JP2005146171A - 洗浄処理液並びにそれを用いた着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、表面の平滑性、エッジ形状が良好な着色画像を形成可能な洗浄処理液等の提供。
【解決手段】 塩基性化合物と、少なくとも１つの水酸基を含有するアセチレン界面活性剤及びフェノキシオキシアルキレン界面活性剤の少なくともいずれかとを含むことを特徴とする洗浄処理液である。アセチレン界面活性剤が、アセチレンジオール界面活性剤である態様、更にアルキルエーテル界面活性剤を含む態様、加圧条件下で被処理対象物に付与される態様、加圧による圧力が、０．０１〜１００ＭＰａである態様、等が好ましい。
【選択図】 なし

Description

本発明は、洗浄処理液並びにそれを用いた着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法に関する。

従来より、液晶表示デバイス、センサー及び色分解デバイス等において、カラーフィルターが多用されている。このカラーフィルターの製造方法としては、染色可能な樹脂（例えば、天然のゼラチンやカゼイン）をパターニングし、該樹脂を染料で染色し、画素を形成するという方法が採用されていた。しかし、前記方法により形成された画素は、材料面からの制約により耐熱性及び耐光性が劣るという問題があった。

そこで、近年、耐熱性及び耐光性を改良する目的で顔料を分散した感光性転写材料を用いるカラーフィルターの製造方法が提案された。この提案によれば、製法が簡略化され、得られる画像の安定性、寿命の長さの点から賞揚されている。

しかし、前記カラーフィルターの製造方法においては、顔料を分散させたフォトレジストの現像が難しく、現像残渣、画素表面の汚れ、画素エッジの乱れが問題であった。また、現像残渣等の汚れは、ＣＤＡ、ＨＡといったＴＦＴアクティブマトリックス基板に画像を形成する場合、コンタクト抵抗の低下に繋がることから、現像残渣等の生じない現像液の開発が試みられている（特許文献１〜２参照）。しかし、いずれの提案においても充分な結果は得られておらず更なる改善が望まれていた。

この問題を解決するため、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルを含有する洗浄剤を用いて、現像直後の基板を洗浄することが考案された。この方法では、現像残渣がほとんど除去されるほか、画素表面が平滑であり、かつ画素エッジの乱れも無く良好な画像が形成可能であった。

しかし、前記ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルは、魚類に対して内分泌撹乱作用を有し、エンドクリン規制対象であることから、環境問題上使用することができないという欠点がある。

特開平１０−２３９８５９号公報 特開平１１−２５８８１９号公報

本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、表面の平滑性、及びエッジ形状が良好な着色画像を形成可能な洗浄処理液、該洗浄処理液を用いた着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法を提供することを目的とする。

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 塩基性化合物と、少なくとも１つの水酸基を含むアセチレン界面活性剤及びフェノキシオキシアルキレン界面活性剤から選択される少なくともいずれかの界面活性剤を含有することを特徴とする洗浄処理液である。
＜２＞ 塩基性化合物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム及びメタケイ酸カリウムから選択される少なくとも１種の無機アルカリ化合物である前記＜１＞に記載の洗浄処理液である。
＜３＞ 塩基性化合物の洗浄処理液における含有量が、０．０１〜５０質量％である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の洗浄処理液である。
＜４＞ アセチレン界面活性剤が、アセチレンジオール界面活性剤である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の洗浄処理液である。
＜５＞ フェノキシオキシアルキレン界面活性剤が、下記構造式（１）で表される構造を有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の洗浄処理液である。

但し、前記構造式（１）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、１以上の整数を表す。
＜６＞ フェノキシオキシアルキレン界面活性剤が、下記構造式（２）で表される構造を有する前記＜５＞に記載の洗浄処理液である。

但し、前記構造式（２）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、１以上の整数を表す。
＜７＞ 更にアルキルエーテル界面活性剤を含む前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の洗浄処理液である。
＜８＞ 加圧条件下で被処理対象物に付与される前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の洗浄処理液である。
＜９＞ 圧力が、０．０１〜１００ＭＰａである前記＜８＞に記載の洗浄処理液である。
＜１０＞ 加圧が、ブラシ、スポンジ及び液圧の少なくともいずれかの加圧手段により行われる前記＜８＞から＜９＞のいずれかに記載の洗浄処理液である。
＜１１＞ 被処理対象物が、基板上に、少なくとも、感光層及び酸素遮断層を順次積層してなる転写材料である前記＜８＞から＜１０＞のいずれかに記載の洗浄処理液である。
＜１２＞ 希釈液で５〜１，０００倍に希釈して用いられる前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の洗浄処理液である。
＜１３＞ アルカリ現像可能な感光層を基板上に形成する感光層形成工程と、該感光層を露光し現像する露光及び現像工程と、前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の洗浄処理液を用いて洗浄処理する洗浄処理工程とを少なくとも有することを特徴とする着色画像の形成方法である。
＜１４＞ 感光層が、酸価が２０〜３００の樹脂、顔料、光重合性不飽和結合を含有するモノマー、及び光重合開始剤を少なくとも含む転写材料により形成される前記＜１３＞に記載の着色画像の形成方法である。
＜１５＞ 基板上にアルカリ現像可能な感光層を形成する感光層形成工程、及び該感光層を露光し現像する露光及び現像工程を少なくとも含み、同一基板上に複数の着色画像を形成するカラーフィルターの製造方法であって、更に、前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の洗浄処理液を用いて洗浄する洗浄処理工程を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。
＜１６＞ アルカリ現像可能な感光層をＴＦＴアレイ基板上に形成する感光層形成工程、及び該感光層を露光し現像する露光及び現像工程を少なくとも含み、同一ＴＦＴアレイ基板上に複数の着色画像を形成するカラーフィルター付きアレイ基板の製造方法であって、更に、前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の洗浄処理液を用いて洗浄する洗浄処理工程を含むことを特徴とするカラーフィルター付きアレイ基板の製造方法である。

本発明の洗浄処理液は、塩基性化合物と、少なくとも１つの水酸基を含むアセチレン界面活性剤及びフェノキシオキシアルキレン界面活性剤から選択される少なくともいずれかの界面活性剤を含有する。その結果、現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、表面の平滑性、エッジ形状が良好で、解像度の高い着色画像を形成することができる。

本発明の着色画像の形成方法は、感光層形成工程と、露光及び現像工程と、洗浄処理工程とを少なくとも有する。本発明の着色画像の形成方法においては、前記感光層形成工程において、基板上にアルカリ現像可能な感光層を形成し、前記露光及び現像工程において、該感光層を露光し現像する。前記洗浄処理工程で前記本発明の洗浄処理液を用いて洗浄処理する。その結果、現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、表面の平滑性、エッジ形状が良好で、解像度の高い着色画像を形成できる。

本発明によると、従来における諸問題を解決することができ、現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、表面の平滑性、エッジ形状が良好な着色画像を形成可能な洗浄処理液、該洗浄処理液を用いた着色画像の形成方法、高品位なカラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法を提供することができる。

（洗浄処理液）
本発明の洗浄処理液は、塩基性化合物と、少なくとも１つの水酸基を含むアセチレン界面活性剤及びフェノキシオキシアルキレン界面活性剤の少なくともいずれかの界面活性剤とを含み、更に必要に応じてその他の成分を含有する。

−塩基性化合物−
前記塩基性化合物としては、塩基性を示すものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができ、例えば、無機アルカリ化合物や有機アルカリ化合物等が挙げられるが、取り扱い性の点から、無機アルカリ化合物が特に好ましい。

