JPH10195421A - アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法 - Google Patents
アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法Info
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- JPH10195421A JPH10195421A JP31028497A JP31028497A JPH10195421A JP H10195421 A JPH10195421 A JP H10195421A JP 31028497 A JP31028497 A JP 31028497A JP 31028497 A JP31028497 A JP 31028497A JP H10195421 A JPH10195421 A JP H10195421A
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- alumina
- aluminum
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- disk
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 オレンジピール、スクラッチ、ピット、突起
などの表面欠陥がなく、最大表面荒さが小さく、平均表
面粗さも小さい高品質な研磨面を得ることができると共
に、研磨速度が速くて、研磨工程の生産性の向上及び低
コスト化を行うことができるアルミニウムディスクの研
磨用組成物、及びその研磨用組成物を用いるアルミニウ
ムディスクの研磨方法を提供すること。 【解決手段】 水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含
むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨
促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形
成される塩基性塩であることを特徴とするアルミニウム
ディスクの研磨用組成物、及びその研磨用組成物を用い
るアルミニウムディスクの研磨方法。
などの表面欠陥がなく、最大表面荒さが小さく、平均表
面粗さも小さい高品質な研磨面を得ることができると共
に、研磨速度が速くて、研磨工程の生産性の向上及び低
コスト化を行うことができるアルミニウムディスクの研
磨用組成物、及びその研磨用組成物を用いるアルミニウ
ムディスクの研磨方法を提供すること。 【解決手段】 水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含
むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨
促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形
成される塩基性塩であることを特徴とするアルミニウム
ディスクの研磨用組成物、及びその研磨用組成物を用い
るアルミニウムディスクの研磨方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウムディ
スクの精密研磨に用いられる研磨用組成物とその研磨用
組成物を用いる研磨方法に関する。特に、本願発明の研
磨用組成物は、アルミニウムディスクの研磨において高
精度に平滑な研磨表面を効率的に得ることができるた
め、最終仕上げ研磨用組成物として有用である。本願発
明におけるアルミニウムディスクの研磨とは、アルミニ
ウムあるいはその合金からなる磁気記録媒体ディスクの
基材そのものの表面、又は基材の上に設けられたＮｉ−
Ｐ、Ｎｉ−Ｂなどのメッキ層の表面、特にＮｉ９０〜９
２％とＰ８〜１０％の組成の硬質Ｎｉ−Ｐメッキ層の表
面、及びアルミナ層の表面を研磨することをいう。
スクの精密研磨に用いられる研磨用組成物とその研磨用
組成物を用いる研磨方法に関する。特に、本願発明の研
磨用組成物は、アルミニウムディスクの研磨において高
精度に平滑な研磨表面を効率的に得ることができるた
め、最終仕上げ研磨用組成物として有用である。本願発
明におけるアルミニウムディスクの研磨とは、アルミニ
ウムあるいはその合金からなる磁気記録媒体ディスクの
基材そのものの表面、又は基材の上に設けられたＮｉ−
Ｐ、Ｎｉ−Ｂなどのメッキ層の表面、特にＮｉ９０〜９
２％とＰ８〜１０％の組成の硬質Ｎｉ−Ｐメッキ層の表
面、及びアルミナ層の表面を研磨することをいう。
【０００２】そして、本願発明の研磨用組成物を用いる
研磨方法により、高精度に平滑な研磨表面を有するアル
ミニウムディスクを得られて有用である。
研磨方法により、高精度に平滑な研磨表面を有するアル
ミニウムディスクを得られて有用である。
【０００３】
【従来の技術】アルミニウムディスクの研磨に使用され
ている研磨用組成物としては、水とアルミナ研磨材と研
磨促進剤を、場合によっては更に表面改質剤を加えて、
混合してスラリー化したものが用いられている。この研
磨促進剤の例として、特公平２−２３５８９号公報に
は、硝酸アルミニウム、硝酸ニッケル、硫酸ニッケルな
どが、また特開平２−１５８６８２号公報には、ナトリ
ウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウ
ム、亜鉛、アルミニウムなどの亜硝酸塩が開示されてい
る。更に、特開平１−２０５９７３号公報には、ベーマ
イトと水溶性の金属塩の混合物が、特開平２−１５８６
８３号公報には、ベーマイトと無機酸又は有機酸のアン
モニウム塩との混合物が開示されている。また、研磨促
進剤と表面改質剤の例として特公平４−３８７８８号公
報には、グルコン酸又は乳酸の研磨促進剤及びコロイダ
ルアルミナの表面改質剤が開示されている。
ている研磨用組成物としては、水とアルミナ研磨材と研
磨促進剤を、場合によっては更に表面改質剤を加えて、
混合してスラリー化したものが用いられている。この研
磨促進剤の例として、特公平２−２３５８９号公報に
は、硝酸アルミニウム、硝酸ニッケル、硫酸ニッケルな
どが、また特開平２−１５８６８２号公報には、ナトリ
ウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウ
ム、亜鉛、アルミニウムなどの亜硝酸塩が開示されてい
る。更に、特開平１−２０５９７３号公報には、ベーマ
イトと水溶性の金属塩の混合物が、特開平２−１５８６
８３号公報には、ベーマイトと無機酸又は有機酸のアン
モニウム塩との混合物が開示されている。また、研磨促
進剤と表面改質剤の例として特公平４−３８７８８号公
報には、グルコン酸又は乳酸の研磨促進剤及びコロイダ
ルアルミナの表面改質剤が開示されている。
【０００４】アルミナ研磨材の平均粒子径及びα相含有
