JPH10239847A - ポジ型感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の波長
の露光光源の使用に好適であり、具体的には２５０ｎｍ
以下、特に２２０ｎｍ以下の波長の露光光源の使用時
に、良好な感度、解像度を与え、更に十分な耐ドライエ
ッチング性を有し、且つ溶剤溶解性が良好なポジ型感光
性組成物を提供する。 【手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生す
る化合物及び特定の構造のアダマンチル基を有する繰り
返し構造単位の少なくとも一つと、酸の作用により分解
してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基の少な
くとも一つを有する樹脂を含有するポジ型感光性組成
物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣ等の半導体製
造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、更
にその他のフォトファブリケーション工程に使用される
ポジ型感光性組成物に関するものである。更に詳しくは
２５０ｎｍ以下の波長の遠紫外線を露光光源とする場合
に好適なポジ型感光性組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ポジ型フォトレジスト組成物としては、
一般にアルカリ可溶性樹脂と感光物としてのナフトキノ
ンジアジド化合物とを含む組成物が用いられている。例
えば、「ノボラック型フェノール樹脂／ナフトキノンジ
アジド置換化合物」として米国特許第3,666,473号、米
国特許第4,115,128号及び米国特許第4,173,470号等に、
また最も典型的な組成物として「クレゾール−ホルムア
ルデヒドより成るノボラック樹脂／トリヒドロキシベン
ゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸
エステル」の例がトンプソン「イントロダクション・ト
ゥー・マイクロリソグラフィー」（L.F.Thompson「Intr
oduction to Microlithography」）（ＡＣＳ出版、Ｎ
ｏ．２，１９号、ｐ１１２〜１２１）に記載されてい
る。このような基本的にノボラック樹脂とキノンジアジ
ド化合物から成るポジ型フォトレジストは、ノボラック
樹脂がプラズマエッチングに対して高い耐性を与え、ナ
フトキノンジアジド化合物は溶解阻止剤として作用す
る。そして、ナフトキノンジアジドは光照射を受けると
カルボン酸を生じることにより溶解阻止能を失い、ノボ
ラック樹脂のアルカリ溶解度を高めるという特性を持
つ。

【０００３】これまで、かかる観点からノボラック樹脂
とナフトキノンジアジド系感光物を含有する数多くのポ
ジ型フォトレジストが開発、実用化され、０．８μｍ〜
２μｍ程度までの線幅加工に於いては十分な成果をおさ
めてきた。しかし、集積回路はその集積度を益々高めて
おり、超ＬＳＩなどの半導体基板の製造に於いてはハー
フミクロン以下の線幅から成る超微細パターンの加工が
必要とされるようになってきた。

【０００４】パターンの微細化を図る手段の一つとし
て、レジストのパターン形成の際に使用される露光光源
の短波長化が知られている。このことは光学系の解像度
（線幅）Ｒを表すレイリーの式、 Ｒ＝ｋ・λ／ＮＡ （ここでλは露光光源の波長、ＮＡはレンズの開口数、
ｋはプロセス定数）で説明することができる。この式か
らより高解像度を達成する、即ちＲの値を小さくする為
には、露光光源の波長λを短くすれば良いことがわか
る。例えば６４Ｍビットまでの集積度のＤＲＡＭの製造
には、現在まで高圧水銀灯のｉ線（３６５ｎｍ）が光源
として使用されてきた。２５６ＭビットＤＲＡＭの量産
プロセスには、ｉ線に変わりＫｒＦエキシマレーザー
（２４８ｎｍ）が露光光源として採用が検討されてい
る。更に１Ｇビット以上の集積度を持つＤＲＡＭの製造
を目的として、より短波長の光源が検討されており、Ａ
ｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）、Ｆ₂ エキシマレ
ーザー（１５７ｎｍ）、Ｘ線、電子ビーム等の利用が有
効であると考えられている（上野巧ら、「短波長フォト
レジスト材料−ＵＬＳＩに向けた微細加工−」、ぶんし
ん出版、１９８８年）。

【０００５】従来のノボラックとナフトキノンジアジド
化合物から成るレジストを遠紫外光やエキシマレーザー
光を用いたリソグラフィーのパターン形成に用いると、
ノボラック及びナフトキノンジアジドの遠紫外領域に於
ける吸収が強いために光がレジスト底部まで到達しにく
くなり、低感度でテーパーのついたパターンしか得られ
ない。

【０００６】このような問題を解決する手段の一つが、
米国特許第4,491,628号、欧州特許第249,139号等に記載
されている化学増幅系レジスト組成物である。化学増幅
系ポジ型レジスト組成物は、遠紫外光などの放射線の照
射により露光部に酸を生成させ、この酸を触媒とする反
応によって、活性放射線の照射部と非照射部の現像液に
対する溶解性を変化させ、パターンを基板上に形成させ
るパターン形成材料である。

【０００７】このような例として、光分解により酸を発
生する化合物と、アセタールまたはＯ，Ｎ−アセタール
化合物との組合せ（特開昭４８−８９００３号）、オル
トエステル又はアミドアセタール化合物との組合せ（特
開昭５１−１２０７１４号）、主鎖にアセタール又はケ
タール基を有するポリマーとの組合せ（特開昭５３−１
３３４２９号）、エノールエーテル化合物との組合せ
（特開昭５５−１２９９５号）、Ｎ−アシルイミノ炭酸
化合物化合物との組合せ（特開昭５５−１２６２３６
号）、主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの組
合せ（特開昭５６−１７３４５号）、第３級アルキルエ
ステル化合物との組合せ（特開昭６０−３６２５号）、
シリルエステル化合物との組合せ（特開昭６０−１０２
４７号）、及びシリルエーテル化合物との組合せ（特開
昭６０−３７５４９号、特開昭６０−１２１４４６号）
等を挙げることができる。これらは原理的に量子収率が
１を越えるため、高い感光性を示す。

【０００８】同様に、酸存在下加熱することにより分解
し、アルカリ可溶化する系として、例えば、特開昭５９
−４５４３９号、特開昭６０−３６２５号、特開昭６２
−２２９２４２号、特開昭６３−２７８２９号、特開昭
６３−３６２４０号、特開昭６３−２５０６４２号、特
開平５−１８１２７９号、Polym.Eng.Sce.,23巻、1012
頁（1983）；ACS.Sym.242巻、11頁（1984）；Semicondu
ctor World 1987年、11月号、91頁；Macromolecules,21
巻、1475頁（1988）；SPIE,920巻、42頁（1988）等に記
載されている露光により酸を発生する化合物と、第３級
又は２級炭素（例えばt-ブチル、2-シクロヘキセニル）
のエステル又は炭酸エステル化合物との組合せ系、特開
平４−２１９７５７号、同５−２４９６８２号、同６−
６５３３２号等に記載されているアセタール化合物との
組み合わせ系、特開平４−２１１２５８号、同６−６５
３３３号等に記載されているｔ−ブチルエーテル化合物
との組み合わせ系等が挙げられる。

【０００９】これらの系は、主として２４８ｎｍ領域で
の吸収の小さい、ポリ（ヒドロキシスチレン）を基本骨
格とする樹脂を主成分に使用する為、ＫｒＦエキシマレ
ーザーを露光光源とする場合には、高感度、高解像度
で、且つ良好なパターンを形成し、従来のナフトキノン
ジアジド／ノボラック樹脂系に比べて良好な系となり得
る。しかしながら、更なる短波長の光源、例えばＡｒＦ
エキシマレーザー（１９３ｎｍ）を露光光源として使用
する場合は、芳香族基を有する化合物が本質的に１９３
ｎｍ領域に大きな吸収を示す為、上記化学増幅系でも十
分ではなかった。また１９３ｎｍ領域の吸収の小さいポ
リマーとして、ポリ（メタ）アクリレートの利用がJ. V
ac. Sci. Technol., B9, 3357 (1991). に記載されてい
るが、このポリマーは一般に半導体製造工程で行われる
ドライエッチングに対する耐性が、芳香族基を有する従
来のフェノール樹脂に比べ低いという問題があった。こ
れに対し、脂環式基を有するポリマーが、芳香族基と同
様の耐ドライエッチング性を示し、且つ１９３ｎｍ領域
の吸収が小さいことがProc. of SPIE, 1672,66 (1992).
で報告され、近年同ポリマーの利用が精力的に検討さ
れるに至った。具体的には、特開平４−３９６６５号、
同５−８０５１５号、同５−２６５２１２号、同５−２
９７５９１号、同５−３４６６６８号、同６−２８９６
１５号、同６−３２４４９４号、同７−４９５６８号、
同７−１８５０４６号、同７−１９１４６３号、同７−
１９９４６７号、同７−２３４５１１号、同７−２５２
３２４号、同８−２５９６２６号等の明細書に記載され
ているポリマーが挙げられる。

【００１０】これらに示された脂環式基の内、特にアダ
マンチル基が最も良好な耐ドライエッチング性を有する
ことは、Proc. of SPIE, 1672, 66 (1992)に示されてお
り、該基を有するポリマーが特開平４−３９６６５号、
同７−１９９４６７号、同７−２３４５１１号、同８−
２５９６２６号等の明細書に記載されている。しかしな
がら、これらポリマーは何れも（メタ）アクリレート系
のポリマーであり、耐ドライエッチング性が必ずしも十
分とは言えなかった。また画像形成に必要な酸分解性モ
ノマー、基板密着性に必要な親水性（極性）モノマーと
共重合する場合、アダマンチル基を有する疎水性モノマ
ーとの共重合性（各モノマー成分の均一なポリマー鎖へ
の導入）を図るのが困難であった。その結果、不均一な
重合により樹脂の溶剤溶解性が低下したり、合成の再現
性に問題が生じることがあった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の波長の露光
光源の使用に好適なポジ型感光性組成物を提供すること
であり、具体的には２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以
下の波長の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度を
与え、更に十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ溶
剤溶解性が良好なポジ型感光性組成物を提供することで
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記諸特
性に留意し鋭意検討した結果、本発明の目的が以下の特
定の脂環基を有する繰り返し構造単位と酸分解性基を有
する樹脂を使用することで見事に達成されることを見出
し、本発明に到達した。即ち、本発明は下記構成であ
る。 （１） （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発
生する化合物、及び（Ｂ）下記一般式（Ｉ）、（II）又
は(III）で表されるアダマンチル基を有する繰り返し構
造単位の少なくとも一つと、酸の作用により分解してア
ルカリ現像液中での溶解性を増大させる基の少なくとも
一つを有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感
光性組成物。

