JPH10221860A - 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 - Google Patents
黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法Info
- Publication number
- JPH10221860A JPH10221860A JP25593497A JP25593497A JPH10221860A JP H10221860 A JPH10221860 A JP H10221860A JP 25593497 A JP25593497 A JP 25593497A JP 25593497 A JP25593497 A JP 25593497A JP H10221860 A JPH10221860 A JP H10221860A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent substrate
- black
- resist pattern
- color
- development
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】透明基板における黒色レジストパターンや各色
の画素画像の非形成面側(裏面)における汚れを効率的
に洗浄除去し得る様に改良された黒色レジストパターン
の形成方法およびカラーフィルターの製造方法を提供す
る。 【解決手段】黒色材料が分散された光重合性組成物を透
明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像、水
洗および熱硬化の各処理を行って黒色レジストパターン
を形成するに当たり、上記の現像開始後であって熱硬化
前に透明基板の裏面に現像液をスプレーする。そして、
赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性組成物を
使用し、上記の黒色レジストパターン(ブラックマトリ
クス)形成面に、上記と同様の各処理を行って各色の画
素画像を形成するに当たり、ブラックマトリクス及び各
色の画素画像の形成の都度、上記の現像開始後であって
熱硬化前に透明基板の裏面に現像液をスプレーする。
の画素画像の非形成面側(裏面)における汚れを効率的
に洗浄除去し得る様に改良された黒色レジストパターン
の形成方法およびカラーフィルターの製造方法を提供す
る。 【解決手段】黒色材料が分散された光重合性組成物を透
明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像、水
洗および熱硬化の各処理を行って黒色レジストパターン
を形成するに当たり、上記の現像開始後であって熱硬化
前に透明基板の裏面に現像液をスプレーする。そして、
赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性組成物を
使用し、上記の黒色レジストパターン(ブラックマトリ
クス)形成面に、上記と同様の各処理を行って各色の画
素画像を形成するに当たり、ブラックマトリクス及び各
色の画素画像の形成の都度、上記の現像開始後であって
熱硬化前に透明基板の裏面に現像液をスプレーする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、黒色レジストパタ
ーンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法に関
し、詳しくは、透明基板における黒色レジストパターン
や各色の画素画像の非形成面側(裏面)における汚れを
効率的に洗浄除去し得る様に改良された黒色レジストパ
ターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法に
関する。
ーンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法に関
し、詳しくは、透明基板における黒色レジストパターン
や各色の画素画像の非形成面側(裏面)における汚れを
効率的に洗浄除去し得る様に改良された黒色レジストパ
ターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】カラーテレビ、液晶表示素子、カメラ等
に好適に使用される光学的カラーフィルターは、黒色レ
ジストパターン(ブラックマトリクス)を設けた透明基
板の表面に、赤、緑、青の3種の異なる色相により、1
0〜150μm幅のストライプ状やモザイク状などの色
パターンを数μmの精度で形成して製造される。
に好適に使用される光学的カラーフィルターは、黒色レ
ジストパターン(ブラックマトリクス)を設けた透明基
板の表面に、赤、緑、青の3種の異なる色相により、1
0〜150μm幅のストライプ状やモザイク状などの色
パターンを数μmの精度で形成して製造される。
【0003】上記の黒色レジストパターンは、黒色材料
が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した
後、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を
行う方法によって形成することが出来、また、上記のカ
ラーフィルターは、赤、緑、青の材料が各々分散された
各光重合性組成物を使用し、黒色レジストパターンの形
成面に、塗布、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化
の各処理を行って各色の画素画像を形成することによっ
て製造することが出来る(特開平2−902号公報)。
が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した
後、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を
行う方法によって形成することが出来、また、上記のカ
ラーフィルターは、赤、緑、青の材料が各々分散された
各光重合性組成物を使用し、黒色レジストパターンの形
成面に、塗布、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化
の各処理を行って各色の画素画像を形成することによっ
て製造することが出来る(特開平2−902号公報)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の黒色
レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの
製造においては、透明基板が汚染され易いという欠点が
ある。斯かる汚染は、現像およびその後の洗浄の際に除
去されなかった僅かな光重合性組成物の残渣が透明基板
に付着することにより生じる。斯かる汚れは、カラーフ
ィルターで液晶モジュールを組み立てた際、シール性の
低下や系内の汚染などを惹起して組立工程の歩留まりを
著しく低下させる。
レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの
製造においては、透明基板が汚染され易いという欠点が
ある。斯かる汚染は、現像およびその後の洗浄の際に除
去されなかった僅かな光重合性組成物の残渣が透明基板