前記無機アルカリ化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム等のケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム等が挙げられ、水酸化カリウム、炭酸カリウム、等が挙げられる。これらの無機アルカリ化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記有機アルカリ化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、ブチルアミン、フェニルヒドラジン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、等が挙げられる。これらの有機アルカリ化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記塩基性化合物の前記洗浄処理液における含有量は、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましく、０．０５〜１５質量％が更に好ましく、０．１〜１０質量％が特に好ましい。前記含有量が、０．０１質量％未満であると、解像性が不充分となることがあり、５０質量％を超えると、フォトレジスト自体が基板から剥離してしまうことがある。

−フェノキシオキシアルキレン界面活性剤−
前記フェノキシオキシアルキレン界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、下記構造式（１）で表される構造を有するもの等が挙げられる。

前記構造式（１）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。
Ｒ^１は、水素原子又はアルキル基を表す。該アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、などが挙げられ、これらの中でも、メチル基が好ましい。
ｎは、１以上、好ましくは１〜５０の整数を表す。

前記構造式（１）で表されるフェノキシオキシアルキレン界面活性剤の中でも、下記構造式（２）で表されるものが好ましい。

前記構造式（２）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、水素原子又はアルキル基を表し、該アルキル基としては、上記と同じものが挙げられる。
ｎは、１以上、好ましくは１〜５０の整数を表す。

前記フェノキシオキシアルキレン界面活性剤の具体例としては、例えば、下記構造式で表されるもの、などが挙げられる。

但し、前記構造式（３）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎは、１〜１４の整数を示し、ｎの分布の中心はｎ＝４である。

但し、前記構造式（４）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎは、１〜１４の整数を示す。

但し、前記構造式（５）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎは、１〜１４の整数を示す。

但し、前記構造式（６）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎは、１〜３０の整数を示す。

但し、前記構造式（７）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎは、１〜３０の整数を示す。

但し、前記構造式（８）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎ＋ｍは、２〜３０の整数を示す。

但し、前記構造式（９）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎ＋ｍは、２〜２０の整数を示す。

但し、前記構造式（１０）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎ＋ｍは、２〜２０の整数を示す。

但し、前記構造式（１１）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎは、１〜１４の整数を示す。

但し、前記構造式（１２）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎは、１〜１４の整数を示す。

但し、前記構造式（１３）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎ＋ｍは、２〜２０の整数を示す。

但し、前記構造式（１４）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎは、１〜１４の整数を示す。

但し、前記構造式（１５）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。ｎ＋ｍは、２〜２０の整数を示す。

前記フェノキシオキシアルキレン界面活性剤の前記洗浄処理液における含有量は、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましい。前記含有量が、０．０１質量％未満であると、解像性が不充分となることがあり、５０質量％を超えると、液の保存性が悪くなる。

前記フェノキシオキシアルキレン界面活性剤を他の界面活性剤と併用して使用する場合には、主成分として使用することが、現像残渣等をより効率的に除去することができる点で好ましい。

−少なくとも１個の水酸基を含有するアセチレン界面活性剤−
前記少なくとも１つの水酸基を含有するアセチレン界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、水酸基を１つ有するアセチレンモノオール界面活性剤、水酸基を２個有するアセチレングリコール界面活性剤などが挙げられ、これらの中でもアセチレングリコール界面活性剤が好適である。

前記アセチレングリコール界面活性剤としては、例えば、下記構造式（１６）で表される構造を含むもの、などが好適である。

前記構造式（１６）中、ｍ及びｎは整数であり、ｍとｎとの和はエチレンオキサイドの付加モル数を表す。

前記少なくとも１つの水酸基を含有するアセチレン界面活性剤の具体例としては、例えば、３,５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、２,４,７,９−テトラメチル−５−デシン−４,７−ジオール、２,４,７,９−テトラメチル−５−デシン−４,７−ジオールのエチレンオキサイド付加物、などが挙げられる。

前記少なくとも１つの水酸基を含有するアセチレン界面活性剤の市販品としては、例えば、サーフィノール６１界面活性剤、サーフィノール１０４界面活性剤、サーフィノール４２０界面活性剤、サーフィノール４４０界面活性剤、サーフィノール４６５界面活性剤、サーフィノール４８５界面活性剤、サーフィノール４８５Ｗ界面活性剤（いずれも日信化学工業株式会社製）、などが挙げられる。

前記少なくとも１つの水酸基を含有するアセチレン界面活性剤の前記洗浄処理液における含有量は、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましい。
前記含有量が、０．０１質量％未満であると、解像性が不充分となることがある一方、５０質量％を超えると、液の保存性が悪くなることがある。

前記少なくとも１つの水酸基を含有するアセチレン界面活性剤を他の界面活性剤と併用して使用する場合には、低含有量であっても現像残渣等を効率的に除去することができる。また、前記フェノキシオキシアルキレン界面活性剤を主成分として、前記少なくとも１個の水酸基を含有するアセチレン界面活性剤（特に、アセチレングリコール界面活性剤が好ましい）を併用して使用することが、現像残渣等をより効率的に除去することができる点で好ましい。

本発明の洗浄処理液には、前記界面活性剤以外にも、更に、アルキルエーテル界面活性剤を併用することが、液切れの良さを向上させる点で好ましい。

前記アルキルエーテル界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、下記構造式（１７）で表される化合物が好ましい。

但し、前記構造式（１７）中、Ｒ^５は、炭素数１〜１００のアルキル基を表す。Ｒ^６は、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、１〜５０の整数である。

前記構造式（１７）において、Ｒ^５としては、炭素数１〜１００のアルキル基であれば、直鎖状であっても分岐状であっても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、炭素数１〜５０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４０のアルキル基がより好ましく、炭素数４〜３０のアルキル基が更に好ましく、炭素数が１１又は１２のアルキル基が最も好ましい。

Ｒ^５におけるアルキル基の炭素数が１００を超えると、水への溶解性が劣り、現像性が劣ることがある。
前記構造式（１７）中、ｎとしては、１〜５０の整数であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１〜３０が好ましく、１０〜３０がより好ましく、１２〜２０が更に好ましい。ｎが５０を超えると、起泡性が高くなったり、スプレー現像が困難となることがある。

前記構造式（１７）で表される化合物としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、特に、前記構造式（１７）におけるｎが１８〜２４であるポリオキシエチレンラウリルエーテル、前記構造式（１７）におけるｎが２０〜２４であるポリオキシエチレンオレイルエーテル等が好ましい。

前記アルキルエーテル界面活性剤の前記洗浄処理液における含有量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０〜５質量％が好ましい。

更に、その他の界面活性剤として、ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリスルホン酸型高分子界面活性剤等のアニオン系分散剤；ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー等のノニオン系分散剤などを添加することができる。

本発明において、前記少なくとも１つの水酸基を含有するアセチレン界面活性剤、フェノキシオキシアルキレン界面活性剤の少なくともいずれか、アルキルエーテル界面活性剤、及びその他の界面活性剤の前記洗浄処理液における含有量としては、０．０１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましく、０．０５〜１５質量％が更に好ましい。

本発明の洗浄処理液は、被処理対象物に付与されて使用され、好ましくは加圧条件下で被処理対象物に付与されて使用される。したがって汚れの洗浄除去性に極めて優れる。また、前記被処理対象物が基板上に感光層を設けてなる構成を有する場合、特に、基板上に感光層及び酸素遮断層等を順次積層してなる構成を有する場合には、基板上や感光層表面に現像残渣等が生じ易い。本発明の前記洗浄処理液を用い、好ましくは加圧条件で付与することにより、前記基板や感光層における現像残渣等を効率的に除去可能であり、表面の平滑性、エッジ形状が良好で解像度の高い着色画像を形成可能である。
なお、前記感光層、酸素遮断層については、本発明の着色画像の形成方法において詳述する。