率に関しては、特開平５−２７１６４７号公報には、α
相含有率が１０〜８０％で、平均１次粒子径が２μｍ以
下、好ましくは０．４〜１．０μｍの角状アルミナを砥
粒成分として含有する研磨剤が開示されている。特開平
３−２７７６８３号公報には、α相含有率が９５％以上
で、平均１次粒子径が０．３５μｍ以下の角状アルミナ
を砥粒成分として含有する研磨剤が開示されている。
率に関しては、特開平５−２７１６４７号公報には、α
相含有率が１０〜８０％で、平均１次粒子径が２μｍ以
下、好ましくは０．４〜１．０μｍの角状アルミナを砥
粒成分として含有する研磨剤が開示されている。特開平
３−２７７６８３号公報には、α相含有率が９５％以上
で、平均１次粒子径が０．３５μｍ以下の角状アルミナ
を砥粒成分として含有する研磨剤が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、磁気記録媒体デ
ィスクの性能は、ますます高密度化、高速化していく傾
向にある。そのため、アルミニウムディスクには、オレ
ンジピール、スクラッチ、ピット、突起などの表面欠陥
がないということや最大表面荒さが小さいことだけにと
どまらず、平均表面粗さにおいても小さな研磨面が求め
られている。
ィスクの性能は、ますます高密度化、高速化していく傾
向にある。そのため、アルミニウムディスクには、オレ
ンジピール、スクラッチ、ピット、突起などの表面欠陥
がないということや最大表面荒さが小さいことだけにと
どまらず、平均表面粗さにおいても小さな研磨面が求め
られている。
【０００６】本発明は、これらの要望に応えるものであ
って、高品質の研磨面を保ちながらしかも研磨速度を速
くすることにより研磨工程の生産性の向上及び低コスト
化が可能な研磨用組成物とその研磨用組成物を用いる研
磨方法を提供することを目的とする。
って、高品質の研磨面を保ちながらしかも研磨速度を速
くすることにより研磨工程の生産性の向上及び低コスト
化が可能な研磨用組成物とその研磨用組成物を用いる研
磨方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、水、アルミ
ナ研磨材及び研磨促進剤を含む研磨用組成物において、
研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸か
ら形成される塩基性塩が優れた研磨促進剤であることを
見出した。更に本発明研磨促進剤とアルミナ研磨材とし
て０．１〜０．４μｍの平均粒子径とα相含有率が８０
〜９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナを採
用した研磨用組成物でアルミニウムディスクを研磨した
時に、従来のアルミニウムディスク用研磨剤と比較して
表面粗さに対する研磨速度の比率が高い、即ち高速研磨
性でしかも高品質の研磨面が得られることを見い出し、
本発明に至ったものである。
ナ研磨材及び研磨促進剤を含む研磨用組成物において、
研磨促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸か
ら形成される塩基性塩が優れた研磨促進剤であることを
見出した。更に本発明研磨促進剤とアルミナ研磨材とし
て０．１〜０．４μｍの平均粒子径とα相含有率が８０
〜９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナを採
用した研磨用組成物でアルミニウムディスクを研磨した
時に、従来のアルミニウムディスク用研磨剤と比較して
表面粗さに対する研磨速度の比率が高い、即ち高速研磨
性でしかも高品質の研磨面が得られることを見い出し、
本発明に至ったものである。
【０００８】本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の金
属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩であり、
例えば三価の金属としては、アルミニウム、インジウ
ム、鉄などが、また四価の金属としてはジルコニウム、
セリウム、錫、チタンなどが挙げられる。無機酸として
は、硝酸、硫酸などが、また有機酸としては酢酸、ギ
酸、スルファミン酸、酒石酸、シュウ酸、グルコン酸な
どが挙げられる。三価及び四価の金属の中でアルミニウ
ムが、また無機酸及び有機酸の中で硝酸が研磨特性が最
も優れて、より好ましく、塩基性硝酸アルミニウムが挙
げられる。一方、塩基性塩化アルミニウムなどの塩化物
の塩基性塩は、ステンレス鋼の応力腐食などの問題を起
こすため、研磨装置に使用する材質が限定されて好まし
くない。
属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩であり、
例えば三価の金属としては、アルミニウム、インジウ
ム、鉄などが、また四価の金属としてはジルコニウム、
セリウム、錫、チタンなどが挙げられる。無機酸として
は、硝酸、硫酸などが、また有機酸としては酢酸、ギ
酸、スルファミン酸、酒石酸、シュウ酸、グルコン酸な
どが挙げられる。三価及び四価の金属の中でアルミニウ
ムが、また無機酸及び有機酸の中で硝酸が研磨特性が最
も優れて、より好ましく、塩基性硝酸アルミニウムが挙
げられる。一方、塩基性塩化アルミニウムなどの塩化物
の塩基性塩は、ステンレス鋼の応力腐食などの問題を起
こすため、研磨装置に使用する材質が限定されて好まし
くない。
【０００９】研磨用組成物における好ましい研磨促進剤
の含有量は、三価の金属と無機酸又は有機酸から形成さ
れる塩基性塩では金属酸化物Ｍ2Ｏ3（但し、Ｍは三価の
金属原子を表す。）の換算濃度で、また四価の金属と無
機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物
ＭＯ2（但し、Ｍは四価の金属原子を表す。）の換算濃
度で表すと、０．１〜１０重量％、より好ましくは０．
３〜６重量％である。
の含有量は、三価の金属と無機酸又は有機酸から形成さ
れる塩基性塩では金属酸化物Ｍ2Ｏ3（但し、Ｍは三価の
金属原子を表す。）の換算濃度で、また四価の金属と無
機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物
ＭＯ2（但し、Ｍは四価の金属原子を表す。）の換算濃
度で表すと、０．１〜１０重量％、より好ましくは０．
３〜６重量％である。
【００１０】本発明のアルミナ研磨材は、市販されてい
る研磨材を用いることができる。安価で大量に製造され
ているバイヤー法により製造された水酸化アルミニウム
を１１００〜１３００℃で仮焼後、振動ミル、ボールミ
ル、アトライターなどで乾式粉砕した平均粒子径が０．
５〜５０μｍであり、α相を含有するアルミナが好まし
い。更にこの乾式粉砕したアルミナをボールミル、アト
ライター、サンドグラインダーなどで湿式粉砕すること
により得られる平均粒子径が０．１〜０．４μｍであ
り、α相含有率が８０〜９５％であるアルミナがより好