に付着することにより生じる。斯かる汚れは、カラーフ
ィルターで液晶モジュールを組み立てた際、シール性の
低下や系内の汚染などを惹起して組立工程の歩留まりを
著しく低下させる。
【0005】特開平2−118662号公報には、現像
液に浸漬した後の透明基板の黒色レジストパターン及び
各色の画素画像の形成面(基板表面)に加圧現像液を更
に噴霧する方法が提案され、また、特開平2−1067
57号公報には、加圧現像液に代えて加圧水を噴霧する
方法が提案されている。これらの方法は、透明基板の表
面側におけるパタン非形成面の汚れ(地汚れ)の除去の
ための方法である。
液に浸漬した後の透明基板の黒色レジストパターン及び
各色の画素画像の形成面(基板表面)に加圧現像液を更
に噴霧する方法が提案され、また、特開平2−1067
57号公報には、加圧現像液に代えて加圧水を噴霧する
方法が提案されている。これらの方法は、透明基板の表
面側におけるパタン非形成面の汚れ(地汚れ)の除去の
ための方法である。
【0006】ところで、本発明者の知見によれば、透明
基板の汚染は、僅かではあるが、黒色レジストパターン
及び各色の画素画像の非形成面(基板の裏面)において
も生じる。斯かる汚れは、現像液中に溶解または分散し
た各色材料または樹脂成分が透明基板の裏面に移行して
付着することにより生じ、一層高精細なパターンを形成
する際に問題となる。そして、斯かる汚れについては、
従来看過されていため、その有効な除去手段が提案され
ていない状況にある。
基板の汚染は、僅かではあるが、黒色レジストパターン
及び各色の画素画像の非形成面(基板の裏面)において
も生じる。斯かる汚れは、現像液中に溶解または分散し
た各色材料または樹脂成分が透明基板の裏面に移行して
付着することにより生じ、一層高精細なパターンを形成
する際に問題となる。そして、斯かる汚れについては、
従来看過されていため、その有効な除去手段が提案され
ていない状況にある。
【0007】本発明は、上記実情に鑑みなされたもので
あり、その目的は、透明基板における黒色レジストパタ
ーンや各色の画素画像の非形成面側(裏面)における汚
れを効率的に洗浄除去し得る様に改良された黒色レジス
トパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方
法を提供することにある。
あり、その目的は、透明基板における黒色レジストパタ
ーンや各色の画素画像の非形成面側(裏面)における汚
れを効率的に洗浄除去し得る様に改良された黒色レジス
トパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方
法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第1
の要旨は、黒色材料が分散された光重合性組成物を透明
基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像、水洗
および熱硬化の各処理を行って黒色レジストパターンを
形成するに当たり、上記の現像開始後であって熱硬化前
に透明基板の裏面に現像液をスプレーすることを特徴と
する黒色レジストパターンの形成方法に存する。
の要旨は、黒色材料が分散された光重合性組成物を透明
基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像、水洗
および熱硬化の各処理を行って黒色レジストパターンを
形成するに当たり、上記の現像開始後であって熱硬化前
に透明基板の裏面に現像液をスプレーすることを特徴と
する黒色レジストパターンの形成方法に存する。
【0009】そして、本発明の第2の要旨は、黒色材料
が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した
後、加熱乾燥、画像露光、現像、水洗および熱硬化の各
処理を行ってブラックマトリクスを形成し、次いで、
赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性組成物を
使用し、上記のブラックマトリクス形成面に、塗布、加
熱乾燥、画像露光、現像、水洗および熱硬化の各処理を
行って各色の画素画像を形成するカラーフィルターの製
造方法において、ブラックマトリクス及び各色の画素画
像の形成の都度、上記の現像開始後であって熱硬化前に
透明基板の裏面に現像液をスプレーすることを特徴とす
るカラーフィルターの製造方法に存する。
が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した
後、加熱乾燥、画像露光、現像、水洗および熱硬化の各
処理を行ってブラックマトリクスを形成し、次いで、
赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性組成物を
使用し、上記のブラックマトリクス形成面に、塗布、加
熱乾燥、画像露光、現像、水洗および熱硬化の各処理を
行って各色の画素画像を形成するカラーフィルターの製
造方法において、ブラックマトリクス及び各色の画素画
像の形成の都度、上記の現像開始後であって熱硬化前に
透明基板の裏面に現像液をスプレーすることを特徴とす
るカラーフィルターの製造方法に存する。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、透明基板としては、プラスチックシー
ト、ガラス板などが使用され、プラスチックシートの材
料としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエス
テル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィ
ン等が挙げられる。
本発明において、透明基板としては、プラスチックシー
ト、ガラス板などが使用され、プラスチックシートの材
料としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエス
テル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィ
ン等が挙げられる。
【0011】透明基板には、接着性などの表面物性の改
良のため、必要に応じ、コロナ放電処理、オゾン処理、
シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種ポリ
マーの薄膜形成処理などを行うことが出来る。透明基板
の厚さは、通常0.05〜10mm、好ましくは0.1
〜7mmの範囲とされる。また、各種ポリマーの薄膜形
成処理を行う場合、その膜厚は、通常0.01〜10μ
m、好ましくは0.05〜5μmの範囲とされる。
良のため、必要に応じ、コロナ放電処理、オゾン処理、
シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種ポリ
マーの薄膜形成処理などを行うことが出来る。透明基板
の厚さは、通常0.05〜10mm、好ましくは0.1
〜7mmの範囲とされる。また、各種ポリマーの薄膜形
成処理を行う場合、その膜厚は、通常0.01〜10μ
m、好ましくは0.05〜5μmの範囲とされる。
【0012】本発明において、黒色材料としては、通
常、カーボンブラック、他の色材料としては、通常、赤
