JPH07180091A - アルミニウム板、その製造方法及び該アルミニウム板を用いた防着カバー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 アルミニウム又はアルミニウム合金からなる
母材の表面に封孔処理された水和物からなる酸化被膜を
有し、該酸化被膜の厚さが１０〜１５０μｍで、該酸化
被膜における母材以外の金属不純物の含有量が１ｐｐｂ
以下であるアルミニウム板。 【効果】 酸化被膜は開孔気孔を殆ど有さず、化学的に
安定であるため耐食性に優れ、高熱の環境等にさらされ
ても金属等の周囲への拡散を防止することができる。従
って、プラズマ処理装置の防着カバー等に好適に用いる
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はアルミニウム板、その製
造方法及び該アルミニウム板を用いた防着カバーに関
し、より詳細にはマイクロ波プラズマ処理装置等に好適
に使用し得るアルミニウム板、その製造方法及び該アル
ミニウム板を用いた防着カバーに関する。

【０００２】

【従来の技術】減圧又は低ガス圧下にある反応容器にマ
イクロ波等を導入することによりガス放電を起こしてプ
ラズマを発生させ、該プラズマを基板表面に導いてエッ
チングやレジスト除去等の処理を施す、あるいはＣＶＤ
等による薄膜形成を行うプラズマ処理装置は、今日高集
積半導体素子等の製造プロセスにおいて欠くことのでき
ないものとなっている。

【０００３】また、一層効率良くプラズマを発生させ、
又はプラズマを一定領域に封じ込めるために磁界を作用
させる有磁場マイクロ波プラズマ処理装置や電子サイク
ロトロン共鳴（ＥＣＲ：Electron Cycrotron Resonanc
e）励起によりプラズマを発生させる装置は、低ガス圧
力領域で活性度の高いプラズマを発生させることができ
るという利点を有しており、将来的にも有望視されてい
る。

【０００４】図２は前記プラズマ処理装置のうちで、電
子サイクロトロン共鳴励起によりプラズマを発生させる
プラズマ処理装置を模式的に示した断面図であり、図中
１１はプラズマ生成室を示している。

【０００５】プラズマ生成室１１周壁は２重構造に構成
されており、その内部には冷却水の流通室１１ａが形成
され、また上部壁中央には石英ガラス板１１ｂにより封
止されたマイクロ波導入口１１ｃが形成され、さらに下
部壁中央にはマイクロ波導入口１１ｃと対向する位置に
プラズマ引き出し窓１１ｄが形成されている。マイクロ
波導入口１１ｃには他端が図示しないマイクロ波発振器
に接続された導波管１２の一端が接続され、またプラズ
マ引き出し窓１１ｄに臨ませて試料室１３が配設されて
いる。さらにプラズマ生成室１１及びこれに接続された
導波管１２の一端部にわたってこれらを囲繞する態様で
これらと同心状に励磁コイル１４が配設されている。

【０００６】一方試料室１３内にはプラズマ引き出し窓
１１ｄと対向する位置に試料保持台１７が配設され、試
料保持台１７上にはウエハ等の被処理基板Ｓが図示しな
い静電チャックにより着脱可能に保持されるようになっ
ている。また試料室１３の下部壁には、図示しない排気
装置に接続される排気口１３ａが形成されている。

【０００７】そして、プラズマ生成室１１の側壁とマイ
クロ波導入口１１ｃを除いた上部壁の全体、試料室１３
の内壁のほぼ全域、及び試料台１７の被処理基板Ｓが載
置されている部分及び底面部を除いたほぼ周囲全体を覆
うように防着カバー２５が配設されている。

【０００８】なお、図中、１１ｇはプラズマ生成室１１
に連なる反応ガス供給系を示しており、１３ｇは試料室
１３に連なる反応ガス導入系を示しており、１１ｈ、１
１ｉは冷却水の供給系、排出系を示している。