前記加圧の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、加圧の際の圧力で０．０１〜１００ＭＰａが好ましく、０．０２〜２０ＭＰａがより好ましい。
前記圧力が、前記数値範囲内であれば、特に基板、感光層等における現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、表面平滑性、エッジ形状が良好で、解像度の高い着色画像を形成可能である。

前記加圧の手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ブラシ、スポンジ等の部材により加圧する手段のほか、洗浄処理液自体の液圧により加圧する手段等が挙げられる。
前記ブラシとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、例えば、ナイロン、アクリル等の材質からなる毛を基体上に多数有するブラシ等が好ましい。該基体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、例えば、円板状、筒状等の形状が挙げられる。前記ナイロン、アクリル等の材質からなる毛の太さとしては、３０〜２００μｍ程度が好ましい。該毛の長さとしては、１０〜３０ｍｍ程度が好ましい。
前記スポンジとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定することができるが、例えば、ナイロン、アクリル、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ＰＶＦ等の材質からなるスポンジ等が好ましい。該スポンジの形状としては、特に制限はなく、例えば、円板状、筒状等が挙げられる。
前記液圧により加圧する手段としては、例えば、シャワー洗浄、超音波洗浄、超高圧シャワー等が挙げられる。

本発明の前記洗浄処理液は、希釈液で５〜１，０００倍に希釈して用いられるのが好ましく、１０〜２００倍に希釈して用いられるのがより好ましい。
前記希釈液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、水道水、水、純水、蒸留水、各種有機溶媒、水と各種有機溶媒との混合溶媒、などが用いられる。

（着色画像の形成方法）
本発明の着色画像の形成方法は、感光層形成工程、露光及び現像工程を有し、更に、洗浄処理工程を有し、必要に応じてその他の工程を有する。
なお、本発明において、洗浄処理工程は、前記感光層形成工程の前に設けられても後に設けられてもよく、また、前記露光及び現像工程の前に設けられても後に設けられてもよいが、基板の洗浄を目的とする場合には、前記感光層形成工程の前に設けられるのが好ましく、また現像残渣の除去を目的とする場合には、前記露光及び現像工程の後に設けられるのが好ましい。

−感光層形成工程−
前記感光層形成工程において形成される感光層は、アルカリ現像可能であり、下記着色画像形成材料により好適に形成される。

＜着色画像形成材料＞
前記着色画像形成材料は、アルカリ現像可能で感光性を有していれば特に制限はないが、樹脂、顔料・染料等の着色剤、光重合性不飽和結合を含有するモノマー、及び、光重合開始剤を含有するのが好ましい。

−−樹脂−−
前記着色画像形成材料に用いられる樹脂としては、感光層を形成した際に感光性を妨げず、顔料等の着色剤分散性、成膜性、アルカリ現像性を有するものであれば特に制限はない。前記樹脂としては、例えば、カルボキシメチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられ、特に、（メタ）アクリル酸（アクリル酸及びメタクリル酸を意味する。以下同様）、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル等のカルボキシル基含有重合性モノマーとメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、等の（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、スチレン誘導体、その他の重合性モノマーとの共重合体等が好ましい。

前記マレイン酸モノアルキルエステルとしては、アルキルの炭素数が１〜１２のものが好ましく、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノｎ−プロピル、マレイン酸モノイソプロピル、マレイン酸モノｎ−ブチル、マレイン酸モノｎ−ヘキシル、マレイン酸モノｎ−オクチル、マレイン酸モノ２−エチルヘキシル、マレイン酸モノｎ−ノニル、マレイン酸モノｎ−ドデシル等が挙げられる。前記スチレン誘導体としては、α−メチルスチレン、ｍ−又はｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−メトキシ−４−ヒドロキシスチレン、２−ヒドロキシ−４−メチルスチレン等が挙げられる。

前記樹脂としては、光感度の向上等を目的として光重合性不飽和結合を有するものを使用してもよい。前記樹脂としては、例えば、高酸価のカルボキシル基含有樹脂にグリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルグリシジルエーテル等のオキシラン環とエチレン性不飽和結合をそれぞれ１個有する化合物やアリルアルコール、２−ブテン−４−オール、フルフリルアルコール、オレイルアルコール、シンナミルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド等の水酸基とエチレン性不飽和結合をそれぞれ１個有する化合物（不飽和アルコール）を反応させた樹脂、水酸基を有するカルボキシル基含有樹脂に遊離イソシアネート基含有不飽和化合物を反応させた樹脂、エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加反応物に多塩基酸無水物を反応させた樹脂、共役ジエン重合体や共役ジエン共重合体と不飽和ジカルボン酸無水物との付加反応物に水酸基含有重合性モノマーを反応させた樹脂等が挙げられる。

前記樹脂の不飽和当量としては、６００〜３，０００が好ましく、８００〜２，０００がより好ましい。
前記不飽和当量が６００未満であると、感光材料の調整時、特に顔料を樹脂に分散させる時に一部硬化することがあり、３，０００を超えると、不飽和基の導入による光感度の向上効果が低下することがある。
なお、前記「不飽和当量」とは、不飽和結合一つ当たりの樹脂の分子量を指す。

前記樹脂は、着色画像形成材料が露光後にアルカリ現像性を有する観点から、酸価は２０〜３００が好ましく、４０〜２００がより好ましく、６０〜１５０が更に好ましい。前記酸価が、２０未満であると、アルカリ現像性が低下することがあり、３００を超えると、アルカリ現像後の画像パターンの形状が不鮮明となることがある。

前記樹脂の重量平均分子量は、１，５００〜２００，０００が好ましく、５，０００〜１００，０００がより好ましく、１０，０００〜５０，０００が更に好ましい。
前記重量平均分子量が、１，５００未満であると、顔料等の着色剤の分散安定性が低下することがあり、２００，０００を超えると、着色画像形成材料を調製する際に粘度が高く、塗布性、特にスピンコートする際の塗布性が低下することがある。
ここで、前記「重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値である。

前記樹脂としては、酸価が２０〜３００であって、重量平均分子量が１，５００〜２００，０００のものが好ましく、例えば、下記構造式（１８）及び下記構造式（１９）の少なくともいずれかで表される構造を繰り返し単位として有する樹脂が好ましい。

前記構造式（１８）中、Ｒ^７は、水素原子及びメチル基の少なくともいずれかを表す。Ｒ^８は、水素原子、水酸基、炭素数１〜１２のアルキル基、及び、アルコキシ基の少なくともいずれかを表す。

前記構造式（１９）中、Ｒ^９は、炭素数１〜１２のアルキル基を表す。Ｒ^１０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、及び、光反応性不飽和結合を有する基の少なくともいずれかを表す。

前記構造式（１８）、及び前記構造式（１９）で表される構造の、前記樹脂における含有モル比（前記構造式（１８）で表される構造／前記構造式（１９）で表される構造）としては、顔料の分散安定性、光感度の点で、１／１〜５／１（モル比）が好ましい。

前記構造式（１８）で表される構造及び前記構造式（１９）で表される構造を繰り返し単位として有する樹脂の製造方法としては、例えば、（ｉ）前記構造式（１８）で表される構造を繰り返し単位として有する樹脂の前駆体に、不飽和アルコール（例えば、アリルアルコール、２−ブテン−４−オール、フルフリルアルコール、オレイルアルコール、シンナミルアルコール、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド等）をエステル化反応させて製造する方法、（ｉｉ）前記構造式（１８）で表される構造を繰り返し単位として有する樹脂の前駆体に、オキシラン環及びエチレン性不飽和結合をそれぞれ１個有する化合物（例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等）を付加反応させて製造する方法などが挙げられる。

