JP5192685B2 - 真空用冷却部材および真空用機器 - Google Patents
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Description
(実施例1)
5%のアジピン酸アンモニウム溶液を用い、35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材をバリア型アノード酸化処理し、基材の表面に膜厚0.4μmの水酸化物および酸化物の被膜を成長させた。その後、試料を冷純水ですすぎ洗い、温純水でのすすぎ洗い、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、十分に清浄化された実施例1のサンプルを得た。
(実施例2)
0.3%のアンモニアを加えた純水を沸騰させた浴槽に、35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材を浸漬し、30分間ベーマイト処理を行い、基材の表面に膜厚0.5μmの水酸化物および酸化物の被膜を成長させた。その後、試料を冷純水ですすぎ洗い、温純水でのすすぎ洗い、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、十分に清浄化された実施例2のサンプルを得た。
(実施例3)
35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材を大気炉で200℃で15時間加熱処理を行い、基材の表面に膜厚0.15μmの水酸化物および酸化物の被膜を成長させた。その後、試料を冷純水ですすぎ洗い、温純水でのすすぎ洗い、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、十分に清浄化された実施例3のサンプルを得た。
(比較例1)
35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材を、エタノールによる超音波洗浄を2回行い、その後、試料を冷純水ですすぎ洗い、温純水でのすすぎ洗い、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、基材の表面に被膜のない比較例1のサンプルを得た。
(比較例2)
10%の硫酸溶液を用い、35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材をアルマイト処理し、基材の表面に膜厚10μmのアルマイト被膜を成長させた。そして、沸騰水に20分間浸漬して封孔処理を行った後、試料を冷純水ですすぎ洗い、温純水でのすすぎ洗い、乾燥窒素ブローによる乾燥をそれぞれ行ない、被膜の厚い比較例2のサンプルを得た。
(実施例4)
35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材をバリア型アノード酸化処理し、基材の表面に膜厚0.4μmの水酸化物および酸化物の被膜を成長させた。これを石英ガラス製のチャンバー中に設けられた石英ガラス製の試料ホルダーに、真空用冷却部材として載置し、さらにこの真空用冷却部材の上に35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)を重ねて載置した。
(比較例3)
35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)基材を被膜のない真空用冷却部材として用い、これを石英ガラス製のチャンバー中に設けられた石英ガラス製の試料ホルダーに載置し、さらにこの真空用冷却部材の上に35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)を重ねて載置した。
(比較例4)
石英ガラス製のチャンバー中に設けられた石英ガラス製の試料ホルダーに、真空用冷却部材を設置せずに、直接、35×45×2(mm)の機械加工したアルミニウム合金(A5052)を載置した。
2 基体
3 被膜
5 真空用機器
6 チャンバー
8 試料
10 ヒータ
Claims (3)
- 真空にて試料を冷却するための部材であって、
アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基体の全面に、厚みが100nm以上かつ5μm以下の被膜が熱酸化処理によって形成されてなることを特徴とする真空用冷却部材。 - 前記被膜は、水酸化アルミニウムを主成分としてなることを特徴とする請求項1に記載の真空用冷却部材。
- 請求項1または2記載の真空用冷却部材を備えてなることを特徴とする真空用機器。
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