【０００９】このように構成されたプラズマ処理装置に
あっては、プラズマ生成室１１及び試料室１３内を所定
の真空度に設定した後、プラズマ生成室１１内に反応ガ
ス供給系１１ｇを通じて所要のガス圧力が得られるよう
にガスを供給し、励磁コイル１４により磁界を形成しつ
つマイクロ波導入口１１ｃを通じてプラズマ生成室１１
内に、例えば２．４５ＧＨｚのマイクロ波を導入し、プ
ラズマ生成室１１を空洞共振器としてガスを共鳴励起
し、プラズマを生成させる。生成したプラズマは励磁コ
イル１４により形成される試料室１３側に向かうに従い
磁束密度が低下する発散磁界によって試料室１３内の被
処理基板Ｓ周辺に投射され、試料室１３内の被処理基板
Ｓ表面をプラズマ処理する。

【００１０】図２に示すようにプラズマガスが接触する
装置本体の大部分が防着カバー２５で覆われているの
は、被処理基板Ｓにプラズマ処理を施す際に、ＳＵＳ等
の金属材料を用いて構成されている前記プラズマ処理装
置の内壁等からＣｒやＦｅ等の汚染物質が拡散して被処
理基板Ｓに付着し、被処理基板Ｓがこれらの重金属等に
より汚染されるのを防止するためである。

【００１１】また逆に、防着カバーは前記エッチング処
理等により発生する反応生成物等が周囲の内壁部に付着
し、これらが剥れてパーティクルになって汚染の原因に
なることを防止する役割も果たしている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】以上説明してきたよう
に、上記プラズマ処理装置においては、プラズマ処理を
施す際に、プラズマ処理の対象となる被処理基板Ｓが周
囲の材料に由来する金属等で汚染されるのを防止するた
め、又プラズマ処理により周囲に拡散、付着した反応生
成物等により被処理基板Ｓが再汚染されるのを防止する
ため、被処理基板Ｓ周囲のこれらの汚染が発生しそうな
部分に防着カバー２５が配設されている。

【００１３】従来、このような役割を果たす防着カバー
２５に要求される特性としては、エッチング等の処理に
使われるハロゲン系のガスによっても容易に腐食され
ず、また被処理基板Ｓの汚染源にならないように化学的
に安定で不純物を含まないものであること、熱や前記し
た腐食性のガス雰囲気によっても割れ等が発生しない機
械的な耐久性を有する材料であること、エッチング処理
等で反応生成物等が付着した防着カバーを洗浄処理する
ことができるように、表面が洗浄処理等によっても傷付
かないものであること、等が挙げられる。

【００１４】この防着カバーとして、従来よりアルミニ
ウムやＳｉＯ₂ 等を材料とするものが使用されてきた。

【００１５】しかしアルミニウム板を防着カバーとして
使用した場合には、防着カバー自体が化学的に安定でな
いため被処理基板Ｓへの汚染源になり易いという課題が
あり、一方ＳｉＯ₂ を材料とする防着カバーを使用した
場合には、ＳｉＯ₂ 板が脆いために割れ等が発生し易く
耐久性に問題があり、またＳｉＯ₂ を材料とした防着カ
バー自体が非常に高価である等の課題があった。

【００１６】本発明はこのような課題に鑑みなされたも
のであり、化学的に安定で、ある程度硬く、封孔処理に
より開孔気孔が殆ど消滅し、さらに母材以外の成分を殆
ど含まない高純度の酸化被膜が形成されているアルミニ
ウム板とその製造方法、及び比較的安価に手に入れるこ
とができ、試料の汚染源になることがなく、しかも耐久
性等に優れたプラズマ処理装置用の防着カバーを提供す
ることを目的としている。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係るアルミニウム板は、アルミニウム又はア
ルミニウム合金からなる母材の表面に封孔処理された水
和物からなる酸化被膜を有し、該酸化被膜の厚さが１０
〜１５０μｍで、該酸化被膜における母材以外の金属不
純物の含有量が１ｐｐｂ以下であることを特徴としてい
る。

【００１８】また本発明に係るアルミニウム板の製造方
法は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる母材
に陽極酸化処理を施してその表面に酸化被膜を形成し、
該酸化被膜に封孔処理を施すアルミニウム板の製造方法
において、前記酸化被膜が形成されたアルミニウム板を
純水中に浸漬し、８５℃以下の温度で１０時間以上封孔
処理を施すことを特徴としている。

【００１９】また本発明に係る防着カバーは、前記アル
ミニウム板を用いて形成され、プラズマ処理装置を構成
する反応容器の少なくとも内壁面を被覆することを特徴
としている。

