JPH10231363A - シロキサン超微粒子 - Google Patents

シロキサン超微粒子

Info

Publication number
JPH10231363A
JPH10231363A JP3477597A JP3477597A JPH10231363A JP H10231363 A JPH10231363 A JP H10231363A JP 3477597 A JP3477597 A JP 3477597A JP 3477597 A JP3477597 A JP 3477597A JP H10231363 A JPH10231363 A JP H10231363A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
siloxane
amount
functional groups
silicon atoms
radius
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3477597A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3849820B2 (ja
Inventor
Seiichiro Tanaka
誠一朗 田中
Kenji Oba
憲治 大庭
Takeshi Sawai
毅 沢井
Hozumi Endo
穂積 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP03477597A priority Critical patent/JP3849820B2/ja
Priority to PCT/JP1997/001002 priority patent/WO1997035908A1/ja
Priority to KR1019980707557A priority patent/KR20000004954A/ko
Priority to EP97907469A priority patent/EP0890597A1/en
Priority to US09/155,209 priority patent/US6291697B1/en
Publication of JPH10231363A publication Critical patent/JPH10231363A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3849820B2 publication Critical patent/JP3849820B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定なサスペンジョンとして存在しうる、シ
ロキサン化合物から成る微小粒子を得る。引火点が極め
て高く、安全性に優れるポリメトキシポリシロキサンを
得る。 【解決手段】 慣性半径が10Åを超え、珪素原子に直
接結合した官能基の量が、珪素原子に対して0.1モル
倍以上であり且つ珪素に直接結合した官能基のうち30
モル%以上がメトキシ基であるシロキサン超微粒子。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規で有用なシロ
キサン化合物からなる超微粒子に存する。
【0002】
【従来技術】有機樹脂にアルコキシシリル基を導入する
ことにより、塗膜の硬度、耐酸性、耐候性等の改善が従
来より試みられている。更に近年、テトラエトキシシラ
ン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン等のシリケート化合
物、あるいはこれらを部分加水分解縮合したオリゴマー
を単独でコーティング剤として用いたり、或いはこれら
を樹脂と配合して用いることが検討されている。本発明
者らは先に、それ自身で、或いは各種の樹脂、シランカ
ップラー等の有機成分と配合して極めて有用な硬化性組
成物を供することのできる、テトラメトキシシランの加
水分解縮合物より成りシラノール基を主体とした反応性
官能基を多数有し、慣性半径が10Å未満の超微粒子を
含有するサスペンジョンを提案している(WO95/1
7349)。
【0003】
【発明の解決しようとする課題】しかしながら、この超
微小な粒子の官能基はシラノールを主体としているた
め、アルコール溶媒中では比較的安定に存在するもの
の、高沸点溶媒への適用が容易ではない。すなわち高沸
点溶媒中では不安定となり、粘度上昇、ゲル化により使
用に耐えないこともある。また、この超微小な粒子を含
有する上述のサスペンジョンは、外観上は安定な液状を
長期間保つものの、一定期間以上の保存をした液は、硬
化して得られる塗膜の硬度、耐沸騰水性等の特性が低下
してくる傾向にあることが本発明者らの検討により判っ
た。
【0004】
【課題を解決するための手段】これらの課題を解決すべ
く、本発明者らは更に鋭意検討したところ、各種の溶媒
中においても官能基の経時変化が少なくかつ安定に液状
で存在する、特定の官能基量を有し、且つ特定の慣性半
径を有する超微小な粒子を形成しているシロキサン化合
物を得ることに成功し、更にこのものは各種の樹脂等の
有機成分と配合して極めて有用な硬化組成物を提供する
ものであることを見いだし、本発明に到達した。すなわ
ち、本発明は、慣性半径が10Åを超え、珪素に直接結
合したアルコキシ基、水酸基等の官能基の量が珪素原子
に対して0.1モル倍以上であり且つ珪素に直接結合し
た官能基のうち30モル%以上がメトキシ基であるシロ
キサン超微粒子に存する。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のシロキサン超微粒子は、シロキサン結合(Si
−O−Si)nを主鎖とする化合物から成る微小な粒子
をいう。ここでシロキサン結合は、直鎖であると環状で
あるとを問わない。また、分岐を有していてもよい。本
発明のシロキサン超微粒子は、慣性半径が10Åを超え
るものである。
【0006】ここで慣性半径とは、小角散乱X線等の手
段で容易に確認できる。すなわち、微小粒子の存在によ
り、入射X線の回折強度分布が、入射線方向に中心散乱
と呼ばれる散漫な散乱、すなわち小角X線散乱を示す。