【００１３】

【化４】

【００１４】式（Ｉ）〜(III）中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₅ 、
Ｒ₈ 、Ｒ₉ は、同じでも異なってもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基
を表す。Ｒ₄ 、Ｒ₇ 、Ｒ₁₀は、同じでも異なってもよ
く、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良
い、アルキル基、アルケニル基もしくはアルキニル基、
又は−ＣＯ−Ｏ−Ｒ₁₁基を表す。Ｒ₃ 、Ｒ₆ 、Ｒ₁₁は、
同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有してい
ても良い、アルキル基、単環あるいは多環のシクロアル
キル基もしくはアルケニル基、又は酸の作用により分解
してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を表
す。Ｘ₁ 〜Ｘ₅ は、同じでも異なってもよく、単結合、
２価のアルキレン基、シクロアルキレン基、−Ｏ−、−
Ｓ−、又は−Ｎ（Ｒ₁₂）−Ｒ₁₃−基を表す。Ｒ₁₂は水素
原子、アルキル基、単環あるいは多環のシクロアルキル
基又はアルケニル基を表す。Ｒ₁₃は単結合あるいは、エ
ーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレイ
ド基を有しても良い、２価のアルキレン基、シクロアル
キレン基又はアルケニレン基を表す。ｌ、ｍ、ｎは、同
じでも異なってもよく、０又は１〜３の整数を示す。
ｌ、ｍ、ｎが２以上の場合は、各複数個のＲ₄ 、Ｒ₇ 、
Ｒ₁₀は同一でも異なっても良い。

【００１５】（２） （Ｂ）成分の樹脂が、上記（１）
に記載の一般式（Ｉ）、（II）又は(III）で表される繰
り返し構造単位のうち少なくとも一つと、下記一般式
（IV）、（Ｖ）又は（VI）で表される繰り返し構造単位
のうち少なくとも一つを有し、酸の作用により分解して
アルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂であること
を特徴とする上記（１）に記載のポジ型感光性組成物。

【００１６】

【化５】

【００１７】式（IV）〜（VI）中、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₇〜
Ｒ₁₉は、同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表
す。Ｒ₁₆はシアノ基、−ＣＯ−ＯＲ₂₀又は−ＣＯ−Ｎ
（Ｒ₂₁）（Ｒ₂₂）を表す。Ｘ₆ 〜Ｘ₈ は、同一でも異な
っても良く、単結合、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−Ｏ−ＣＯ
−Ｒ₂₃−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ₂₄−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₂₅）−
Ｒ₂₆−、置換基を有していても良い、２価のアルキレン
基、アルケニレン基又はシクロアルキレン基を表す。Ｒ
₂₀は、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル
基、シクロアルキル基もしくはアルケニル基、又は酸の
作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大
させる基を表す。Ｒ₂₁、Ｒ₂₂、Ｒ₂₅は、同一でも異なっ
ても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アル
キル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表し、Ｒ
₂₁とＲ₂₂が結合して環を形成しても良い。Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、
Ｒ₂₆は、同一でも異なっても良く、単結合あるいは、エ
ーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレイ
ド基を有しても良い、２価のアルキレン基、アルケニレ
ン基又はシクロアルキレン基を表す。Ｂは酸の作用によ
り分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基
を表す。

【００１８】（３） （Ｂ）成分の樹脂が、更にカルボ
キシル基を有することを特徴とする上記（１）又は
（２）に記載のポジ型感光性組成物。 （４） （Ｂ）成分の樹脂が、カルボキシル基を有する
一般式（VII)、（VIII）又は（IX）で表される繰り返し
構造単位のうち少なくとも一つを有することを特徴とす
る前記（３）に記載のポジ型感光性組成物。

【００１９】

【化６】

【００２０】式（VII)〜（IX）中、Ｒ₂₇、Ｒ₂₈、Ｒ₃₀〜
Ｒ₃₂は、同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表
す。Ｒ₂₉はシアノ基、−ＣＯ−ＯＲ₃₃、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ
₃₄）（Ｒ₃₅）を表す。Ｘ₉ 〜Ｘ₁₁は、同じでも異なって
もよく、単結合、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ
₃₆−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ₃₇−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₃₈）−Ｒ₃₉
−、置換基を有していても良い２価のアルキレン基、ア
ルケニレン基又はシクロアルキレン基を表す。Ｒ₃₃は水
素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シク
ロアルキル基又はアルケニル基を表す。Ｒ₃₄、Ｒ₃₅、Ｒ
₃₈は、同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有
していても良い、アルキル基、シクロアルキル基又はア
ルケニル基を表し、またＲ₃₄とＲ ₃₅が結合して環を形成
しても良い。Ｒ₃₆、Ｒ₃₇、Ｒ₃₉は、同じでも異なっても
よく、単結合あるいは、エーテル基、エステル基、アミ
ド基、ウレタン基、ウレイド基を有しても良い、２価の
アルキレン基、アルケニレン基又はシクロアルキレン基
を表す。

【００２１】（５） 酸の作用により分解し得る基を有
し、アルカリ現像液中での溶解性が酸の作用により増大
する、分子量３，０００以下の低分子酸分解性溶解阻止
化合物を含有することを特徴とする上記（１）〜（４）
のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。 （６） 露光光源として、２５０ｎｍ以下の波長の遠紫
外光を使用することを特徴とする上記（１）〜（５）の
いずれかに記載のポジ型感光性組成物。 （７） 露光光源として、２２０ｎｍ以下の波長の遠紫
外光を使用することを特徴とする上記（６）に記載のポ
ジ型感光性組成物。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明に使用する化合物に
ついて詳細に説明する。本発明における（Ｂ）成分の樹
脂にていて説明する。 ［１］一般式（Ｉ）〜(III）で示される繰り返し構造単
位 前記一般式におけるＲ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₅ 、Ｒ₈ 、Ｒ₉ のア
ルキル基としては、好ましくは置換基を有していても良
い、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基のような炭素数１〜４個のものが挙げ
られる。ハロアルキル基としては、好ましくはフッ素原
子、塩素原子、臭素原子が置換した炭素数１〜４個のア
ルキル基、例えばフルオロメチル基、クロロメチル基、
ブロモメチル基、フルオロエチル基、クロロエチル基、
ブロモエチル基等が挙げられる。

【００２３】Ｒ₄ 、Ｒ₇ 、Ｒ₁₀のアルキル基としては、
好ましくは置換基を有していても良い、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基のよう
な炭素数１〜８個のものが挙げられる。アルケニル基と
しては、好ましくは置換基を有していても良い、ビニル
基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル
基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基の様な炭素数２
〜６個のものが挙げられる。アルキニル基としては、好
ましくはアセチル基、プロパルギル基の様な炭素数２〜
４個のものが挙げられる。

【００２４】Ｒ₃ 、Ｒ₆ 、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂のアルキル基、ア
ルケニル基としては、上記Ｒ₄ 、Ｒ ₇ 、Ｒ₁₀で示したも
のと同様のものが好ましい。単環あるいは多環型のシク
ロアルキル基としては、好ましくは置換基を有していて
も良い、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基のような炭素数３〜８個の単環型や、アダマ
ンチル基、ノルボルニル基、イソボロニル基、ジシクロ
ペンチル基、σ−ピネル基、トリシクロデカニル基等の
多環型のものが挙げられる。

【００２５】Ｘ₁ 〜Ｘ₅ のアルキレン基としては、好ま
しくは置換基を有していても良い、メチレン基、エチレ
ン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、オク
チレン基等の炭素数１〜８個のものが挙げられる。シク
ロアルキレン基としては、好ましくは置換基を有してい
ても良い、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等
の炭素数５〜８個のものが挙げられる。Ｒ₁₃のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基としては、上記Ｘ₁ 〜Ｘ₅ で
示したものと同様のものが挙げられる。アルケニレン基
としては、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン
基等の炭素数２〜６個のものが挙げられる。これらの２
価の基（アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニ
レン基）は、更にエーテル基、エステル基、アミド基、
ウレタン基、ウレイド基の少なくとも１つと一緒になっ
て形成した２価の基も挙げることができる。

【００２６】Ｒ₃ 、Ｒ₆ 、Ｒ₁₁は、酸の作用により分解
してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基（酸分
解性基ともいう）を表す。酸分解性基としては、例え
ば、酸の作用により加水分解し酸を形成する基、更には
酸の作用により炭素カチオンが脱離し酸を形成する基が
挙げられる。好ましくは下記一般式（Ｘ）又は（XI）で
表される基である。

【００２７】

【化７】

【００２８】式（Ｘ）、（XI）中のＲ₄₀〜Ｒ₄₂は、それ
ぞれ同一でも相異していても良く、水素原子もしくは、
置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキ
ル基、又はアルケニル基を表す。但し、式（Ｘ）のＲ₄₀
〜Ｒ₄₂の内、少なくとも１つは水素原子以外の基であ
る。Ｒ₄₃は置換基を有していても良い、アルキル基、シ
クロアルキル基又はアルケニル基を表す。また式（Ｘ）
のＲ₄₀〜Ｒ₄₂の内の２つ、及び式（XI）のＲ₄₀、Ｒ₄₁、
Ｒ₄₃の内の２つの基が結合して３〜８個の炭素原子、ヘ
テロ原子から成る環構造を形成しても良い。このような
環としては具体的には、シクロプロピル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、１−シ
クロヘキセニル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−
テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。Ｚ₁ 、Ｚ
₂ は、Ｏ又はＳを表す。ここでアルキル基、シクロアル
キル基、アルケニル基としては、上記Ｒ₃ 、Ｒ₆ 、
Ｒ₁₁、Ｒ₁₂で示したものと同様のものが好ましい。

【００２９】ｌ、ｍ、ｎは０又は１〜３の整数を示す
が、好ましくは０又は１〜２の整数を示す。

【００３０】また上記置換基における更なる置換基とし
ては、好ましくは、水酸基、ハロゲン原子（フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素）、ニトロ基、シアノ基、アミド基、
スルホンアミド基、上記Ｒ₃ 、Ｒ₆ 、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂のアル
キル基、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシエトキシ
基、プロポキシ基、ヒドロキシプロポキシ基、ブトキシ
基等の炭素数１〜８個のアルコキシ基、メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシ
ル基、アセトキシ基、ブチリルオキシ基等のアシロキシ
基、カルボキシ基が挙げられる。