ましい。
る研磨材を用いることができる。安価で大量に製造され
ているバイヤー法により製造された水酸化アルミニウム
を１１００〜１３００℃で仮焼後、振動ミル、ボールミ
ル、アトライターなどで乾式粉砕した平均粒子径が０．
５〜５０μｍであり、α相を含有するアルミナが好まし
い。更にこの乾式粉砕したアルミナをボールミル、アト
ライター、サンドグラインダーなどで湿式粉砕すること
により得られる平均粒子径が０．１〜０．４μｍであ
り、α相含有率が８０〜９５％であるアルミナがより好
ましい。
【００１１】ここで、アルミナの平均粒子径は、メジア
ン粒子径（５０％体積粒子径）である。その測定には、
市販の遠心粒度分布測定装置、例えば（株）島津製作所
（株）のＳＡ−ＣＰ３などが用いられる。アルミナのα
相含有率は、Ｘ線回折測定により、（１１３）面回折線
の積分強度を求め、予めα相含有率の規定されたアルミ
ナの積分強度により規格化することにより求められる。
ン粒子径（５０％体積粒子径）である。その測定には、
市販の遠心粒度分布測定装置、例えば（株）島津製作所
（株）のＳＡ−ＣＰ３などが用いられる。アルミナのα
相含有率は、Ｘ線回折測定により、（１１３）面回折線
の積分強度を求め、予めα相含有率の規定されたアルミ
ナの積分強度により規格化することにより求められる。
【００１２】研磨用組成物における好ましいアルミナ研
磨材の含有量は、１〜２０重量％である。本発明におけ
る研磨用組成物には、アルミナとともに酸化物であるジ
ルコニア、珪酸ジルコニウム、シリカ、ムライト、酸化
セリウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタンなどを加え
ることができる。そして水酸化アルミニウムなどの水酸
化物、ベーマイトなどの水和酸化物及びダイヤモンド、
窒化硼素、窒化珪素、炭化珪素、炭化硼素などの非酸化
物も加えることができる。
磨材の含有量は、１〜２０重量％である。本発明におけ
る研磨用組成物には、アルミナとともに酸化物であるジ
ルコニア、珪酸ジルコニウム、シリカ、ムライト、酸化
セリウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタンなどを加え
ることができる。そして水酸化アルミニウムなどの水酸
化物、ベーマイトなどの水和酸化物及びダイヤモンド、
窒化硼素、窒化珪素、炭化珪素、炭化硼素などの非酸化
物も加えることができる。
【００１３】また、本発明における研磨用組成物に一般
的に加えられているエタノール、プロパノール、エチレ
ングリコール、プロピレングリコールなどの水溶性アル
コール、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、リン酸などの酸、ア
ルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ホルマリン縮合
物などの界面活性剤、ポリアクリル酸塩などの有機ポリ
アニオン系物質、セルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース類
を加えることができる。
的に加えられているエタノール、プロパノール、エチレ
ングリコール、プロピレングリコールなどの水溶性アル
コール、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、リン酸などの酸、ア
ルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ホルマリン縮合
物などの界面活性剤、ポリアクリル酸塩などの有機ポリ
アニオン系物質、セルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース類
を加えることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の研磨促進剤は、三価又は
四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩
である。塩基性塩の中で好ましい研磨促進剤としては、
Ａｌ（ＯＨ） X（ＮＯ3）3-X（ただし、Ｘは０．５〜
２．７の実数）の化学組成で表示される塩基性硝酸アル
ミニウムが挙げられる。これら塩基性硝酸アルミニウム
の水溶液は一部ポリマーとなっているが、便宜上、上記
の化学組成で表示した。また塩基性硝酸アルミニウムの
塩基度とはアルミニウムイオンと結合した水酸基の割合
で、Ａｌ（ＯＨ）X（ＮＯ3）3-Xにおいて，（Ｘ／３）
×１００％を意味する。
四価の金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩
である。塩基性塩の中で好ましい研磨促進剤としては、
Ａｌ（ＯＨ） X（ＮＯ3）3-X（ただし、Ｘは０．５〜
２．７の実数）の化学組成で表示される塩基性硝酸アル
ミニウムが挙げられる。これら塩基性硝酸アルミニウム
の水溶液は一部ポリマーとなっているが、便宜上、上記
の化学組成で表示した。また塩基性硝酸アルミニウムの
塩基度とはアルミニウムイオンと結合した水酸基の割合
で、Ａｌ（ＯＨ）X（ＮＯ3）3-Xにおいて，（Ｘ／３）
×１００％を意味する。
【００１５】よって、本発明の塩基性硝酸アルミニウム
塩は塩基度としては、１６．７〜９０％と表すことがで
きる。この中で、好ましい塩基度としては２６．７〜７
６．０％となる。また研磨用組成物における研磨促進剤
の含有量は、三価の金属と無機酸又は有機酸から形成さ
れる塩基性塩では金属酸化物Ｍ2Ｏ3（但し、Ｍは三価の
金属原子を表す。）の換算濃度で、また四価の金属と無
機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物
ＭＯ2（但し、Ｍは四価の金属原子を表す。）の換算濃
度で表すと、０．１重量％より少ないと研磨促進剤とし
ての効果が認められず、また１０重量％より多くしても
研磨促進剤としての効果の更なる向上は認められないた
め、０．１〜１０重量％が好ましい。そして、研磨促進
剤の含有量が０．３〜６重量％では、研磨促進剤として
の効果が安定するとともに、表面粗さに対する研磨速度
の比率も高く維持されてより好ましい。
塩は塩基度としては、１６．７〜９０％と表すことがで
きる。この中で、好ましい塩基度としては２６．７〜７
６．０％となる。また研磨用組成物における研磨促進剤
の含有量は、三価の金属と無機酸又は有機酸から形成さ
れる塩基性塩では金属酸化物Ｍ2Ｏ3（但し、Ｍは三価の
金属原子を表す。）の換算濃度で、また四価の金属と無
機酸又は有機酸から形成される塩基性塩では金属酸化物
ＭＯ2（但し、Ｍは四価の金属原子を表す。）の換算濃
度で表すと、０．１重量％より少ないと研磨促進剤とし
ての効果が認められず、また１０重量％より多くしても
研磨促進剤としての効果の更なる向上は認められないた
め、０．１〜１０重量％が好ましい。そして、研磨促進