散乱強度Iは、次のGuinierの式により与えられ
る。 I=C exp(−H2Rg2/3)(I:散乱強度、
H:散乱ベクトル(=2πsin2θ/λ)、Rg:微
小粒子の慣性半径、C:Const、 λ:入射X線波
長、2θ:ひろがり角) 上記のGuinierの式の両辺の常用対数をとると、
logI=logC-(H2Rg2/3)となり、従って、微小粒子が
存在する場合、散乱強度を測定し、散乱ベクトルに対す
る両対数グラフをプロット(得られるプロットはギニエ
プロットと称される)し、傾きを求めることにより、微
小粒子の慣性半径を求めることができる。
【0007】また、散乱強度が十分にある場合は、散乱
ベクトルのフーリエ変換により距離分布関数を求め、そ
のピーク位置から慣性半径、ピーク幅から形状やそのバ
ラツキを知ることができる。本発明における慣性半径
は、ギニエプロットがほぼ直線で、その傾きから慣性半
径が1つに定まる場合は、この値をいうものとする。ま
た、ギニエプロットが曲線であり、その傾きからは慣性
半径が1つに定まらない場合は、散乱ベクトルのフーリ
エ変換により距離分布関数を求め、そのピーク位置から
求めた慣性半径をいうものとする。
【0008】本発明の微粒子において、慣性半径は10
Åを超えていればよいが、100Å以下のものが好まし
く、特に好ましくは60Å以下、更に好ましくは40Å
以下、最も好ましくは11〜30Åである。この範囲で
硬化物とした際の、耐汚染性付与の効果が最も著しい。
本発明の超微粒子においては、Siに対する官能基の量
が極めて多量であることを特徴とする。すなわち、珪素
に直接結合した官能基の量が、珪素に対して0.1モル
倍以上である。更には0.5モル倍以上、あるいは0.
8モル倍以上とすることさえできるのである。このよう
に多量の官能基を有しているため、単独で造膜すること
も可能である。また、有機高分子等の各種の有機成分と
配合して液状組成物とすれば、これら有機成分の有する
官能基との間で縮合反応が起こりうるため、有機・無機
成分が強固に結合した複合材料を形成することも可能で
ある。
【0009】また、従来存在した、アルコキシシランの
加水分解縮合物から成る慣性半径10Å以下の超微粒子
に比較した場合、経時劣化が少なく、その高特性を長期
間安定に保つことができることが、本発明者らの鋭意検
討により明らかとなったものである。本発明では珪素に
直接結合する官能基のうち30モル%以上をメトキシ基
とする。好ましくは50モル%以上、特に好ましくは7
0モル%以上である。30モル%未満では、後述する有
機化合物に配合した際に、硬度等の塗膜特性が十分でな
い。メトキシ基以外の官能基の種類は特に限定されない
が、好ましくは加水分解性基、特に好ましくはSiにO
原子を介してアルキル、アルケニル、アリール、アラル
キルのうち1種以上が結合しているものが挙げられる。
もちろん、メトキシ基以外の官能基として複数種類のも
のを有していてもよい。
【0010】なお、官能基のうちシラノール基の量は珪
素原子に対して0.3モル倍以下、好ましくは0.2モ
ル以下、更に好ましくは0.1モル以下とするのが良
い。シラノール基の量が珪素原子に対してが0.3モル
倍を越えると、液状態での貯蔵安定性が低下する。な
お、官能基の量は、以下の方法で求めることができる。
【0011】シロキサン化合物の珪素に結合しているメ
トキシ基以外の官能基をORとすると(ORとして複数
種類であってもよい。)、シロキサン化合物の示性式
は、 SiOa(OCH3b(OR)c(OH)d と表せ、珪素に結合している官能基の合計数/Siのモ
ル比は、 (b+c+d)/1 で表せる。
【0012】そこで、 (1)29Si−NMRにより、シロキサン結合している
O原子平均の数である、係数aの値を求める。 (2)1H−NMRにより、Si原子に結合しているシ
ラノール基以外の官能基であるメトキシ基:b及びOR
基:cとする。 (3)珪素原子に直結した水酸基(シラノール基)であ
る係数dは、 c=4−(2a+b+c) の関係式から計算で求める。
【0013】本発明の超微粒子の製造方法の一例を、以
下に説明する。加水分解可能な基を有する珪素化合物
を、加水分解縮合して、シロキサン化合物を形成する。
珪素化合物としては特に限定されないが、本発明の超微
小粒子を形成しやすいという点では4官能性シラン、特
にテトラアルコキシシラン、そのうちテトラメトキシシ
ランが優れている。ここで、加水分解に用いる水の量
は、珪素原子に対して0.9〜1.8モル倍が適当であ
る。これより少ないと、超微小粒子の形成が容易でな
い。一方、これより多いと、ゲル化しやすく、安定なサ
スペンジョンとして得るのが非常に困難である。
【0014】加水分解縮合時には、触媒や溶媒を存在さ
せてもよい。こうして加水分解縮合反応を所望の程度ま
で行えば、加水分解縮合物は次第に一定の慣性半径が測
定できる粒子にまで成長する。しかし、このままでは慣
性半径10Å以下のものも多く存在することがある。そ
こで、更に温度をかけたり、溶媒を留去したりすること
により、粒子を更に成長させることができる。そして、
安定なサスペンジョンとして存在しうる慣性半径10Å
を超えるものとすることができるのである。
【0015】以上説明した本発明のシロキサン超微粒子
は、単独で水性、あるいは有機溶媒系のサスペンジョン
として安定な液状態を保つことができる。また、各種の
有機成分と配合して、優れた特性を発揮する液状組成物
とすることができる。より具体的には、塗料への配合、
各種コーティング液への適用、無機充填有機樹脂複合材
の他、様々な基材への含浸等も挙げられる。
【0016】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。 〔シロキサン化合物−1の合成〕攪拌器、ジムロートコ
ンデンサー、温度計を備えたガラス製2リットル四ツ口
丸底フラスコにテトラメトキシシラン608.2g、メ
タノール476.8gを仕込み5分攪拌した後、0.1
規定塩酸水8.16gと水107.2gの混合液を添加
した。この時の、テトラメトキシシラン中の珪素原子に
対する水の量は1.6モル倍に相当する。
【0017】その後、還流状態(65℃)となるまで加