前記構造式（１８）又は前記構造式（１９）で表される構造を繰り返し単位として有する樹脂の前駆体は、スチレン又はその誘導体と、マレイン酸モノアルキルエステル（マレイン酸のハーフエステル）とを共重合する方法等により得ることができる。前記スチレン誘導体としては、例えば、α−メチルスチレン、ｍ又はｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−メトキシ−４−ヒドロキシスチレン、２−ヒドロキシ−４−メチルスチレン等が挙げられる。前記マレイン酸モノアルキルエステルとしては、例えば、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノ−ｎ−プロピル、マレイン酸モノ−イソプロピル、マレイン酸モノ−ｎ−ブチル、マレイン酸モノ−ｎ−ヘキシル、マレイン酸モノ−ｎ−オクチル、マレイン酸モノ−２−エチルヘキシル、マレイン酸モノ−ｎ−ノニル、マレイン酸モノ−ｎ−ドデシル等が挙げられる。

前記樹脂としては、前記構造式（１８）及び前記構造式（１９）の少なくともいずれかで表される構造を繰り返し単位として有する樹脂に、更にその他の樹脂を併用してもよい。該その他の樹脂としては、前記構造式（１８）及び前記構造式（１９）の少なくともいずれかで表される構造を繰り返し単位として有する樹脂以外の樹脂であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等が好ましい。前記その他の樹脂の、前記樹脂１００質量部における含有量としては、５０質量部以下が好ましい。

前記樹脂の、着色画像形成材料における含有量は、１０〜８５質量％が好ましく、２０〜６０質量％がより好ましく、２５〜５０質量％が更に好ましい。前記含有量が、１０質量％未満であると、顔料の分散安定性が低下することがあり、８５質量％を超えると、感光液を調製した際の粘度が高くなり、塗布性、特にスピンコートする際の塗布性が低下することがある。

−−顔料及び染料等の着色剤−−
前記着色剤としては、無機顔料、有機顔料等の顔料、染料等が挙げられる。これらの中でも顔料が好ましく、特に、色調の豊富さ等から黒色のカーボンブラック（無機顔料）及び有機顔料が好ましい。
前記有機顔料としては、例えば、アゾ系、フタロシアニン系、インジゴ系、アントラキノン系、ペリレン系、キナクリドン系、メチン・アゾメチン系、イソインドリノン系等が挙げられる。後述するようにカラーフィルターを製造する場合には、赤、緑、青及び黒色等の着色画像に適した各顔料系が用いられる。

前記赤色の着色画像としては、単一の赤色顔料系を用いてもよい。前記黄色顔料系を赤色顔料系に混合して調色を行ってもよい。前記赤色顔料系としては、例えば、カラーインデックス名で、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、１２３、１５５、１６８、１７７、１８０、２１７、２２０、２２４等が挙げられる。前記黄色顔料系としては、例えば、カラーインデックス名で、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、２４、８３、９３、１０９、１１０、１１７、１２５、１３９、１４７、１５４等が挙げられる。これらの赤色顔料系及び黄色顔料系は、１種単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。
なお、前記赤色顔料系及び黄色顔料系を混合して使用する場合には、黄色顔料系を、赤色顔料系及び黄色顔料系の総量１００質量部に対して、５０質量部以下で使用するのが好ましい。

前記緑色の着色画像としては、単一の緑色顔料系を用いてもよく、上記の黄色顔料系を緑色顔料系に混合して調色を行ってもよい。該緑色顔料系としては、例えば、カラーインデックス名で、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、３７等が挙げられる。これらの緑色顔料系及び黄色顔料系は、１種単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。
なお、緑色顔料系及び黄色顔料系を混合して使用する場合には、黄色顔料系を、緑色顔料系及び黄色顔料系の総量１００質量部に対して、５０質量部以下で使用するのが好ましい。

前記青色の着色画像としては、単一の青色顔料系を用いてもよく、紫色顔料系を青色顔料系に混合して調色を行ってもよい。該青色顔料系としては、例えば、カラーインデックス名で、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０等が挙げられる。前記紫色顔料系としては、例えば、カラーインデックス名で、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレツド１９、２３、２９、３７、５０等が挙げられる。これらの青色顔料系及び紫色顔料系は、１種単独で使用してもよく、２種類以上を併用してもよい。
なお、青色顔料系及び紫色顔料系を混合して使用する場合には、紫色顔料系を、青色顔料系及び紫色顔料系の総量１００質量部に対して、５０質量部以下で使用するのが好ましい。

前記黒色の着色画像としては、例えば、カーボンブラック、黒鉛、チタンカーボン、黒鉄、二酸化マンガン等の黒色顔料が挙げられる。

前記顔料の前記着色画像形成材料における含有量は、５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましく、１５〜３０質量％が更に好ましい。
前記顔料が、５質量％未満であると、画像の色濃度が低くなることがあり、５０質量％を超えると、光感度が低下することがある。

−−光重合性不飽和結合を含有するモノマー−−
前記光重合性不飽和結合を含有するモノマーとしては、分子内に光重合性不飽和結合を１個以上、特に１〜２個有するものが好ましい。該光重合性不飽和結合を分子内に１個有するモノマーとしては、例えば、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキルメタクリレート；メチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレート、ベンジルメタクリレート等のアラルキルメタクリレート；ベンジルアクリレート等のアラルキルアクリレート；ブトキシエチルメタクリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート；ブトキシエチルアクリレート等のアルコキシアルキルアクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等のアミノアルキルメタクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等のアミノアルキルアクリレート；（ジエチレングリコールエチルエーテル）のメタクリル酸エステル、（トリエチレングリコールブチルエーテル）のメタクリル酸エステル、（ジプロピレングリコールメチルエーテル）のメタクリル酸エステル等の（ポリアルキレングリコールアルキルエーテル）のメタクリル酸エステル；（ジエチレングリコールエチルエーテル）のアクリル酸エステル、（トリエチレングリコールブチルエーテル）のアクリル酸エステル、（ジプロピレングリコールメチルエーテル）のアクリル酸エステル等の（ポリアルキレングリコールアルキルエーテル）のアクリル酸エステル；（ヘキサエチレングリコールフェニルエーテル）のメタクリル酸エステル等の（ポリアルキレングリコールアリールエーテル）のメタクリル酸エステル；（ヘキサエチレングリコールフェニルエーテル）のアクリル酸エステル等の（ポリアルキレングリコールアリールエーテル）のアクリル酸エステル；ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、メトキシ化シクロデカトリエンメタクリレート、イソボルニルアクリレート、メトキシ化シクロデカトリエンアクリレート、グリセロールメタクリレート、グリセロールアクリレート、ヘプタデカフロロデシルメタクリレート等のフッ素化アルキルメタクリレート；ヘプタデカフロロデシルアクリレート等のフッ素化アルキルアクリレート；２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、等が挙げられる。

前記光重合性不飽和結合を含有するモノマーのうち、光重合性不飽和結合を分子内に２個以上有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ビスフェノールＡジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、等が挙げられる。

