であって、エッ
チング用ガスを噴出するガス噴出パイプと噴出したガス
を排気する排気パイプを具備し、該ガス噴出パイプと排
気パイプとを同軸の２重管構造とし、該ガス噴出パイプ
からエッチング対象物に向けて噴出すると同時に反応余
剰ガスを該排気パイプを通して排気する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はエッチング対象物に
エッチング用ガスを噴出し、該エッチング対象物をエッ
チングするガスエッチング方法及びこのガスエッチング
方法に用いるガス噴出用ノズルに関するものである。
エッチング用ガスを噴出し、該エッチング対象物をエッ
チングするガスエッチング方法及びこのガスエッチング
方法に用いるガス噴出用ノズルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ガスによりＳｉウエハ等のエッチング対
象物をエッチングするにはプラズマ等によりエッチング
用ガスを活性化すると同時に、該活性化したガスの流れ
を電極、磁力などにより制御するのが一般的である。し
かし、エッチング用ガスだけでＳｉウエハやＰｏｌｙ−
Ｓｉ膜、ＳｉＯ2膜をエッチングすることもある。
象物をエッチングするにはプラズマ等によりエッチング
用ガスを活性化すると同時に、該活性化したガスの流れ
を電極、磁力などにより制御するのが一般的である。し
かし、エッチング用ガスだけでＳｉウエハやＰｏｌｙ−
Ｓｉ膜、ＳｉＯ2膜をエッチングすることもある。
【０００３】この場合のエッチング方法としては、図３
に示すように、サセプター１０２に載置されたエッチン
グ対象物１０１を反応容器１０３に入れ、該反応容器１
０３内を排気口１０４を通して真空排気して減圧し、該
減圧下においてエッチングガス導入管（ノズル）１０５
の先端からエッチング用ガスをエッチング対象物１０１
のエッチングしたい箇所に一定時間流して行うのが一般
的である。
に示すように、サセプター１０２に載置されたエッチン
グ対象物１０１を反応容器１０３に入れ、該反応容器１
０３内を排気口１０４を通して真空排気して減圧し、該
減圧下においてエッチングガス導入管（ノズル）１０５
の先端からエッチング用ガスをエッチング対象物１０１
のエッチングしたい箇所に一定時間流して行うのが一般
的である。
【０００４】下式（１）にＳｉの代表的なエッチングの
反応のみの化学式を示す。エッチングガス導入管１０５
の先端から噴出したエッチング用ガスはエッチング対象
物（ここではＳｉウエハ）１０１に衝突し、エッチング
対象物との反応物をつくり気化し、エッチングする。 Ｓｉ＋４Ｆ*→ＳｉＦ4↑＋Ｃ2Ｆ6 （１） この時、エッチングに用いられるガスの中で余剰のガス
は図３の矢印で示すように、排気口１０４より反応容器
１０３の外に排気される。
反応のみの化学式を示す。エッチングガス導入管１０５
の先端から噴出したエッチング用ガスはエッチング対象
物（ここではＳｉウエハ）１０１に衝突し、エッチング
対象物との反応物をつくり気化し、エッチングする。 Ｓｉ＋４Ｆ*→ＳｉＦ4↑＋Ｃ2Ｆ6 （１） この時、エッチングに用いられるガスの中で余剰のガス
は図３の矢印で示すように、排気口１０４より反応容器
１０３の外に排気される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように余剰のガ
スは排気口１０４から反応容器１０３の外に排気される
が、排気口１０４までの道筋が長いとエッチング対象物
１０１のエッチングしたい場所以外の場所までもエッチ
ングし、該エッチング対象物１０１を削り取ってしま
い、大変不都合である。特にエッチング量が数μｍから
数十μｍの厚いエッチングを行う場合には大きな支障は
ないかもしれないが、エッチング量が数百Å〜数千Åの
薄いエッチングを行う場合には大きな障害となる。
スは排気口１０４から反応容器１０３の外に排気される
が、排気口１０４までの道筋が長いとエッチング対象物
１０１のエッチングしたい場所以外の場所までもエッチ
ングし、該エッチング対象物１０１を削り取ってしま
い、大変不都合である。特にエッチング量が数μｍから
数十μｍの厚いエッチングを行う場合には大きな支障は
ないかもしれないが、エッチング量が数百Å〜数千Åの
薄いエッチングを行う場合には大きな障害となる。
【０００６】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、上記問題点を除去しエッチング対象物のエッチング
したい部分のみを精度良くエッチングできるガスエッチ
ング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチング装置を
提供することを目的とする。
で、上記問題点を除去しエッチング対象物のエッチング
したい部分のみを精度良くエッチングできるガスエッチ
ング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチング装置を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、エッチング対象物に対してガ
ス噴出用ノズルからエッチング用ガスを噴出し、該エッ
チング対象物をエッチングするガスエッチング方法であ
って、エッチング用ガスを噴出するガス噴出パイプと噴
出したガスを排気する排気パイプを具備し、該ガス噴出
パイプと排気パイプとを同軸の２重管構造とし、該ガス
噴出パイプから前記エッチング対象物に向けて噴出する
と同時に反応余剰ガスを該排気パイプを通して排気する
ことを特徴とする。
請求項１に記載の発明は、エッチング対象物に対してガ
ス噴出用ノズルからエッチング用ガスを噴出し、該エッ
チング対象物をエッチングするガスエッチング方法であ
って、エッチング用ガスを噴出するガス噴出パイプと噴
出したガスを排気する排気パイプを具備し、該ガス噴出
パイプと排気パイプとを同軸の２重管構造とし、該ガス
噴出パイプから前記エッチング対象物に向けて噴出する
と同時に反応余剰ガスを該排気パイプを通して排気する
ことを特徴とする。
【０００８】また、請求項２に記載の発明は、エッチン
グ対象物に対してエッチング用ガスを噴出するガス噴出
用ノズルであって、エッチング用ガスを噴出するガス噴
出パイプと噴出したガスを排気する排気パイプを具備
し、該ガス噴出パイプと排気パイプとを同軸の２重管構
造としたことを特徴とする。
グ対象物に対してエッチング用ガスを噴出するガス噴出
用ノズルであって、エッチング用ガスを噴出するガス噴
出パイプと噴出したガスを排気する排気パイプを具備
し、該ガス噴出パイプと排気パイプとを同軸の２重管構
造としたことを特徴とする。
【０００９】また、請求項３に記載の発明は、請求項２
に記載のガス噴出用ノズルにおいて、ガス噴出パイプと
排気パイプの２重管構造は、内側にガス噴出パイプ又は
排気パイプを配置し、外側に排気パイプ又はガス噴出パ
イプを配置したことを特徴とする。
に記載のガス噴出用ノズルにおいて、ガス噴出パイプと
排気パイプの２重管構造は、内側にガス噴出パイプ又は
排気パイプを配置し、外側に排気パイプ又はガス噴出パ
イプを配置したことを特徴とする。
【００１０】また、請求項４に記載の発明は、請求項２
に記載のガス噴出用ノズルにおいて、ガス噴出パイプと
排気パイプの２重管構造は、両パイプの先端が同一面に
あるか或いはいずれか一方が他方より所定量突出してい
ることを特徴とする。
に記載のガス噴出用ノズルにおいて、ガス噴出パイプと
排気パイプの２重管構造は、両パイプの先端が同一面に
あるか或いはいずれか一方が他方より所定量突出してい
ることを特徴とする。
【００１１】また、請求項５に記載の発明は、請求項２
乃至４のいずれか１に記載のガス噴出用ノズルと反応容
器を具備し、反応容器内に配置したエッチング対象物の
エッチング箇所に前記ガス噴出用ノズルのガス噴出パイ
プからエッチング用ガスを噴出する手段と同時に反応余
剰ガスを該排気パイプを通して排気する手段を具備する
ことを特徴とするガスエッチング装置にある。
乃至４のいずれか１に記載のガス噴出用ノズルと反応容
器を具備し、反応容器内に配置したエッチング対象物の
エッチング箇所に前記ガス噴出用ノズルのガス噴出パイ
プからエッチング用ガスを噴出する手段と同時に反応余
剰ガスを該排気パイプを通して排気する手段を具備する
ことを特徴とするガスエッチング装置にある。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は本発明のガス噴出用ノズル
の構造を示す図で、同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は
Ａ−Ａ断面図である。図示するように、本ガス噴出用ノ
ズル１０はエッチング用ガスを噴出するガス噴出パイプ
１を取り巻くように余剰のエッチング用ガスを排気する
排気パイプ２が設けられている。ガス噴出パイプ１と排
気パイプ２は同軸の２重管構造となっており、該排気パ
イプ２には排気パイプ３が連通しており、該排気パイプ
３に排気ポンプ（図示せず）が接続される。また、ガス
噴出パイプ１の先端は排気パイプ２の先端より所定寸法
だけ突出している。
に基づいて説明する。図１は本発明のガス噴出用ノズル
の構造を示す図で、同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は
Ａ−Ａ断面図である。図示するように、本ガス噴出用ノ
ズル１０はエッチング用ガスを噴出するガス噴出パイプ
１を取り巻くように余剰のエッチング用ガスを排気する
排気パイプ２が設けられている。ガス噴出パイプ１と排
気パイプ２は同軸の２重管構造となっており、該排気パ
イプ２には排気パイプ３が連通しており、該排気パイプ
３に排気ポンプ（図示せず）が接続される。また、ガス
噴出パイプ１の先端は排気パイプ２の先端より所定寸法
だけ突出している。
【００１３】上記構造のガス噴出用ノズル１０におい
て、ガス噴出パイプ１よりエッチング用ガスをエッチン
グ対象物に向けて噴出し、該エッチング対象物をエッチ
ングすると同時に余剰のエッチング用ガスは排気パイプ
２により瞬時に排気される。
て、ガス噴出パイプ１よりエッチング用ガスをエッチン
グ対象物に向けて噴出し、該エッチング対象物をエッチ
ングすると同時に余剰のエッチング用ガスは排気パイプ
２により瞬時に排気される。
【００１４】図２は上記２重管構造のガス噴出用ノズル
を用いた、ガスエッチング装置の概略構造を示す図であ
る。反応容器１３内にはサセプター１２に載置されたＳ
ｉウエハ等のエッチング対象物１１が配置されている。
ガス噴出用ノズル１０のガス噴出パイプ１からエッチン
グ対象物１１のエッチング箇所に向けてエッチング用ガ
スを噴出し、エッチング箇所をエッチングすると同時に
余剰のエッチング用ガスを排気パイプ２で排気する。
を用いた、ガスエッチング装置の概略構造を示す図であ
る。反応容器１３内にはサセプター１２に載置されたＳ
ｉウエハ等のエッチング対象物１１が配置されている。
ガス噴出用ノズル１０のガス噴出パイプ１からエッチン
グ対象物１１のエッチング箇所に向けてエッチング用ガ
スを噴出し、エッチング箇所をエッチングすると同時に
余剰のエッチング用ガスを排気パイプ２で排気する。
【００１５】上記のようにガス噴出パイプ１から噴出
し、エッチングに寄与しなかった余剰のエッチング用ガ
スを瞬時にガス噴出パイプ１を取り巻くように設けた排
気パイプ２で排気することにより、エッチングに寄与し
なかった余剰のエッチング用ガスによりエッチング対象
物１１の本来エッチングしたい場所（エッチング箇所）
以外の場所のエッチングを避けることができる。即ち、
エッチングに寄与しなかった余剰のエッチング用ガスが
排気口に達するまでのガス流路が長ければエッチング対
象物１１の本来エッチングしたい場所以外の場所がエッ
チングされる可能性が大きいが、上記２重管構造のガス
噴出用ノズルを用いることにより、反応に寄与しない余
剰のエッチング用ガスはガス噴出パイプ１の外周から瞬
時に排気パイプ２で排気されるので、本来エッチングし
たい場所以外の場所がエッチングされる可能性が極めて
小さくなる。
し、エッチングに寄与しなかった余剰のエッチング用ガ
スを瞬時にガス噴出パイプ１を取り巻くように設けた排
気パイプ２で排気することにより、エッチングに寄与し
なかった余剰のエッチング用ガスによりエッチング対象
物１１の本来エッチングしたい場所（エッチング箇所）
以外の場所のエッチングを避けることができる。即ち、
エッチングに寄与しなかった余剰のエッチング用ガスが
排気口に達するまでのガス流路が長ければエッチング対
象物１１の本来エッチングしたい場所以外の場所がエッ
チングされる可能性が大きいが、上記２重管構造のガス
噴出用ノズルを用いることにより、反応に寄与しない余
剰のエッチング用ガスはガス噴出パイプ１の外周から瞬
時に排気パイプ２で排気されるので、本来エッチングし
たい場所以外の場所がエッチングされる可能性が極めて
小さくなる。
【００１６】上記例ではエッチング用ガスを噴出するガ
ス噴出パイプ１を取り巻くように排気パイプ２を設けた
２重管構造のガス噴出用ノズルを説明したが、２重管構
造の内側に排気パイプ２を、外側にガス噴出パイプ１を
配置し、即ち排気パイプを取り巻くようにガス噴出パイ
プを配置しても、エッチングに寄与しない余剰のエッチ
ング用ガスを瞬時に排気するメカニズムは同じである。
ス噴出パイプ１を取り巻くように排気パイプ２を設けた
２重管構造のガス噴出用ノズルを説明したが、２重管構
造の内側に排気パイプ２を、外側にガス噴出パイプ１を
配置し、即ち排気パイプを取り巻くようにガス噴出パイ
プを配置しても、エッチングに寄与しない余剰のエッチ
ング用ガスを瞬時に排気するメカニズムは同じである。
【００１７】エッチング用ガスは腐食性の強いものが多
いので、２重管構造のガス噴出用ノズルの材質はＳＵＳ
材、インコネル等のＮｉ系材料、テフロン材料等耐腐食
性材料を用いると良い。本実施形態例ではＳＵＳ材を用
いた。
いので、２重管構造のガス噴出用ノズルの材質はＳＵＳ
材、インコネル等のＮｉ系材料、テフロン材料等耐腐食
性材料を用いると良い。本実施形態例ではＳＵＳ材を用
いた。
【００１８】エッチング用ガスを噴出するガス噴出パイ
プ１と排気パイプ２のパイプ内径は、用いるエッチング
用ガスの量により任意に決める。本実施形態例ではガス
噴出パイプ１のパイプ内径を１／４インチとし、排気パ
イプ２のパイプ内径を１０．５ｍｍとした。
プ１と排気パイプ２のパイプ内径は、用いるエッチング
用ガスの量により任意に決める。本実施形態例ではガス
