JPH10185427A

JPH10185427A - 恒温槽

Info

Publication number: JPH10185427A
Application number: JP34471996A
Authority: JP
Inventors: Masato Suzuki; 正人鈴木; Shigeru Hirao; 茂平尾
Original assignee: NIPPON DENKI FACTORY ENG KK; NEC Corp
Current assignee: NIPPON DENKI FACTORY ENG KK; NEC Corp
Priority date: 1996-12-25
Filing date: 1996-12-25
Publication date: 1998-07-14
Anticipated expiration: 2016-12-25
Also published as: JP2806919B2

Abstract

(57)【要約】【課題】試料３１をベーキング処理する恒温槽におい
て、試料３１から発生するガスや残留する酸素などを完
全に排出し清浄な不活性ガス雰囲気で接着剤の硬化させ
る。【解決手段】槽内の圧力を槽外の圧力より高く維持する
ように内圧維持用の不活性ガス供給系統の配管１９ｂ
と、槽内の処理室における酸素濃度を測定する酸素濃度
計１４を設け、不活性ガスを気体フィルタ３を介して循
環させることによって、槽外から空気を巻き込んだりリ
ークすることも無く槽内の不純物や酸素などを完全に除
去し清浄な状態が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は接着剤などを硬化さ
せる恒温槽に関し、特に、半導体チップなどの電子デバ
イス素子が基板やリードフレームあるいはパッケージに
接着剤で接着した後に加熱し接着剤を硬化させる恒温槽
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂
を使用した接着剤などは、接着性を強化するために所定
の時間熱などを加え架橋化しなければならなかった。こ
のように接着剤を硬化処理するのに通常恒温槽が用いら
れていた。

【０００３】図９は従来の一例を示す恒温槽の断面図で
ある。この種の恒温槽が、例えば、清浄雰囲気加熱装置
として実開平１一８６２３４号公報に開示されている。
この清浄雰囲気加熱装置は、図９に示すように、恒温槽
２３は仕切壁２８により二重構造に分離され、中央部に
高温クリーンな環境のクリーンチャンバー部Ｂとそれを
取り巻くように配置された気体クリーニング部Ａと循環
室Ｃとで構成されている。

【０００４】また、気体フィルタ２５は気体クリーニン
グ部Ａとクリーンチャンバー部Ｂとの間に設けられ、仕
切壁２８の下側には循環室Ｃが形成され、この循環室Ｃ
と気体クリーニング部Ａとの間にモータ２７で回転され
るファン２６とクリーンチャンバー部Ｂ内にはヒータ２
４と第二ファン２０とが設けられている。さらに、クリ
ーンチャンバー部Ｂの出口と循環室Ｃとの間にはその通
路を弁体を開閉するダンパ３０とそのダンパ３０の近く
の循環室Ｃ側には吸気口２９が設けられている。そし
て、クリーンチャンバー部Ｂ側には排気口２１が設けら
れている。

【０００５】図１０は図９の恒温槽のスタート時の動作
を説明するための図である。スタート時における図９の
恒温槽の動作は、図１０に示すように、まず、循環室Ｃ
のダンパ３０の弁体で吸気口２９と排気口２１を塞ぎ、
破線で示すガスの循環路を形成する。そして、ファン２
６が動作し加熱されていない気体は、気体フィルタ２５
を通りクリーンチャンバー部Ｂを通過し循環室Ｃを経由
し再びファン２６により戻され再び気体フィルタ２５に
送られる。このように恒温槽２３内の気体を循環させク
リーンチャンバーＢの気体を清浄化する。