熱し、還流下で4時間反応させた。このものを、室温ま
で放冷したのち取り出して液状で無色透明なシロキサン
化合物−1を1198g得た。このシロキサン化合物−
1の慣性半径を、下記に示す小角散乱X線分析により測
定し、慣性半径10Åを超える超微小粒子を形成してい
ることを確認した。 〔小角散乱X線分析条件〕 X線発生装置:理学電気社製 RU−200B(回転対
陰極型) X 線 源 :Cu−Kα線 平板グラファイトインシデントモノクロメーター使用 電流、電圧 :50kV、200mA 光 学 系 :理学電機社製 Kratkyカメラ U−スリット 幅70μm 高さ15mm 検 出 器 :理学電機社製 PSPC 受光スリット 高さ8mm 積算時間 4000秒 チャンネル数 512(45.4ch/deg.) 試料から検出器までの距離:300mm この結果、シロキサン化合物−1は慣性半径15Åの超
微小粒子を形成していることがわかった。
【0018】また、シロキサン化合物−1の示性式を求
めると、 SiO1.46(OH)0.08(OCH31.00 となり、珪素に結合したシラノール基及びメトキシ基/
Si=1.08モル、シラノール基/Si=0.08モ
ルであり、珪素に直結した官能基中のメトキシ基量は9
2.6モル%であった。
【0019】又、このシリケート化合物−1について、
密閉下で50℃、30日間(室温換算約8ヶ月相当)の
加速保存試験を実施したが、液粘度は当初の2.3cp
から2.7cp程度しか上昇せず、貯蔵安定性良好な液
状物であった。 比較例1 〔シロキサン化合物−2の合成〕テトラメトキシシラン
・オリゴマー(「MKCシリケートMS51」、三菱化
学(株)製)38.46g、エタノール53.0gを混
合した液に、アルミニウムトリスアセチルアセトネート
0.38g、を加え、室温下で攪拌して溶解した。次
に、水8.15gを添加し室温密閉化で3日間放置して
シリケート化合物−8、99.9gを得た。
【0020】また、シロキサン化合物の慣性半径を実施
例1と同様に小角散乱X線法で求めたところ、慣性半径
は約6Åであった。また、同様にNMR法で解析したと
ころ、示性式は SiO1.15(OH)0.68(OCH30.37(OC250.65
となり、珪素に結合したシラノール基及びメトキシ基
エトキシ基/Si=1.70モル、シラノール基/Si
=0.68モルであり、珪素に直結した官能基中のメト
キシ基量は21.8モル%であった。
【0021】又、このシロキサン化合物−2について、
密閉下で50℃での加速保存試験を実施したが、10日
目にゲル化してしまった。
【0022】
【発明の効果】本発明により、安定なサスペンジョンと
して存在しうる、シロキサン化合物から成る微小粒子を
得ることができ、様々な用途に非常に好適に用いること
ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 穂積 北九州市八幡西区黒崎城石1番1号 三菱 化学株式会社黒崎事業所内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】慣性半径が10Åを超え、珪素原子に直接
    結合した官能基の量が、珪素原子に対して0.1モル倍
    以上であり且つ珪素に直接結合した官能基のうち30モ
    ル%以上がメトキシ基であるシロキサン超微粒子。
  2. 【請求項2】慣性半径が100Å以下である請求項1記
    載のシロキサン超微粒子。
  3. 【請求項3】珪素原子に直接結合した官能基の量が、珪
    素原子に対して0.5モル倍以上である請求項1又は2
    記載のシロキサン超微粒子。
  4. 【請求項4】珪素原子に直接結合したシラノール基の量
    が、珪素原子に対して0.3モル倍以下である請求項1
    〜3のいずれかに記載のシロキサン超微粒子。
  5. 【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載のシロキサ
    ン超微粒子を含有するサスペンジョン。
JP03477597A 1996-03-25 1997-02-19 シロキサン超微粒子 Expired - Fee Related JP3849820B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03477597A JP3849820B2 (ja) 1997-02-19 1997-02-19 シロキサン超微粒子
PCT/JP1997/001002 WO1997035908A1 (fr) 1996-03-25 1997-03-25 Composes de siloxane, procede de preparation de ceux-ci et composition liquide ou entrent ces composes
KR1019980707557A KR20000004954A (ko) 1996-03-25 1997-03-25 실옥산화합물,그의제조방법및그를포함하는액체조성물
EP97907469A EP0890597A1 (en) 1996-03-25 1997-03-25 Siloxane compounds, process for preparing the same, and liquid composition containing the same
US09/155,209 US6291697B1 (en) 1996-03-25 1997-03-25 Siloxane compounds, process for preparing the same, and liquid composition containing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03477597A JP3849820B2 (ja) 1997-02-19 1997-02-19 シロキサン超微粒子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10231363A true JPH10231363A (ja) 1998-09-02
JP3849820B2 JP3849820B2 (ja) 2006-11-22