前記光重合性不飽和結合を分子内に２個以上有するモノマーとしては、更に、下記一般式（Ａ）で表されるビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加物のジアクリレート、下記一般式（Ｂ）で表されるビスフェノールＡのエピクロルヒドリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物、ビスフェノールＡジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、下記一般式（Ｃ）で表されるリン酸のアルキレンオキシド付加物のジアクリレート、下記一般式（Ｄ）で表されるフタル酸のエピクロリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物、ポリエチレングリコールのジアクリレート、ポリプロピレングリコールのジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、下記一般式（Ｅ）で示される１，６−ヘキサンジオールのエピクロリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物（アクイリル基を一分子中に２個有するもの）、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、下記一般式（Ｆ）で示されるリン酸のアルキンオキシド付加物のトリアクリレート、下記一般式（Ｇ）で示されるトリメチロールプロパンのアルキレンオキシド付加物のトリアクリレート、トリス（タクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、などが挙げられる。これらのモノマーは、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

前記一般式（Ａ）において、Ｒは、エチレン基又はプロピレン基を表す。ｍ及びｎは、各々独立に、１〜２０の整数を表す。

前記一般式（Ｂ）において、ｍ及びｎは、各々独立に、１〜１０の整数を表す。

前記一般式（Ｃ）において、Ｒは、エチレン基又はプロピレン基を表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１〜２０の整数を表す。

前記一般式（Ｄ）において、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１〜１０の整数を表す。

前記一般式（Ｅ）において、ｍ及びｎは、各々独立に、１〜２０の整数を表す。

前記一般式（Ｆ）において、Ｒは、エチレン基又はプロピレン基を表す。３個のｍは、それぞれ独立に、１〜２０の整数を表す。

前記一般式（Ｇ）において、Ｒは、エチレン基又はプロピレン基を表す。ｍ、ｍ’及びｍ”は、各々独立に、１〜２０の整数を表す。

前記光重合性不飽和結合を分子内に２個以上有するモノマーの、前記着色画像形成材料における含有量は、２〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、１０〜３０質量％が更に好ましい。
前記含有量が、２質量％未満であると、光感度が低くなることがあり、５０質量％を超えると、顔料の分散安定性が低下することがある。

−−光重合開始剤−−
前記着色画像形成材料に使用される光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパン、ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキノン、３−クロル−２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、１，２−ベンゾアントラキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記光重合開始剤の前記着色画像形成材料における含有量は、０．０１〜２０質量％が好ましく、２〜１５質量％がより好ましく、５〜１０質量％が更に好ましい。
前記光重合開始剤の含有量が、０．０１質量％未満であると、光感度が低下することがある一方、２０質量％を超えると、密着性が低下することがある。

−−その他の成分−−
前記着色画像形成材料には、暗反応を抑制するための熱重合禁止剤（ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール等）、基板との密着性を向上させるためのチタネートカップリング剤（ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基等を有したシランカップリング剤、イソプロピルトリメタクリロイルチタネート、ジイソプロピルイソステアロイル−４−アミノベンゾイルチタネート等）、膜の平滑性を向上させるための界面活性剤（フッ素系、シリコーン系、炭化水素系等）及びその他、紫外線吸収剤、酸化防止剤などの各種添加剤を必要に応じて適宜使用することができる。

（感光層の形成方法）
前記感光層を基板上に形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、着色画像形成材料の成分及び適当な有機溶剤を混合して感光層用塗布液を調製し、これを基板上に直接塗布する方法、該感光層用塗布液を、別途仮支持体上に塗布し成膜した後、基板上に積層させて感光層を形成する方法等が好ましい。

＜感光層用塗布液の調製方法＞
前記感光層用塗布液の調製方法の一例を以下に説明する。例えば、顔料、樹脂、などの着色画像形成材料を、有機溶剤、必要に応じて分散剤等と混合し分散させる。このとき、混合は、超音波分散機、三本ロール、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、ホモジナイザー、ニーダー等の分散・混練装置を用いて混練することにより分散処理して行うのが好ましい。また、前記顔料１００質量部に対し、前記樹脂を、少なくとも２０質量部配合するのが好ましい。樹脂量が少なすぎると顔料の分散安定性が低下する傾向がある。同様に有機溶剤も顔料の分散時に全量用いてもよく、また、前記有機溶剤の一部を分散後に加えてもよい。但し、有機溶剤の配合量は、分散時の顔料及び樹脂の全量１００質量部に対し、分散時に１００質量部以上用いるのが好ましい。前記配合量が、１００質量部未満では、分散時の粘度が高すぎて、特に、ボールミル、サンドミル、ピーズミル等で分散する場合には分散が困難になる可能性がある。

前記感光層用感光液を調製するには、更に、光重合性不飽和結合を分子内に２個以上有するモノマー及び光重合開始剤を混合するが、これらは、この分散処理の前に混合してもよく、分散処理後に混合してもよい。前記樹脂及び有機溶剤は前記分散時に全量使用せず、残りを後で混合してもよく、特に感光層用感光液の製造時に混合するのが好ましい。

前記有機溶剤としては、例えば、ケトン化合物、アルキレングリコールエーテル化合物、ポリエチレングリコールアルキルエーテルアセテート化合物、アルコール化合物、芳香族化合物、などが挙げられる。前記ケトン化合物としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジオキサン等が挙げられる。前記アルキレングリコールエーテル化合物としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチゾレセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。前記ポリエチレングリコールアルキルエーテルアセテート化合物としては、例えば、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールｉｓｏ−プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールｔｅｒｔ−ブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールｉｓｏ−プロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールｔｅｒｔ−ブチルエーテルアセテート等が挙げられる。前記アルコール化合物としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、テトラヒドロフラン等が挙げられる。前記芳香族化合物としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ヒドロキシメチル−２−ピロリドン等が挙げられる。その他として、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、酢酸エチル等の有機溶剤が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記有機溶剤は、感光層用塗布液中の樹脂、顔料、光重合性不飽和結合を分子内に１個以上含有するモノマー及び光重合開始剤を含む全固形分が５〜４０質量％の範囲になるように用いられるのが好ましい。該全固形分が４０質量％を超えると、粘度が高くなり、塗布性が悪くなることがあり、５質量％未満であると、粘度が低くなり、塗布性が悪くなることがある。

前記分散剤としては、例えば、ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリスルホン酸型高分子界面活性剤等のアニオン系分散剤、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー等のノニオン系分散剤、アントラキノン系、ペリレン系、フタロシアニン系、キナクドリン系等の有機色素にカルボキシル基、スルホン酸塩基、カルボン酸アミド基、水酸基等の置換基を導入した有機色素の誘導体等が挙げられ、該分散剤を配合させることにより、顔料の分散性や分散安定性が向上するため好ましい。これら顔料分散剤や有機色素の誘導体は、顔料１００質量部に対して５０質量部以下で用いるのが好ましい。５０質量部を超えると色度がずれることがある。

前記感光層用塗布液の塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ロールコーター塗布、スピンコーター塗布、スプレー塗布、ホエラー塗布、ディップコーター塗布、カーテンフローコーター塗布、ワイヤーバーコーター塗布、グラビアコーター塗布、及び、エアナイフコーター塗布等が挙げられる。前記感光層用塗布液を塗布後、５０〜１３０℃の温度にて１〜３０分乾燥するのが好ましい。

前記感光層の厚みとしては、用途によって異なるため一概には言えないが、０．１〜３００μｍが好ましい。また、カラーフィルター用途の場合には、感光層の厚みは０．２〜５μｍが好ましい。

前記基板の材質としては、用途により選択されるが、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等の透明ガラス板、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂製シート、フィルム、又は板；アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板等の金属板；その他セラミック板、光電変換素子を有する半導体基板等が挙げられる。これらの基板には、予めクロム蒸着等によりブラックマトリックスが形成されていてもよい。