剤の含有量が０．３〜６重量％では、研磨促進剤として
の効果が安定するとともに、表面粗さに対する研磨速度
の比率も高く維持されてより好ましい。
【００１６】本発明のアルミナ研磨材として０．１〜
０．４μｍの平均粒子径のアルミナの代わりに、０．４
μｍ以上の平均粒子径のアルミナを使用した場合、研磨
面の表面粗さが大きくなる。一方、０．１μｍの平均粒
子径のアルミナを使用すると研磨速度が遅くなる。更
に、０．１〜０．４μｍの平均粒子径のアルミナに、陽
（プラス）に帯電した平均粒子径が０．０１〜０．２μ
ｍのシリカ粒子又はシリカゾルを添加することで粒子を
最密充填することで、更に研磨面を平坦化することが可
能である。
０．４μｍの平均粒子径のアルミナの代わりに、０．４
μｍ以上の平均粒子径のアルミナを使用した場合、研磨
面の表面粗さが大きくなる。一方、０．１μｍの平均粒
子径のアルミナを使用すると研磨速度が遅くなる。更
に、０．１〜０．４μｍの平均粒子径のアルミナに、陽
（プラス）に帯電した平均粒子径が０．０１〜０．２μ
ｍのシリカ粒子又はシリカゾルを添加することで粒子を
最密充填することで、更に研磨面を平坦化することが可
能である。
【００１７】アルミナ研磨材としてα相含有率が８０〜
９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナの代わ
りに、α相含有率が９５％を越えるアルミナ結晶構造を
有するアルミナを使用した場合、研磨速度が速くなる
が、研磨面の表面粗さが大きくなるため、表面粗さに対
する研磨速度の比率が小さくなり、研磨特性としては劣
る。一方、α相含有率が８０％を未満のアルミナ結晶構
造を有するアルミナを使用した場合、研磨面の表面粗さ
は変わらないが研磨速度が遅くなるため、表面粗さに対
する研磨速度の比率が小さくなり、研磨特性としては劣
る。
９５％であるアルミナ結晶構造を有するアルミナの代わ
りに、α相含有率が９５％を越えるアルミナ結晶構造を
有するアルミナを使用した場合、研磨速度が速くなる
が、研磨面の表面粗さが大きくなるため、表面粗さに対
する研磨速度の比率が小さくなり、研磨特性としては劣
る。一方、α相含有率が８０％を未満のアルミナ結晶構
造を有するアルミナを使用した場合、研磨面の表面粗さ
は変わらないが研磨速度が遅くなるため、表面粗さに対
する研磨速度の比率が小さくなり、研磨特性としては劣
る。
【００１８】研磨用組成物におけるアルミナ研磨材の含
有量は、１重量％より少ないと研磨効果が小さく、２０
重量％より多くしても研磨効果の更なる向上は認められ
ないため、アルミナ研磨材の含有量は１〜２０重量％が
好ましい。
有量は、１重量％より少ないと研磨効果が小さく、２０
重量％より多くしても研磨効果の更なる向上は認められ
ないため、アルミナ研磨材の含有量は１〜２０重量％が
好ましい。
【００１９】
【実施例】下記の実施例により、本発明を更に説明す
る。 ［研磨用組成物の調製］ 実験例１ 市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径０．７８
μｍ、α相含有率８５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３２
μｍでα相含有率が８５％のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナ
スラリー（Ａ）を得た。
る。 ［研磨用組成物の調製］ 実験例１ 市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径０．７８
μｍ、α相含有率８５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３２
μｍでα相含有率が８５％のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナ
スラリー（Ａ）を得た。
【００２０】次に、硝酸アルミニウム・九水塩３８０ｇ
を純水１ｋｇに溶解した後、この水溶液を沸騰させ、１
３２０ｇの３５％過酸化水素水溶液と１１０ｇのアルミ
ニウム金属粉末を徐々に添加し溶解・反応させた。この
反応液を濾過して塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）
を得た。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）は、
Ａｌ2Ｏ3換算濃度９．９重量％と、硝酸イオン濃度７．
２重量％を含み、塩基度として８０．０％で、Ａｌ（Ｏ
Ｈ）2.4（ＮＯ3）0.6 の化学組成で表示される塩基性硝
酸アルミニウム水溶液であった。
を純水１ｋｇに溶解した後、この水溶液を沸騰させ、１
３２０ｇの３５％過酸化水素水溶液と１１０ｇのアルミ
ニウム金属粉末を徐々に添加し溶解・反応させた。この
反応液を濾過して塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）
を得た。この塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ａ）は、
Ａｌ2Ｏ3換算濃度９．９重量％と、硝酸イオン濃度７．
２重量％を含み、塩基度として８０．０％で、Ａｌ（Ｏ
Ｈ）2.4（ＮＯ3）0.6 の化学組成で表示される塩基性硝
酸アルミニウム水溶液であった。
【００２１】更に、塩基性硝酸アルミニウム水溶液
（ａ）に６０重量％硝酸を添加して、塩基性硝酸アルミ
ニウム水溶液（ｂ）を調製した。この塩基性硝酸アルミ
ニウム水溶液（ｂ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度７．１重量％
と、硝酸イオン濃度１７．３重量％を含み、塩基度とし
て３３．３％で、Ａｌ（ＯＨ）（ＮＯ3）2の化学組成で
表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液であった。
（ａ）に６０重量％硝酸を添加して、塩基性硝酸アルミ
ニウム水溶液（ｂ）を調製した。この塩基性硝酸アルミ
ニウム水溶液（ｂ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度７．１重量％
と、硝酸イオン濃度１７．３重量％を含み、塩基度とし
て３３．３％で、Ａｌ（ＯＨ）（ＮＯ3）2の化学組成で
表示される塩基性硝酸アルミニウム水溶液であった。
【００２２】そして、水性アルミナスラリー（Ａ）を純
水で希釈する際に、研磨促進剤として塩基性硝酸アルミ
ニウム水溶液（ｂ）を加えて、研磨用組成物（１Ａｂ）
を調製した。この研磨用組成物（１Ａｂ）は、塩基度３
３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換
算濃度で１．２重量％と、硝酸濃度３．０重量％を含む
とともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