色、緑色、青色の染顔料が使用されるが、この他、必要
に応じ、金属粉、白色顔料、蛍光顔料なども使用するこ
とが出来る。
常、カーボンブラック、他の色材料としては、通常、赤
色、緑色、青色の染顔料が使用されるが、この他、必要
に応じ、金属粉、白色顔料、蛍光顔料なども使用するこ
とが出来る。
【0013】カーボンブラック及び染顔料の具体例とし
ては、三菱カーボンブラックM1000、三菱カーボン
ブラックMA−100、三菱カーボンブラック#40、
ビクトリアピュアブルー(42595)、オーラミンO
(41000)、カチロンブリリアントフラビン(ベー
シック13)、ローダミン6GCP(45160)、ロ
ーダミンB(45170)、サクラニンOK 70:1
00(50240)、エリオグラウシンX(4208
0)、NO.120/リオノールイエロー(2109
0)、リオノールイエローGRO(21090)、シム
ラファーストイエローGRO(21090)、シムラフ
ァーストイエロー8GF(21105)、ベンジジンイ
エロー4J−564D(21095)、シムラーファー
ストレッド4015(12355)、リオノールレッド
7B4401(15850)、ファーストゲンブルーJ
GR−L(74160)、リオノールブルーSM(26
150)、リオノールブルーES(ピグメントブルー1
5:6、ピグメントブルー1536)、リオノーゲンレ
ッドGD(ピグメントレッド168、ピグメントレッド
108)、リオノールグリーン2YS(ピグメントグリ
ーン36)等が挙げられる(上記の( )内の数字はカ
ラーインデックス(C.I.)を意味する)。
ては、三菱カーボンブラックM1000、三菱カーボン
ブラックMA−100、三菱カーボンブラック#40、
ビクトリアピュアブルー(42595)、オーラミンO
(41000)、カチロンブリリアントフラビン(ベー
シック13)、ローダミン6GCP(45160)、ロ
ーダミンB(45170)、サクラニンOK 70:1
00(50240)、エリオグラウシンX(4208
0)、NO.120/リオノールイエロー(2109
0)、リオノールイエローGRO(21090)、シム
ラファーストイエローGRO(21090)、シムラフ
ァーストイエロー8GF(21105)、ベンジジンイ
エロー4J−564D(21095)、シムラーファー
ストレッド4015(12355)、リオノールレッド
7B4401(15850)、ファーストゲンブルーJ
GR−L(74160)、リオノールブルーSM(26
150)、リオノールブルーES(ピグメントブルー1
5:6、ピグメントブルー1536)、リオノーゲンレ
ッドGD(ピグメントレッド168、ピグメントレッド
108)、リオノールグリーン2YS(ピグメントグリ
ーン36)等が挙げられる(上記の( )内の数字はカ
ラーインデックス(C.I.)を意味する)。
【0014】光重合性組成物中に分散される色材料の量
は、全固形分に対し、通常10〜70重量%、好ましく
は20〜60重量%の範囲とされ、本発明における光重
合性組成物は、斯かる高い色材料含有率の状態におい
て、透明基板との接着性が高く、高画質な色材画素画像
を与える機能が要求される。
は、全固形分に対し、通常10〜70重量%、好ましく
は20〜60重量%の範囲とされ、本発明における光重
合性組成物は、斯かる高い色材料含有率の状態におい
て、透明基板との接着性が高く、高画質な色材画素画像
を与える機能が要求される。
【0015】本発明において、光重合性組成物は、上記
色材料の他、光を吸収してラジカルを発生する光重合開
始系と、当該ラジカルにより重合が誘起される付加重合
性のエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する
化合物(以下「エチレン性化合物」と称す)を含有し、
また、相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性などの光重
合性層の改善のため、結合剤としての有機高分子物質を
含有する。
色材料の他、光を吸収してラジカルを発生する光重合開
始系と、当該ラジカルにより重合が誘起される付加重合
性のエチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する
化合物(以下「エチレン性化合物」と称す)を含有し、
また、相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性などの光重
合性層の改善のため、結合剤としての有機高分子物質を
含有する。
【0016】上記の光重合開始系としては次の様な化合
物が挙げられる。すなわち、黒の光重合性層は、光重合
性層上よりパターンマスクを介して画像露光されるた
め、黒の光重合性組成物に使用される光重合開始系とし
ては、紫外から可視に感度を有する化合物を適宜に使用
し、画像露光に際しては、それに相当する露光光源を使
用する。
物が挙げられる。すなわち、黒の光重合性層は、光重合
性層上よりパターンマスクを介して画像露光されるた
め、黒の光重合性組成物に使用される光重合開始系とし
ては、紫外から可視に感度を有する化合物を適宜に使用
し、画像露光に際しては、それに相当する露光光源を使
用する。
【0017】また、赤、緑、青の各光重合性層において
も、各色のパターンマスクを介した露光やその他の方法
により、前記ブラックマトリクスパターン間に、赤、
緑、青の画素画像パターンを形成させるため、ブラック
マトリクスパターンの場合と同様、光重合開始系として
は、紫外から可視に感度を有する化合物、好ましくは4
50nm以下、より好ましくは400nm以下の波長に
分光感度を有する化合物を使用する。
も、各色のパターンマスクを介した露光やその他の方法
により、前記ブラックマトリクスパターン間に、赤、
緑、青の画素画像パターンを形成させるため、ブラック
マトリクスパターンの場合と同様、光重合開始系として
は、紫外から可視に感度を有する化合物、好ましくは4
50nm以下、より好ましくは400nm以下の波長に
分光感度を有する化合物を使用する。
【0018】上記の波長の紫外光を吸収してラジカルを
発生する光重合開始系としては、例えば「ファインケミ
カル」(1991年、3月1日号、vol.20、N
o.4)の第16〜26頁に記載のジアルキルアセトフ
ェノン系、ベンゾイン、チオキサントン誘導体などの
他、特開昭58−403023号公報、特公昭45−3
7377号公報に記載のヘキサアリールビイミダゾール
系、S−トリハロメチルトリアジン系、特開平4−22
1958号、特開平4−219756号公報に記載のチ
タノセンとキサンテン色素、アミノ基またはウレタン基
を有する付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含有化
合物を組合せた系などが挙げられる。
発生する光重合開始系としては、例えば「ファインケミ
カル」(1991年、3月1日号、vol.20、N
o.4)の第16〜26頁に記載のジアルキルアセトフ
ェノン系、ベンゾイン、チオキサントン誘導体などの
他、特開昭58−403023号公報、特公昭45−3
7377号公報に記載のヘキサアリールビイミダゾール
系、S−トリハロメチルトリアジン系、特開平4−22
1958号、特開平4−219756号公報に記載のチ