前記感光層を、仮支持体上に成膜後、基板上に積層させて形成する場合、基板上に成膜した仮支持体を重ね、ローラを通して圧着することにより、基板上に感光層を積層するのが好ましい。このとき、前記ローラを多少加熱するのが好ましい。また、圧着を減圧下に行うのが好ましい。
前記仮支持体は、基板上に感光層を積層してから剥離するのが好ましい。該仮支持体の材質としては、例えば、ポリエチレンフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリエステルフィルム等が挙げられる。

前記感光層形成工程においては、前記感光層の他、下記熱可塑性樹脂層、酸素遮断層等を更に形成するのが好ましい。

−−熱可塑性樹脂層−−
前記熱可塑性樹脂層は、前記仮支持体上の第一層目として設けられ、熱可塑性樹脂を含み、必要に応じてその他の成分を含む。
前記熱可塑性樹脂としては、アルカリ可溶性であって、実質的な軟化点が８０℃以下の樹脂が好ましい。
前記軟化点が８０℃以下の熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物等が挙げられ。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。更に、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載の、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうち、アルカリ水溶液に可溶な樹脂も好ましい。

また、軟化点８０℃以上の有機高分子物質であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することにより、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて使用することもできる。該可塑剤としては、既述の光硬化性組成物に使用可能な可塑剤と同様のものが挙げられる。

前記有機高分子物質を用いる場合、後述の仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を超えない範囲で、各種ポリマー、過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えることもできる。
前記熱可塑性樹脂層は、前記熱可塑性樹脂と必要に応じて他の成分を有機溶剤に溶解して塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を調製し、例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法により仮支持体上に塗布等して形成することができる。

前記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン等のエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキンプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；等が挙げられる。これらの有機溶剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜形成性の点で、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエステル類、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類が特に好ましい。

更に、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤を添加することもできる。

前記熱可塑性樹脂層の厚みは、６〜１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。

−−酸素遮断層−−
前記酸素遮断層は、水又はアルカリ水溶液に分散、溶解可能な樹脂成分を含み、必要に応じて、界面活性剤等の他の成分を含んでいてもよい。
前記酸素遮断層に含有される樹脂成分としては、公知の樹脂が挙げられ、例えば、特開昭４６−２１２１号公報及び特公昭５６−４０８２４号公報に記載のポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、などが挙げられる。
これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも親水性高分子を使用するのが好ましく、該親水性高分子の中でも、少なくともポリビニルアルコールを使用するのが好ましく、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの併用が特に好ましい。

前記ポリビニルアルコールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、その鹸化率は８０％以上が好ましい。
前記ポリビニルピロリドンの含有量は、該酸素遮断層の固形分に対し、１〜７５体積％が好ましく、１〜６０体積％がより好ましく、１０〜５０体積％が更に好ましい。
前記含有量が、１体積％未満であると、前記感光層との充分な密着性が得られないことがあり、７５体積％を超えると、酸素遮断能が低下することがある。

前記酸素遮断層は、前記樹脂成分等を水系溶媒に溶解、分散して塗布液（酸素遮断層用塗布液）を調製し、例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法により前記熱可塑性樹脂層上に塗布等して形成するのが好ましい。前記水系溶媒としては、蒸留水等の水を主成分とし、所望により本発明の効果を損なわない範囲でアルコール等の水と親和性のある溶剤や塩等を添加した溶媒が挙げられる。

前記酸素遮断層の厚みは、０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。前記層厚が、０．１μｍ未満であると、酸素透過性が高過ぎ、感光層の重合感度が低下することがあり、５μｍを超えると、現像や酸素遮断層除去時に長時間を要することがある。

−露光及び現像工程−
前記露光及び現像工程において、前記基板上に形成された感光層への露光は、該感光層に活性光線を画像状に照射する方法等により好適に行うことができ、これにより露光部の膜を硬化させることができる。露光に際し、その膜の表面にポリビニルアルコール等の酸素遮断膜を０．５〜３０μｍの厚みで形成し、その上から露光してもよい。
前記活性光線の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、ラングステンランプ、可視光レーザー等が好ましい。これらの光源を用いてフォトマスクを介したパターン露光や走査による直接描写等により画像状に活性光線が照射される。

前記露光に続いて現像を行う。該現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、通常感光層等の現像に使用される公知の現像液が総て好適に挙げられる。

前記現像においては、現像液を吹き付けたり、現像液に浸漬する方法等により、未露光部を除去し、画像に対応した硬化膜の着色画像パターンを得ることができる。現像後、着色画像パターンをより強固に硬化させるため、更にポストベークを行うのが好ましい。該ポストベーク温度としては、６０〜２８０℃の温度が好ましく、加熱時間は１〜６０分間程度がより好ましい。

−洗浄処理工程−
前記洗浄処理工程においては、本発明の前記洗浄処理液を用い、好ましくは、加圧条件下で基板や感光層、着色画像等を洗浄処理する。これにより、汚れの洗浄除去性に極めて優れる。また前記被処理対象物が基板上に感光層を設けてなる構成を有する場合、特に、基板上に感光層及び酸素遮断層等を順次積層してなる構成を有する場合には、基板上や感光層表面に現像残渣等が生じ易い。したがって、前記洗浄処理工程において本発明の前記洗浄処理液を用い、好ましくは、加圧条件下で付与することにより、前記基板や感光層における現像残渣等を効率的に除去可能であり、表面の平滑性、エッジ形状が良好で、解像度の高い着色画像を形成可能である。

前記加圧の条件、加圧の手段等としては、本発明の前記「洗浄処理液」の項で述べたものと同様である。

（カラーフィルターの製造方法）
本発明のカラーフィルターの製造方法は、感光層形成工程、並びに、露光及び現像工程を有し、更に、洗浄処理工程を有する。該感光層の形成、露光・現像、及び、洗浄処理は、本発明の前記着色画像の形成方法と同様である。
本発明のカラーフィルターの製造方法においては、特に、前記着色画像の形成を、異なる３〜４色の着色画像について繰り返し行うのが好ましい。

例えば、クロム蒸着等により形成したブラックマトリックス上に、赤、緑、青の着色画像を、本発明の前記着色画像の形成方法と同様にして形成する方法、黒色の着色画像形成材料を用いてブラックマトリックスを形成した後、赤、緑、青の着色画像を、本発明の前記着色画像の形成方法と同様にして形成する方法、本発明の前記着色画像の形成方法と同様にして赤、緑、青の着色画像を形成した後、これらの着色画像の間隙に黒色の画像形成材料を用いてブラックマトリックスを形成する方法、等が挙げられる。赤、緑、青の着色画像の形成順序は特に制限はなく、任意である。

（カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法）
本発明のカラーフィルター付きアレイ基板の製造方法においては、所定の感光層を、ＴＦＴ（薄膜トランジスター）アクティブマトリックス基板（ＴＦＴアレイ基板）上に形成する感光層形成工程、並びに、露光及び現像工程を有し、更に、洗浄処理工程を有する。該感光層の形成、露光及び現像、及び、洗浄処理は、本発明の前記着色画像の形成方法と同様である。前記ＴＦＴアクティブマトリックス基板としては、特に制限はなく、常用のものを制限なく使用することができる。例えば、アクティブマトリックス基板（アレイ基板）に、ゲート信号線及び付加容量電極を形成し、この上にゲート絶縁膜を形成した後、半導体層及びチャネル保護層を形成し、更にＴＦＴのソース及びドレインとなるｎ＋Ｓｉ層を形成し、次に金属層及びＩＴＯ膜をスパッタリング法によって形成し、これらをパターニングすることにより、ドレイン信号線及びソース信号線を形成する等によって作製することができる。
なお、本発明のカラーフィルター付きアレイ基板の製造方法においては、例えば、特開平１０−２０６８８８号公報等の記載に従って、好適に実施することができる。