水で希釈する際に、研磨促進剤として塩基性硝酸アルミ
ニウム水溶液（ｂ）を加えて、研磨用組成物（１Ａｂ）
を調製した。この研磨用組成物（１Ａｂ）は、塩基度３
３．３％の塩基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換
算濃度で１．２重量％と、硝酸濃度３．０重量％を含む
とともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２３】実験例２ 研磨促進剤として、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アル
ミニウム濃度を増量した以外は、実験例１と同様にし
て、研磨用組成物（２Ａｂ）を調製した。この研磨用組
成物（２Ａｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アル
ミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６重量％と、硝
酸濃度４．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１
０重量％を含んでいた。
ミニウム濃度を増量した以外は、実験例１と同様にし
て、研磨用組成物（２Ａｂ）を調製した。この研磨用組
成物（２Ａｂ）は、塩基度３３．３％の塩基性硝酸アル
ミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６重量％と、硝
酸濃度４．０重量％を含むとともに、アルミナ固形分１
０重量％を含んでいた。
【００２４】実験例３ 実験例１で得た塩基度８０．０％の塩基性硝酸アルミニ
ウム水溶液（ａ）に６０重量％硝酸を添加して、塩基性
硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）を調製した。この塩基性
硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度
８．３重量％と、硝酸イオン濃度１０．０重量％を含
み、塩基度として６６．７％で、Ａｌ（ＯＨ）2（Ｎ
Ｏ3）の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム
水溶液であった。
ウム水溶液（ａ）に６０重量％硝酸を添加して、塩基性
硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）を調製した。この塩基性
硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）は、Ａｌ2Ｏ3換算濃度
８．３重量％と、硝酸イオン濃度１０．０重量％を含
み、塩基度として６６．７％で、Ａｌ（ＯＨ）2（Ｎ
Ｏ3）の化学組成で表示される塩基性硝酸アルミニウム
水溶液であった。
【００２５】よって、実験例１と同様にして得た水性ア
ルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進
剤として塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）を加え
て、研磨用組成物（３Ａｃ）を調製した。この研磨用組
成物（３Ａｃ）は、塩基度６６．７％の塩基性硝酸アル
ミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度２．１重量％と、硝
酸濃度２．６重量％を含むとともに、アルミナ固形分１
０重量％を含んでいた。
ルミナスラリー（Ａ）を純水で希釈する際に、研磨促進
剤として塩基性硝酸アルミニウム水溶液（ｃ）を加え
て、研磨用組成物（３Ａｃ）を調製した。この研磨用組
成物（３Ａｃ）は、塩基度６６．７％の塩基性硝酸アル
ミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度２．１重量％と、硝
酸濃度２．６重量％を含むとともに、アルミナ固形分１
０重量％を含んでいた。
【００２６】実験例４ 実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）
を純水で希釈して、アルミナ固形分１０重量％を含む研
磨用組成物（４Ａ）を調製した。 実験例５ 実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として硝酸アルミニ
ウム水溶液（ｄ）を加えて、研磨用組成物（５Ａｄ）を
調製した。この研磨用組成物（５Ａｄ）は、硝酸アルミ
ニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．２重量％と、硝酸
濃度４．５重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０
重量％を含んでいた。
を純水で希釈して、アルミナ固形分１０重量％を含む研
磨用組成物（４Ａ）を調製した。 実験例５ 実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として硝酸アルミニ
ウム水溶液（ｄ）を加えて、研磨用組成物（５Ａｄ）を
調製した。この研磨用組成物（５Ａｄ）は、硝酸アルミ
ニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．２重量％と、硝酸
濃度４．５重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０
重量％を含んでいた。
【００２７】実験例６ 市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．０７
μｍ、α相含有率５５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３０
μｍでα相含有率が５５％のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナ
スラリー（Ｂ）を得た。
μｍ、α相含有率５５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３０
μｍでα相含有率が５５％のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナ
スラリー（Ｂ）を得た。
【００２８】よって、この水性アルミナスラリー（Ｂ）
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として実施例１で得
た塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液
（ｂ）を加えて、研磨用組成物（６Ｂｂ）を調製した。
この研磨用組成物（６Ｂｂ）は、塩基度３３．３％の塩
基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６