【００２０】本発明においては、アルミニウム板を、前
記したアルミニウム又はアルミニウム合金からなる母材
の表面に封孔処理された水和物からなる酸化被膜を有す
るアルミニウム板又はアルミニウム合金板を総称したも
のとして使用している。従って、通常のアルミニウム板
は、アルミニウム単独材料からなる板ということにす
る。

【００２１】まず、本発明に係るアルミニウム板の製造
方法について説明する。

【００２２】本発明に係るアルミニウム板の製造工程
は、事前洗浄処理工程、陽極酸化処理工程、洗浄処理工
程及び封孔処理工程の４つの工程に大きく分けられる。

【００２３】まず事前洗浄処理工程においては、アルミ
ニウム板の表面の洗浄を行い、表面に付着している不純
物を除去する。この場合、表面の汚れの程度によって
は、酸、アルカリ、溶剤、又は界面活性剤等を使用し、
表面に存在する各種の汚れを完全に除去しておくことが
望ましい。前記アルミニウム板としては、例えばＪＩ
Ｓ．Ｈ４０００（Ａ１０５０、Ａ６０６１、Ａ５０５
２）等が好ましく、前記アルミニウム合金としては、例
えば鉄、珪素、マグネシウム等の金属を含むものが好ま
しい。

【００２４】次に、前記アルミニウム板に陽極酸化処理
を施す。この陽極酸化処理工程では、公知の陽極酸化処
理方法であって、通常硬度から硬質に至るまでの硬さの
酸化被膜を形成する方法を用いることができる。

【００２５】前記通常硬度から硬質までの硬さの酸化被
膜とは、マイクロビッカース硬度が１５０〜４５０程度
の酸化被膜をいう。また前記硬度の酸化被膜を形成する
ためには、硫酸濃度が１５０〜３２０ｇ／リットルで、
アルミニウムの濃度が２〜２５ｇ／リットルの溶液中に
前記アルミニウム板を浸漬し、溶液の温度を−５〜＋２
２℃程度に保ちながら、電解電圧を１０〜９０Ｖに設定
し、電解電流が１．５〜５Ａ／ｄｍ² 程度になるような
交流成分を含む直流により、１〜２時間程度、アルミニ
ウム板に陽極酸化処理を施す。

【００２６】硬質の酸化被膜を形成するためには、電解
溶液の電気伝導度が増大するように有機スルホン酸又は
有機カルボン酸をその濃度が５〜１５ｇ／リットル程度
になるように添加すれば良い。

【００２７】上記した条件の中で、後述する封孔処理に
より開孔気孔を消滅させることができ、しかもアルミニ
ウム板として種々の用途に使用した場合にも割れ等が発
生しにくい酸化被膜にすることができる陽極酸化処理の
条件としては、特に５〜１８℃で７ｇ／リットル以下の
アルミニウム濃度にて、規定の電源を使用し、１２〜３
２Ｖで電解するのが好ましい。

【００２８】前記陽極酸化処理工程の後に、洗浄処理を
施す。この洗浄処理は、表面や開孔気孔の内部に付着し
ている電解溶液中の成分やアルミニウム板に含有されて
いた他の金属不純物等を溶液中に拡散させるために行う
ものである。

【００２９】このため、洗浄水の純度は準純水（電気伝
導率が１２５ｋΩ以上）以上の高純度のものが好まし
く、一回の洗浄毎に新しい洗浄水に浸漬して複数回洗浄
を行う方が好ましい。

【００３０】この洗浄処理により、主として硫酸根のよ
うな陰イオン及びアルミニウムイオンのような陽イオン
が陽極酸化被膜中又は表面から除去されるが、母材であ
るアルミニウム金属自体に含有されている不純物、例え
ばＦｅ、Ｓｉ等や、アルミニウム合金自体に含有されて
いる不純物、例えばＦｅ、Ｓｉ、Ｃｕ等もかなりの程度
除去される。従って、この洗浄処理で陽極酸化被膜中の
母材以外の金属不純物の濃度はトータルで１ｐｐｂ以下
となる。

【００３１】前記陽極酸化処理と洗浄処理により前記ア
ルミニウム板の表面に通常硬度から硬質に至る硬度を有
し、膜厚が１０〜１５０μｍ程度、開孔気孔の直径が５
０〜１３０Å程度、開孔気孔の密度が５×１０⁸ 〜７０
×１０⁸ 個／ｃｍ² 程度の酸化被膜が形成される。