本発明の前記カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法においては、前記ＴＦＴアクティブマトリックス基板が、アモルファスシリコン又は低温ポリシリコン基材、コンティニュアスグレインシリコン基材で形成されているものが好ましい。

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

−一体型フィルムの作製−
以下のようにして、一体型フィルムを作製した。即ち、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体３００質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体８０質量部、フタル酸ジブチル８０質量部、及びメチルエチルケトンを混合して熱可塑性樹脂層用塗布液を調製した。該熱可塑性樹脂層用塗布液を厚みが７５μｍであるポリエチレンテレフタレートフィルム製の仮支持体上に塗布し、熱乾燥厚みが１４．６μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
次に、前記熱可塑性樹脂層上に、ポリビニルアルコール２００質量部及び水を適宜添加した酸素遮断層用塗布液を塗布し、乾燥厚みが１．６μｍの酸素遮断層を形成した。
次に、表１〜表５の組成の感光層用塗布液Ｋ〜Ｓを、前記酸素遮断層上に塗布し、Ｋ〜Ｓの感光層を表６に示す厚みとなるようにそれぞれ形成した。以上により、Ｋ〜Ｓの各一体型フィルムを作製した。

−感光層用塗布液Ｋの組成−

−感光層用塗布液Ｒの組成−

−感光層用塗布液Ｇの組成−

−感光層用塗布液Ｂの組成−

−感光層用塗布液Ｓの組成−

（実施例１）
−基板の洗浄−
縦が３２０ｍｍ、横が４００ｍｍのガラス基板（コーニング社製、無アルカリガラス基板 １７３７型、厚さ０．７μｍ）を、シランカップリング処理後、超純水中で、室温にて１分間超音波洗浄後、エアーブローで水切りし、乾燥させた。

−樹脂層の形成−
前記フィルムＲ（感光層の波長３６５ｎｍでの光学濃度ＯＤは１．５）における保護フィルムを剥離し、温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．０ｍ／分で、前記基板上にラミネートした。
次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機で、露光マスク下面及びフィルムＲの間の距離（以下、この距離を「プロキシ量」と称することがある）を６０μｍに設定した。次いで、露光量３０ｍＪ／ｃｍ^２でパターン露光後、超純水９７質量部、及びトリエタノールアミン（Ｎａ濃度：１２ｐｐｂ）３質量部からなる現像液Ｐ１を用い、３８℃にて３５秒間シャワー現像して、熱可塑性樹脂層及び酸素遮断層を除去した。

次に、炭酸ナトリウム１２ｇ／Ｌ、炭酸水素ナトリウム６．５ｇ／Ｌ、ジブチルナフタレンスルホン酸アンモニウム９．２ｇ／Ｌ、ニューコールＢ４ＳＮ ５．４ｇ／Ｌ、及び水（残部）を混合し、現像液Ｃ１を調製した。該現像液Ｃ１を用いて、３３℃にて４０秒間シャワー現像することにより感光層を現像し、パターン画像を得た。

−洗浄処理液（１）の調製−
ピロリン酸カリウム５質量％、ケイ酸ナトリウム５質量％、下記構造式（２０）で表される界面活性剤８質量％、パラトルエンスルホン酸ナトリウム４質量％、酢酸ナトリウム１質量％、及び水 残部を混合して洗浄処理液（１）を調製した。

前記構造式（２０）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。また、ｎは、１〜１４の整数を示し、ｎの分布の中心はｎ＝４である。

次に、前記洗浄処理液（１）を水で２００倍に希釈した５ｇ／Ｌの希釈洗浄処理液を用い、３３℃にて２０秒間シャワー処理（シャワー圧力：０．２ＭＰａ）及びブラシ処理をして非画素部分の残渣を除去し、画素表面を平滑化し、画素エッジ形状を整えた。
なお、前記ブラシ処理は、ナイロン毛（太さ５０μｍ、長さ２０ｍｍ）を基体（円筒形状）上に多数有するブラシを、１００ｒｐｍで回転させて行った。

次に、前記基板に対して、前記樹脂層の側から、超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ^２の光でポスト露光後、温風循環型クリーンオープンにより、２２０℃にて１３０分間熱処理して、カラーフィルターのＲ画素となる着色画像を形成した。

得られた着色画像について、以下のようにして、現像残渣、画素表面の平滑性及び画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

＜現像残渣の評価＞
得られた着色画像について、未露光部における現像残渣を走査型電子顕微鏡を用いて観察し、下記基準により評価した。
〔評価基準〕
◎・・・未露光部に現像残渣が認められなかった。
○・・・未露光部に僅かに現像残渣が認められた。
△・・・未露光部に幾分現像残渣が認められた。
×・・・未露光部に現像残渣が多く認められた。

＜画素表面の平滑性＞
得られた着色画像における画素表面の平滑性について、微分干渉型顕微鏡を用いて観察し、下記基準により評価した。
〔評価基準〕
○・・・画素表面が平滑である。
△・・・画素表面に一部傷が観られる。
×・・・画素表面に傷が観られる。

＜画素エッジ形状の評価＞
得られた着色画像における画素エッジ形状について、下記基準により評価した。
〔評価基準〕
○・・直線画像を与えるマスクでの露光による画素エッジが直線である。
△・・直線画像を与えるマスクでの露光による画素エッジに一部歪みがある。
×・・直線画像を与えるマスクでの露光による画素エッジが歪んでいる。

（実施例２）
実施例１において、前記「樹脂層の形成」におけるガラス基板をＴＦＴアレイ基板に代えた以外は、実施例１と同様にして、特開平１０−２０６８８８号公報の記載に従って、Ｒ画素付きアクティブマトリックス基板を作製した。

得られたＲ画素付きアクティブマトリックス基板について、実施例１と同様にして、得られた着色画像の未露光部における現像残渣、着色画像における画素表面の平滑性、及び、画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

次に、前記Ｒ画素付きアクティブマトリックス基板をＩＴＯターゲットに設置したスパッタ装置に入れ、真空度５×１０^−１Ｐａ、温度１８０℃にて９０分予備加熱後、アルゴン８０：酸素６の割合の混合ガスを流しながら２０分間スパッタし、厚みが０．２μｍのＩＴＯ膜を形成した。冷却後、コンタクトホール部の導通テストを行った結果、導通の不良率が低くコンタクト抵抗が良好であった。

（実施例３）
実施例１において、前記「樹脂層の形成」におけるガラス基板を実施例１で作製した着色画像付きの基板に代え、フィルムＲをフィルムＧに代えた以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルターのＧ画素となる着色画像を形成した。

得られた着色画像について、実施例１と同様にして、得られた着色画像の未露光部における現像残渣、着色画像における画素表面の平滑性、及び、画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

（実施例４）
実施例１において、前記「樹脂層の形成」におけるガラス基板を実施例３で作製した着色画像付きの基板に代え、フィルムＲをフィルムＢに代えた以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルターのＢ画素となる着色画像を形成した。

得られた着色画像について、実施例１と同様にして、得られた着色画像の未露光部における現像残渣、着色画像における画素表面の平滑性、及び、画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

（実施例５）
実施例１において、前記「樹脂層の形成」におけるガラス基板を実施例５で作製した着色画像付きの基板に代え、フィルムＲをフィルムＫに代えた以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルターのブラックマトリックスとなる着色画像を形成した。その際、露光は、超光圧水銀灯で基板のガラス側から８０ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。また、洗浄処理液はブラシを用いず、他は実施例１と同様に使用した。

