JPH10237692A - Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法 - Google Patents
Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法Info
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- JPH10237692A JPH10237692A JP4517697A JP4517697A JPH10237692A JP H10237692 A JPH10237692 A JP H10237692A JP 4517697 A JP4517697 A JP 4517697A JP 4517697 A JP4517697 A JP 4517697A JP H10237692 A JPH10237692 A JP H10237692A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の課題は，ドライエッチング装置，ＣＶ
Ｄ装置，ＰＶＤ装置などに用いられるＡｌ又はＡｌ合金
製真空チャンバ部材の表面処理方法であって，チャンバ
内を任意の圧力まで高速で真空排気の行えるＡｌ及びＡ
ｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法を提供するこ
とにある。 【解決手段】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって，ほう酸を含有する
溶液を使用しバリヤ−形皮膜を形成させる。また，陽極
酸化処理にあたっては，上記処理液中に他の元素を含有
させた溶液を用いてもよく，陽極酸化電圧を全工程の任
意の区間で一定に保持，または連続的，非連続的に変化
させてもよく，その処理液温度，時間においても任意の
温度，時間で制御を行ってもよい。
Ｄ装置，ＰＶＤ装置などに用いられるＡｌ又はＡｌ合金
製真空チャンバ部材の表面処理方法であって，チャンバ
内を任意の圧力まで高速で真空排気の行えるＡｌ及びＡ
ｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法を提供するこ
とにある。 【解決手段】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって，ほう酸を含有する
溶液を使用しバリヤ−形皮膜を形成させる。また，陽極
酸化処理にあたっては，上記処理液中に他の元素を含有
させた溶液を用いてもよく，陽極酸化電圧を全工程の任
意の区間で一定に保持，または連続的，非連続的に変化
させてもよく，その処理液温度，時間においても任意の
温度，時間で制御を行ってもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術】本発明は，ドライエッチング装
置，ＣＶＤ装置，ＰＶＤ装置などに用いられるＡｌ又は
Ａｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法であって，
チャンバ内を任意の圧力まで高速で真空排気の行えるＡ
ｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法に関
するものである。
置，ＣＶＤ装置，ＰＶＤ装置などに用いられるＡｌ又は
Ａｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法であって，
チャンバ内を任意の圧力まで高速で真空排気の行えるＡ
ｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】ドライエッチング装置，ＣＶＤ装置，Ｐ
ＶＤ装置などに用いられる真空チャンバの内部には，反
応性ガスやエッチングガスとしてハロゲン元素を含む腐
食性のガスが導入されることから，これらのガスに対し
て耐食性の有する部材が必要であり，そのため真空チャ
ンバ用材料として，従来主にステンレス鋼材が用いられ
ていた。しかしながらステンレス鋼製の真空チャンバは
重量が大きく，また熱伝導性が十分でなくべ−キングに
時間がかかるという問題があり，更に，成分中のＮｉ，
Ｃｒなどの重金属が何らかの要因で放出されて汚染源と
なることもあった。そこで，それに替わる材料として軽
量で，熱伝導性に優れ，重金属汚染の恐れの少ないＡｌ
又はＡｌ合金製真空チャンバの開発が検討された。
ＶＤ装置などに用いられる真空チャンバの内部には，反
応性ガスやエッチングガスとしてハロゲン元素を含む腐
食性のガスが導入されることから，これらのガスに対し
て耐食性の有する部材が必要であり，そのため真空チャ
ンバ用材料として，従来主にステンレス鋼材が用いられ
ていた。しかしながらステンレス鋼製の真空チャンバは
重量が大きく，また熱伝導性が十分でなくべ−キングに
時間がかかるという問題があり，更に，成分中のＮｉ，
Ｃｒなどの重金属が何らかの要因で放出されて汚染源と
なることもあった。そこで，それに替わる材料として軽
量で，熱伝導性に優れ，重金属汚染の恐れの少ないＡｌ
又はＡｌ合金製真空チャンバの開発が検討された。
【０００３】しかし，Ａｌ又はＡｌ合金の地金表面は，
自然酸化皮膜が形成されているものの，耐食性が必ずし
も良いわけではなく，何らかの表面処理を行い耐食性を
向上させる必要があり，任意の量の硫酸,蓚酸，りん
酸，クロム酸等を含有する溶液で陽極酸化処理を施し，