【００３２】また、前記酸化被膜は、アルミニウム金属
の直ぐ表面に形成されている比較的緻密なバリヤー型酸
化被膜（以下、バリヤー層と記す）と前記バリヤー層の
上に形成された多数の開孔気孔を有する多孔質酸化被膜
（以下、多孔質層と記す）との二重構造をなしており、
前記バリヤー層はＡｌ（ＯＨ）₃ 等のアルミナ水和物、
前記多孔質層はＡｌ₂ Ｏ₃ ・ｎＨ₂ Ｏ（ｎ＝１〜３）の
アルミナ水和物より構成されている。

【００３３】このように陽極酸化処理により得られる酸
化被膜は、表面に多数の開孔気孔を有するため、例えば
このままプラズマ処理装置の防着カバーとして使用しよ
うとすると、前記多孔質層に起因するひび割れ等が発生
し易く、また開孔気孔を通して反応ガス等がアルミニウ
ム金属表面に到達することにより腐食等が進行し易く、
これらの原因によりプラズマ処理の対象となる試料を汚
染する等の不都合が発生する虞れがある。

【００３４】従って、これらの開孔気孔を消滅させ、し
かもプラズマ処理中に割れ等が発生しない酸化被膜とす
るために、以下に説明する封孔処理を施す必要がある。

【００３５】なお、通常この封孔処理工程では、高温の
熱水や蒸気等を使用して、封孔処理を施すが、このよう
な条件で封孔処理した酸化被膜は、急激に酸化被膜自体
を膨張させているため歪が生じ易く、高温等の環境にさ
らされると割れ等が発生し易い。またニッケルアセテー
ト等を用いて金属を開孔気孔に充填することにより封孔
することが行われているが、金属が開孔気孔の内部に充
填されるので、高温等の環境下では、金属が酸化被膜か
ら拡散し易くなる。

【００３６】本発明においては、これらの点を考慮して
前記アルミニウム板を８５℃以下、好ましくは４０〜８
５℃の温度の純水（電気伝導率：１ＭΩ以上）中に浸漬
し、１０時間以上、好ましくは１０〜３０時間程度封孔
処理を行う。

【００３７】この際、封孔処理を行う純水の液温を低く
する程、長時間浸漬させる必要があり、純水の液温が８
５℃程度では１０時間程度浸漬すれば良いが、液温を４
０℃程度まで低下させると３０時間程度浸漬する必要が
ある。これらの条件の中では、７５℃前後で１３時間程
度の処理を行うことにより、最も封孔状態がよく、歪等
の発生が少なく、しかも硬質の膜が形成される。このよ
うに低温で長時間封孔処理を行うことにより、水和物の
変化に伴う穏やかな膨張により歪が余りなく開孔気孔が
殆ど消滅した酸化被膜が形成されるため、後述する熱雰
囲気等においても酸化被膜に割れ等が発生することはな
い。

【００３８】また、このように長時間に亙って、純水の
液に浸漬することにより洗浄処理工程の場合と同様に陽
極酸化被膜から種々の不純物イオンが液中に拡散し、酸
化被膜がさらに高純度になる。

【００３９】上記方法により得られた酸化被膜は、母材
がアルミニウムの場合、ベーマイト層を２５〜７５ｗｔ
％、バイヤライト層を７５〜２５ｗｔ％程度含有し、そ
の密度が２．６２〜２．７５ｇ／ｃｍ³ で表面に殆ど開
孔気孔を残さない酸化被膜となる。また酸化被膜の純度
は母材以外の金属の含有量が１ｐｐｂ以下と極めて高純
度であり、酸化被膜の硬度はビッカース硬度で３５０〜
４５０程度と硬質の酸化被膜となる。酸化被膜の厚さは
１０〜１５０μｍであるが、前記したような特性を有す
る酸化被膜とするには、その厚さが５０〜７６μｍであ
る方が好ましい。

【００４０】また上記方法により製造されたアルミニウ
ム板は、種々の優れた特性を有するため、様々な用途に
使用することができるが、特に上記したプラズマ処理装
置用の防着カバーとして好適に使用することができる。