タノセンとキサンテン色素、アミノ基またはウレタン基
を有する付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含有化
合物を組合せた系などが挙げられる。
【0019】エチレン系化合物としては、単量体または
側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する
重合体の何れでもよい。具体的には、脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル(例えば、
エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等のエチレン性化合物)又はアクリル酸エ
ステル若しくはメタクリル酸エステルの単量体などが好
適に使用される。
側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する
重合体の何れでもよい。具体的には、脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル(例えば、
エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等のエチレン性化合物)又はアクリル酸エ
ステル若しくはメタクリル酸エステルの単量体などが好
適に使用される。
【0020】光重合性組成物の結合剤として使用される
有機高分子物質としては、メチル(メタ)アクリル酸、
ベンジル(メタ)アクリル酸などの(メタ)アクリル酸
のアルキルエステル、酢酸ビニル、アクリロニトリル等
から成る重合体が挙げられるが、塗膜の強度、耐久性、
基板接着性の観点から、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ベンジル(メタ)アクリレート等のフェニル基を有
する共重合モノマーが含有された共重合体または当該共
重合体に1〜50モル%のエポキシ(メタ)アクリレー
トが付加された反応物が好適に使用される。
有機高分子物質としては、メチル(メタ)アクリル酸、
ベンジル(メタ)アクリル酸などの(メタ)アクリル酸
のアルキルエステル、酢酸ビニル、アクリロニトリル等
から成る重合体が挙げられるが、塗膜の強度、耐久性、
基板接着性の観点から、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ベンジル(メタ)アクリレート等のフェニル基を有
する共重合モノマーが含有された共重合体または当該共
重合体に1〜50モル%のエポキシ(メタ)アクリレー
トが付加された反応物が好適に使用される。
【0021】上記の各成分の配合量は次の通りである。
すなわち、色材料以外の光重合性組成物の固形分全量に
対し、光重合性開始系は、通常0.1〜40重量%、好
ましくは0.2〜30重量%、エチレン性化合物は、通
常20〜90重量%、好ましくは30〜80重量%、有
機高分子物質は、通常10〜80重量%、好ましくは2
0〜60重量%とされる。また、本発明においては、光
重合性組成物中に上記と同様の基準で0.1〜10重量
%のシランカップリング剤を配合してもよい。
すなわち、色材料以外の光重合性組成物の固形分全量に
対し、光重合性開始系は、通常0.1〜40重量%、好
ましくは0.2〜30重量%、エチレン性化合物は、通
常20〜90重量%、好ましくは30〜80重量%、有
機高分子物質は、通常10〜80重量%、好ましくは2
0〜60重量%とされる。また、本発明においては、光
重合性組成物中に上記と同様の基準で0.1〜10重量
%のシランカップリング剤を配合してもよい。
【0022】上記の光重合性組成物は、適当な溶剤によ
って調液された塗布液として使用される。溶剤として
は、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエ
ン、メタノール、ブタノール、テトラハイドロフラン等
が挙げられる。
って調液された塗布液として使用される。溶剤として
は、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエ
ン、メタノール、ブタノール、テトラハイドロフラン等
が挙げられる。
【0023】なお、カラーフィルターの製造に当り、光
重合性層の露光の際、酸素による光重合性層の感度低下
を防止するため、光重合性層の上にポリビニルアルコー
ル層などの酸素遮断層を塗布する場合がある。
重合性層の露光の際、酸素による光重合性層の感度低下
を防止するため、光重合性層の上にポリビニルアルコー
ル層などの酸素遮断層を塗布する場合がある。
【0024】酸素遮断層を設けない場合は、光重合性組
成物の成分として、前記の芳香族水素基を有するモノマ
ーを共重合成分として通常5〜50モル%(好ましくは
10〜30モル%)の割合で含有する有機高分子物質を
使用したり、光重合性組成物中に、特開平4−2180
48号公報、特開平5−19453号公報などに記載の
ジアゾ化合物を1〜20重量%(好ましくは2〜10重
量%)含有させるのが好ましい。これにより、酸素によ
る感度低下を抑えることが出来、酸素遮断層を不要とす
ることが出来る。
成物の成分として、前記の芳香族水素基を有するモノマ
ーを共重合成分として通常5〜50モル%(好ましくは
10〜30モル%)の割合で含有する有機高分子物質を
使用したり、光重合性組成物中に、特開平4−2180
48号公報、特開平5−19453号公報などに記載の
ジアゾ化合物を1〜20重量%(好ましくは2〜10重
量%)含有させるのが好ましい。これにより、酸素によ
る感度低下を抑えることが出来、酸素遮断層を不要とす
ることが出来る。
【0025】本発明に係る黒色レジストパターンの形成
方法においては、黒色材料が分散された光重合性組成物
(塗布液)を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像
露光、現像および熱硬化の各処理を行う。そして、本発
明の好ましい実施態様においては、加熱乾燥処理に先立
ち予備乾燥を行って塗布膜中の溶剤の大部分を除去す
る。
方法においては、黒色材料が分散された光重合性組成物
(塗布液)を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像
露光、現像および熱硬化の各処理を行う。そして、本発
明の好ましい実施態様においては、加熱乾燥処理に先立
ち予備乾燥を行って塗布膜中の溶剤の大部分を除去す
る。
【0026】塗布装置としては、スピナー、ワイヤーバ
ー、フローコーター、ダイコーター、ロールコーター、
スプレー等が使用される。予備乾燥の条件は、溶剤の種
類によって適宜選択されるが、通常40〜80℃で15
秒から5分間、好ましくは50〜70℃の温度で30秒
から3分間とされる。
ー、フローコーター、ダイコーター、ロールコーター、
スプレー等が使用される。予備乾燥の条件は、溶剤の種
類によって適宜選択されるが、通常40〜80℃で15
秒から5分間、好ましくは50〜70℃の温度で30秒
から3分間とされる。
【0027】加熱乾燥の条件は、予備乾燥温度より高く
且つ50〜160℃の温度で15秒から10分間とする
のが好ましく、70〜130℃の温度で15秒〜30秒