陽極酸化皮膜を形成させ耐食性を向上させていた。しか
し，これらはポ−ラス形皮膜を形成するものがほとんど
であり，多孔型の皮膜を形成し，表面積を大きくするた
め，水分及び、油分を他のステンレス鋼やＡｌ地金に対
し，非常に吸収しやすいものとなる。そのため真空排気
時に，それがアウトガスとなり真空排気時間を延ばすと
いう問題があり，また水和封孔処理を行ったものについ
ては，それが非常に水分及び油分を吸収しやすいものと
なっているため同じく真空排気時に，吸収した水分及び
油分がアウトガスとなり，真空排気時間を延ばすという
問題があった。また陽極酸化処理においては工業用とし
て使用目的に合わせその改善が種々検討されてきた。例
えば，特開平８−１２４９２０号公報には，脱脂処理の
際，可性ソ−ダの代わりに有機溶剤と純水を使用するこ
とで，プラズマにさらされてもＡｌ表面からの不純物放
出を抑制し，ウェ−ハ表面への不純物付着を防止すると
いう発明が開示されている。また特開平８−１４４０８
８号公報には陽極酸化処理の際初期電圧より終期電圧を
高くすることで耐食性を向上させるという発明が開示さ
れている。このように陽極酸化処理について種々改善が
あるが，前述のアウトガス量を抑えることを目的とした
陽極酸化処理方法についての改善は開示された例が無
い。
自然酸化皮膜が形成されているものの，耐食性が必ずし
も良いわけではなく，何らかの表面処理を行い耐食性を
向上させる必要があり，任意の量の硫酸,蓚酸，りん
酸，クロム酸等を含有する溶液で陽極酸化処理を施し，
陽極酸化皮膜を形成させ耐食性を向上させていた。しか
し，これらはポ−ラス形皮膜を形成するものがほとんど
であり，多孔型の皮膜を形成し，表面積を大きくするた
め，水分及び、油分を他のステンレス鋼やＡｌ地金に対
し，非常に吸収しやすいものとなる。そのため真空排気
時に，それがアウトガスとなり真空排気時間を延ばすと
いう問題があり，また水和封孔処理を行ったものについ
ては，それが非常に水分及び油分を吸収しやすいものと
なっているため同じく真空排気時に，吸収した水分及び
油分がアウトガスとなり，真空排気時間を延ばすという
問題があった。また陽極酸化処理においては工業用とし
て使用目的に合わせその改善が種々検討されてきた。例
えば，特開平８−１２４９２０号公報には，脱脂処理の
際，可性ソ−ダの代わりに有機溶剤と純水を使用するこ
とで，プラズマにさらされてもＡｌ表面からの不純物放
出を抑制し，ウェ−ハ表面への不純物付着を防止すると
いう発明が開示されている。また特開平８−１４４０８
８号公報には陽極酸化処理の際初期電圧より終期電圧を
高くすることで耐食性を向上させるという発明が開示さ
れている。このように陽極酸化処理について種々改善が
あるが，前述のアウトガス量を抑えることを目的とした
陽極酸化処理方法についての改善は開示された例が無
い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は，上記問題点
を解決させるものであって，アウトガスが少なく，真空
排気を短時間で行える，Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャン
バ部材の表面処理方法を提供しようとするものである。
を解決させるものであって，アウトガスが少なく，真空
排気を短時間で行える，Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャン
バ部材の表面処理方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成した本発
明に係るＡｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処
理方法とは，Ａｌ又はＡｌ合金で製作された真空チャン
バを含む全ての真空空間で使用されるＡｌ又はＡｌ合金
製部材の表面に陽極酸化処理を行うにあたって，ほう酸
を含有する溶液を用いることを要旨とするものであり，
さらに，孔の無いバリヤ−形皮膜を形成させることを目
的とした表面処理方法である。
明に係るＡｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処
理方法とは，Ａｌ又はＡｌ合金で製作された真空チャン
バを含む全ての真空空間で使用されるＡｌ又はＡｌ合金
製部材の表面に陽極酸化処理を行うにあたって，ほう酸
を含有する溶液を用いることを要旨とするものであり，
さらに，孔の無いバリヤ−形皮膜を形成させることを目
的とした表面処理方法である。
【０００６】尚，陽極酸化処理にあたっては，上記処理
液中に他の元素を含有させた溶液を用いてもよい。ま
た，陽極酸化電圧を全工程の任意の区間で一定に保持，
または連続的，非連続的に変化させてもよく，その処理
液温度，時間においても任意の温度，時間で制御を行っ
てもよい。
液中に他の元素を含有させた溶液を用いてもよい。ま
た，陽極酸化電圧を全工程の任意の区間で一定に保持，
または連続的，非連続的に変化させてもよく，その処理
液温度，時間においても任意の温度，時間で制御を行っ
てもよい。
【０００７】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面処理方法として，従来のほう酸を除く硫酸等を含有さ
せた処理液を使用し，ポ−ラス形皮膜を形成させたもの
では，表面から発生するアウトガスが非常に多く，真空
排気に多大な時間を要していた。
面処理方法として，従来のほう酸を除く硫酸等を含有さ