【００３１】以下に一般式（Ｉ）〜(III）で表される繰
り返し構造単位の具体例を示すが、本発明がこれに限定
されるものではない。

【００３２】

【化８】

【００３３】

【化９】

【００３４】

【化１０】

【００３５】

【化１１】

【００３６】

【化１２】

【００３７】

【化１３】

【００３８】

【化１４】

【００３９】本発明の樹脂中における上記脂環式基を有
する一般式（Ｉ）〜(III）で表される繰り返し構造単位
の含有量は、耐ドライエッチング性、アルカリ現像性等
とのバランスにより調整されるが、全繰り返し単位に対
して２０モル％以上含有することが好ましい。より好ま
しくは３０〜１００モル％、更に好ましくは４０〜９０
モル％、特に好ましくは４５〜７５モル％の範囲であ
る。

【００４０】［２］酸分解性基を有する繰り返し構造単
位 本発明に係わる樹脂において、酸分解性基は一般式
（Ｉ）〜一般式(III）で示される繰り返し構造単位中
（Ｒ₃ 、Ｒ₆ 、Ｒ₁₁）に含まれてもよいし、更にその他
の繰り返し構造単位中に含まれてもよいし、それら両方
に含まれてもよい。酸分解性基を有する繰り返し構造単
位としては、一般式（IV）〜（VI）で表される繰り返し
構造単位が好ましい。

【００４１】前記一般式（IV）〜（VI）におけるＲ₁₄、
Ｒ₁₅、Ｒ₁₇〜Ｒ₁₉のアルキル基としては、好ましくは置
換基を有していても良い、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基のような炭素数
１〜４個のものが挙げられる。ハロアルキル基として
は、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子が置換
した炭素数１〜４個のアルキル基、例えばフルオロメチ
ル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロエチ
ル基、クロロエチル基、ブロモエチル基等が挙げられ
る。Ｒ₂₀〜Ｒ₂₂、Ｒ₂₅のアルキル基としては、好ましく
は置換基を有していても良い、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、オクチル基のような炭素数
１〜８個のものが挙げられる。シクロアルキル基として
は、好ましくは置換基を有していても良い、シクロプロ
ピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のような
炭素数３〜８個のものが挙げられる。アルケニル基とし
ては、好ましくは置換基を有していても良い、ビニル
基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル
基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基の様な炭素数２
〜６個のものが挙げられる。Ｒ₂₁とＲ₂₂とが互いに結合
して窒素原子とともに形成する環としては、５〜８員環
が好ましく、具体的にはピロリジン、ピペリジン、ピペ
ラジン等が挙げられる。

【００４２】Ｘ₆ 〜Ｘ₈ 、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₆のアルキレ
ン基としては、好ましくは置換基を有していても良い、
メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、
ヘキシレン基、オクチレン基等の炭素数１〜８個のもの
が挙げられる。アルケニレン基としては、好ましくは置
換基を有していても良い、エテニレン基、プロペニレン
基、ブテニレン基等の炭素数２〜６個のものが挙げられ
る。シクロアルキレン基としては、好ましくは置換基を
有していても良い、シクロペンチレン基、シクロヘキシ
レン基等の炭素数５〜８個のものが挙げられる。Ｒ₂₃、
Ｒ₂₄、Ｒ₂₆は、更に上記アルキレン基、アルケニレン
基、シクロアルキレン基と、エーテル基、エステル基、
アミド基、ウレタン基、ウレイド基の少なくとも１つと
が一緒になって２価の基を構成してもよい。

【００４３】また上記置換基の更なる置換基としては、
好ましくは水酸基、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素）、ニトロ基、シアノ基、アミド基、スルホ
ンアミド基、Ｒ₂₀〜Ｒ₂₂、Ｒ₂₅のアルキル基、メトキシ
基、エトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、プロポキシ
基、ヒドロキシプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１
〜８個のアルコキシ基、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、ホルミル
基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基、アセトキ
シ基、ブチリルオキシ基等のアシロキシ基、カルボキシ
基が挙げられる。

【００４４】Ｂ、Ｒ₂₀は酸の作用により分解してアルカ
リ現像液中での溶解性を増大させる基を表す。酸分解性
基としては、例えば、酸の作用により加水分解し酸を形
成する基、更には酸の作用により炭素カチオンが脱離し
酸を形成する基が挙げられる。好ましくは上記Ｒ₃ 、Ｒ
₆ 、Ｒ₁₁のところで示した一般式（Ｘ）又は（XI）で表
される基である。

【００４５】以下に一般式（IV）〜（VI）で表される繰
り返し構造単位の具体例を示すが、本発明がこれに限定
されるものではない。

【００４６】

【化１５】

【００４７】

【化１６】

【００４８】

【化１７】

【００４９】

【化１８】

【００５０】本発明の樹脂中における酸分解性基を含有
する繰り返し構造単位（好ましくは上記一般式（IV）〜
（VI）で表される繰り返し構造単位）の含有量は、アル
カリ現像性、基板密着性、更には耐ドライエッチング性
等の性能により調整されるが、好ましくは０〜５０モル
％、更に好ましくは５〜４０モル％、また更に好ましく
は１０〜３０モル％の範囲で使用される。ここで、酸分
解性基を含有する繰り返し構造単位の含有量は、酸分解
性基を含有する一般式（Ｉ）〜(III）で示される繰り返
し構造単位の量も含めた、本発明の樹脂中の全ての酸分
解性基を含有する繰り返し構造単位の含有量である。

【００５１】［３］カルボキシル基を有する繰り返し構
造単位 本発明に係わる樹脂において、カルボキシル基は、上記
一般式（Ｉ）〜(III）で示される繰り返し構造単位中に
含まれてもよいし、酸分解性基を有する繰り返し構造単
位中に含まれてもよいし、それらとは別の繰り返し構造
単位中に含まれてもよい。更にこれらのカルボキシル基
の置換場所のうち複数の場所に含まれてもよい。カルボ
キシル基を有する繰り返し構造単位としては、上記一般
式（VII)〜（IX）で表される繰り返し構造単位が好まし
い。

【００５２】前記一般式（VII)〜（IX）におけるＲ₂₇、
Ｒ₂₈、Ｒ₃₀〜Ｒ₃₂のアルキル基としては、好ましくは置
換基を有していても良い、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基のような炭素数
１〜４個のものが挙げられる。ハロアルキル基として
は、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子が置換
した炭素数１〜４個のアルキル基、例えばフルオロメチ
ル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロエチ
ル基、クロロエチル基、ブロモエチル基等が挙げられ
る。Ｒ₃₄、Ｒ₃₅、Ｒ₃₈のアルキル基としては、好ましく
は置換基を有していても良い、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、オクチル基のような炭素数
１〜８個のものが挙げられる。シクロアルキル基として
は、好ましくは置換基を有していても良い、シクロプロ
ピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基のような
炭素数３〜８個のものが挙げられる。アルケニル基とし
ては、好ましくは置換基を有していても良い、ビニル
基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル
基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基の様な炭素数２
〜６個のものが挙げられる。Ｒ₃₄とＲ₃₅とが互いに結合
して窒素原子とともに形成する環としては、５〜８員環
が好ましく、具体的にはピロリジン、ピペリジン、ピペ
ラジン等が挙げられる。

【００５３】Ｘ₉ 〜Ｘ₁₁、Ｒ₃₆、Ｒ₃₇、Ｒ₃₉のアルキレ
ン基としては、好ましくは置換基を有していても良い、
メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、
ヘキシレン基、オクチレン基等の炭素数１〜８個のもの
が挙げられる。アルケニレン基としては、好ましくは置
換基を有していても良い、エテニレン基、プロペニレン
基、ブテニレン基等の炭素数２〜６個のものが挙げられ
る。シクロアルキレン基としては、好ましくは置換基を
有していても良い、シクロペンチレン基、シクロヘキシ
レン基等の炭素数５〜８個のものが挙げられる。Ｒ₃₆、
Ｒ₃₇、Ｒ₃₉は、更に上記アルキレン基、アルケニレン
基、シクロアルキレン基と、エーテル基、エステル基、
アミド基、ウレタン基、ウレイド基の少なくとも１つと
が一緒になって２価の基を構成してもよい。

【００５４】また上記置換基における更なる置換基とし
ては、好ましくは水酸基、ハロゲン原子（フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素）、ニトロ基、シアノ基、アミド基、
スルホンアミド基、Ｒ₃₄、Ｒ₃₅、Ｒ₃₈のアルキル基、メ
トキシ基、エトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、プロポ
キシ基、ヒドロキシプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素
数１〜８個のアルコキシ基、メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、ホル
ミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基、アセ
トキシ基、ブチリルオキシ基等のアシロキシ基、カルボ
キシ基が挙げられる。

【００５５】以下に一般式（VII)〜（IX）で表される繰
り返し構造単位の具体例を示すが、本発明がこれに限定
されるものではない。

【００５６】

【化１９】

【００５７】

【化２０】

【００５８】本発明の樹脂中におけるカルボキシル基を
有する繰り返し構造単位（好ましくは上記一般式（VII)
〜（IX）で表される繰り返し構造単位）の含有量は、ア
ルカリ現像性、基板密着性、更には感度等の性能により
調整されるが、全繰り返し構造単位に対して好ましくは
０〜６０モル％、より好ましくは０〜４０モル％、特に
好ましくは０〜２０モル％の範囲で使用される。ここ
で、このカルボキシル基含有繰り返し構造単位の含有量
は、カルボキシル基を含有する上記一般式（Ｉ）〜(II
I）で示される繰り返し構造単位及びカルボキシル基を
含有する酸分解性基含有繰り返し構造単位も含めた、樹
脂中の全てのカルボキシル基含有繰り返し構造単位の量
である。

【００５９】［４］前記繰り返し構造単位を有する本発
明の成分（Ｂ）の樹脂 また本発明の成分（Ｂ）の樹脂の性能を向上させる目的
で、同樹脂の２２０ｎｍ以下の透過性及び耐ドライエッ
チング性を著しく損なわない範囲で、更に他の重合性モ
ノマーを共重合させても良い。使用することができる共
重合モノマーとしては、以下に示すものが含まれる。例
えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタ
クリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合
物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン
類、クロトン酸エステル類などから選ばれる付加重合性
不飽和結合を１個有する化合物である。