重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アル
ミナ固形分１０重量％を含んでいた。
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として実施例１で得
た塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液
（ｂ）を加えて、研磨用組成物（６Ｂｂ）を調製した。
この研磨用組成物（６Ｂｂ）は、塩基度３３．３％の塩
基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６
重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アル
ミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００２９】実験例７ 市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．００
μｍ、α相含有率９８％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで８時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３５
μｍでα相含有率が９８％のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナ
スラリー（Ｃ）を得た。
μｍ、α相含有率９８％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで８時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３５
μｍでα相含有率が９８％のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナ
スラリー（Ｃ）を得た。
【００３０】よって、この水性アルミナスラリー（Ｃ）
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として実施例１で得
た塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液
（ｂ）を加えて、研磨用組成物（７Ｃｂ）を調製した。
この研磨用組成物（７Ｃｂ）は、塩基度３３．３％の塩
基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６
重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アル
ミナ固形分１０重量％を含んでいた。
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として実施例１で得
た塩基度３３．３％の塩基性硝酸アルミニウム水溶液
（ｂ）を加えて、研磨用組成物（７Ｃｂ）を調製した。
この研磨用組成物（７Ｃｂ）は、塩基度３３．３％の塩
基性硝酸アルミニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．６
重量％と、硝酸濃度４．０重量％を含むとともに、アル
ミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００３１】実験例８ 市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．２０
μｍ、α相含有率７５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３３
μｍでα相含有率が７５％のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナ
スラリー（Ｄ）を得た。
μｍ、α相含有率７５％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで７時間３０分粉砕して、平均粒子径が０．３３
μｍでα相含有率が７５％のアルミナ結晶構造を有する
アルミナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナ
スラリー（Ｄ）を得た。
【００３２】よって、この水性アルミナスラリー（Ｄ）
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として硝酸アルミニ
ウム水溶液（ｄ）を加えて、研磨用組成物（８Ｄｄ）を
調製した。この研磨用組成物（８Ｄｄ）は、硝酸アルミ
ニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．２重量％と、硝酸
濃度４．５重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０
重量％を含んでいた。
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として硝酸アルミニ
ウム水溶液（ｄ）を加えて、研磨用組成物（８Ｄｄ）を
調製した。この研磨用組成物（８Ｄｄ）は、硝酸アルミ
ニウムとして、Ａｌ2Ｏ3換算濃度１．２重量％と、硝酸
濃度４．５重量％を含むとともに、アルミナ固形分１０
重量％を含んでいた。
【００３３】実験例９ 市販のバイヤー法仮焼アルミナ粉（平均粒子径１．００
μｍ、α相含有率９８％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで４時間粉砕して、平均粒子径が０．５７μｍで
α相含有率が９８％のアルミナ結晶構造を有するアルミ
ナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリ
ー（Ｅ）を得た。
μｍ、α相含有率９８％）７５０ｇ、１ｍｍφのジルコ
ニアビーズ１２．６ｋｇ及び純水１６００ｇを３Ｌのア
トライター容器（三井鉱山（株）製）に仕込み、２００
ｒｐｍで４時間粉砕して、平均粒子径が０．５７μｍで
α相含有率が９８％のアルミナ結晶構造を有するアルミ
ナを固形分として３１重量％を含む水性アルミナスラリ
ー（Ｅ）を得た。
【００３４】よって、この水性アルミナスラリー（Ｅ）
を純水で希釈する際に、研磨促進剤としてグルコン酸ナ
トリウム水溶液（ｅ）を加えて、研磨用組成物（９Ｅ
ｅ）を調製した。この研磨用組成物（９Ｅｅ）は、グル
コン酸ナトリウム濃度１．２重量％を含むとともに、ア
ルミナ固形分１０重量％を含んでいた。 実験例１０ 実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として、長軸径２０
〜３０ｎｍを有する板状ベーマイト粒子が分散する硝酸
酸性水性ベーマイトゾル（ｆ）と６０重量％硝酸とを加
えて、研磨用組成物（１０Ａｆ）を調製した。この研磨
用組成物（１０Ａｆ）は、ベーマイトをＡｌ2Ｏ3換算濃