せた処理液を使用し，ポ−ラス形皮膜を形成させたもの
では，表面から発生するアウトガスが非常に多く，真空
排気に多大な時間を要していた。
【０００８】そこでこれを改善するため，試験検討を行
った結果，陽極酸化処理において，処理液をほう酸を含
有させたものを使用することにより，従来のものと比
べ，アウトガスの発生しにくいものとなることを見い出
した。
った結果，陽極酸化処理において，処理液をほう酸を含
有させたものを使用することにより，従来のものと比
べ，アウトガスの発生しにくいものとなることを見い出
した。
【０００９】ほう酸等を使用し，バリヤ−形皮膜を形成
させる方法は知られているが，これらを真空チャンバ部
材の表面処理方法として，試みた実績は無く，またこれ
らを目的とした観点より検討を行った事例はない。
させる方法は知られているが，これらを真空チャンバ部
材の表面処理方法として，試みた実績は無く，またこれ
らを目的とした観点より検討を行った事例はない。
【００１０】図１は，硫酸等の適度の溶解力を有する処
理液を使用し陽極酸化処理を行った，Ａｌ又はＡｌ合金
製真空チャンバ部材に形成される，陽極酸化皮膜の断面
図を示す。陽極酸化処理を行うと，Ａｌ金属１の表面に
最初は緻密なバリヤ−層２が形成される。その後生成し
た皮膜の各所に微細なポア−３及びポ−ラス層４が生
じ，時間とともに成長する。また図２は，ほう酸を使用
し陽極酸化処理を行った，Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャ
ンバ部材に形成される陽極酸化皮膜の断面図を示す。陽
極酸化処理を行うと，Ａｌ金属１の表面に緻密なバリヤ
−層２が形成されるが，その後前述のような，ポア−３
及びポ−ラス層４は形成されない。これらの陽極酸化皮
膜からのアウトガス及び真空排気時間について調べた結
果，下記の結論を得た。
理液を使用し陽極酸化処理を行った，Ａｌ又はＡｌ合金
製真空チャンバ部材に形成される，陽極酸化皮膜の断面
図を示す。陽極酸化処理を行うと，Ａｌ金属１の表面に
最初は緻密なバリヤ−層２が形成される。その後生成し
た皮膜の各所に微細なポア−３及びポ−ラス層４が生
じ，時間とともに成長する。また図２は，ほう酸を使用
し陽極酸化処理を行った，Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャ
ンバ部材に形成される陽極酸化皮膜の断面図を示す。陽
極酸化処理を行うと，Ａｌ金属１の表面に緻密なバリヤ
−層２が形成されるが，その後前述のような，ポア−３
及びポ−ラス層４は形成されない。これらの陽極酸化皮
膜からのアウトガス及び真空排気時間について調べた結
果，下記の結論を得た。
【００１１】硫酸等の適度の溶解力を有する処理液を使
用し陽極酸化処理を行ったものは，前述の通り，ポア−
３が形成されるため非常に表面積が大きくなり，その分
吸収する水分，油分の量も多くなることが考えられ，ア
ウトガスが結果として多く発生し，真空排気に要する時
間も多大なものとなってしまう。また孔を閉じるために
行う水和封孔処理を行ったものについては，非常に水分
及び油分を吸収しやすい材質となるため，同様にアウト
ガスが多く発生し，真空排気に要する時間も多大なもの
となってしまう。一方ほう酸を使用し陽極酸化処理を行
ったものは，従来のものに比べアウトガスが少なく，真
空排気に要する時間も少なくてよいことが分かった。こ
れはポア−３及びポ−ラス層４が形成されないことよ
り，表面積が大きくならないため，その分，水分及び油
分の吸収量も多くならずに，アウトガス量の軽減及び真
空排気時間の短縮につながると考えられる。
用し陽極酸化処理を行ったものは，前述の通り，ポア−
３が形成されるため非常に表面積が大きくなり，その分
吸収する水分，油分の量も多くなることが考えられ，ア
ウトガスが結果として多く発生し，真空排気に要する時
間も多大なものとなってしまう。また孔を閉じるために
行う水和封孔処理を行ったものについては，非常に水分
及び油分を吸収しやすい材質となるため，同様にアウト
ガスが多く発生し，真空排気に要する時間も多大なもの
となってしまう。一方ほう酸を使用し陽極酸化処理を行
ったものは，従来のものに比べアウトガスが少なく，真
空排気に要する時間も少なくてよいことが分かった。こ
れはポア−３及びポ−ラス層４が形成されないことよ
り，表面積が大きくならないため，その分，水分及び油
分の吸収量も多くならずに，アウトガス量の軽減及び真
空排気時間の短縮につながると考えられる。
【００１２】尚本発明は，Ａｌ又はＡｌ合金で製作され
た真空チャンバを含む全ての真空空間で使用されるＡｌ
又はＡｌ合金製部材の表面に陽極酸化処理を行うにあた
って，ほう酸を含有する溶液を用いて，バリヤ−形被膜
を形成させることを目的とした表面処理方法であり，さ
らに，陽極酸化処理にあたっては，上記処理液中に他の
元素を含有させた溶液を用いてもよい。また，陽極酸化
電圧を全工程の任意の区間で一定に保持，または連続
的，非連続的に変化させてもよく，その処理液温度，時
間においても任意の温度，時間で制御を行ってもよい。
た真空チャンバを含む全ての真空空間で使用されるＡｌ
又はＡｌ合金製部材の表面に陽極酸化処理を行うにあた
って，ほう酸を含有する溶液を用いて，バリヤ−形被膜
を形成させることを目的とした表面処理方法であり，さ
らに，陽極酸化処理にあたっては，上記処理液中に他の
元素を含有させた溶液を用いてもよい。また，陽極酸化
電圧を全工程の任意の区間で一定に保持，または連続