Family

ID=12423679

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03477597A Expired - Fee Related JP3849820B2 (ja) 1996-03-25 1997-02-19 シロキサン超微粒子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3849820B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018047759A1 (ja) * 2016-09-07 2018-03-15 住友化学株式会社 硬化物、波長変換シート、発光装置、封止用部材および半導体発光装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018047759A1 (ja) * 2016-09-07 2018-03-15 住友化学株式会社 硬化物、波長変換シート、発光装置、封止用部材および半導体発光装置
CN109661418A (zh) * 2016-09-07 2019-04-19 住友化学株式会社 固化物、波长转换片材、发光装置、密封用构件及半导体发光装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3849820B2 (ja) 2006-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102131819B (zh) 具有可聚合官能团的倍半硅氧烷化合物
EP0195936A1 (en) Method for producing organosilicon polymers and the polymers prepared thereby
EP1392772A1 (en) Silicone composition for water-repellent coating
KR20040030870A (ko) 고 굴절률 폴리실록산 및 이의 제조방법
PL183136B1 (pl) Funkcjonalizowane poliorganosiloksany i sposób wytwarzania funkcjonalizowanych poliorganosiloksanów
US6291697B1 (en) Siloxane compounds, process for preparing the same, and liquid composition containing the same
JPH0633335B2 (ja) オルガノポリシロキサンの製造方法
JPH08143773A (ja) 硬化性組成物及びその製造方法
JPH10251516A (ja) シランオリゴマー組成物
US8829143B2 (en) Reactive inorganic clusters
JP2621760B2 (ja) コーティング用組成物
JP2554850B2 (ja) 二−,三−および四官能性メチル・イソブチルおよびメチル・アミル−ケトキシムをベースとするシラン類
JPH10231363A (ja) シロキサン超微粒子
JP3713719B2 (ja) ポリシロキサンの製造方法
JP3881076B2 (ja) シリケート化合物及びこれを含有する液状組成物
JP4683355B2 (ja) 無機粉体の製造方法および無機粉体
US5514766A (en) Di-, tri- and tetrafunctional methyl isobutyl and methyl amyl ketoxime-based silanes
JP3012358B2 (ja) 加熱硬化性エポキシ樹脂組成物
JP3519871B2 (ja) 硬化性組成物、及びその製造方法
JP3881071B2 (ja) シロキサン化合物及びこれを用いた液状組成物
JP3846813B2 (ja) ポリアルコキシシロキサン含有組成物及びその製造方法
JPH09255873A (ja) 硬化性組成物及びその製造方法、並びに硬化物
JPH04252229A (ja) シリコーン化合物及びその製法
JPH09165451A (ja) シリケートオリゴマー及びその製造方法、並びにこれを用いた硬化性組成物
JPH0912583A (ja) シロキサン化合物及びその製造方法、並びに硬化性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20060314

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

A521 Written amendment

Effective date: 20060425

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Effective date: 20060420

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20060712

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20060801

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060823

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20060823

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090908

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100908

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees