JPH10206855A - 液晶表示パネル用基板の製造方法 - Google Patents

液晶表示パネル用基板の製造方法

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Publication number
JPH10206855A
JPH10206855A JP1177497A JP1177497A JPH10206855A JP H10206855 A JPH10206855 A JP H10206855A JP 1177497 A JP1177497 A JP 1177497A JP 1177497 A JP1177497 A JP 1177497A JP H10206855 A JPH10206855 A JP H10206855A
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JP
Japan
Prior art keywords
insulating film
substrate
inorganic insulating
liquid crystal
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP1177497A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiaki Katsumata
良明 勝股
Yoshitaka Kanba
良隆 樺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1177497A priority Critical patent/JPH10206855A/ja
Publication of JPH10206855A publication Critical patent/JPH10206855A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機配向膜を均一にラビング処理できる液晶
表示パネル用基板の製造方法を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 透明電極3を備えたガラス基板2におい
て、無機絶縁膜4の上に有機配向膜5を、無機絶縁膜4
に対して0.5mm〜1.0mm拡大して形成すること
により、均一にラビング処理を行うことができ、表示品
質の高い液晶表示パネルの製造に寄与できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル用
基板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図5に示すように、液晶表示パネルに使
用される基板1は、ガラス基板2の上に成膜された透明
電極3の上に、無機絶縁膜4が形成され、その上に有機
配向膜5が形成される。その際、液晶表示パネルになっ
たときに表示領域となる部分に形成される無機絶縁膜4
と有機配向膜5は同一形状であり、同一面積である。
【0003】このように無機絶縁膜4と有機配向膜5が
形成された基板1は、図4に示すように矢印A方向に回
転駆動されているラビングローラ6の下方を矢印B方向
に搬送し、有機配向膜5がラビングローラ6のラビング
バフ7によって擦られラビング処理されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図5に示した
従来の基板1をラビング処理した場合には、図4に示す
ように有機配向膜5の角部にラビングバフ7による傷C
が付く問題があり、この基板1を使用した液晶パネルは
前記の傷Cの部分で液晶の方向が不安定になり、表示の
品質が低下する問題がある。
【0005】本発明は、ラビング処理によっても従来の
ような傷Cが有機配向膜5に発生しない液晶表示パネル
用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示パネル
用基板の製造方法は、基板の上に形成された無機絶縁膜
の上に、無機絶縁膜の段差部分を覆うように有機配向膜
を形成し、その後に有機配向膜をラビングすることを特
徴とする。
【0007】この本発明によると、傷付きなくラビング
を安定して施すことができ、表示品質の高い液晶表示パ
ネルの製造に寄与できる。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の液晶表示パネル用基板の
製造方法は、透明電極を備えた基板上に無機絶縁膜およ
び有機配向膜を成膜した液晶表示パネル用基板を製造す
るに際し、透明電極を備えた基板上に無機絶縁膜を形成
し、無機絶縁膜の上に、この無機絶縁膜の形成面積より
拡大した有機配向膜を形成し、前記の有機配向膜をラビ
ングすることを特徴とする。
【0009】この構成によると、配向膜の積層に起因す
る段差の角部を無くすることができ、有機配向膜をラビ
ングする工程において均一にラビングされる。好ましく
は、有機配向膜の形成を、無機絶縁膜の端辺に対して
0.5mm〜1.0mm拡大する。また、無機絶縁膜お
よび有機絶縁膜を液晶表示パネルの表示領域となる部分
に形成する。
【0010】また、無機絶縁膜の上に、この無機絶縁膜
の形成面積より拡大した有機配向膜を形成しする場合に
は、無機絶縁膜の周囲の内の少なくともラビングローラ
とラビング処理前の基板との相対移動方向の始端と終端
は、有機配向膜が無機絶縁膜の端面を覆うように形成す
る。
【0011】以下、本発明の液晶表示パネル用基板の製
造方法を図1〜図3に示す具体的な実施の形態に基づい
て説明する。 (実施の形態1)図1と図2は(実施の形態1)を示
す。
【0012】図2はラビング処理を受ける液晶表示パネ
ル用基板1を示す。ガラス基板2の上には 2000 〜 300
0 Åの膜厚の透明電極3が成膜されており、この透明電
極3の上には、液晶表示パネルの表示領域となる部分に
無機絶縁膜4が 1000 Åの膜厚で形成されている。さら
に、無機絶縁膜4の上には有機配向膜5が 600〜 1000
Åの膜厚で形成されている。
【0013】なお、ここで有機配向膜5を形成する時に
は、無機絶縁膜4に対して有機配向膜5の形成面積を拡
大し、有機配向膜5で無機絶縁膜4をマスキングする。
このとき、無機絶縁膜4の周囲の4つの端辺より拡大さ
れており、その拡大長さWは、0.5mm〜1.0mm
とすることにより表示領域の範囲に収めることができ
る。
【0014】このように、無機絶縁膜4の周囲の4つの
端辺より拡大して有機配向膜5を形成することによっ
て、無機絶縁膜4の周囲の4つの端面の全てが有機配向
膜5で覆われ、有機配向膜5の上面と側面との接続個所
が90°ではなくて曲面Rに形成される。
【0015】このように作成されたラビング処理前の基
板1を、図1に示すように矢印B方向に移動させてラビ
ングローラ6によるラビング処理を実施すると、有機配
向膜5の上面と側面との接続個所が曲面Rに形成されて
いるため、ラビングバフ7による傷Cもなく、ラビング
が均一に行われ良好なラビング処理を施せた。この基板
1を使用した液晶パネルは液晶の方向が安定しており、
表示の品質が良好であった。
【0016】(実施の形態2)(実施の形態1)では無
機絶縁膜4の周囲の4つの端面の全てが有機配向膜5で
覆われ、有機配向膜5の上面と側面との接続個所が全て
曲面Rに形成されていたが、この(実施の形態2)では
図3に示すように、無機絶縁膜4の周囲の内の少なくと
もラビング処理前の基板1の移動方向Bの始端Sと終端
Eは、有機配向膜5が無機絶縁膜4の端面を覆うように
形成して有機配向膜5の上面と側面との接続個所が曲面
Rに形成されており、無機絶縁膜4の両側面8a,8b
は有機配向膜5で覆われることなく露出している。始端
Sと終端Eの有機配向膜5の拡大長さWは、0.5mm
〜1.0mmとすることにより表示領域の範囲に収める
ことができる。
【0017】このように作成されたラビング処理前の基
板1を、図1と同様にラビング処理を実施すると、ラビ
ングバフ7による傷Cもなく、良好なラビング処理を施
せた。この基板1を使用した液晶パネルは液晶の方向が
安定しており、表示の品質が良好であった。
【0018】上記の各実施の形態では、ラビングローラ
6に対して基板1を矢印B方向に移送してラビング処理
を実施したが、基板1に対してラビングローラ6を移送
してラビング処理する場合にも同様に実施可能であり、
無機絶縁膜4の周囲の全部、または無機絶縁膜4の周囲
の内の少なくともラビングローラとラビング処理前の基
板との相対移動方向の始端と終端にだけ、有機配向膜5
を無機絶縁膜4の端面を覆うように形成することによっ
て同様の効果を期待できる。
【0019】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、透明電極
を備えた基板上に無機絶縁膜および有機配向膜を成膜し
た液晶表示パネル用基板を製造するに際し、透明電極を
備えた基板上に無機絶縁膜を形成し、無機絶縁膜の上
に、この無機絶縁膜の形成面積より拡大した有機配向膜
を形成して配向膜の積層に起因する段差の角部を無く
し、前記の有機配向膜をラビングするので、ラビングが
均一に行われ、表示品質の高い液晶表示パネルが得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】(実施の形態1)の液晶表示パネル用基板のラ
ビング処理中の斜視図
【図2】同実施の形態の液晶表示パネル用基板の断面図
【図3】(実施の形態1)の液晶表示パネル用基板のラ
ビング処理中の平面図
【図4】従来の液晶表示パネル用基板のラビング処理中
の斜視図
【図5】従来の液晶表示パネル用基板の断面図
【符号の説明】
1 基板 2 ガラス基板 3 透明電極 4 無機絶縁膜 5 有機配向膜 6 ラビングローラ R 曲面

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明電極を備えた基板上に無機絶縁膜およ
    び有機配向膜を成膜した液晶表示パネル用基板を製造す
    るに際し、 透明電極を備えた基板上に無機絶縁膜を形成し、 無機絶縁膜の上に、この無機絶縁膜の形成面積より拡大
    した有機配向膜を形成して配向膜の積層に起因する段差
    の角部を無くし、 前記の有機配向膜をラビングする液晶表示パネル用基板
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 有機配向膜の形成を、無機絶縁膜の端辺
    に対して0.5mm〜1.0mm拡大した請求項1に記
    載の液晶表示パネル用基板の製造方法。
  3. 【請求項3】 無機絶縁膜および有機絶縁膜を液晶表示
    パネルの表示領域となる部分に形成する請求項1記載の
    液晶表示パネル用基板の製造方法。
  4. 【請求項4】 無機絶縁膜の上に、この無機絶縁膜の形
    成面積より拡大した有機配向膜を形成しする場合には、
    無機絶縁膜の周囲の内の少なくともラビングローラとラ
    ビング処理前の基板との相対移動方向の始端と終端は、
    有機配向膜が無機絶縁膜の端面を覆うように形成する請
    求項1記載の液晶表示パネル用基板の製造方法。
JP1177497A 1997-01-27 1997-01-27 液晶表示パネル用基板の製造方法 Pending JPH10206855A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015072360A1 (ja) * 2013-11-15 2015-05-21 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルム積層体および液晶パネルの製造方法

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WO2015072360A1 (ja) * 2013-11-15 2015-05-21 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルム積層体および液晶パネルの製造方法

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