【０００６】図１１は図９の恒温槽の気体の清浄後にお
ける動作を説明するための図である。上述した動作を一
定時間行なった後、図１１に示すように、ダンパ３０を
切替えて、吸気口２９を循環室Ｃに排気口２１をクリー
ンチャンバー部Ｂに連通させる。そして、吸気口２９か
ら、例えば、不活性ガスを導入し循環室Ｃを経てファン
２６で送風する。このとき高圧な不活性ガスが気体フィ
ルタ２５に入り込まないようにファン２６の回転数を落
し、少しづつ気体フィルタ２５を通過させクリーンチャ
ンバー部Ｂ内に送り込み、クリーンチャンバー部Ｂを通
過させ排気口２１から排出させる。

【０００７】次に、クリーンチャンバー部Ｂ内の第二フ
ァン２０を動作させると同時にヒータ２４を動作させク
リーンチャンバ部Ｂ内だけで清浄な気体を矢印で示すよ
うに循環させる。また、ここで、クリーンチャンバー部
Ｂ内に試料３１が収納されている場合は、加熱された気
体により試料３１から発生するガスも一点鎖線で示すよ
うに排気口２１から排出される。なお、気体はより安価
な窒素ガスを送り込み窒素ガス雰囲気にすることもでき
ることを特徴としている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の恒温槽
では、低い送風圧で気体を清浄化してから気体を加熱し
クリーンチャンバー内で循環し、気体フイルタに直接加
熱された気体を通過させないので、気体フィルタの寿命
が伸びるものの、長い温度上昇時間を必要とし試料のベ
ークサイクル時間が長くなるという問題がある。

【０００９】また、特別な冷却機構が無く、ヒータを切
ってファン４だけでクリーンチャンバー部内を循環させ
て冷却しなければならず温度降下させるのにも時間がか
かるという欠点があり、このことはさらにベークサイク
ル時間を長くするという問題となる。

【００１０】さらに、気体を清浄化するのに不活性ガス
などの気体を導入し低い風圧で循環させている上に槽体
内の圧力が低く、このため、槽体外から空気が侵入して
クリーンチャンバー部内に酸素を混入させ、これらの重
い酸素分子が抜けきれなく残留し、酸化され易い半導体
素子などの試料はこれらの残留酸素で酸化され、半導体
素子に酸化膜が厚く形成され製品として不良となる問題
がある。

【００１１】一方、ベーキングされる試料から発生する
多量のガスが排気されず、冷却時にこれらガスが凝固し
試料自体に再付着し後工程に多大な品質の欠陥をもたら
す。また、これら凝固した粒子が低い風圧で排気されて
いるので、気体フィルタ本来の機能であるフィルタに付
着させ除去する能力が失なわれ、クリーンチャンバー部
の壁面に付着する。壁面に付着した凝固物は再度の加熱
により蒸発し清浄度を著しく阻害するという問題があ
る。

【００１２】また、フィルタの目詰りを認識する手段が
無いため、フィルタの交換すべき時期を逸しそのまま使
用することにより、さらに風圧を低くし凝固物の除去が
できず壁面への凝固物の付着を助長させることになる。

【００１３】従って、本発明の目的は、試料から発生す
るガスや残留する酸素などを完全に排出し清浄な不活性
ガス雰囲気で接着剤の硬化させるとともに硬化処理サイ
クル時間を短縮する恒温槽を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、仕切壁
により試料が収納される処理室と循環室とに仕切られる
槽本体と、前記循環室と処理室との間に配置される気体
フィルタと、前記循環室から前記気体フィルタを経て前
記処理室内にファンにより循環する循環用不活性ガスを
供給する槽内循環用不活性ガス供給系統と、前記循環用
不活性ガスを加熱する第１のヒータと、前記槽本体内の
圧力を外気の圧力より高めに維持するために不活性ガス
を供給する内圧維持用不活性ガス供給系統と、前記槽体
内を冷却するために冷却不活性ガスを供給する冷却用不
活性ガス供給系統と、供給される前記循環用不活性ガス
および前記内圧維持用不活性ガスによる槽本体内の圧力
を弁体を開閉しながら維持するとともに前記処理室内に
ある不純ガスや前記試料の発生するガスを排出する第１
のダンパとを備える恒温槽である。

【００１５】また、前記第１のヒータが前記気体フィル
タと前記処理室との間にあるとともに前記ファンが直接
送風するように前記気体フィルタに対面しているか、あ
るいは、前記第１のヒータが前記循環室内に配置される
とともに前記ファンが前記循環室内の前記第１のヒータ
に経由して前記気体フィルタに送風するかである。

【００１６】そして、いずれの場合でも、前記循環用不
活性ガス供給系統に第２のヒータを備えることが望まし
い。また、前記処理室内の酸素濃度を測定する酸素濃度
計を備えることが望ましい。さらに、前記気体フィルタ
の前段と後段の圧力差を読み取り前記気体フィルタの目
詰まり監視する差圧計を備えることが望ましい。一方、
槽本体内に空気の巻き込みを懸念するときは、前記第１
のダンパの弁体を収納する配管の端部を笠状に被せて連
結する外部ダクトと該外部ダクト内に弁体を収納する第
２のダンパとを備えることである。

【００１７】

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。

【００１８】図１は本発明の一実施の形態における恒温
槽の断面図である。この恒温槽１は、図１に示すよう
に、恒温槽１の槽本体内を仕切壁１８によって仕切られ
試料３１を収納される処理室１ａおよび循環室１ｂと、
循環室１ｂと処理室１ａとの間に設けらる気体フィルタ
３と、気体フィルタ３と処理室１ａとの間に設けられる
ヒータ２と、槽内に導入される加熱された不活性ガスま
たは冷却された不活性ガスを気体フィルタ３を介して槽
内を循環させるモータ５駆動のファン４と、導入される
槽内の不活性ガスの圧力を槽外の圧力より稍高く維持す
るように弁体の開閉を制御するダンパａ１７とを備えて
いる。

【００１９】また、この恒温槽１には、ヒータ１２で加
熱される不活性ガスを開閉バルブ１１を介して供給する
とともに流量を調節する流量計１０を具備する配管１９
ａと、外気が槽内に侵入を防止するために槽内圧を稍高
めに維持するために不活性ガスを開閉バルブ９を介して
供給するとともに流量計８を具備する配管１９ｂと、槽
内の温度を下げるために冷却された不活性ガスを開閉バ
ルブ７を介して供給するとともに流量計６を具備する配
管１９ｃとが独立して設けられている。

【００２０】さらに、ファン４の背圧と処理室１ａの圧
力の差を読み取り気体フィルタ３の目詰り度を監視する
ためのフィルタ用差圧計１３と、処理室１ａ内の酸素濃
度を測定する酸素濃度計１４と、供給される不活性ガス
による処理室１ａの圧力を一定にするために弁体の開閉
を制御するダンパａ１７と、ダンパａ１７の弁体を内蔵
する配管に隙間をもたせて笠状に被せ連結する外部ダク
ト１６内に弁体を収納するダンパｂ１５とを備えてい
る。

【００２１】不活性ガス、例えば、窒素ガスを槽内に循
環させるファン４は気体フィルタ３と対面し、気体フィ
ルタ３の大きさと略同程度であって、風圧が気体フィル
タ３に均一になるようにされている。このような構成を
とることで、循環される気体フィルタ３に吹き付けられ
る窒素ガスの気体フィルタ３面内の温度分布は、例え
ば、温度３００°Ｃのとき±２．５°Ｃというように均
一に得られた。このことは局所的に気体フィルタ３が加
熱されることなく一様なフィルタ性能を維持することが
できる。

【００２２】図２は図１の恒温槽の槽内の不純物や酸素
濃度を低下させる動作を説明するための図である。次
に、この恒温槽における槽内の酸素濃度を低下させる動
作を説明する。まず、開閉バルブ９，１１を開き流量計
８，１０で不活性ガスの流量を、例えば、圧力２ｋｇ／
ｃｍ² ，５０ｌ／ｍｉｎに設定し槽内に供給する。ま
た、ヒータ２とヒータ１２をｏｎすることで不活性ガス
が加熱され気体フィルタ３を介して槽内に循環される。
このとき循環する不活性ガスに含まれる試料３１からの
発生ガスの発塵物は気体フィルタ３により除去される。
さらに、内圧を維持する配管１９ｂからの不活性ガスは
ファン４の回転によりファン４の背圧が下らないように
するとともに処理室１ａ内の圧力を槽外圧より稍高めに
維持するように供給される。一方、ダンパａ１７は完全
に閉じており、処理室１ａに供給される不活性ガスで薄
められ酸素濃度計１４の指示値が、例えば、槽内酸素濃
度が０．１パーセントを示すまでダンパａを閉じた状態
を維持する。

【００２３】次に、槽内の酸素濃度が規定値以下でかつ
槽内の圧力が規定値（例えば、１．０２５気圧）に達し
たら、ダンパａ１７が半開程度開き、不活性ガスを排出
する。このとき槽内の圧力が低下しない程度に配管１９
ｂから圧力維持用不活性ガスが供給される。なお、半開
きしたダンパａ１７の弁体から空気が入り込まないよう
に、外部ダクト１６の隙間から空気を引き込み、この空
気をダンパａ１７から排出される不活性ガスとともにダ
ンパｂ１５の弁体を介して外部ダクト１６外に排出す
る。このように、ヒータ１２および２で加熱された不活
性ガスが循環することと槽体内の圧力をダンパａ１７の
弁体の開閉の制御し槽内温度を設定温度まで上昇させ槽
体内を不活性ガスに完全に置換する。

【００２４】このように、ファン４の回転数を落さずに
加熱された不活性ガスを循環させることで極めて短時間
で上昇することができた。ちなみに、実験的に行なった
ところ、温度上昇勾配が異なるものの、例えば、８０°
Ｃから１５０°Ｃまでを約７分、１５０°Ｃから２２０
°Ｃまでを１６分で上昇させることができた。

【００２５】図３は図１の恒温槽におけるベーキング動
作を説明するための図である。次に、恒温槽内の温度が
所定の温度に達し、酸素濃度が規定値以下の状態になっ
たときのベーキング動作を説明する。まず、上述したよ
うに、循環させるための加熱された不活性ガスと圧力維
持用の不活性ガスとを、例えば、内槽容量が０．２１６
立方メートルの槽内にそれぞれ圧力２ｋｇ／ｃｍ² ，５
０ｌ／ｍｉｎ程度供給する。この状態で試料３１はベー
キングされ、試料３１から発生すらガスの発塵物は気体
フィルタ３で除去され、発塵物が除去されたガスは不活
性ガスに伴なって半開き状態のダンパａ１７より排出さ
れる。

【００２６】また、ダンパａ１７からの排出されるガス
は外部ダクト１６の隙間から入り込む空気と一緒に外部
ダクト１６外に排出される。また、試料３１からの発生
ガスと供給される不活性ガスが含む酸素が酸素濃度計１
４の読みが規定値以上になったら、ダンパａが閉じて槽
内の酸素濃度が規定値以下になるまで循環する不活性ガ
スで薄める。そして、槽体内圧力が規定値以下になった
らダンパａの弁体が半分開き槽内の酸素を含む発生ガス
を不活性ガスとともに外部ダクト１６から排出する。

【００２７】図４は図１の恒温槽の槽内の温度を下降さ
せる動作を説明するための図である。次に、上述したベ
ーキング動作が完了したら、ヒータ２とヒータ１２をｏ
ｆｆにし、開閉バルブ７を開き流量計６を調節し冷却し
た不活性ガスを前述の流量で槽内に供給する。このとき
槽内循環用および内圧維持用の不活性ガスも前述の流量
で槽内に供給される。また、ダンパａ１７の弁体は全開
状態にし、槽内の発生している酸素を含むガスを排出す
る。このことにより槽内の温度が自然冷却に比べ遥に早
い時間で常温に戻るとともに発生ガスの凝固物が試料３
１や槽内の内壁に付着することがない。

【００２８】図５は本発明の他の実施の形態における恒
温槽の断面図である。この恒温槽は、図５に示すよう
に、前述の実施の形態における恒温槽と異なる点は、ヒ
ータ２ａを循環室に配置させ、仕切壁１８と内槽の内壁
とでなる循環室内で回転し供給される不活性ガスを循環
室経路のヒータ２ａを介して気体フィルタ３に圧送する
ように比較的小型のファン４ａを配置させたことであ
る。前述の実施の形態における恒温槽と同じように、そ
の他の槽内循環用不活性ガス供給系統と内圧維持用不活
性ガス供給系統と冷却用不活性ガス供給系統を有してい
る。

【００２９】このように不活性ガスをヒータ２ａを経由
して気体フィルタ３に間接的に送圧することにより前述
の気体フィルタに比べ劣化速度を遅くし、気体フィルタ
３の交換頻度が年１回であったものが０．７回となり寿
命を長くすることができた。

【００３０】図６は図５の恒温槽の槽内の酸素濃度を低
下させる動作を説明するための図である。この恒温槽に
おける槽内の酸素濃度を低下させる動作は図２で説明し
たと同じように、槽内の酸素濃度を低下させながら槽内
の温度を設定温度まで上昇させることである。このとき
の不活性ガスの流れおよび試料３１からの発生ガスの流
れならびに外部ダクト１６における空気の流れは、図６
に示すように、図２と同じように挙動する。

【００３１】図７は図５の恒温槽におけるベーキング動
作を説明するための図である。恒温槽内の温度が所定の
温度に達し、酸素濃度が規定値以下の状態になったとき
の試料のベーキング動作は、図３で説明したように、同
じ動作を行なう。例えば、内槽容量が０．３立方メート
ルであれば、槽内循環用不活性ガスおよび内圧確保用不
活性ガスのそれぞれの供給量を常時、例えば、２ｋｇ／
ｃｍ₂、１２０ｌ／ｍｉｎとし、ダンパａ１７を半開き
状態にし循環し試料３１をベーキングすることである。
このときの不活性ガスの流れおよび試料３１からの発生
ガスの流れならびに外部ダクト１６における空気の流れ
は、図７に示すように、図３と同じように挙動する。な
お、例えば、ヒータ２ａの容量がＭＡＸ５．８ＫＷ以上
であれば、不活性ガスを加熱するヒータ１２をｏｆｆし
ても設定温度に維持できる。

【００３２】図８は図５の恒温槽の槽内の温度を下降さ
せる動作を説明するための図である。次に、上述したベ
ーキング動作が完了したら、図４で説明したように、ヒ
ータ１２をｏｆｆにし、開閉バルブ７を開き流量計６を
調節し冷却した不活性ガスを前述の流量で槽内に供給す
る。このとき槽内循環用および内圧維持用の不活性ガス
も前述の流量で槽内に供給される。また、ダンパａ１７
は全開状態にし、槽内の発生している酸素を含むガスを
排出するとともに槽内を冷却する。このときの不活性ガ
スの流れおよび試料３１からの発生ガスの流れならびに
外部ダクト１６における空気の流れは、図８に示すよう
に、挙動する。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、槽内の圧
力を槽外の圧力より高く維持するように内圧維持用の不
活性ガス供給系統と、槽内の処理室における酸素濃度を
測定する酸素濃度計を設け、不活性ガスを気体フィルタ
を介して循環させることによって、槽外から空気を巻き
込んだりリークすることも無く槽内の不純物や酸素など
を完全に除去し清浄な状態が得られるので、酸化し易い
試料でも酸化することなくベーキングができ、品質の歩
留りが向上するという効果がある。

【００３４】また、循環用不活性ガスの供給経路途中に
ヒータを設け、不活性ガスを加熱しながら供給するこ
と、および槽内を冷却するときは、冷却された不活性ガ
スを供給し、槽内の加熱時間および冷却時間を短縮する
ことによってベークサイクル時間を短くし生産性が向上
するという効果がある。

【００３５】さらに、槽内酸素濃度を測定する酸素濃度
計と、槽内の圧力を自動的に維持し酸素や不純物を含む
不活性ガスを排出するダンパとを設け、ファンの回転数
を落すことなく槽内を攪拌し槽内に試料から発生するガ
スが含む凝固粒子を完全に気体フィルタにより除去する
ことによって、発生ガスの凝固粒子の試料への再付着や
槽内の内壁への付着が無くなり、歩留りの向上や恒温槽
のメンテナンスに要する時間が少なくて済むという効果
がある。

【００３６】一方、気体フィルタの前段と後段との圧力
差を読み取り気体フィルタの目詰り度を監視するフィル
タ用差圧計を設けることによって、気体フィルタの交換
時期を把握でき常に正常な運転を維持し稼働率を高める
という効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態における恒温槽の断面図
である。

【図２】図１の恒温槽の槽内の不純物や酸素濃度を低下
させる動作を説明するための図である。

【図３】図１の恒温槽におけるベーキング動作を説明す
るための図である。

【図４】図１の恒温槽の槽内の温度を下降させる動作を
説明するための図である。

【図５】本発明の他の実施の形態における恒温槽の断面
図である。

【図６】図５の恒温槽の槽内の酸素濃度を低下させる動
作を説明するための図である。

【図７】図５の恒温槽におけるベーキング動作を説明す
るための図である。

【図８】図５の恒温槽の槽内の温度を下降させる動作を
説明するための図である。

【図９】従来の一例を示す恒温槽の断面図である。

【図１０】図９の恒温槽のスタート時の動作を説明する
ための図である。

【図１１】図９の恒温槽の気体の清浄後における動作を
説明するための図である。

【符号の説明】

１，２３恒温槽１ａ処理室１ｂ，Ｃ循環室２，２ａ，１２，２４ヒータ３，２５気体フィルタ４，４ａ，２６ファン５，２７モータ６，８，１０流量計７，９，１１開閉バルブ１３フィルタ用差圧計１４酸素濃度計１５ダンパｂ１６外部ダクト１７ダンパａ１８，２８仕切壁１９ａ，１９ｂ，１９ｃ配管２０第二ファン２１排気口２９吸気口３０ダンパ３１試料

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【手続補正書】

【提出日】平成１０年４月６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、仕切壁
により試料が収納される処理室と循環室とに仕切られる
槽本体と、前記循環室と前記処理室との間に配置される
気体フィルタと、前記循環室から前記気体フィルタを経
て前記処理室内にファンにより循環用不活性ガスを供給
する槽内循環用不活性ガス供給系統と、前記処理室内に
配置されるとともに前記ファンにより前記気体フィルタ
を介して送られる前記循環用不活性ガスを加熱する第１
のヒータと、前記槽本体内の圧力を外気の圧力より高め
に維持するために不活性ガスを供給する内圧維持用不活
性ガス供給系統と、前記槽本体内を冷却するために冷却
不活性ガスを供給する冷却用不活性ガス供給系統と、前
記処理室内の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、前記気
体フィルタの前段と後段の圧力差を読み取り前記気体フ
ィルタの目詰りを監視する差圧計と、供給される前記循
環用不活性ガスおよび前記内圧維持用不活性ガスによる
前記槽本体の圧力を一定に維持しかつ前記処理室内の酸
素濃度の検知量により弁体の開閉が制御され前記処理室
内にある不純ガスや前記試料の発生するガスを排出する
第１のダンパとを備える恒温槽である。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１５】また、前記循環用不活性ガス供給系統に第
２のヒータを備えることが望ましい。さらに、前記第１
のダンパの弁体を収納する配管の端部を笠状に被せて連
結する外部ダクトと該外部ダクトに収納される弁体とを
具備する第２のダンパを備えることが望ましい。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１６】本発明の他の特徴は、仕切壁により試料が
収納される処理室と循環室とに仕切られる槽本体と、前
記循環室と前記処理室との間に配置される気体フィルタ
と、前記循環室内に設けられるファンと、前記循環室か
ら前記気体フィルタを経て前記処理室内に前記ファンに
より循環用不活性ガスを供給する槽内循環用不活性ガス
供給系統と、前記循環室内に散在して配置されるととも
に前記ファンにより前記気体フィルタを介して送られる
前記循環用不活性ガスを加熱する複数の第３のヒータ
と、前記槽本体内の圧力を外気の圧力より高めに維持す
るために不活性ガスを供給する内圧維持用不活性ガス供
給系統と、前記槽本体内を冷却するために冷却不活性ガ
スを供給する冷却用不活性ガス供給系統と、前記処理室
内の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、前記気体フィル
タの前段と後段の圧力差を読み取り前記気体フィルタの
目詰りを監視する差圧計と、供給される前記循環用不活
性ガスおよび前記内圧維持用不活性ガスによる前記槽本
体の圧力を一定に維持しかつ前記処理室内の酸素濃度の
検知量により弁体の開閉が制御され前記処理室内にある
不純ガスや前記試料の発生するガスを排出する第３のダ
ンパとを備える恒温槽である。また、前記循環用不活性
ガス供給系統に第４のヒータを備えることが望ましい。
さらに、前記第３のダンパの弁体を収納する配管の端部
を笠状に被せて連結する外部ダクトと該外部ダクトに収
納される弁体とを具備する第４のダンパを備えることが
望ましい。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】仕切壁により試料が収納される処理室と
循環室とに仕切られる槽本体と、前記循環室と処理室と
の間に配置される気体フィルタと、前記循環室から前記
気体フィルタを経て前記処理室内にファンにより循環す
る循環用不活性ガスを供給する槽内循環用不活性ガス供
給系統と、前記循環用不活性ガスを加熱する第１のヒー
タと、前記槽本体内の圧力を外気の圧力より高めに維持
するために不活性ガスを供給する内圧維持用不活性ガス
供給系統と、前記槽体内を冷却するために冷却不活性ガ
スを供給する冷却用不活性ガス供給系統と、供給される
前記循環用不活性ガスおよび前記内圧維持用不活性ガス
による槽本体内の圧力を弁体を開閉しながら維持すると
ともに前記処理室内にある不純ガスや前記試料の発生す
るガスを排出する第１のダンパとを備えることを特徴と
する恒温槽。
【請求項２】前記第１のヒータが前記気体フィルタと
前記処理室との間にあるとともに前記ファンが直接送風
するように前記気体フィルタに対面していることを特徴
とする請求項１記載の恒温槽。
【請求項３】前記第１のヒータが前記循環室内に配置
されるとともに前記ファンが前記循環室内の前記第１の
ヒータに経由して前記気体フィルタに送風することを特
徴とする請求項１記載の恒温槽。
【請求項４】前記循環用不活性ガス供給系統に第２の
ヒータを備えることを特徴とする請求項２および請求項
３記載の恒温槽。
【請求項５】前記処理室内の酸素濃度を測定する酸素
濃度計を備えることを特徴とする請求項２および請求項
３記載の恒温槽。
【請求項６】前記気体フィルタの前段と後段の圧力差
を読み取り前記気体フィルタの目詰まり監視する差圧計
を備えることを特徴とする請求項２および請求項３記載
の恒温槽。
【請求項７】前記第１のダンパの弁体を収納する配管
の端部を笠状に被せて連結する外部ダクトと該外部ダク
ト内に弁体を収納する第２のダンパとを備えることを特
徴とする請求項２および請求項３記載の恒温槽。