から5分間とするのが特に好ましい。なお、乾燥後の光
重合性層(乾燥塗膜)の厚さは、通常0.5〜3μm、
好ましくは1〜2μmの範囲とされる。
且つ50〜160℃の温度で15秒から10分間とする
のが好ましく、70〜130℃の温度で15秒〜30秒
から5分間とするのが特に好ましい。なお、乾燥後の光
重合性層(乾燥塗膜)の厚さは、通常0.5〜3μm、
好ましくは1〜2μmの範囲とされる。
【0028】画像露光は、黒色の光重合性層上にネガの
マトリクスパターンを導き、当該マスクパターンを介
し、紫外または可視の光源を照射して行う。この際、必
要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐた
め、光重合性層上にポリビニルアルコール層などの酸素
遮断層を形成した後に露光を行ってもよい。
マトリクスパターンを導き、当該マスクパターンを介
し、紫外または可視の光源を照射して行う。この際、必
要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐた
め、光重合性層上にポリビニルアルコール層などの酸素
遮断層を形成した後に露光を行ってもよい。
【0029】現像は、アルカリ現像液を使用し、浸漬現
像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法
により行われる。これにより、透明基板上に黒色レジス
トパターン(ブラックマトリクス)が形成される。アル
カリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ剤、または、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化テト
ラアルキルアンモニウム塩などの有機アルカリ剤を含有
し、必要に応じ、画質向上、現像時間の短縮などの目的
により、界面活性剤、水溶性有機溶剤、水酸基またはカ
ルボン酸基を有する低分子化合物などを含有する水溶液
を使用することが出来る。
像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法
により行われる。これにより、透明基板上に黒色レジス
トパターン(ブラックマトリクス)が形成される。アル
カリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ剤、または、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化テト
ラアルキルアンモニウム塩などの有機アルカリ剤を含有
し、必要に応じ、画質向上、現像時間の短縮などの目的
により、界面活性剤、水溶性有機溶剤、水酸基またはカ
ルボン酸基を有する低分子化合物などを含有する水溶液
を使用することが出来る。
【0030】界面活性剤としては、ナフタレンスルホン
酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウム基を有
するアニオン界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有
するノニオン界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム
基を有するカチオン界面活性剤などが挙げられる。水溶
性有機溶剤としては、エタノール、プロピオンアルコー
ル、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
水酸基またはカルボキシ基を有する低分子化合物として
は、1−ナフトール、2−ナフトール、ピロガロール、
安息香酸、コハク酸、グルタル酸などが挙げられる。
酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウム基を有
するアニオン界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有
するノニオン界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム
基を有するカチオン界面活性剤などが挙げられる。水溶
性有機溶剤としては、エタノール、プロピオンアルコー
ル、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
水酸基またはカルボキシ基を有する低分子化合物として
は、1−ナフトール、2−ナフトール、ピロガロール、
安息香酸、コハク酸、グルタル酸などが挙げられる。
【0031】現像条件としての温度は、通常20〜40
℃の範囲から選択される。熱硬化処理の条件は、通常1
00〜280℃で5〜60分間とされる。これにより、
黒色レジストパターンの形成を終了する。
℃の範囲から選択される。熱硬化処理の条件は、通常1
00〜280℃で5〜60分間とされる。これにより、
黒色レジストパターンの形成を終了する。
【0032】本発明に係る黒色レジストパターンの形成
方法においては、上記の現像開始後であって熱硬化前に
透明基板の裏面に現像液をスプレーする。現像液のスプ
レーは、透明基板の裏面が水と接触した後では汚れ除去
が困難となることがあるため、透明基板の裏面が水と接
触する前に行うのが好ましく、現像の際に行うのが特に
好ましい。なお、熱硬化後に行う現像液のスプレーで
は、透明基板の裏面の汚れを除去することが出来ない。
上記の現像および水洗は、通常、上方に適宜の数のピン
チローラが配置された搬送ローラ系によって透明基板を
1枚毎に搬送しつつ行われる。従って、上記のスプレー
は、各搬送ローラの間に配置された1又は2本以上のノ
ズルを通して容易に行うことが出来る。
方法においては、上記の現像開始後であって熱硬化前に
透明基板の裏面に現像液をスプレーする。現像液のスプ
レーは、透明基板の裏面が水と接触した後では汚れ除去
が困難となることがあるため、透明基板の裏面が水と接
触する前に行うのが好ましく、現像の際に行うのが特に
好ましい。なお、熱硬化後に行う現像液のスプレーで
は、透明基板の裏面の汚れを除去することが出来ない。
上記の現像および水洗は、通常、上方に適宜の数のピン
チローラが配置された搬送ローラ系によって透明基板を
1枚毎に搬送しつつ行われる。従って、上記のスプレー
は、各搬送ローラの間に配置された1又は2本以上のノ
ズルを通して容易に行うことが出来る。
【0033】上記のノズルとしては、広角の固定ノズル
の他、基板の搬送方向と直角方向に対してスプレー角度
が変化する揺動ノズル等を使用することが出来る。ま
た、搬送ローラ系の回転方向を周期的に変更することに
より、基板自体をその搬送方向の前後に揺動させてもよ
い。現像液のスプレー圧およびスプレー量などは、透明
基板の裏面に付着した黒色材料または樹脂成分が効率的
に洗浄除去される様に適宜選択される。特に、現像液の
スプレー圧は、通常0.1〜5Kg/cm2(G)、好
ましくは0.5〜3Kg/cm2(G)の範囲から選択
するのがよい。また、必要に応じて透明基板の裏面のブ
ラシ洗浄処理を行ってもよい。ブラシの材質および形状
は、透明基板の裏面に擦り傷を与えることがない様に適
宜選択される。
の他、基板の搬送方向と直角方向に対してスプレー角度
が変化する揺動ノズル等を使用することが出来る。ま
た、搬送ローラ系の回転方向を周期的に変更することに