【００６０】具体的には、例えばアクリル酸エステル
類、例えばアルキル（アルキル基の炭素原子数は１〜１
０のものが好ましい）アクリレート（例えば、アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、ア
クリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸シ
クロヘキシル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸
オクチル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチルア
クリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート２，２
−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒド
ロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパン
モノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレ
ート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、など）
アリールアクリレート（例えばフェニルアクリレート、
ヒドロキシフェニルアクリレートなど）；

【００６１】メタクリル酸エステル類、例えば、アルキ
ル（アルキル基の炭素原子数は１〜１０のものが好まし
い）メタクリレート（例えば、メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソ
プロピルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメ
タクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど）、
アリールメタクリレート（例えば、フェニルメタクリレ
ート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クレジルメ
タクリレート、ナフチルメタクリレートなど）；アクリ
ルアミド類、例えば、アクリルアミド、Ｎ−アルキルア
クリルアミド、（アルキル基としては、炭素原子数１〜
１０のもの、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、オクチル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシエチル
基、ベンジル基などがある。）、Ｎ−アリールアクリル
アミド（アリール基としては、例えばフェニル基、トリ
ル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、シアノフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、カルボキシフェニル基など
がある。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アル
キル基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例えば、
メチル基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチル
ヘキシル基、シクロヘキシル基などがある。）、Ｎ，Ｎ
−アリールアクリルアミド（アリール基としては、例え
ばフェニル基などがある。）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニ
ルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル
アクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−ア
セチルアクリルアミドなど；メタクリルアミド類、例え
ば、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド
（アルキル基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例
えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキ
シル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などが
ある。）、Ｎ−アリールメタクリルアミド（アリール基
としては、フェニル基、ヒドロキシフェニル基、カルボ
キシフェニル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメ
タクリルアミド（アルキル基としては、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−ジアリール
メタクリルアミド（アリール基としては、フェニル基な
どがある。）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタ
クリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルア
ミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドな
ど；アリル化合物、例えば、アリルエステル類（例え
ば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリ
ル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリ
ン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸
アリルなど）、アリルオキシエタノールなど；

【００６２】ビニルエーテル類、例えば、アルキルビニ
ルエーテル（例えば、ヘキシルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキ
シルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、
エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエ
ーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニル
エーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキ
シエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニル
エーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエ
チルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチル
ビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒド
ロフルフリルビニルエーテルなど）、ビニルアリールエ
ーテル（例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリル
エーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−
２，４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエ
ーテル、ビニルアントラニルエーテルなど）；ビニルエ
ステル類、例えば、ビニルブチレート、ビニルイソブチ
レート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチル
アセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビ
ニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビ
ニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、
ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、
ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、
ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニ
ル、サルチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラ
クロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど；

【００６３】スチレン類、例えば、スチレン、アルキル
スチレン（例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレ
ン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルス
チレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキ
シルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレ
ン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフ
ルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセ
トキシメチルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例
えば、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルス
チレン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン
（例えば、クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリク
ロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルス
チレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードス
チレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２
−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フル
オル−３−トリフルオルメチルスチレンなど）、ヒドロ
キシスチレン（例えば、４−ヒドロキシスチレン、３−
ヒドロキシスチレン、２−ヒドロキシスチレン、４−ヒ
ドロキシ−３−メチルスチレン、４−ヒドロキシ−３，
５−ジメチルスチレン、４−ヒドロキシ−３−メトキシ
スチレン、４−ヒドロキシ−３−（２−ヒドロキシベン
ジル）スチレンなど）、カルボキシスチレン；クロトン
酸エステル類、例えば、クロトン酸アルキル（例えば、
クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモ
ノクロトネートなど）；イタコン酸ジアルキル類（例え
ば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチルなど）；マレイン酸あるいはフマール酸の
ジアルキルエステル類（例えば、ジメチルマレレート、
ジブチルフマレートなど）、無水マレイン酸、マレイミ
ド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロ
ニトリル等がある。その他、一般的には共重合可能であ
る付加重合性不飽和化合物であればよい。

【００６４】この中で、カルボキシスチレン、Ｎ−（カ
ルボキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（カルボキシ
フェニル）メタクリルアミド等のようなカルボキシル基
を有するモノマー、ヒドロキシスチレン、Ｎ−（ヒドロ
キシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシフェ
ニル）メタクリルアミド、ヒドロキシフェニルアクリレ
ート、ヒドロキシフェニルメタクリレート等のフェノー
ル性水酸基を有するモノマー、マレイミド等、アルカリ
溶解性を向上させるモノマーが共重合成分として好まし
い。本発明における樹脂中の他の重合性モノマーの含有
量としては、全繰り返し単位に対して、５０モル％以下
が好ましく、より好ましくは３０モル％以下である。

【００６５】一般式（Ｉ）〜(III）で示される繰り返し
構造単位（一般式（IV）〜（VI）で表される各繰り返し
構造単位、及び一般式（VII)〜（IX）で表される各繰り
返し構造単位を含有するものも含む）を含有する本発明
の成分（Ｂ）の樹脂は、各構造に対応する不飽和モノマ
ーのラジカル、カチオン、又はアニオン重合により合成
される。更に詳しくは前記に示した好ましい組成に基づ
き各モノマーを配合し、適当な溶媒中、約１０〜４０重
量％のモノマー濃度にて重合触媒を添加し、必要に応じ
加温して重合される。

【００６６】本発明の成分（Ｂ）の樹脂の分子量は、重
量平均（Ｍｗ：ポリスチレン標準）で２，０００以上、
好ましくは３，０００〜１，０００，０００、より好ま
しくは５，０００〜２００，０００、更に好ましくは２
０，０００〜１００，０００の範囲であり、大きい程、
耐熱性等が向上する一方で、現像性等が低下し、これら
のバランスにより好ましい範囲に調整される。また分散
度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．０〜５．０、より
好ましくは１．０〜３．０であり、小さい程、耐熱性、
画像性能（パターンプロファイル、デフォーカスラチチ
ュード等）が良好となる。

【００６７】本発明において、上記樹脂の感光性組成物
中の添加量としては、全固形分に対して５０〜９９．７
重量％、好ましくは７０〜９９重量％である。

【００６８】［５］本発明の成分（Ａ）の光酸発生剤 本発明で用いられる光酸発生剤は、活性光線又は放射線
の照射により酸を発生する化合物である。本発明で使用
される活性光線または放射線の照射により分解して酸を
発生する化合物としては、光カチオン重合の光開始剤、
光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色
剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている公知
の光（４００〜２００ｎｍの紫外線、遠紫外線、特に好
ましくは、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー
光）、ＡｒＦエキシマレーザー光、電子線、Ｘ線、分子
線又はイオンビームにより酸を発生する化合物およびそ
れらの混合物を適宜に選択して使用することができる。

【００６９】また、その他の本発明に用いられる活性光
線又は放射線の照射により酸を発生する化合物として
は、たとえば S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,3
87(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(1980)等に記
載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,06
9,056号、同 Re 27,992号、特願平3-140,140号等に記載
のアンモニウム塩、D.C.Necker etal,Macromolecules,1
7,2468(1984)、C.S.Wenetal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing
ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Cri
vello etal,Macromorecules,10(6),1307(1977) 、Chem.
&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143 号、
米国特許第339,049号、同第410,201号、特開平2-150,84
8号、特開平2-296,514 号等に記載のヨードニウム塩、
J.V.Crivello etal,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crive
llo etal.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt eta
l,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、
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V.Crivello etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,
2877(1979) 、欧州特許第370,693 号、同3,902,114号同
233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,9
33,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、
同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、獨国
特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号、
特開平７−２８２３７号、同８−２７１０２号等に記載
のスルホニウム塩、J.V.Crivello etal,Macromorecule
s,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello etal,J.PolymerSc
i.,Polymer Chem.Ed., 17,1047(1979)等に記載のセレノ
ニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478 Tokyo,Oct(1988)等に記載のアルソニウム塩等
のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、特公昭46-4605
号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60-2
39736号、特開昭61-169835号、特開昭61-169837号、特
開昭62-58241号、特開昭62-212401号、特開昭63-70243
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物、K.Meier et al,J.Rad.Curing,13(4),26(1986) 、T.
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cc.Chem.Res.,19(12),377(1896)、特開平2-161445号等
に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、S.Hayase eta
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c.,Solid State Sci.Technol.,130(6)、F.M.Houlihan et
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号、同046,083号、同156,535号、同271,851号、同0,38
8,343号、 米国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特
開昭60-198538号、特開昭53-133022号等に記載の０−ニ
トロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、M.TUNOOKA
etal,Polymer Preprints Japan,35(8)、G.Berner etal,
J.Rad.Curing,13(4)、 W.J.Mijs etal,Coating Techno
l.,55(697),45(1983),Akzo、H.Adachi etal,Polymer Pr
eprints,Japan,37(3)、欧州特許第0199,672号、同84515
号、同199,672号、同044,115号、同0101,122号、米国特
許第618,564号、同4,371,605号、同4,431,774 号、特開
昭64-18143号、特開平2-245756号、特願平3-140109号等
に記載のイミノスルフォネ−ト等に代表される光分解し
てスルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166544号、
特開平２−７１２７０号等に記載のジスルホン化合物、
特開平３−１０３８５４号、同３−１０３８５６号、同
４−２１０９６０号等に記載のジアゾケトスルホン、ジ
アゾジスルホン化合物を挙げることができる。

【００７０】また、これらの光により酸を発生する基、
あるいは化合物をポリマーの主鎖または 側鎖に導入し
た化合物、たとえば、M.E.Woodhouse etal,J.Am.Chem.
Soc.,104,5586(1982)、S.P.Pappas etal,J.Imaging Sc
i.,30(5),218(1986)、S.Kondoetal,Makromol.Chem.,Rap
id Commun.,9,625(1988)、Y.Yamadaetal,Makromol.Che
m.,152,153,163(1972)、J.V.Crivello etal,J.PolymerS
ci.,Polymer Chem.Ed.,17,3845(1979) 、米国特許第3,8
49,137号、獨国特許第3914407、特開昭63-26653号、特
開昭55-164824号、特開昭62-69263号、特開昭63-146038
、特開昭63-163452 号、特開昭62-153853号、特開昭63
-146029号等に記載の化合物を用いることができる。

【００７１】さらにV.N.R.Pillai,Synthesis,(1),1(198
0)、A.Abad etal,Tetrahedron Lett.,(47)4555(1971)、
D.H.R.Barton etal,J.Chem.Soc.,(C),329(1970)、米国
特許第3,779,778号、欧州特許第126,712号等に記載の光
により酸を発生する化合物も使用することができる。

【００７２】上記活性光線または放射線の照射により分
解して酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられ
るものについて以下に説明する。 （１）トリハロメチル基が置換した下記一般式（ＰＡＧ
１）で表されるオキサゾール誘導体または一般式（ＰＡ
Ｇ２）で表されるＳ−トリアジン誘導体。

【００７３】

【化２１】

【００７４】式中、Ｒ²⁰¹ は置換もしくは未置換のアリ
ール基、アルケニル基、Ｒ²⁰² は置換もしくは未置換の
アリール基、アルケニル基、アルキル基、−Ｃ（Ｙ）₃
をしめす。Ｙは塩素原子または臭素原子を示す。具体的
には以下の化合物を挙げることができるがこれらに限定
されるものではない。

【００７５】

【化２２】

【００７６】

【化２３】

【００７７】

【化２４】

【００７８】（２）下記の一般式（ＰＡＧ３）で表され
るヨードニウム塩、または一般式（ＰＡＧ４）で表され
るスルホニウム塩。

【００７９】

【化２５】

【００８０】ここで式Ａｒ¹、Ａｒ²は各々独立に置換も
しくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基とし
ては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、ヒロドキシ基、メルカ
プト基およびハロゲン原子が挙げられる。

【００８１】Ｒ²⁰³ 、Ｒ²⁰⁴ 、Ｒ²⁰⁵ は各々独立に、置
換もしくは未置換のアルキル基、アリール基を示す。好
ましくは、炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜８
のアルキル基およびそれらの置換誘導体である。好まし
い置換基としては、アリール基に対しては炭素数１〜８
のアルコキシ基、炭素数１〜８のアルキル基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒロドキシ基およびハロゲン原子
であり、アルキル基に対しては炭素数１〜８のアルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコシキカルボニル基であ
る。

【００８２】Ｚ^-は対アニオンを示し、例えばＢＦ₄ ^-、
ＡｓＦ₆ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆-、ＳｉＦ₆ ^2-、ＣｌＯ₄ ^-、
ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-等のパーフルオロアルカンスルホン酸アニ
オン、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、ナ
フタレン−１−スルホン酸アニオン等の縮合多核芳香族
スルホン酸アニオン、アントラキノンスルホン酸 アニ
オン、スルホン酸基含有染料等を挙げることができるが
これらに限定されるものではない。

【００８３】またＲ²⁰³ 、Ｒ²⁰⁴ 、Ｒ²⁰⁵ のうちの２つ
およびＡｒ¹、Ａｒ²はそれぞれの単結合または置換基を
介して結合してもよい。

【００８４】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。

【００８５】

【化２６】

【００８６】

【化２７】

【００８７】

【化２８】

【００８８】

【化２９】

【００８９】

【化３０】

【００９０】

【化３１】

【００９１】

【化３２】

【００９２】

【化３３】

【００９３】

【化３４】

【００９４】

【化３５】

【００９５】

【化３６】

【００９６】一般式（ＰＡＧ３）、（ＰＡＧ４）で示さ
れる上記オニウム塩は公知であり、例えばJ.W.Knapczyk
etal,J.Am.Chem.Soc.,91,145(1969)、A.L.Maycok eta
l, J.Org.Chem.,35,2532,(1970)、E.Goethas etal ,Bul
l.Soc.Chem.Belg.,73,546,(1964) 、H.M.Leicester、J.A
me.Chem.Soc.,51,3587(1929)、J.V.Crivello etal,J.Po
lym.Chem.Ed.,18,2677(1980)、米国特許第2,807,648 号
および同4,247,473号、特開昭53-101,331号等に記載の
方法により合成することができる。

【００９７】（３）下記一般式（ＰＡＧ５）で表される
ジスルホン誘導体または一般式（ＰＡＧ６）で表される
イミノスルホネート誘導体。

【００９８】

【化３７】

【００９９】式中、Ａｒ³、Ａｒ⁴は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。Ｒ ²⁰⁶ は置換もしくは
未置換のアルキル基、アリール基を示す。Ａは置換もし
くは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレ
ン基を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。

【０１００】

【化３８】

【０１０１】

【化３９】

【０１０２】

【化４０】

【０１０３】

【化４１】

【０１０４】

【化４２】

【０１０５】

【化４３】

【０１０６】これらの活性光線または放射線の照射によ
り分解して酸を発生する化合物の添加量は、感光性組成
物の全重量（塗布溶媒を除く）を基準として通常０．０
０１〜４０重量％の範囲で用いられ、好ましくは０．０
１〜２０重量％、更に好ましくは０．１〜５重量％の範
囲で使用される。活性光線または放射線の照射により分
解して酸を発生する化合物の添加量が、０．００１重量
％より少ないと感度が低くなり、また添加量が４０重量
％より多いとレジストの光吸収が高くなりすぎ、プロフ
ァイルの悪化や、プロセス（特にベーク）マージンが狭
くなり好ましくない。

【０１０７】［６］本発明に使用されるその他の成分 本発明のポジ型感光性組成物には、必要に応じて更に酸
分解性溶解阻止化合物、染料、可塑剤、界面活性剤、光
増感剤、有機塩基性化合物、及び現像液に対する溶解性
を促進させる化合物等を含有させることができる。本発
明のポジ型感光性組成物には、酸分解性溶解阻止化合物
が含有することが好ましい。これにより、露光、未露光
のアルカリ溶解性のディスクリミネーションが大きくな
り、より解像度が優れるようになる。本発明で使用され
る酸分解性溶解阻止化合物としては、例えば上記一般式
（Ｘ）、（XI) で示される酸分解性基を少なくとも１個
有する分子量３，０００以下の低分子化合物である。特
に２２０ｎｍ以下の透過性を低下させない為、Proceedi
ng of SPIE, 2724, 355 (1996)に記載されているコール
酸誘導体の様な脂環族又は脂肪族化合物が好ましい。本
発明において、酸分解性溶解阻止化合物を使用する場
合、その添加量は感光性組成物の全重量（溶媒を除く）
を基準として３〜５０重量％であり、好ましくは５〜４
０重量％、より好ましくは１０〜３５重量％の範囲であ
る。

【０１０８】本発明で使用できる現像液に対する溶解促
進性化合物としては、フェノール性ＯＨ基を２個以上、
又はカルボキシ基を１個以上有する分子量１，０００以
下の低分子化合物である。カルボキシ基を有する場合は
上記と同じ理由で脂環族又は脂肪族化合物が好ましい。
これら溶解促進性化合物の好ましい添加量は、本発明の
樹脂に対して２〜５０重量％であり、更に好ましくは５
〜３０重量％である。５０重量％を越えた添加量では、
現像残渣が悪化し、また現像時にパターンが変形すると
いう新たな欠点が発生して好ましくない。

【０１０９】このような分子量１０００以下のフェノー
ル化合物は、例えば、特開平４−１２２９３８、特開平
２−２８５３１、米国特許第４９１６２１０、欧州特許
第２１９２９４等に記載の方法を参考にして、当業者に
於て容易に合成することが出来る。フェノール化合物の
具体例を以下に示すが、本発明で使用できる化合物はこ
れらに限定されるものではない。

【０１１０】レゾルシン、フロログルシン、２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４′−
テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３′，
４′，５′−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、アセト
ン−ピロガロール縮合樹脂、フロログルコシド、２，
４，２′，４′−ビフェニルテトロール、４，４′−チ
オビス（１，３−ジヒドロキシ）ベンゼン、２，２′，
４，４′−テトラヒドロキシジフェニルエーテル、２，
２′，４，４′−テトラヒドロキシジフェニルスルフォ
キシド、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシジフェ
ニルスルフォン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メ
タン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、４，４−（α−メチルベンジリデン）ビスフ
ェノール、α，α′，α″−トリス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、
α，α′，α″−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−
１−エチル−４−イソプロピルベンゼン、１，２，２−
トリス（ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，２−
トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２，２，５，５−テトラキス（４−ヒドロキ
シフェニル）ヘキサン、１，２−テトラキス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、１，１，３−トリス（ヒドロ
キシフェニル）ブタン、パラ〔α，α，α′，α′−テ
トラキス（４−ヒドロキシフェニル）〕−キシレン等を
挙げることができる。

【０１１１】本発明で用いることのできる好ましい有機
塩基性化合物とは、フェノールよりも塩基性の強い化合
物である。中でも含窒素塩基性化合物が好ましい。好ま
しい化学的環境として、下記式（Ａ）〜（Ｅ）の構造を
挙げることができる。

【０１１２】

【化４４】

【０１１３】更に好ましい化合物は、一分子中に異なる
化学的環境の窒素原子を２個以上有する含窒素塩基性化
合物であり、特に好ましくは、置換もしくは未置換のア
ミノ基と窒素原子を含む環構造の両方を含む化合物もし
くはアルキルアミノ基を有する化合物である。好ましい
具体例としては、置換もしくは未置換のグアニジン、置
換もしくは未置換のアミノピリジン、置換もしくは未置
換のアミノアルキルピリジン、置換もしくは未置換のア
ミノピロリジン、置換もしくは未置換のインダーゾル、
置換もしくは未置換のピラゾール、置換もしくは未置換
のピラジン、置換もしくは未置換のピリミジン、置換も
しくは未置換のプリン、置換もしくは未置換のイミダゾ
リン、置換もしくは未置換のピラゾリン、置換もしくは
未置換のピペラジン、置換もしくは未置換のアミノモル
フォリン、置換もしくは未置換のアミノアルキルモルフ
ォリン等が挙げられる。好ましい置換基は、アミノ基、
アミノアルキル基、アルキルアミノ基、アミノアリール
基、アリールアミノ基、アルキル基、アルコキシ基、ア
シル基、アシロキシ基、アリール基、アリールオキシ
基、ニトロ基、水酸基、シアノ基である。特に好ましい
化合物として、グアニジン、１，１−ジメチルグアニジ
ン、１，１，３，３，−テトラメチルグアニジン、２−
アミノピリジン、３−アミノピリジン、４−アミノピリ
ジン、２−ジメチルアミノピリジン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、２−ジエチルアミノピリジン、２−（アミ
ノメチル）ピリジン、２−アミノ−３−メチルピリジ
ン、２−アミノ−４−メチルピリジン、２−アミノ−５
−メチルピリジン、２−アミノ−６−メチルピリジン、
３−アミノエチルピリジン、４−アミノエチルピリジ
ン、３−アミノピロリジン、ピペラジン、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）ピペラジン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピ
ペリジン、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ピペリジノピペリジン、２−イミノピ
ペリジン、１−（２−アミノエチル）ピロリジン、ピラ
ゾール、３−アミノ−５−メチルピラゾール、５−アミ
ノ−３−メチル−１−ｐ−トリルピラゾール、ピラジ
ン、２−（アミノメチル）−５−メチルピラジン、ピリ
ミジン、２，４−ジアミノピリミジン、４，６−ジヒド
ロキシピリミジン、２−ピラゾリン、３−ピラゾリン、
Ｎ−アミノモルフォリン、Ｎ−（２−アミノエチル）モ
ルフォリンなどが挙げられるがこれに限定されるもので
はない。