得られた着色画像について、実施例１と同様にして、得られた着色画像の未露光部における現像残渣、着色画像における画素表面の平滑性、及び、画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

（実施例６）
実施例２において、フィルムＲをフィルムＳに代えた以外は、実施例２と同様にして、特開平１０−２０６８８８号公報の記載に従って、層間絶縁膜付きアクティブマトリックス基板を作製した。その際、洗浄処理液は、ブラシを用いずに、他は実施例２と同様に使用した。

得られた層間絶縁膜付きアクティブマトリックス基板について、実施例２と同様にして、得られた着色画像の未露光部における現像残渣、着色画像における画素表面の平滑性、及び、画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

次に、層間絶縁膜付きアクティブマトリックス基板について、実施例２と同様にしてＩＴＯ膜を形成し、コンタクトホール部の導通テストを行った結果、導通の不良率が低くコンタクト抵抗が良好であった。

（実施例７）
−洗浄処理液（２）の調製−
ピロリン酸カリウム５質量％、ケイ酸ナトリウム５質量％、２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７ジオール２質量％、Ｃ_１０Ｈ_２１−Ｏ−（ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ）_１５−Ｈ ２質量％、Ｃ_１０Ｈ_２１−Ｏ−（ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ）_２２−Ｈ ２質量％、パラトルエンスルホン酸ナトリウム４質量％、酢酸ナトリウム１質量％、及び水 残部を混合して洗浄処理液（２）を調製した。

実施例１において、前記「樹脂層の形成」における洗浄処理液（１）を前記洗浄処理液（２）に代えた以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルターの画素となる着色画像を形成した。

得られたカラーフィルター付きアクティブマトリックス基板について、実施例１と同様にして、得られた着色画像の未露光部における現像残渣、着色画像における画素表面の平滑性、及び、画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

次に、カラーフィルター付きアクティブマトリックス基板について、実施例２と同様にしてＩＴＯ膜を形成し、コンタクトホール部の導通テストを行った結果、導通の不良率が低くコンタクト抵抗が良好であった。

（比較例１）
−洗浄処理液（３）の調製−
ピロリン酸カリウム５質量％、ケイ酸ナトリウム５質量％、パラトルエンスルホン酸ナトリウム４質量％、染料０．０５質量％、酢酸ナトリウム１質量％、及びポリオキシエチレン（ｎ＝１０）ノニルフェニルエーテルを混合して、洗浄処理液（３）を調製した。

実施例１において、前記洗浄処理液（１）を前記洗浄処理液（３）に代えた以外は、実施例１と同様にして着色画像を形成し、実施例１と同様にして、着色画像の未露光部における現像残渣、着色画像における画素表面の平滑性、及び、画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

（比較例２）
−洗浄処理液（４）の調製−
ピロリン酸カリウム５質量％、ケイ酸ナトリウム５質量％、パラトルエンスルホン酸ナトリウム４質量％、染料０．０５質量％、酢酸ナトリウム１質量％、及びジブチルナフタレンスルホン酸アンモニウム５質量％を混合して、洗浄処理液（４）を調製した。

実施例１において、前記洗浄処理液（１）を前記洗浄処理液（４）代えた以外は、実施例１と同様にして着色画像を形成し、実施例１と同様にして、着色画像の未露光部における現像残渣、着色画像における画素表面の平滑性、及び、画素エッジ形状を評価した。結果を表７に示す。

なお、実施例１〜７及び比較例１〜２の洗浄処理液について、エンドクリン規制の対象の有無を表７に示す。

なお、実施例２で作製したＲ画素付きのアクティブマトリックス基板に、更にＧ、Ｂ画素も形成したが、現像残渣、画素表面の平滑性、画素のエッジ形状、いずれも良好であった。

本発明の洗浄処理液は、現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、表面の平滑性、エッジ形状が良好な着色画像を形成可能である。また、該洗浄処理液を用いた本発明の着色画像の形成方法及びカラーフィルターの製造方法により得られたカラーフィルターは高品位であり、該カラーフィルターを用いた本発明のカラーフィルター付きアレイ基板の製造方法により製造されるカラーフィルター付きアレイ基板は、液晶表示デバイス、センサー及び色分解デバイスなどに好適に使用可能である。

Claims (16)

1. 塩基性化合物と、少なくとも１つの水酸基を含むアセチレン界面活性剤及びフェノキシオキシアルキレン界面活性剤から選択される少なくともいずれかの界面活性剤を含有することを特徴とする洗浄処理液。
2. 塩基性化合物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム及びメタケイ酸カリウムから選択される少なくとも１種の無機アルカリ化合物である請求項１に記載の洗浄処理液。
3. 塩基性化合物の洗浄処理液における含有量が、０．０１〜５０質量％である請求項１から２のいずれかに記載の洗浄処理液。
4. アセチレン界面活性剤が、アセチレンジオール界面活性剤である請求項１から３のいずれかに記載の洗浄処理液。
5. フェノキシオキシアルキレン界面活性剤が、下記構造式（１）で表される構造を有する請求項１から４のいずれかに記載の洗浄処理液。
   

   

   但し、前記構造式（１）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、１以上の整数を表す。
6. フェノキシオキシアルキレン界面活性剤が、下記構造式（２）で表される構造を有する請求項５に記載の洗浄処理液。
   

   

   但し、前記構造式（２）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、１以上の整数を表す。
7. 更にアルキルエーテル界面活性剤を含む請求項１から６のいずれかに記載の洗浄処理液。
8. 加圧条件下で被処理対象物に付与される請求項１から７のいずれかに記載の洗浄処理液。
9. 圧力が、０．０１〜１００ＭＰａである請求項８に記載の洗浄処理液。
10. 加圧が、ブラシ、スポンジ及び液圧の少なくともいずれかの加圧手段により行われる請求項８から９のいずれかに記載の洗浄処理液。
11. 被処理対象物が、基板上に、少なくとも、感光層及び酸素遮断層を順次積層してなる転写材料である請求項８から１０のいずれかに記載の洗浄処理液。
12. 希釈液で５〜１，０００倍に希釈して用いられる請求項１から１１のいずれかに記載の洗浄処理液。
13. アルカリ現像可能な感光層を基板上に形成する感光層形成工程と、該感光層を露光し現像する露光及び現像工程と、請求項１から１２のいずれかに記載の洗浄処理液を用いて洗浄処理する洗浄処理工程とを少なくとも有することを特徴とする着色画像の形成方法。
14. 感光層が、酸価が２０〜３００の樹脂、顔料、光重合性不飽和結合を含有するモノマー、及び光重合開始剤を少なくとも含む転写材料により形成される請求項１３に記載の着色画像の形成方法。
15. 基板上にアルカリ現像可能な感光層を形成する感光層形成工程、及び該感光層を露光し現像する露光及び現像工程を少なくとも含み、同一基板上に複数の着色画像を形成するカラーフィルターの製造方法であって、更に、請求項１から１２のいずれかに記載の洗浄処理液を用いて洗浄する洗浄処理工程を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
16. アルカリ現像可能な感光層をＴＦＴアレイ基板上に形成する感光層形成工程、及び該感光層を露光し現像する露光及び現像工程を少なくとも含み、同一ＴＦＴアレイ基板上に複数の着色画像を形成するカラーフィルター付きアレイ基板の製造方法であって、更に、請求項１から１２のいずれかに記載の洗浄処理液を用いて洗浄する洗浄処理工程を含むことを特徴とするカラーフィルター付きアレイ基板の製造方法。