より、基板自体をその搬送方向の前後に揺動させてもよ
い。現像液のスプレー圧およびスプレー量などは、透明
基板の裏面に付着した黒色材料または樹脂成分が効率的
に洗浄除去される様に適宜選択される。特に、現像液の
スプレー圧は、通常0.1〜5Kg/cm2(G)、好
ましくは0.5〜3Kg/cm2(G)の範囲から選択
するのがよい。また、必要に応じて透明基板の裏面のブ
ラシ洗浄処理を行ってもよい。ブラシの材質および形状
は、透明基板の裏面に擦り傷を与えることがない様に適
宜選択される。
【0034】本発明に係るカラーフィルターの製造方法
においては、赤、緑、青の材料が各々分散された各光重
合性組成物を使用し、上記の方法で得られた黒色レジス
トパターン(ブラックマトリクス)形成面に、塗布、加
熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って
各色の画素画像を形成する。すなわち、透明基板のブラ
ックマトリクス形成面に、赤、緑、青の中の1色を含有
する光重合性組成物を全面に塗布した後、ブラックマト
リクス形成の場合と同様に、予備乾燥後、加熱乾燥処理
することにより、光重合性層を形成させる。その後、画
素画像パターンマスクを介して露光処理を行い、アルカ
リ現像および熱硬化処理を行い、ブラックマトリクス画
像の間に1色目の画素画像を形成させる。以下、同様に
操作することにより、ブラックマトリクス画像間に2色
目および3色目の画素画像を順次に形成する。
においては、赤、緑、青の材料が各々分散された各光重
合性組成物を使用し、上記の方法で得られた黒色レジス
トパターン(ブラックマトリクス)形成面に、塗布、加
熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って
各色の画素画像を形成する。すなわち、透明基板のブラ
ックマトリクス形成面に、赤、緑、青の中の1色を含有
する光重合性組成物を全面に塗布した後、ブラックマト
リクス形成の場合と同様に、予備乾燥後、加熱乾燥処理
することにより、光重合性層を形成させる。その後、画
素画像パターンマスクを介して露光処理を行い、アルカ
リ現像および熱硬化処理を行い、ブラックマトリクス画
像の間に1色目の画素画像を形成させる。以下、同様に
操作することにより、ブラックマトリクス画像間に2色
目および3色目の画素画像を順次に形成する。
【0035】そして、本発明に係るカラーフィルターの
製造方法においては、各色の画素画像の形成の都度、上
記の現像開始後であって熱硬化前に透明基板の裏面に現
像液をスプレーする。斯かるスプレー処理は前記と同様
の方法で行われ、透明基板の裏面に付着した各色材料ま
たは樹脂成分が効率的に除去される。
製造方法においては、各色の画素画像の形成の都度、上
記の現像開始後であって熱硬化前に透明基板の裏面に現
像液をスプレーする。斯かるスプレー処理は前記と同様
の方法で行われ、透明基板の裏面に付着した各色材料ま
たは樹脂成分が効率的に除去される。
【0036】上記の様に、透明基板上に黒、赤、緑、青
から成るカラーフィルター画像を形成させて作製された
カラーフィルターは、このままの状態で画像上にITO
(透明電極)を形成してカラーディスプレーの部品の一
部として使用されるが、表面平滑性や耐久性を高めるた
め、必要に応じ、画像上にポリアミド、ポリイミド等の
トップコート層を設けることも出来る。
から成るカラーフィルター画像を形成させて作製された
カラーフィルターは、このままの状態で画像上にITO
(透明電極)を形成してカラーディスプレーの部品の一
部として使用されるが、表面平滑性や耐久性を高めるた
め、必要に応じ、画像上にポリアミド、ポリイミド等の
トップコート層を設けることも出来る。
【0037】なお、上記の画像露光に使用される光源と
しては、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステ
ンランプ、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水
銀灯、低圧水銀灯などのランプ光源、アルゴンイオンレ
ーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー、窒素レー
ザー等のレーザー光源が挙げられる。これらの光源に
は、必要とされる照射光の波長領域に応じ、光学フィル
ターを適宜使用することも出来る。
しては、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステ
ンランプ、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水
銀灯、低圧水銀灯などのランプ光源、アルゴンイオンレ
ーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー、窒素レー
ザー等のレーザー光源が挙げられる。これらの光源に
は、必要とされる照射光の波長領域に応じ、光学フィル
ターを適宜使用することも出来る。
【0038】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。なお、以下の実施例およ
び比較例においては、表1に示す次の(1)〜(4)の
各成分と表2に示す色材料を使用した。そして、各色材
料を含有する各光重合性塗布液は、次の表3に記載の配
合量を採用し、全量に対して3.6重量倍のジルコニア
ビーズ(直径0.5mm)を収容したペイントシェーカ
ーを使用して7時間分散処理を行って調製した。
するが、本発明は、その要旨を超えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。なお、以下の実施例およ
び比較例においては、表1に示す次の(1)〜(4)の
各成分と表2に示す色材料を使用した。そして、各色材
料を含有する各光重合性塗布液は、次の表3に記載の配
合量を採用し、全量に対して3.6重量倍のジルコニア
ビーズ(直径0.5mm)を収容したペイントシェーカ
ーを使用して7時間分散処理を行って調製した。
【0039】
【表1】
【0040】
【化1】 (a:b:c:d=55:15:20:10(モル
%)、Mw:12,000)
%)、Mw:12,000)
【0041】
【化2】
【0042】
【表2】
【0043】
【表3】
【0044】実施例1 縦370mm、横470mm、厚さ0.7mmのガラス
基板(旭硝子製「AN635」)に乾燥膜厚が0.7μ
mになる様に黒の光重合性塗布液をスピンコーターで塗
布した。その後、60℃で1分間乾燥した後、110℃
で2分間加熱乾燥した。その後、光重合性層上に、乾燥
膜厚が1.5μmになる様にポリビニルアルコール水溶
液を塗布した後に乾燥して酸素遮断層を形成した。
基板(旭硝子製「AN635」)に乾燥膜厚が0.7μ
mになる様に黒の光重合性塗布液をスピンコーターで塗
布した。その後、60℃で1分間乾燥した後、110℃
で2分間加熱乾燥した。その後、光重合性層上に、乾燥
膜厚が1.5μmになる様にポリビニルアルコール水溶
液を塗布した後に乾燥して酸素遮断層を形成した。
【0045】次いで、幅30μm、縦330μm、横1
10μmのピッチで繰り返すブラックマトリクス用ネガ
フォトマスクを使用し、2kW高圧水銀灯により、30