噴出パイプ１のパイプ内径を１／４インチとし、排気パ
イプ２のパイプ内径を１０．５ｍｍとした。
【００１９】図１に示す２重管構造のガス噴出用ノズル
ではガス噴出パイプ１の先端が排気パイプ２の先端より
長く外に突出しているが、ガス噴出パイプ１の先端と排
気パイプ２の先端が同一面（同一レベル）でも、また、
排気パイプ２の先端がガス噴出パイプ１の先端より長く
外に突出していても良い結果が得られることは試験的に
確認した。
ではガス噴出パイプ１の先端が排気パイプ２の先端より
長く外に突出しているが、ガス噴出パイプ１の先端と排
気パイプ２の先端が同一面（同一レベル）でも、また、
排気パイプ２の先端がガス噴出パイプ１の先端より長く
外に突出していても良い結果が得られることは試験的に
確認した。
【００２０】図４は図１に示す２重管構造のガス噴出用
ノズルを用いて（図２のガスエッチング装置参照）Ｓｉ
ウエハをエッチングした例を、図５は図３に示すシング
ルパイプ構造のガス噴出ノズルを用いたガスエッチング
装置でＳｉウエハをエッチングした例を示す図である。
なお、ここで使用したエッチング用ガスはＣｌＦ3ガス
である。図４及び図５から明らかなように、本発明の２
重管構造のガス噴出用ノズルを用いてエッチングした場
合は、ガス噴出用ノズル位置直下のみエッチングされエ
ッチングのプロファイルは極めて明瞭である。それに比
べて図３に示すよう、エッチングガス導入管１０５と排
気口１０４を別々に離して設けて、エッチングした場合
はノズル直下であっても周辺の裾を大きく広げたように
エッチングされており、エッチングのプロファイルは明
瞭でない。
ノズルを用いて（図２のガスエッチング装置参照）Ｓｉ
ウエハをエッチングした例を、図５は図３に示すシング
ルパイプ構造のガス噴出ノズルを用いたガスエッチング
装置でＳｉウエハをエッチングした例を示す図である。
なお、ここで使用したエッチング用ガスはＣｌＦ3ガス
である。図４及び図５から明らかなように、本発明の２
重管構造のガス噴出用ノズルを用いてエッチングした場
合は、ガス噴出用ノズル位置直下のみエッチングされエ
ッチングのプロファイルは極めて明瞭である。それに比
べて図３に示すよう、エッチングガス導入管１０５と排
気口１０４を別々に離して設けて、エッチングした場合
はノズル直下であっても周辺の裾を大きく広げたように
エッチングされており、エッチングのプロファイルは明
瞭でない。
【００２１】また、中央部でのエッチング量は図４の２
重管構造のガス噴出用ノズルを用いた場合は、図５のシ
ングルパイプ構造のガス噴出ノズルを用いた場合の１／
４以下である。
重管構造のガス噴出用ノズルを用いた場合は、図５のシ
ングルパイプ構造のガス噴出ノズルを用いた場合の１／
４以下である。
【００２２】上記のように、２重管構造のガス噴出用ノ
ズルを用いてエッチング対象物をエッチングした場合に
は、エッチング箇所のエッチングのみを行い、エッチン
グ用ガスがエッチングしたくないところまで流れること
がなく、極めて明瞭なエッチングを行うことができる。
ズルを用いてエッチング対象物をエッチングした場合に
は、エッチング箇所のエッチングのみを行い、エッチン
グ用ガスがエッチングしたくないところまで流れること
がなく、極めて明瞭なエッチングを行うことができる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ガ
ス噴出パイプと排気パイプとを同軸の２重管構造とした
ガス噴出用ノズルを用い、ガス噴出パイプからエッチン
グ対象物に向けて噴出すると同時に反応余剰ガスを該排
気パイプを通して排気するので、エッチング対象物のエ
ッチングしたい部分のみを精度良くエッチングできるガ
スエッチング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチン
グ装置を提供できる。
ス噴出パイプと排気パイプとを同軸の２重管構造とした
ガス噴出用ノズルを用い、ガス噴出パイプからエッチン
グ対象物に向けて噴出すると同時に反応余剰ガスを該排
気パイプを通して排気するので、エッチング対象物のエ
ッチングしたい部分のみを精度良くエッチングできるガ
スエッチング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチン
グ装置を提供できる。
【図１】本発明のガス噴出用ノズルの構造を示す図で、
同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）はＡ−Ａ断面図であ
る。
同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）はＡ−Ａ断面図であ
る。
【図２】本発明のガス噴出用ノズルを用いたガスエッチ
ング装置の概略構造を示す図である。
ング装置の概略構造を示す図である。
【図３】従来のガス噴出用ノズルを用いたガスエッチン