【０１１４】これらの含窒素塩基性化合物は、単独であ
るいは２種以上一緒に用いられる。含窒素塩基性化合物
の使用量は、感光性樹脂組成物（溶媒を除く）１００重
量部に対し、通常、０．００１〜１０重量部、好ましく
は０．０１〜５重量部である。０．００１重量部未満で
は上記含窒素塩基性化合物の添加の効果が得られない。
一方、１０重量部を超えると感度の低下や非露光部の現
像性が悪化する傾向がある。

【０１１５】好適な染料としては油性染料及び塩基性染
料がある。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイル
イエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリ
ーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ，オイルブルー＃６０
３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイル
ブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業株式会社
製）、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メ
チルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、ローダミンＢ
（ＣＩ４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２
０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等を挙げ
ることができる。

【０１１６】露光による酸発生率を向上させる為、さら
に下記に挙げるような光増感剤を添加することができ
る。好適な光増感剤としては、具体的にはベンゾフェノ
ン、ｐ，ｐ’−テトラメチルジアミノベンゾフェノン、
ｐ，ｐ’−テトラエチルエチルアミノベンゾフェノン、
２−クロロチオキサントン、アントロン、９−エトキシ
アントラセン、アントラセン、ピレン、ペリレン、フェ
ノチアジン、ベンジル、アクリジンオレンジ、ベンゾフ
ラビン、セトフラビン−Ｔ、９，１０−ジフェニルアン
トラセン、９−フルオレノン、アセトフェノン、フェナ
ントレン、２−ニトロフルオレン、５−ニトロアセナフ
テン、ベンゾキノン、２−クロロ−４−ニトロアニリ
ン、Ｎ−アセチル−ｐ−ニトロアニリン、ｐ−ニトロア
ニリン、、Ｎ−アセチル−４−ニトロ−１−ナフチルア
ミン、ピクラミド、アントラキノン、２−エチルアント
ラキノン、２−tert−ブチルアントラキノン１，２−ベ
ンズアンスラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロン、ジベンザルアセトン、１，
２−ナフトキノン、３，３’−カルボニル−ビス（５，
７−ジメトキシカルボニルクマリン）及びコロネン等で
あるがこれらに限定されるものではない。また、これら
の光増感剤は、光源の遠紫外光の吸光剤としても使用可
能である。この場合、吸光剤は基板からの反射光を低減
し、レジスト膜内の多重反射の影響を少なくさせること
で、定在波改良の効果を発現する。

【０１１７】本発明の感光性組成物は、上記各成分を溶
解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、γ−ブチ
ロラクトン、メチルエチルケトン、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、２−メトキシエチルアセテート、エチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、トルエン、酢酸エチル、乳
酸メチル、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、
エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピル
ビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロ
リドン、テトラヒドロフラン等が好ましく、これらの溶
媒を単独あるいは混合して使用する。

【０１１８】上記溶媒に界面活性剤を加えることもでき
る。具体的には、ポリオキシエチレンラウリルエーテ
ル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキ
シエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイ
ルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル
類、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、
ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリ
オキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー
類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミ
テート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノ
オレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタント
リステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリ
オキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノパルミテ−ト、ポリオキシエチ
レンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレン
ソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビ
タントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタ
ン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフト
ップＥＦ３０１，ＥＦ３０３，ＥＦ３５２（新秋田化成
（株）製）、メガファックＦ１７１，Ｆ１７３ （大日
本インキ（株）製）、フロラ−ドＦＣ４３０，ＦＣ４３
１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１
０，サーフロンＳ−３８２，ＳＣ１０１，ＳＣ１０２，
ＳＣ１０３，ＳＣ１０４，ＳＣ１０５，ＳＣ１０６（旭
硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロ
キサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）や
アクリル酸系もしくはメタクリル酸系（共）重合ポリフ
ローＮｏ．７５，Ｎｏ．９５（共栄社油脂化学工業
（株）製）等を挙げることができる。これらの界面活性
剤の配合量は、本発明の組成物中の固形分１００重量部
当たり、通常、２重量部以下、好ましくは１重量部以下
である。これらの界面活性剤は単独で添加してもよい
し、また、いくつかの組み合わせで添加することもでき
る。

【０１１９】上記感光性組成物を精密集積回路素子の製
造に使用されるような基板（例：シリコン／二酸化シリ
コン被覆）上にスピナー、コーター等の適当な塗布方法
により塗布後、所定のマスクを通して露光し、ベークを
行い現像することにより良好なレジストパターンを得る
ことができる。ここで露光光としては、好ましくは２５
０ｎｍ以下、より好ましくは２２０ｎｍ以下の波長の遠
紫外線である。具体的には、ＫｒＦエキシマレーザー
（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎ
ｍ）、Ｆ₂ エキシマレーザー（１５７ｎｍ）、Ｘ線、電
子ビーム等が挙げられる。

【０１２０】本発明の感光性組成物の現像液としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア
水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルア
ミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチ
ルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチル
ジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノール
アミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン
類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエ
チルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム
塩、ピロール、ピヘリジン等の環状アミン類等のアルカ
リ性水溶液を使用することができる。更に、上記アルカ
リ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加し
て使用することもできる。

【０１２１】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。 ［合成例１（構造例（a1）の原料モノマーの合成）］無
水マレイン酸９．８ｇ（０．１０モル）、１−アダマン
タノール１５．２ｇ（０．１０モル）をＤＭＦ２００ｍ
ｌに溶解した。この溶液にＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン１２．３ｇ（０．１０モル）のＤＭＦ５０ｍｌ溶液
を、室温にて撹拌下添加した。更に６０℃にて５時間加
熱撹拌させた。放冷後、塩酸にて中和し、反応溶液をイ
オン交換水３Ｌに激しく撹拌しながら投入した。析出し
た粘調固体を水洗し、カラムクロマトグラフィー（充填
剤：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／
１）にて精製した。白色粉体１２．６ｇを得た。ＮＭＲ
測定により、この粉体が本発明の構造例（a1）の原料モ
ノマーであることを確認した。

【０１２２】［合成例２（構造例（a3）の原料モノマー
の合成）］合成例１の１−アダマンタノールの代わり
に、１−アダマンタンメタノール１６．６ｇ（０．１０
モル）を使用し、その他は合成例１と同様にして白色粉
体１４．２ｇを得た。ＮＭＲ測定により、この液体が本
発明の構造例（a3）の原料モノマーであることを確認し
た。

【０１２３】［合成例３（構造例（a5）の原料モノマー
の合成）］合成例１の１−アダマンタノールの代わり
に、２−メチル−２−アダマンタノール１６．６ｇ
（０．１０モル）を使用し、その他は合成例１と同様に
して白色粉体１２．７ｇを得た。ＮＭＲ測定により、こ
の粉体が本発明の構造例（a5）の原料モノマーであるこ
とを確認した。

【０１２４】［合成例４（構造例（a7）の原料モノマー
の合成）］合成例１の１−アダマンタノールの代わり
に、１−アミノアダマンタン１５．１ｇ（０．１０モ
ル）を使用し、その他は合成例１と同様にして淡褐色粉
体１６．４ｇを得た。ＮＭＲ測定により、この粉体が本
発明の構造例（a7）の原料モノマーであることを確認し
た。

【０１２５】［合成例５（構造例（a30 ）の原料モノマ
ーの合成）］無水イタコン酸１１．２ｇ（０．１０モ
ル）、１−アダマンタンメタノール１６．６ｇ（０．１
０モル）をＤＭＦ２００ｍｌに溶解した。この溶液に
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１２．３ｇ（０．１０
モル）のＤＭＦ５０ｍｌ溶液を、室温にて撹拌下添加し
た。更に６０℃にて５時間加熱撹拌させた。放冷後、塩
酸にて中和し、反応溶液をイオン交換水３Ｌに激しく撹
拌しながら投入した。析出した粘調固体を水洗し、カラ
ムクロマトグラフィー（充填剤：シリカゲル、溶離液：
ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて精製した。白色粉
体１５．２ｇを得た。ＮＭＲ測定により、この粉体が本
発明の構造例（a30 ）の原料モノマーであることを確認
した。

【０１２６】［合成例６（構造例（a15 ）の原料モノマ
ーの合成）］合成例１にて得られた本発明の構造例（a
1）の原料モノマー１２．５ｇ（０．０５０モル）、ジ
ヒドロピラン６．３ｇ（０．０７５モル）をＴＨＦ２０
０ｍｌに溶解した。この溶液に触媒として２−エチルヘ
キシルリン酸エステル０．０５ｇを添加し、５０℃にて
８時間加熱撹拌させた。トリエチルアミンにて触媒を中
和した後、減圧蒸留にて精製し、無色液体１１．７ｇを
得た。ＮＭＲ測定により、この液体が本発明の構造例
（a15 ）の原料モノマーであることを確認した。

【０１２７】［合成例７（構造例（a47 ）の原料モノマ
ーの合成）］合成例５にて得られた本発明の構造例（a3
0 ）の原料モノマー１３．９ｇ（０．０５０モル）、エ
チルビニルエーテル５．４ｇ（０．０７５モル）をＴＨ
Ｆ２００ｍｌに溶解した。この溶液に触媒として２−エ
チルヘキシルリン酸エステル０．０５ｇを添加し、５０
℃にて８時間加熱撹拌させた。トリエチルアミンにて触
媒を中和した後、減圧蒸留にて精製し、無色液体１２．
２ｇを得た。ＮＭＲ測定により、この液体が本発明の構
造例（a47 ）の原料モノマーであることを確認した。