0mJ/cm2の露光量で露光処理を行った。その後、
現像処理として、ポリエチレンオキシ−β−ナフチルエ
ーテル(日本乳化剤社製「Newcol B−10」)
2重量%と炭酸カリウム0.5重量%が配合された水溶
液より成る25℃の現像液をガラス基板の上下面から
1.5Kg/cm2の圧力でスプレーした後、3kg/
cm2の水圧で30秒間スプレー水洗処理を行ってブラ
ックマトリクスを形成した。その後、200℃、7分間
の熱硬化処理を行った。そして、次の目視評価法および
欠陥評価法により、ブラックマトリクスが形成されたガ
ラス基板の評価を行った。その結果を表5に示す。
10μmのピッチで繰り返すブラックマトリクス用ネガ
フォトマスクを使用し、2kW高圧水銀灯により、30
0mJ/cm2の露光量で露光処理を行った。その後、
現像処理として、ポリエチレンオキシ−β−ナフチルエ
ーテル(日本乳化剤社製「Newcol B−10」)
2重量%と炭酸カリウム0.5重量%が配合された水溶
液より成る25℃の現像液をガラス基板の上下面から
1.5Kg/cm2の圧力でスプレーした後、3kg/
cm2の水圧で30秒間スプレー水洗処理を行ってブラ
ックマトリクスを形成した。その後、200℃、7分間
の熱硬化処理を行った。そして、次の目視評価法および
欠陥評価法により、ブラックマトリクスが形成されたガ
ラス基板の評価を行った。その結果を表5に示す。
【0046】(1)目視評価法:ハロゲンランプ(モリ
テックス社製「MHF−150L」)を使用し、ガラス
基板の裏面に45°の方向から光を照射し、付着した顔
料粒子による反射状態を目視観察して次の4段階の基準
で評価した。
テックス社製「MHF−150L」)を使用し、ガラス
基板の裏面に45°の方向から光を照射し、付着した顔
料粒子による反射状態を目視観察して次の4段階の基準
で評価した。
【0047】
【表4】 A:基板の裏面の全面に渡り顔料粒子の付着が認められ
ない状態。 B:基板の裏面の一部(端部)にのみ顔料粒子の付着が
認められる状態。 C:基板の裏面の大半(30〜90%)に顔料粒子の付
着が認められる状態。 D:基板の裏面の全面(90%以上)に顔料粒子の付着
が認められる状態。
ない状態。 B:基板の裏面の一部(端部)にのみ顔料粒子の付着が
認められる状態。 C:基板の裏面の大半(30〜90%)に顔料粒子の付
着が認められる状態。 D:基板の裏面の全面(90%以上)に顔料粒子の付着
が認められる状態。
【0048】(2)欠陥評価法:欠陥検査機(レーサー
テック社製)を使用し、基板の端部から50mmより内
側の黒欠陥の検査を行う。そして、欠陥が認められた場
合は、光学顕微鏡(ニコン製「XD−20」)にCCD
カメラ(Sankei社製「CS572B」)と測定ユ
ニット(Fiovel社製「MC−50」)とを装着し
た装置を使用し、基板の裏面への付着による欠陥か否か
を評価した。基板の裏面への付着による欠陥が認めらな
い場合を〇、基板の裏面への付着による欠陥が認められ
た場合を×として表した。
テック社製)を使用し、基板の端部から50mmより内
側の黒欠陥の検査を行う。そして、欠陥が認められた場
合は、光学顕微鏡(ニコン製「XD−20」)にCCD
カメラ(Sankei社製「CS572B」)と測定ユ
ニット(Fiovel社製「MC−50」)とを装着し
た装置を使用し、基板の裏面への付着による欠陥か否か
を評価した。基板の裏面への付着による欠陥が認めらな
い場合を〇、基板の裏面への付着による欠陥が認められ
た場合を×として表した。
【0049】実施例2 赤、緑、青の各色材を含有する各光重合性塗布液を順次
に使用し、実施例1で得られたブラックマトリクス形成
面に、実施例1と同様に、塗布、予備乾燥、加熱乾燥、
露光、ガラス基板の上下面からのスプレーによる現像、
水洗、熱硬化の各処理を行い、各色のパターンを形成
し、カラーフィルターを得た。露光量は各色共に500
mJ/cm2とした。そして、前述の目視評価法および
欠陥評価法により、カラーフィルターの評価を行った。
その結果を表5に示す。
に使用し、実施例1で得られたブラックマトリクス形成
面に、実施例1と同様に、塗布、予備乾燥、加熱乾燥、
露光、ガラス基板の上下面からのスプレーによる現像、
水洗、熱硬化の各処理を行い、各色のパターンを形成
し、カラーフィルターを得た。露光量は各色共に500
mJ/cm2とした。そして、前述の目視評価法および
欠陥評価法により、カラーフィルターの評価を行った。
その結果を表5に示す。
【0050】比較例1 実施例1において、現像液のスプレーをガラス基板の上
面のみから行った以外は、実施例1と同様にしてブラッ
クマトリクスを形成し、ブラックマトリクスが形成され
たガラス基板の評価を行った。その結果を表5に示す。
面のみから行った以外は、実施例1と同様にしてブラッ
クマトリクスを形成し、ブラックマトリクスが形成され
たガラス基板の評価を行った。その結果を表5に示す。
【0051】比較例2 実施例2において、ブラックマトリクス及び各色のパタ
ーン形成時の現像液のスプレーをガラス基板の上面のみ
から行った以外は、実施例2と同様にしてカラーフィル
ターを得、その評価を行った。その結果を表5に示す。
ーン形成時の現像液のスプレーをガラス基板の上面のみ
から行った以外は、実施例2と同様にしてカラーフィル
ターを得、その評価を行った。その結果を表5に示す。
【0052】
【表5】
【0053】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、透明基板
における黒色レジストパターンや各色の画素画像の非形
成面側(裏面)における汚れを効率的に洗浄除去し得る
様に改良された黒色レジストパターンの形成方法および
カラーフィルターの製造方法が提供され、本発明の工業
的価値は大きい。
における黒色レジストパターンや各色の画素画像の非形
成面側(裏面)における汚れを効率的に洗浄除去し得る
様に改良された黒色レジストパターンの形成方法および
カラーフィルターの製造方法が提供され、本発明の工業
的価値は大きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/30 G03F 7/30
Claims (4)
- 【請求項1】 黒色材料が分散された光重合性組成物を
透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像、
水洗および熱硬化の各処理を行って黒色レジストパター
ンを形成するに当たり、上記の現像開始後であって熱硬
化前に透明基板の裏面に現像液をスプレーすることを特
徴とする黒色レジストパターンの形成方法。 - 【請求項2】 透明基板の裏面への現像液のスプレーを
現像の際に行う請求項1に記載の黒色レジストパターン
の形成方法。 - 【請求項3】 黒色材料が分散された光重合性組成物を
透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像、
水洗および熱硬化の各処理を行ってブラックマトリクス
を形成し、次いで、赤、緑、青の材料が各々分散された
各光重合性組成物を使用し、上記のブラックマトリクス
形成面に、塗布、加熱乾燥、画像露光、現像、水洗およ
び熱硬化の各処理を行って各色の画素画像を形成するカ