的，非連続的に変化させてもよく，その処理液温度，時
間においても任意の温度，時間で制御を行ってもよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下，本発明を図面に基ずいて説
明する。
明する。
【００１４】図３は，各材料を各処理液にて陽極酸化処
理を行ったものを試験片として，昇温ガス放出試験を行
った結果である。Ｎｏ．９，10は本発明例であり，Ｎ
ｏ．１〜８は従来例に相当する。
理を行ったものを試験片として，昇温ガス放出試験を行
った結果である。Ｎｏ．９，10は本発明例であり，Ｎ
ｏ．１〜８は従来例に相当する。
【００１５】試験は，試験片を赤外線により５０℃／ｍ
ｉｎの昇温速度で真空加熱し，その際に試験片より放出
されたガスを圧力上昇で評価した。
ｉｎの昇温速度で真空加熱し，その際に試験片より放出
されたガスを圧力上昇で評価した。
【００１６】試験結果から明らかなように，ほう酸を含
有する処理液を使用して陽極酸化皮膜を形成させたもの
は，材質６０００代及び５０００代のいずれに対して
も，硫酸及びクロム酸を含有する処理液を使用して陽極
酸化皮膜を形成させたものに対して，ガス放出量が１桁
少ないことが分かる。これは種々あるＡｌ材質に対して
限定した材質のみではないことを意味する。
有する処理液を使用して陽極酸化皮膜を形成させたもの
は，材質６０００代及び５０００代のいずれに対して
も，硫酸及びクロム酸を含有する処理液を使用して陽極
酸化皮膜を形成させたものに対して，ガス放出量が１桁
少ないことが分かる。これは種々あるＡｌ材質に対して
限定した材質のみではないことを意味する。
【００１７】図４は，各処理液にて陽極酸化処理を行っ
た図５に示す真空チャンバ５を真空排気し，差圧流量法
にてアウトガスの差を確認した試験結果である。Ｎｏ．
３，４は本発明例であり，Ｎｏ．１，２は従来例に相当
する。
た図５に示す真空チャンバ５を真空排気し，差圧流量法
にてアウトガスの差を確認した試験結果である。Ｎｏ．
３，４は本発明例であり，Ｎｏ．１，２は従来例に相当
する。
【００１８】真空チャンバ５の前処理条件として，実使
用レベルに近似させるため，洗浄後２４Ｈクリ−ンル−
ム内に放置したものと，メンテナンス時を想定した，真
空排気を実施した後アルコ−ル拭き後０．５Ｈ放置した
ものを準備した。
用レベルに近似させるため，洗浄後２４Ｈクリ−ンル−
ム内に放置したものと，メンテナンス時を想定した，真
空排気を実施した後アルコ−ル拭き後０．５Ｈ放置した
ものを準備した。
【００１９】試験結果から明らかなように，ほう酸を含
有する処理液を使用して陽極酸化皮膜を形成させたもの
は，前記２通りの前処理条件ともに，硫酸を含有する処
理液を使用して陽極酸化皮膜を形成させたものと比較
し，アウトガス量に１桁の差が発生することが分かる。
またこれを，真空排気時間に直すと４倍の差が発生する
ことになる。
有する処理液を使用して陽極酸化皮膜を形成させたもの
は，前記２通りの前処理条件ともに，硫酸を含有する処
理液を使用して陽極酸化皮膜を形成させたものと比較
し，アウトガス量に１桁の差が発生することが分かる。
またこれを，真空排気時間に直すと４倍の差が発生する
ことになる。
【００２０】
【発明の効果】本発明は，以上のように構成されている
ので，真空排気時間短縮に優れたＡｌ又はＡｌ合金製真
空チャンバ部材の表面処理方法が提供できることとなっ
た。
ので，真空排気時間短縮に優れたＡｌ又はＡｌ合金製真
空チャンバ部材の表面処理方法が提供できることとなっ
た。
【図１】本発明に対する従来の真空チャンバ部材のバリ
ヤ−層及びポ−ラス層を有する陽極酸化皮膜の断面説明
図である。
ヤ−層及びポ−ラス層を有する陽極酸化皮膜の断面説明
図である。
【図２】本発明に係る真空チャンバ部材のバリヤ−層の
み有する陽極酸化皮膜の断面説明図である。
み有する陽極酸化皮膜の断面説明図である。
【図３】本発明に係る陽極酸化皮膜と従来の陽極酸化皮
膜との昇温ガス放出試験の試験結果である。
膜との昇温ガス放出試験の試験結果である。
【図４】本発明に係る陽極酸化皮膜と従来の陽極酸化皮
膜との常温での真空排気によるガス放出試験の試験結果
である。
膜との常温での真空排気によるガス放出試験の試験結果
である。
【図５】本発明に係る真空チャンバの断面説明図であ
る。
る。
１…Ａｌ金属，２…バリヤ−層，３…ポア−，４…ポ−
ラス層，５…真空チャンバ．
ラス層，５…真空チャンバ．
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川原 博宣 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内 (72)発明者 山本 秀之 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内
Claims (7)
- 【請求項１】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって，ほう酸を含有する
溶液を用いることを特徴とするＡｌ又はＡｌ合金製真空
チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項２】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって，請求項１記載の溶
液に他の元素を含有させた溶液を用いるＡｌ又はＡｌ合