度で１．２重量％と、硝酸濃度３．０％重量％を含むと
ともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
を純水で希釈する際に、研磨促進剤としてグルコン酸ナ
トリウム水溶液（ｅ）を加えて、研磨用組成物（９Ｅ
ｅ）を調製した。この研磨用組成物（９Ｅｅ）は、グル
コン酸ナトリウム濃度１．２重量％を含むとともに、ア
ルミナ固形分１０重量％を含んでいた。 実験例１０ 実験例１と同様にして得た水性アルミナスラリー（Ａ）
を純水で希釈する際に、研磨促進剤として、長軸径２０
〜３０ｎｍを有する板状ベーマイト粒子が分散する硝酸
酸性水性ベーマイトゾル（ｆ）と６０重量％硝酸とを加
えて、研磨用組成物（１０Ａｆ）を調製した。この研磨
用組成物（１０Ａｆ）は、ベーマイトをＡｌ2Ｏ3換算濃
度で１．２重量％と、硝酸濃度３．０％重量％を含むと
ともに、アルミナ固形分１０重量％を含んでいた。
【００３５】［研磨試験］研磨試験は、下記のように行
った。被加工物は、アルミニウム基板にＮｉ−Ｐを１０
μｍの厚さに無電解メッキした２．５インチメモリーハ
ードディスク基板を使用した。尚、この基板は１次研磨
してあり平均表面粗さは、１．８ｎｍである。
った。被加工物は、アルミニウム基板にＮｉ−Ｐを１０
μｍの厚さに無電解メッキした２．５インチメモリーハ
ードディスク基板を使用した。尚、この基板は１次研磨
してあり平均表面粗さは、１．８ｎｍである。
【００３６】オスカー型レンズ研磨機の定盤に人工皮革
タイプのポリウレタン製研磨布（ＰＯＬＩＴＥＸ ＤＧ
（商標）、２５０ｍｍφ、ロデール・ニッタ（株）製）
を貼り付け、これに基板の研磨面を対向させ１４ｋＰａ
の荷重をかけて研磨した。定盤回転数は、毎分３０回転
であり、スラリー供給量は２ｍｌ／分である。研磨の
後、被加工物を取り出し超音波洗浄を繰り返して洗浄し
た。
タイプのポリウレタン製研磨布（ＰＯＬＩＴＥＸ ＤＧ
（商標）、２５０ｍｍφ、ロデール・ニッタ（株）製）
を貼り付け、これに基板の研磨面を対向させ１４ｋＰａ
の荷重をかけて研磨した。定盤回転数は、毎分３０回転
であり、スラリー供給量は２ｍｌ／分である。研磨の
後、被加工物を取り出し超音波洗浄を繰り返して洗浄し
た。
【００３７】洗浄後アルミディスクを乾燥し、重量減少
から研磨速度を求めた。表面欠陥については、微分干渉
顕微鏡により観察し、突起、ピット、スクラッチなどの
度合を判定した。平均表面粗さは、市販品の装置、例え
ば米国のＺｙｇｏ社製の「New View 100」という名称の
装置を使用することによる、ＦＤＡを用いる走査型白色
干渉法あるいは位相測定法により測定した。
から研磨速度を求めた。表面欠陥については、微分干渉
顕微鏡により観察し、突起、ピット、スクラッチなどの
度合を判定した。平均表面粗さは、市販品の装置、例え
ば米国のＺｙｇｏ社製の「New View 100」という名称の
装置を使用することによる、ＦＤＡを用いる走査型白色
干渉法あるいは位相測定法により測定した。
【００３８】ここで１０重量％のアルミナ固形分を含む
研磨用組成物の物性を第１表に示す。
研磨用組成物の物性を第１表に示す。
【００３９】
【表１】 第１表 研磨用 研磨材 研磨促進剤 組成物 平均粒子径 α相含有率 研磨促進剤名 含有量 塩基度 （ｎｍ） （％） （重量％） （％） １Ａｂ ０．３２ ８５ 塩基性硝酸 １．２ ３３．３ アルミニウム ２Ａｂ ０．３２ ８５ 塩基性硝酸 １．６ ３３．３ アルミニウム ３Ａｃ ０．３２ ８５ 塩基性硝酸 ２．１ ６６．７ アルミニウム ４Ａ ０．３２ ８５ なし − − ５Ａｄ ０．３２ ８５ 硝酸アルミニウム １．２ ０ ６Ｂｂ ０．３０ ５５ 塩基性硝酸 １．６ ３３．３ アルミニウム ７Ｃｂ ０．３５ ９８ 塩基性硝酸 １．６ ３３．３ アルミニウム ８Ｄｄ ０．３３ ７５ 硝酸アルミニウム １．２ ０ ９Ｅｅ ０．５７ ９８ グルコン酸 １．２ ０ ナトリウム １０Ａｆ ０．３２ ８５ 硝酸酸性水性ベー １．２ − マイトゾル・硝酸 （注記）第１表の研磨促進剤含有量について：研磨促進剤として、塩基性硝酸ア ルミニウム、硝酸アルミニウム及び硝酸酸性ベーマイトゾルを用いた場合、含有 量はＡｌ2Ｏ3換算濃度で表した。研磨促進剤がグルコン酸ナトリウムのみ、グル コン酸ナトリウム濃度で表した。
【００４０】試験結果について、研磨用組成物（４Ａ）
及び（１０Ａｆ）では、研磨面にピット及びスクラッチ
が発生したが、その他の研磨用組成物では研磨面にピッ
ト及びスクラッチの発生は認められなかった。また研磨
試験における研磨速度、平均表面粗さ及び平均表面粗さ
に対する研磨速度の比率についての結果は第２表に示
す。
及び（１０Ａｆ）では、研磨面にピット及びスクラッチ
が発生したが、その他の研磨用組成物では研磨面にピッ
ト及びスクラッチの発生は認められなかった。また研磨
試験における研磨速度、平均表面粗さ及び平均表面粗さ
に対する研磨速度の比率についての結果は第２表に示
す。
【００４１】
【表２】 第２表 研磨用 研磨速度 平均表面粗さ 平均表面粗さに対する 組成物 研磨速度の比率 Ｖｐ（ｎｍ／ｍｉｎ） Ｒａ（ｎｍ） Ｖｐ／Ｒａ（ｍｉｎ-1） １Ａｂ １９４ ０．５８ ３３５ ２Ａｂ １８６ ０．６０ ３１０ ３Ａｃ １８９ ０．５６ ３３８ ４Ａ １０７ ０．８５ １２６ ５Ａｄ １６１ ０．７０ ２３０ ６Ｂｂ １５８ ０．６９ ２２９ ７Ｃｂ ２００ ０．８０ ２５０ ８Ｄｄ １０５ ０．５３ １９８ ９Ｅｅ ２１５ １．１５ １８７ １０Ａｆ １０４ １．２１ ８６ 第２表から、研磨用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び
（３Ａｃ）に示される、研磨促進剤が塩基性硝酸アルミ
ニウムで、アルミナが平均粒子径が０．３２μｍでα相
含有率が８５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを
含む研磨用組成物の群では、平均表面粗さに対する研磨
速度の比率が３００以上と高い。一方、研磨促進剤の無
添加である研磨用組成物（４Ａ）及び研磨促進剤が硝酸
アルミニウムの研磨用組成物（５Ａｄ）では、平均表面
粗さに対する研磨速度の比率が２３０以下であり、研磨
用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）からな
る群の方が研磨特性が優れている。また、アルミナ研磨
材のα相含有率が５５％と低い研磨用組成物（６Ｂｂ）
及びα相含有率が９８％と高い研磨用組成物（７Ｃｂ）
では、平均表面粗さに対する研磨速度の比率が２５０以
下であり、研磨用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び
（３Ａｃ）からなる群が研磨特性が優れている。
（３Ａｃ）に示される、研磨促進剤が塩基性硝酸アルミ
ニウムで、アルミナが平均粒子径が０．３２μｍでα相
