JP2008266701A - 真空用冷却部材の製造方法、真空用冷却部材および真空用機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基体12に対して火花放電を伴うアノード酸化処理、即ちマイクロアーク酸化処理を行い、基体12の一主面12aに酸化被膜13を形成する。マイクロアーク酸化処理を用いることによって、基材12に例えばSiが含まれたアルミニウム合金を用いた場合に、Siが晶出状態となっていても、このSiによってこの酸化皮膜13の結晶欠陥が増加するのを抑制可能な、5μm以上20μm以下の厚みの緻密な酸化被膜13を形成することが可能になる。
【選択図】図3
Description
また、前記真空用冷却部材の製造方法によって製造されたことを特徴とする真空用冷却部材を提供した。
更に、前記真空用冷却部材を備えてなることを特徴とする真空用機器を提供した。
まず、基材12となるアルミニウム、またはアルミニウム合金を用意する(図3(a)参照)。この基材の構成材料の具体例としては、上述した真空用冷却部材の実施形態に挙げたJIS合金番号で示す各種アルミニウム、またはアルミニウム合金であればよい。
基材としてアルミニウム合金材(5052)を選定した。この合金を切削加工して30×45×2(mm)(表面積:3000mm2)を試験片とした。電解液は、例えば水酸化カリウム、メタけい酸ナトリウム、りん酸三ナトリウムをそれぞれ3g/リットルずつ純水に溶かしたアルカリ性電解液を用意した。これらを通常のアノード酸化処理と同様の配置にセットした。対抗電極はカーボン板で行った。電解は直流で定電流電解で行い、電流密度は6A/dm2で処理時間は30分とした。
(実施例1)
アルカリ性溶液を用い、30×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材をマイクロアーク酸化処理し、基材の表面に膜厚15μmの酸化被膜を形成した。その後、試料を純水ですすぎ洗い、純水での超音波洗浄、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、十分に清浄化された実施例1のサンプルを得た。
(実施例2)
アルカリ性溶液を用い、30×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金鋳物(AC4A)基材をマイクロアーク酸化処理し、基材の表面に膜厚15μmの酸化被膜を形成した。その後、試料を純水ですすぎ洗い、純水での超音波洗浄、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、十分に清浄化された実施例2のサンプルを得た。
(比較例1)
30×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材をエタノールによる超音波洗浄を2回行い、その後、試料を冷純水ですすぎ洗い、温純水でのすすぎ洗い、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、基材の表面に被膜のない比較例1のサンプルを得た。
(比較例2)
5%アジピン酸アンモニウム溶液を用い、30×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材をバリア型アノード酸化処理し、基材の表面に膜厚0.4μmの水酸化物および酸化物の被膜を形成した。その後、試料を冷純水ですすぎ洗い、温純水でのすすぎ洗い、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、十分に清浄化された比較例2のサンプルを得た。
(比較例3)
10%の硫酸溶液を用い、30×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材をアルマイト処理し、基材の表面に膜厚20μmのアルマイト被膜を形成した。そして、沸騰水に20分間浸漬して封孔処理を行った後、試料を冷純水ですすぎ洗い、温純水でのすすぎ洗い、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、被膜の厚い比較例3のサンプルを得た。
2 基体
3 酸化被膜
5 真空用機器
6 チャンバー
8 試料
10 ヒータ
Claims (3)
- 真空にて試料を冷却するための真空用冷却部材の製造方法であって、
アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基体の少なくとも前記材料を載置または対向する一主面に対してマイクロアーク酸化処理を行い、該一主面に厚みが5μm以上20μm以下の酸化被膜を形成することを特徴とする真空用冷却部材の製造方法。 - 請求項1記載の真空用冷却部材の製造方法によって製造されたことを特徴とする真空用冷却部材。
- 請求項2記載の真空用冷却部材を備えてなることを特徴とする真空用機器。
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2007
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