【００４１】次に、本発明に係る防着カバーについて説
明する。

【００４２】本発明に係る防着カバーが用いられるプラ
ズマ処理装置の一例及び一般的な防着カバーの役割につ
いては、「従来の技術」の欄において詳しく説明したの
でその説明は省略し、ここでは本発明に係る防着カバー
の特性や作製方法を中心に説明する。

【００４３】本発明に係る防着カバーは、上記した本発
明に係る前記アルミニウム板を用い、これを防着カバー
の形状になるように数枚のアルミニウム板を組み合わせ
ることにより作製される。

【００４４】防着カバーを構成する個々のアルミニウム
板は、上記したアルミニウム板を製造する前に、組み合
わせれば防着カバーの形状になるように、予め所定の形
状に加工しておくことが望ましい。

【００４５】従って、通常は本発明の方法により製造さ
れた所定寸法の数枚のアルミニウム板を、組み立て用の
金具やボルト等を使用して組み立て、マイクロ波プラズ
マ処理装置の内部壁等に取り付けることにより、所定の
形状の防着カバーを作製することができる。防着カバー
を組み立てるために使用するボルトや組み立て用の金具
等は、当然汚染源とならないように、材質の検討を行
い、プラズマガスと接触する面は特別の被覆処理を施し
ておくのが望ましい。

【００４６】マイクロ波プラズマ処理装置では、例えば
ＣＶＤ等の処理を行う場合、塩素やフッ素等を含有する
腐食性のガスが用いられることあるが、本発明に係る防
着カバーは、その表面が化学的に安定で緻密な酸化被膜
で覆われているため、前記ガスによる腐食は発生しにく
い。また封孔処理を行う際に、低温で長時間の処理を行
っているため、酸化被膜中に歪が発生しておらず、発生
したプラズマの熱や電磁気的な影響によって、酸化被膜
に割れ等が発生することはなく、極めて耐久性に優れ
る。

【００４７】その結果、本発明に係る防着カバーを備え
たプラズマ処理装置を用いてプラズマ処理を行うと、プ
ラズマ処理の対象なる被処理基板等は前記防着カバーに
より汚染されることがなく、良好に種々のプラズマ処理
を行うことができる。また防着カバーを長時間に亙って
用いることができるだけでなく、防着カバーが汚染され
た際には、洗浄処理等も容易に行うことができる。

【００４８】本発明に係る防着カバーは、「従来の技
術」の欄において説明した種々のプラズマ処理装置に用
いることができ、いわゆる平行平板型のプラズマ処理装
置にも用いることができる。

【００４９】

【作用】本発明に係るアルミニウム板によれば、アルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる母材の表面に封孔
処理された水和物からなる酸化被膜を有し、該酸化被膜
の厚さが１０〜１５０μｍで、該酸化被膜における母材
以外の金属不純物の含有量が１ｐｐｂ以下であるので、
前記酸化被膜は開孔気孔を殆ど有さず、化学的に安定で
あるために耐食性に優れ、高純度であり、高温等の過酷
な環境にさらされても前記アルミニウム板から金属等が
周囲へ拡散しない。従って、前記アルミニウム板はプラ
ズマ処理装置の防着カバーに好適に用いられる。

【００５０】また本発明に係るアルミニウム板の製造方
法は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる母材
に陽極酸化処理を施してその表面に酸化被膜を形成し、
該酸化被膜に封孔処理を施すアルミニウム板の製造方法
において、前記酸化被膜が形成されたアルミニウム板を
純水中に浸漬し、８５℃以下の温度で１０時間以上封孔
処理を施すので、アルミニウム板の表面に開孔気孔を殆
ど有さず、化学的に安定であるために耐食性に優れ、硬
質で母材の金属以外を含まない高純度の酸化被膜が形成
される。従って、前記アルミニウム板はプラズマ処理装
置の防着カバー等に好適に用いられる。

【００５１】また本発明に係る防着カバーは、前記アル
ミニウム板を用いて形成され、プラズマ処理装置を構成
する反応容器の少なくとも内壁面を被覆するので、その
表面に化学的に安定で殆ど開孔気孔を有さず、耐食性に
優れ、かつ高純度の酸化被膜を有する。従って、前記プ
ラズマ処理に用いられるガスによる前記防着カバーの腐
食は発生しにくい。また前記防着カバーは封孔処理が施
されており、発生したプラズマの熱や電磁気的な影響に
よって、酸化被膜に割れ等が発生しにくく、極めて耐久
性に優れる。