含有率が８５％のアルミナ結晶構造を有するアルミナを
含む研磨用組成物の群では、平均表面粗さに対する研磨
速度の比率が３００以上と高い。一方、研磨促進剤の無
添加である研磨用組成物（４Ａ）及び研磨促進剤が硝酸
アルミニウムの研磨用組成物（５Ａｄ）では、平均表面
粗さに対する研磨速度の比率が２３０以下であり、研磨
用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）からな
る群の方が研磨特性が優れている。また、アルミナ研磨
材のα相含有率が５５％と低い研磨用組成物（６Ｂｂ）
及びα相含有率が９８％と高い研磨用組成物（７Ｃｂ）
では、平均表面粗さに対する研磨速度の比率が２５０以
下であり、研磨用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び
（３Ａｃ）からなる群が研磨特性が優れている。
【００４２】また従来技術例である研磨用組成物（８Ｄ
ｄ）、（９Ｅｅ）及び（１０Ａｆ）は、平均表面粗さに
対する研磨速度の比率が２００以下になっており、研磨
用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）からな
る群と比較すると研磨特性が良くない。
ｄ）、（９Ｅｅ）及び（１０Ａｆ）は、平均表面粗さに
対する研磨速度の比率が２００以下になっており、研磨
用組成物（１Ａｂ）、（２Ａｂ）及び（３Ａｃ）からな
る群と比較すると研磨特性が良くない。
【００４３】
【発明の効果】本発明の研磨促進剤は、三価又は四価の
金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩であ
る。塩基性硝酸アルミニウムなどの塩基性塩は、硝酸ア
ルミニウムなどの正塩と同じようにアルミニウムディス
クに対して化学的研磨効果を促進させる効果を示すとと
もに、正塩より研磨用組成物のｐＨを中性側に保つ緩衝
効果があるため、研磨時の過剰なエッチングが抑制され
表面粗さを小さく、表面欠陥が少なくし、高品質の研磨
面が得られるものと考えられる。その結果、表面粗さに
対する研磨速度比率が大きくなり、研磨特性として優れ
ている。本発明の研磨用組成物は、高速研磨性を有し、
しかも高品質の研磨面が得られる研磨用組成物であるた
め、研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能であ
る。また、本発明の研磨用組成物は、工業製品として供
給され得るアルミニウムディスクの上に設けられたＮｉ
−Ｐなどのメッキ層の表面、特にＮｉ９０〜９２％とＰ
８〜１０％の組成の硬質Ｎｉ−Ｐメッキ層の表面、アル
ミナ層の表面あるいはアルミニウム、その合金、アルマ
イトの表面を研磨するのに有用であることが明瞭であ
る。
金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩であ
る。塩基性硝酸アルミニウムなどの塩基性塩は、硝酸ア
ルミニウムなどの正塩と同じようにアルミニウムディス
クに対して化学的研磨効果を促進させる効果を示すとと
もに、正塩より研磨用組成物のｐＨを中性側に保つ緩衝
効果があるため、研磨時の過剰なエッチングが抑制され
表面粗さを小さく、表面欠陥が少なくし、高品質の研磨
面が得られるものと考えられる。その結果、表面粗さに
対する研磨速度比率が大きくなり、研磨特性として優れ
ている。本発明の研磨用組成物は、高速研磨性を有し、
しかも高品質の研磨面が得られる研磨用組成物であるた
め、研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能であ
る。また、本発明の研磨用組成物は、工業製品として供
給され得るアルミニウムディスクの上に設けられたＮｉ
−Ｐなどのメッキ層の表面、特にＮｉ９０〜９２％とＰ
８〜１０％の組成の硬質Ｎｉ−Ｐメッキ層の表面、アル
ミナ層の表面あるいはアルミニウム、その合金、アルマ
イトの表面を研磨するのに有用であることが明瞭であ
る。
【００４４】更に本願発明の精密研磨用組成物は、磁気
ヘッド、半導体多層配線基板の配線金属、半導体多層配
線基板の絶縁層などの精密研磨にも使用することができ
る。
ヘッド、半導体多層配線基板の配線金属、半導体多層配
線基板の絶縁層などの精密研磨にも使用することができ
る。
Claims (6)
- 【請求項１】 水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含
むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨
促進剤が三価又は四価の金属と無機酸又は有機酸から形
成される塩基性塩であることを特徴とするアルミニウム
ディスクの研磨用組成物。 - 【請求項２】 水、アルミナ研磨材及び研磨促進剤を含
むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、研磨
促進剤が塩基性硝酸アルミニウムであることを特徴とす
るアルミニウムディスクの研磨用組成物。 - 【請求項３】 アルミナ研磨材が０．１〜０．４μｍの
平均粒子径とα相含有率が８０〜９５％であるアルミナ
結晶構造を有するアルミナである請求項１又は請求項２
に記載のアルミニウムディスクの研磨用組成物。 - 【請求項４】 アルミニウムディスクの表面と、該アル
ミニウムディスクの表面を滑り得る研磨布の表面との間
に、供給されるアルミニウムディスクの研磨用組成物に
てアルミニウムディスクを研磨する研磨方法において、 アルミニウムディスクの表面が、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、Ｎｉ−Ｐメッキ層、Ｎｉ−Ｂメッキ層又は
アルミナであること、及びアルミニウムディスクの研磨
用組成物が、水、アルミナ研磨材、及び三価又は四価の
金属と無機酸又は有機酸から形成される塩基性塩を含む
ことを特徴とするアルミニウムディスクの研磨方法。 - 【請求項５】 アルミニウムディスクの表面と、該アル
ミニウムディスクの表面を滑り得る研磨布の表面との間
に、供給されるアルミニウムディスクの研磨用組成物に
てアルミニウムディスクを研磨する研磨方法において、 アルミニウムディスクの表面が、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、Ｎｉ−Ｐメッキ層、Ｎｉ−Ｂメッキ層又は
酸化アルミニウム層であること、及びアルミニウムディ
スクの研磨用組成物が、水、アルミナ研磨材、及び塩基
性硝酸アルミニウムを含むことを特徴とするアルミニウ
ムディスクの研磨方法。 - 【請求項６】 アルミナ研磨材が０．１〜０．４μｍの
平均粒子径とα相含有率が８０〜９５％であるアルミナ
結晶構造を有するアルミナである請求項４又は請求項５
に記載のアルミニウムディスクの研磨方法。
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