ラーフィルターの製造方法において、ブラックマトリク
ス及び各色の画素画像の形成の都度、上記の現像開始後
であって熱硬化前に透明基板の裏面に現像液をスプレー
することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項4】 透明基板の裏面への現像液のスプレーを
現像の際に行う請求項3に記載の黒色レジストパターン
の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25593497A JPH10221860A (ja) | 1996-12-02 | 1997-09-04 | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8-336394 | 1996-12-02 | ||
JP33639496 | 1996-12-02 | ||
JP25593497A JPH10221860A (ja) | 1996-12-02 | 1997-09-04 | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10221860A true JPH10221860A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=26542483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25593497A Withdrawn JPH10221860A (ja) | 1996-12-02 | 1997-09-04 | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10221860A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006154804A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフィルター製造法、カラーフィルター、およびそのカラーフィルターを有する表示装置 |
JP2007163689A (ja) * | 2005-12-12 | 2007-06-28 | Fujifilm Corp | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、液晶表示装置 |
JP2007171656A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示装置 |
-
1997
- 1997-09-04 JP JP25593497A patent/JPH10221860A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006154804A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフィルター製造法、カラーフィルター、およびそのカラーフィルターを有する表示装置 |
JP2007163689A (ja) * | 2005-12-12 | 2007-06-28 | Fujifilm Corp | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、液晶表示装置 |
JP2007171656A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0780731A3 (en) | Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device | |
JP4108303B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置 | |
JPH10221860A (ja) | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 | |
JPH10213909A (ja) | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 | |
JP2934561B2 (ja) | 水性着色レジスト材、その現像方法及びカラーフィルターの製造方法 | |
JP3746601B2 (ja) | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 | |
JPH10328614A (ja) | 着色レジストの塗布方法 | |
JPH10213910A (ja) | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 | |
JPH11142639A (ja) | ブラックマトリックス及びカラーフィルターの製造法並びにカラーフィルター | |
JP3686494B2 (ja) | カラーフィルター用光重合性組成物 | |
JPH10239864A (ja) | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 | |
JP2005146171A (ja) | 洗浄処理液並びにそれを用いた着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法 | |
JPH10239856A (ja) | 着色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 | |
JPH1039126A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
JP2003336097A (ja) | 洗浄処理液、着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法 | |
JPH10213707A (ja) | 黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法 | |
JPH10246810A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
JPH05188591A (ja) | 光硬化性アクリル系着色組成物 | |
JP2000162785A (ja) | 感光性樹脂現像液、樹脂ブラックマトリクスの製造方法、及びカラーフィルターの製造方法 | |
JP3716538B2 (ja) | 感光性樹脂現像液およびカラーフィルターの製造方法 | |
JPH10246809A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
JP3603351B2 (ja) | カラーフィルターレジストの塗布方法 | |
JPH10239509A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
JPH11202117A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
JP3633073B2 (ja) | カラーフィルター用光重合性組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041207 |