【０１２８】［合成例８（構造例（b7）の原料モノマー
の合成）］無水メタクリル酸１５．４ｇ（０．１０モ
ル）、３−ヒドロキシ−３−メチルブテノール８．６ｇ
（０．１０モル）をＴＨＦ２００ｍｌに溶解した。この
溶液にＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１２．３ｇ
（０．１０モル）のＤＭＦ５０ｍｌ溶液を、室温にて撹
拌下添加した。更に撹拌下、５時間加熱環流させた。放
冷後、反応溶液をイオン交換水３Ｌに激しく撹拌しなが
ら投入し、酢酸エチル３００ｍｌにて抽出した。酢酸エ
チル溶液を水洗し硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下濃縮した。減圧蒸留にて精製し、無色液体１１．４ｇ
を得た。ＮＭＲ測定により、この液体が本発明の構造例
（b7）の原料モノマーであることを確認した。

【０１２９】［合成例９（構造例（b15 ）の原料モノマ
ーの合成）］メタクリル酸１７．２ｇ（０．２０モ
ル）、ジヒドロピラン２５．２ｇ（０．３０モル）をＴ
ＨＦ２００ｍｌに溶解した。この溶液に触媒として２−
エチルヘキシルリン酸エステル０．１ｇを添加し、５０
℃にて８時間加熱撹拌させた。トリエチルアミンにて触
媒を中和した後、減圧蒸留にて精製し、無色液体２６．
５ｇを得た。ＮＭＲ測定により、この液体が本発明の構
造例（b15 ）の原料モノマーであることを確認した。

【０１３０】［合成例１０（構造例（b18 ）の原料モノ
マーの合成）］合成例９のジヒドロピランの代わりに、
エチルビニルエーテル２１．６（０．３０モル）を使用
し、その他は合成例９と同様にして無色液体２４．５ｇ
を得た。ＮＭＲ測定により、この液体が本発明の構造例
（b18 ）の原料モノマーであることを確認した。

【０１３１】［合成例１１（構造例（b20 ）の原料モノ
マーの合成）］メタクリル酸１７．２ｇ（０．２０モ
ル）、２−メトキシエトキシメチルクロリド２４．９ｇ
（０．２０モル）をＤＭＡｃ２００ｍｌに溶解した。ト
リエチルアミン２０．３ｇを添加し、９０℃にて７時間
加熱撹拌させた。放冷後、反応溶液をイオン交換水３Ｌ
に激しく撹拌しながら投入し、酢酸エチル３００ｍｌに
て抽出した。酢酸エチル溶液を水洗し硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下濃縮した。カラムクロマトグラフ
ィー（充填剤：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／酢酸エ
チル＝３／１）にて精製し、無色液体１３．４ｇを得
た。ＮＭＲ測定により、この液体が本発明の構造例（b2
0 ）の原料モノマーであることを確認した。

【０１３２】［合成例１２（構造例（a1）／（b1）／ア
クリロニトリルから成る本発明の樹脂の合成）］上記合
成例にて得られた構造例（a1）の原料モノマー１２．５
ｇ（０．０５０モル）にｔ−ブチルメタクリレート２．
８４ｇ（０．０２０モル）、更にアクリロニトリル１．
５９ｇ（０．０３０モル）を加え、１−メトキシ−２−
プロパノール６０ｍｌに溶解した。窒素気流及び撹拌
下、７０℃にて重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４
−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業（株）製；
商品名Ｖ−６５）１００ｍｇを添加した。反応開始２時
間及び４時間後に同開始剤各々１００ｍｇを追加した。
更に３時間反応後、９０℃に昇温し撹拌を１時間続け
た。反応液を放冷後、イオン交換水／メタノール（１／
１）１Ｌ中に激しく撹拌しながら投入することにより、
ポリマーを析出させた。得られたポリマーを減圧下、４
０℃にて乾燥し、本発明の樹脂（p-1 ）１４．６ｇを得
た。ＧＰＣにて分子量を測定したところ、重量平均（Ｍ
ｗ：ポリスチレン換算）で１９．５×１０ ³ （分散度
（Ｍｗ／Ｍｎ）２．５）であった。

【０１３３】［合成例１３（構造例（a15 ）／アクリロ
ニトリルから成る本発明の樹脂の合成）］上記合成例に
て得られた構造例（a15 ）の原料モノマー８．３６ｇ
（０．０２５モル）にアクリロニトリル１．３２ｇ
（０．０２５モル）を加え、１−メトキシ−２−プロパ
ノール３０ｍｌに溶解した。窒素気流及び撹拌下、７０
℃にて重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチ
ルバレロニトリル）（和光純薬工業（株）製；商品名Ｖ
−６５）５０ｍｇを添加した。反応開始２時間及び４時
間後に同開始剤各々５０ｍｇを追加した。更に３時間反
応後、９０℃に昇温し撹拌を１時間続けた。反応液を放
冷後、イオン交換水／メタノール（１／１）０．５Ｌに
激しく撹拌しながら投入することにより、ポリマーを析
出させた。得られたポリマーを減圧下、４０℃にて乾燥
し、本発明の樹脂（p-2 ）８．７ｇを得た。ＧＰＣにて
分子量を測定したところ、重量平均（Ｍｗ：ポリスチレ
ン換算）で２２．４×１０³ （分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）
２．７）であった。

【０１３４】［合成例１４（構造例（a17 ）から成る本
発明の樹脂の合成）］構造例（a17 ）の原料モノマー３
２．２ｇ（０．１００モル）を、１−メトキシ−２−プ
ロピルアセテート８０ｍｌに溶解した。以下合成例１２
と同様に反応、後処理をして本発明の樹脂（p-3 ）２
２．６ｇを得た。ＧＰＣにて分子量を測定したところ、
重量平均（Ｍｗ：ポリスチレン換算）で２６．４×１０
³ （分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）２．５）であった。

【０１３５】［合成例１５（構造例（a9）／（b7）／
（c2）から成る本発明の樹脂の合成）］構造例（a9）／
（b7）の原料モノマー各々１３．９ｇ（０．０５０モ
ル）／５．４０ｇ（０．０３５モル）にメタクリル酸
１．２９ｇ（０．０１５モル）加え、１−メトキシ−２
−プロパノール６０ｍｌに溶解した。以下合成例１２と
同様に反応、後処理をして本発明の樹脂（p-4 ）１７．
８ｇを得た。ＧＰＣにて分子量を測定したところ、重量
平均（Ｍｗ：ポリスチレン換算）で２１．３×１０
³（分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）２．９）であった。

【０１３６】［合成例１６（構造例（a2）／（a17 ）か
ら成る本発明の樹脂の合成）］構造例（a2）の原料モノ
マー２５．０ｇ（０．１００モル）を１−メトキシ−２
−プロパノール６０ｍｌに溶解した。以下合成例１２と
同様に反応、後処理をして構造例（a2）から成る樹脂２
１．８ｇを得た。この樹脂１２．５ｇにエチルビニルエ
ーテル３．２４ｇ（０．０４５モル）を加え、ＴＨＦ２
００ｍｌに溶解した。この溶液に触媒として２−エチル
ヘキシルリン酸エステル０．０５ｇを添加し、５０℃に
て８時間加熱撹拌させた。トリエチルアミンにて触媒を
中和した後、イオン交換水／メタノール（１／１）１Ｌ
中に激しく撹拌しながら投入することにより、ポリマー
を析出させた。得られたポリマーを減圧下、４０℃にて
乾燥し、本発明の樹脂（p-5 ）１４．４ｇを得た。ＮＭ
Ｒ測定により、エチルビニルエーテル付加体（（a17 ）
で示される構造）が８２モル％であることを確認した。
またＧＰＣにて分子量を測定したところ、重量平均（Ｍ
ｗ：ポリスチレン換算）で２７．４×１０³ （分散度
（Ｍｗ／Ｍｎ）２．６）であった。

【０１３７】［合成例１７〜３３（前記構造単位を有す
る本発明の樹脂の合成）］以下合成例１２〜１５と同様
にして、下記表１に示す繰り返し構造単位の原料モノマ
ーを用い、本発明の樹脂を合成した。使用した構造単
位、その原料モノマー仕込みモル比、及び生成した樹脂
の重量平均分子量を合わせて表１に示す。

【０１３８】

【表１】

【０１３９】〔実施例１（溶剤溶解性の測定）〕上記合
成例で得られた本発明の樹脂（p-1 ）〜（p-22）及び下
記比較例用ポリマー（Ａ）各１．０ｇをプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート４．０ｇ及び乳酸
エチル／エトキシプロピオン酸エチル（重量比６／４）
４．０ｇに添加し、十分に撹拌した後５℃にて３日間放
置した。放置後の析出物の有無を濁度計にて測定するこ
とにより、両溶剤に対する本発明の樹脂と比較例用ポリ
マー（Ａ）の溶解性を調べた。その結果、本発明の樹脂
においても析出物が認められず、十分な溶剤溶解性を有
することを確認した。一方、比較例用ポリマー（Ａ）の
場合、５℃での経時後、樹脂の析出が認められた。 比較例用ポリマー（Ａ）：１−アダマンチルメタクリレ
ート／ｔ−ブチルメタクリレート／メタクリル酸（モル
比；６０／２０／２０、重量平均分子量３１．５×１０
³ 、分散度２．９）

【０１４０】〔実施例２（光学濃度の測定）〕上記合成
例で得られた本発明の樹脂１．０ｇとトリフェニルスル
ホニウムのトリフレート塩０．０３ｇをプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート４．５ｇに溶解
し、０．２μｍのテフロンフィルターにより濾過した。
スピンコーターにて石英ガラス基板上に均一に塗布し、
１００℃で９０秒間ホットプレート上で加熱乾燥を行
い、１μｍのレジスト膜を形成させた。得られた膜の光
学吸収を紫外線分光光度計にて測定したところ、１９３
ｎｍの光学濃度は表２に示す通りであった。

【０１４１】

【表２】

【０１４２】表２の結果から、本発明の樹脂の光学濃度
測定値は比較例のポリ（ヒドロキシスチレン）の値より
小さく、１９３ｎｍ光に対し十分な透過性を有すること
が判る。