【００５２】その結果、本発明に係る防着カバーを備え
たプラズマ処理装置を用いてプラズマプラズマ処理を行
うと、プラズマ処理の対象なる被処理基板等が前記防着
カバーにより汚染されることはなく、良好に種々のプラ
ズマ処理が行われる。

【００５３】

【実施例及び比較例】以下、本発明に係るアルミニウム
板の製造方法の実施例を説明する。

【００５４】まず、アルミニウム材としてＪＩＳ．Ｈ４
０００（Ａ１０５０）で、外径（φ）４８０ｍｍ、長さ
５００ｍｍ、厚さ３ｍｍのアルミニウム板を用い、中性
洗剤の濃度５±２％、６５℃、３分の条件で脱脂し、さ
らにその後、水による洗浄処理を行ったものを試料とし
た。

【００５５】次に、硫酸濃度が３２０ｇ／リットル、ア
ルミニウム濃度が７ｇ／リットル、有機酸が１００ｇ／
リットルの電解溶液中に前記試料を浸漬し、電解槽の温
度＋２℃、電解電流の直流成分が３．０Ａ／ｄｍ² 、交
流成分が１．０Ａ／ｄｍ² になるように電圧を印加し、
約６０分間前記アルミニウム板に陽極酸化処理を施し
た。

【００５６】前記陽極酸化処理が終了した後、毎回新し
い準純水を用いて前記アルミニウム板を全部で３回洗浄
処理し、硫酸根や金属イオン等の不純物を洗浄、除去し
た。

【００５７】洗浄処理が終了した後、前記試料を７０℃
の純水を用いた液中に浸漬し、撹拌しながら、１３時間
封孔処理を行った。その後、得られたアルミニウム板を
乾燥させることによりアルミニウム板の製造を完了し
た。

【００５８】次に、前記製造方法により得られたアルミ
ニウム板表面の酸化被膜について、種々の特性を調べ
た。

【００５９】まず、走査型の電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用
い、酸化被膜の厚さを測定したところ４０〜５５μｍで
あり、酸化被膜の表面に存在する開孔気孔は５×１０⁸
〜７×１０⁸ 個／ｃｍ² と少なく、大部分は封孔処理さ
れていた。

【００６０】次に、酸化被膜の硬度を測定したところ、
ビッカース硬度で３５０〜４５０程度と硬質の被膜が形
成されており、またＸ線マイクロアナライザー（ＥＰＭ
Ａ）を用いて酸化被膜中の純度を測定したところ、Ｍｇ
が０．１ｐｐｂ程度含有されており、その他、ＳｉやＣ
ｕを含有していることが確認できたもののその含有量が
検出限界以下であり、前記以外の元素は検出できなかっ
た。

【００６１】次に、前記製造方法により製造した所定の
形状を有するアルミニウム板を幾つか用い、組み立て用
の金具とボルトを用いることにより防着カバーの形状に
組み立て、プラズマ処理装置本体の内壁部や試料台に取
り付けた。

【００６２】図１は、実施例に係る防着カバーが装備さ
れたマイクロ波プラズマ処理装置を模式的に示した断面
図である。防着カバー１５が上記実施例に係るアルミニ
ウム板より形成されている他は、「従来の技術」の欄で
説明したマイクロ波プラズマ処理装置とその構成は全く
同様であるので、ここではその説明は省略する。

【００６３】この実施例に係る防着カバー１５が装備さ
れたマイクロ波プラズマ処理装置を用い、１μｍの酸化
膜が形成されたＳｉウエハからなる被処理基板Ｓにエッ
チング処理を施した。

【００６４】エッチング処理を行う際は、エッチングガ
スとして、Ｃ₄ Ｈ₈ ：２５ｓｃｃｍ、Ｏ₂ ：１３ｓｃｃ
ｍを供給し、圧力が１ｍＴｏｒｒ、マイクロ波電力が
１．３ｋＷ、試料保持台に印加した高周波が４００ｋＨ
ｚ、エッチング時間が３分の条件でエッチング処理を施
した。