グ装置の概略構造を示す図である。
グ装置の概略構造を示す図である。
【図４】本発明のガス噴出用ノズルを用いてＳｉウエハ
をエッチングした例を示す図である。
をエッチングした例を示す図である。
【図５】従来のガス噴出用ノズルを用いてＳｉウエハを
エッチングした例を示す図である。
エッチングした例を示す図である。
１ ガス噴出パイプ ２ 排気パイプ ３ 排気パイプ １０ ガス噴出用ノズル １１ エッチング対象物 １２ サセプター １３ 反応容器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三好 かおり 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 久保田 誠 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内
Claims (5)
- 【請求項１】 エッチング対象物に対してガス噴出用ノ
ズルからエッチング用ガスを噴出し、該エッチング対象
物の所定位置をエッチングするガスエッチング方法であ
って、 エッチング用ガスを噴出するガス噴出パイプと噴出した
ガスを排気する排気パイプを具備し、該ガス噴出パイプ
と排気パイプとを同軸の２重管構造とし、該ガス噴出パ
イプから前記エッチング対象物に向けて噴出すると同時
に反応余剰ガスを該排気パイプを通して排気することを
特徴とするガスエッチング方法。 - 【請求項２】 エッチング対象物に対してエッチング用
ガスを噴出するガス噴出用ノズルであって、 エッチング用ガスを噴出するガス噴出パイプと噴出した
ガスを排気する排気パイプを具備し、該ガス噴出パイプ
と排気パイプとを同軸の２重管構造としたことを特徴と
するガス噴出用ノズル。 - 【請求項３】 前記ガス噴出パイプと排気パイプの２重
管構造は、内側にガス噴出パイプ又は排気パイプを配置
し、外側に排気パイプ又はガス噴出パイプを配置したこ
とを特徴とする請求項２に記載のガス噴出用ノズル。 - 【請求項４】 前記ガス噴出パイプと排気パイプの２重
管構造は、両パイプの先端が同一面にあるか或いはいず
れか一方が他方より所定量突出していることを特徴とす
る請求項２に記載のガス噴出用ノズル。 - 【請求項５】 請求項２乃至４のいずれか１に記載のガ
ス噴出用ノズルと反応容器を具備し、 反応容器内に配置したエッチング対象物のエッチング箇
所に前記ガス噴出用ノズルのガス噴出パイプからエッチ
ング用ガスを噴出する手段と同時に反応余剰ガスを該排
気パイプを通して排気する手段を具備することを特徴と
するガスエッチング装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9058341A JPH10242129A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | ガスエッチング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチング装置 |
| US09/030,833 US6136213A (en) | 1997-02-26 | 1998-02-26 | Gas polishing method |
| US09/401,719 US6554205B1 (en) | 1997-02-26 | 1999-09-23 | Gas polishing method, gas polishing nozzle and polishing apparatus |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9058341A JPH10242129A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | ガスエッチング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチング装置 |
Publications (1)
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| JPH10242129A true JPH10242129A (ja) | 1998-09-11 |
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ID=13081628
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| JP9058341A Pending JPH10242129A (ja) | 1997-02-26 | 1997-02-26 | ガスエッチング方法、ガス噴出用ノズル及びガスエッチング装置 |
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