金製真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項３】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって，バリヤ−形皮膜を
形成させることを目的とした請求項１または２に記載の
Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項４】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって，陽極酸化電圧を全
工程の任意の区間で一定に保持，または連続的，非連続
的に変化させる請求項１乃至３に記載のＡｌ又はＡｌ合
金製真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項５】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって，その処理液温度を
任意の温度で制御を行う請求項１乃至４に記載のＡｌ又
はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項６】Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって，その処理時間を任
意の時間で行う請求項１乃至５に記載のＡｌ又はＡｌ合
金製真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項７】請求項１乃至６に記載の方法で，陽極酸化
処理を行った真空チャンバ容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4517697A JPH10237692A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4517697A JPH10237692A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10237692A true JPH10237692A (ja) | 1998-09-08 |
Family
ID=12711971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4517697A Pending JPH10237692A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | Ａｌ又はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10237692A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100485469B1 (ko) * | 2002-07-13 | 2005-04-27 | 대스캡피시엠주식회사 | 경질양극산화피막 처리된 알루미늄 표면에 붕산을포함하는 피막의 형성방법 |
| JP2010126738A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 真空機器用表面処理アルミニウム材の製造方法 |
| JP2010126737A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 真空機器用表面処理アルミニウム材の製造方法 |
| RU2484185C1 (ru) * | 2012-01-10 | 2013-06-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Курская государственная сельскохозяйственная академия имени профессора И.И. Иванова Министерства сельского хозяйства Российской Федерации | Способ получения износостойких покрытий |
| JP2018021255A (ja) * | 2016-07-12 | 2018-02-08 | エイビーエム カンパニー リミテッドＡｂｍ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 金属部品及びその製造方法、並びに金属部品を備えるプロセスチャンバー |
-
1997
- 1997-02-28 JP JP4517697A patent/JPH10237692A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2010126738A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 真空機器用表面処理アルミニウム材の製造方法 |
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| US11417503B2 (en) | 2016-07-12 | 2022-08-16 | Abm Co., Ltd. | Metal component and manufacturing method thereof and process chamber having the metal component |
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