【００６５】このような条件による被処理基板Ｓのエッ
チング処理を行い、各エッチング処理後の被処理基板Ｓ
表面の金属不純物の含有量を測定し、さらに前記処理が
終了した後の防着カバーの表面状態をＳＥＭにより観察
した。

【００６６】その結果、被処理基板Ｓ表面の金属濃度に
ついては、半導体デバイスとして使用するのに十分な少
量の汚染に抑制することができ、使用後の防着カバーに
ついては、殆ど使用前の状態と変わらず、割れや腐食等
は観察されなかった。

【００６７】

【発明の効果】以上詳述したように本発明に係るアルミ
ニウム板にあっては、アルミニウム又はアルミニウム合
金からなる母材の表面に封孔処理された水和物からなる
酸化被膜を有し、該酸化被膜の厚さが１０〜１５０μｍ
で、該酸化被膜における母材以外の金属不純物の含有量
が１ｐｐｂ以下であるので、前記酸化被膜は開孔気孔を
殆ど有さず、化学的に安定であるために耐食性に優れ、
高純度であり、高温等の過酷な環境にさらされても前記
アルミニウム板から金属等が周囲へ拡散するのを防止す
ることができる。従って、前記アルミニウム板はプラズ
マ処理装置の防着カバー等に好適に用いることができ
る。

【００６８】また本発明に係るアルミニウム板の製造方
法にあっては、アルミニウム又はアルミニウム合金から
なる母材に陽極酸化処理を施してその表面に酸化被膜を
形成し、該酸化被膜に封孔処理を施すアルミニウム板の
製造方法において、前記酸化被膜が形成されたアルミニ
ウム板を純水中に浸漬し、８５℃以下の温度で１０時間
以上封孔処理を施すので、アルミニウム板の表面に開孔
気孔を殆ど有さず、化学的に安定であるために耐食性に
優れ、硬質で母材の以外の金属を含まない高純度の酸化
被膜を形成することができる。従って、前記方法により
製造されたアルミニウム板をプラズマ処理装置の防着カ
バー等に好適に用いることができる。

【００６９】また本発明に係る防着カバーにあっては、
前記アルミニウム板を用いて形成され、プラズマ処理装
置を構成する反応容器の少なくとも内壁面を被覆するの
で、その表面に化学的に安定で開孔気孔を殆ど有さず、
耐食性に優れ、かつ高純度の酸化被膜を有する。従っ
て、前記プラズマ処理に用いられるガスによる前記防着
カバーの腐食は発生しにくい。また前記防着カバーは封
孔処理が施されており、発生したプラズマの熱や電磁気
的な影響によって、酸化被膜に割れ等が発生しにくく、
極めて耐久性に優れる。

【００７０】その結果、本発明に係る防着カバーが装備
されたプラズマ処理装置を用いてプラズマプラズマ処理
を行うと、プラズマ処理の対象なる被処理基板が前記防
着カバーにより汚染されることはなく、良好に種々のプ
ラズマ処理を行うことができる。また前記防着カバーは
長時間に亙って用いることができるだけでなく、防着カ
バーが汚染された際には、洗浄処理等も容易に行うこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例に係る防着カバーが用いられたマイクロ
波プラズマ処理装置を模式的に示した断面図である。

【図２】従来のマイクロ波プラズマ処理装置を模式的に
示した断面図である。

【符号の説明】

１５ 防着カバー

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルミニウム又はアルミニウム合金から
   なる母材の表面に封孔処理された水和物からなる酸化被
   膜を有し、該酸化被膜の厚さが１０〜１５０μｍで、該
   酸化被膜における母材以外の金属不純物の含有量が１ｐ
   ｐｂ以下であることを特徴とするアルミニウム板。
2. 【請求項２】 アルミニウム又はアルミニウム合金から
   なる母材に陽極酸化処理を施してその表面に酸化被膜を
   形成し、該酸化被膜に封孔処理を施すアルミニウム板の
   製造方法において、前記酸化被膜が形成されたアルミニ
   ウム板を純水中に浸漬し、８５℃以下の温度で１０時間
   以上封孔処理を施すことを特徴とするアルミニウム板の
   製造方法。
3. 【請求項３】 請求項１記載のアルミニウム板を用いて
   作製され、プラズマ処理装置を構成する反応容器の少な
   くとも内壁面を被覆することを特徴とする防着カバー。