【０１４３】〔実施例３（耐ドライエッチング性の測
定）〕上記合成例で得られた本発明の樹脂及び上記比較
例用ポリマー（Ａ）各１．０ｇをプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート４．５ｇに溶解し、０．
２μｍのテフロンフィルターにより濾過した。スピンコ
ーターにてシリコン基板上に均一に塗布し、１００℃で
９０秒間ホットプレート上で加熱乾燥を行い、０．７μ
ｍのレジスト膜を形成させた。得られた膜をＵＬＶＡＣ
製リアクティブイオンエッチング装置（ＣＳＥ−１１１
０）を用いて、ＣＦ₄ ／Ｏ₂ （８／２）のガスに対する
エッチング速度を測定したところ、表３に示す通りであ
った（エッチング条件：Ｐｏｗｅｒ＝５００Ｗ、Ｐｒｅ
ｓｓｕｒｅ＝４．６Ｐａ、ＧａｓＦｌｏｗ Ｒａｔｅ＝
１０ｓｃｃｍ）。

【０１４４】

【表３】

【０１４５】表３の結果から、本発明の樹脂のエッチン
グ速度は比較例のポリ（メチルメタクリレート）及び比
較例用ポリマー（Ａ）の値より小さく、十分な耐ドライ
エッチング性を有することが判る。

【０１４６】〔実施例４（画像評価−１−）〕上記合成
例で得られた本発明の樹脂１．０ｇとトリフェニルスル
ホニウムのトリフレート塩０．０３ｇをプロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート４．５ｇに溶解
し、０．２μｍのテフロンフィルターにより濾過した。
スピンコーターにてヘキサメチルジシラザン処理を施し
たシリコン基板上に均一に塗布し、１００℃で９０秒間
ホットプレート上で加熱乾燥を行い、０．４μｍのレジ
スト膜を形成させた。このレジスト膜に対し、ＫｒＦエ
キシマーレーザーステッパー（ＮＡ＝０．４２；２４８
ｎｍ）を使用してパターン露光し、露光後直ぐに１１０
℃で６０秒間ホットプレート上で加熱した。更に２．３
８％テトラメチルアンモニウムヒドロオキサイド水溶液
で２３℃下６０秒間浸漬現像し、３０秒間純水にてリン
スした後、乾燥した。この結果、表４に示した感度、解
像度にて、レジスト膜の露光部のみが溶解除去された良
好なポジ型のパターンを形成した。ここで、パターン形
状は、得られたパターンを走査型電子顕微鏡にて観察
し、矩形なものを良好とした。感度は、０．３５μｍの
マスクパターンを再現する露光量をもって定義した。解
像度は、０．３５μｍのマスクパターンを再現する露光
量での限界解像力をもって定義した。

【０１４７】

【表４】

【０１４８】表４の結果から、本発明の樹脂を使用した
レジストは、高感度で解像度が良好である。またパター
ン形状が良好であることが判る。

【０１４９】〔実施例５（画像評価−２−）〕実施例４
で得られた０．４μｍのレジスト膜上に、石英板上にク
ロムでパターンを描いたマスクを密着させ、ＡｒＦエキ
シマーレーザー光（１９３ｎｍ）を照射した。露光後直
ぐに１１０℃で６０秒間ホットプレート上で加熱した。
更に２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロオキサ
イド水溶液で２３℃下６０秒間浸漬現像し、３０秒間純
水にてリンスした後、乾燥した。この結果、表５に示し
た感度、解像度にて、レジスト膜の露光部のみが溶解除
去された良好なポジ型のパターンを形成した。ここで、
感度、解像度及びパターン形状は前記と同様に評価し
た。

【０１５０】

【表５】

【０１５１】表５の結果から、本発明の樹脂を使用した
レジストは、ＡｒＦエキシマーレーザー光に対しても良
好な感度、解像度を示し、ポジ型のパターンを形成する
ことが判る。

【０１５２】

【発明の効果】以上に示したことから明らかな様に本発
明の樹脂においては、通常使用されるレジスト溶剤に対
する溶解性が良好である。また本発明の樹脂を使用した
レジストは、２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の遠
紫外光に対し高い透過性を有し、且つ耐ドライエッチン
グ性が良好である。更に２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎ
ｍ以下の遠紫外光（特にＡｒＦエキシマーレーザー光）
を露光光源とする場合、高感度、高解像度、且つ良好な
パターンプロファイルを示し、半導体素子製造に必要な
微細パターンの形成に有効に用いることが可能である。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）活性光線又は放射線の照射により
   酸を発生する化合物、及び（Ｂ）下記一般式（Ｉ）、
   （II）又は(III）で表されるアダマンチル基を有する繰
   り返し構造単位の少なくとも一つと、酸の作用により分
   解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基の少
   なくとも一つを有する樹脂を含有することを特徴とする
   ポジ型感光性組成物。 【化１】 式（Ｉ）〜(III）中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₅ 、Ｒ₈ 、Ｒ
   ₉ は、同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原
   子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。
   Ｒ₄ 、Ｒ₇ 、Ｒ₁₀は、同じでも異なってもよく、ハロゲ
   ン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキ
   ル基、アルケニル基もしくはアルキニル基、又は−ＣＯ
   −Ｏ−Ｒ₁₁基を表す。Ｒ₃ 、Ｒ₆ 、Ｒ₁₁は、同じでも異
   なってもよく、水素原子、置換基を有していても良い、
   アルキル基、単環あるいは多環のシクロアルキル基もし
   くはアルケニル基、又は酸の作用により分解してアルカ
   リ現像液中での溶解性を増大させる基を表す。Ｘ₁ 〜Ｘ
   ₅ は、同じでも異なってもよく、単結合、２価のアルキ
   レン基、シクロアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−
   Ｎ（Ｒ₁₂）−Ｒ₁₃−基を表す。Ｒ₁₂は水素原子、アルキ
   ル基、単環あるいは多環のシクロアルキル基又はアルケ
   ニル基を表す。Ｒ₁₃は単結合あるいは、エーテル基、エ
   ステル基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基を有して
   も良い、２価のアルキレン基、シクロアルキレン基又は
   アルケニレン基を表す。ｌ、ｍ、ｎは、同じでも異なっ
   てもよく、０又は１〜３の整数を示す。ｌ、ｍ、ｎが２
   以上の場合は、各複数個のＲ₄ 、Ｒ₇ 、Ｒ₁₀は同一でも
   異なっても良い。
2. 【請求項２】 （Ｂ）成分の樹脂が、請求項１に記載の
   一般式（Ｉ）、（II）又は(III）で表される繰り返し構
   造単位のうち少なくとも一つと、下記一般式（IV）、
   （Ｖ）又は（VI）で表される繰り返し構造単位のうち少
   なくとも一つを有し、酸の作用により分解してアルカリ
   現像液中での溶解性が増大する樹脂であることを特徴と
   する請求項１に記載のポジ型感光性組成物。 【化２】 式（IV）〜（VI）中、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₇〜Ｒ₁₉は、同一
   でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
   基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ｒ₁₆はシア
   ノ基、−ＣＯ−ＯＲ₂₀又は−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₂₁）（Ｒ₂₂）
   を表す。Ｘ₆ 〜Ｘ₈ は、同一でも異なっても良く、単結
   合、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ₂₃−、−ＣＯ
   −Ｏ−Ｒ₂₄−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₂₅）−Ｒ₂₆−、置換基を
   有していても良い、２価のアルキレン基、アルケニレン
   基又はシクロアルキレン基を表す。Ｒ₂₀は、水素原子、
   置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキ
   ル基もしくはアルケニル基、又は酸の作用により分解し
   てアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を表す。
   Ｒ₂₁、Ｒ₂₂、Ｒ₂₅は、同一でも異なっても良く、水素原
   子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロア
   ルキル基又はアルケニル基を表し、Ｒ₂₁とＲ₂₂が結合し
   て環を形成しても良い。Ｒ₂₃、Ｒ₂₄、Ｒ₂₆は、同一でも
   異なっても良く、単結合あるいは、エーテル基、エステ
   ル基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基を有しても良
   い、２価のアルキレン基、アルケニレン基又はシクロア
   ルキレン基を表す。Ｂは酸の作用により分解してアルカ
   リ現像液中での溶解性を増大させる基を表す。
3. 【請求項３】 （Ｂ）成分の樹脂が、更にカルボキシル
   基を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のポ
   ジ型感光性組成物。
4. 【請求項４】 （Ｂ）成分の樹脂が、カルボキシル基を
   有する一般式（VII)、（VIII）又は（IX）で表される繰
   り返し構造単位のうち少なくとも一つを有することを特
   徴とする請求項３に記載のポジ型感光性組成物。 【化３】 式（VII)〜（IX）中、Ｒ₂₇、Ｒ₂₈、Ｒ₃₀〜Ｒ₃₂は、同じ
   でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
   基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ｒ₂₉はシア
   ノ基、−ＣＯ−ＯＲ₃₃、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₃₄）（Ｒ₃₅）を
   表す。Ｘ₉ 〜Ｘ₁₁は、同じでも異なってもよく、単結
   合、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ₃₆−、−ＣＯ
   −Ｏ−Ｒ₃₇−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₃₈）−Ｒ₃₉−、置換基を
   有していても良い２価のアルキレン基、アルケニレン基
   又はシクロアルキレン基を表す。Ｒ₃₃は水素原子、置換
   基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基
   又はアルケニル基を表す。Ｒ₃₄、Ｒ₃₅、Ｒ₃₈は、同じで
   も異なってもよく、水素原子、置換基を有していても良
   い、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を
   表し、またＲ₃₄とＲ ₃₅が結合して環を形成しても良い。
   Ｒ₃₆、Ｒ₃₇、Ｒ₃₉は、同じでも異なってもよく、単結合
   あるいは、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタ
   ン基、ウレイド基を有しても良い、２価のアルキレン
   基、アルケニレン基又はシクロアルキレン基を表す。
5. 【請求項５】 酸の作用により分解し得る基を有し、ア
   ルカリ現像液中での溶解性が酸の作用により増大する、
   分子量３，０００以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物
   を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに
   記載のポジ型感光性組成物。
6. 【請求項６】 露光光源として、２５０ｎｍ以下の波長
   の遠紫外光を使用することを特徴とする請求項１〜５の
   いずれかに記載のポジ型感光性組成物。
7. 【請求項７】 露光光源として、２２０ｎｍ以下の波長
   の遠紫外光を使用することを特徴とする請求項６に記載
   のポジ型感光性組成物。