JPH10178083A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
- Publication number
- JPH10178083A JPH10178083A JP35408796A JP35408796A JPH10178083A JP H10178083 A JPH10178083 A JP H10178083A JP 35408796 A JP35408796 A JP 35408796A JP 35408796 A JP35408796 A JP 35408796A JP H10178083 A JPH10178083 A JP H10178083A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transfer
- speed
- acceleration
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 搬送処理において基板のずれを防止するとと
もに基板搬送処理の処理効率を向上する。 【解決手段】 駆動制御手段Ｃが各チャンバＰＣ１、Ｐ
Ｃ２、ＰＣ３毎に設定された搬送速度及び搬送加速度の
制御条件に基づいて駆動手段Ｒを制御し、駆動手段Ｒに
よって基板Ｗを保持した基板保持手段Ｔを移動させてチ
ャンバに対する基板Ｗの搬送を行わせる。したがって、
基板のずれが発生することのない搬送速度及び搬送加速
度を設定することによって、基板のずれの発生を防止す
ることができる。また、基板のずれが発生しない範囲内
で、搬送速度及び搬送加速度を設定することによって、
搬送処理にかかる時間を短縮することができる。
もに基板搬送処理の処理効率を向上する。 【解決手段】 駆動制御手段Ｃが各チャンバＰＣ１、Ｐ
Ｃ２、ＰＣ３毎に設定された搬送速度及び搬送加速度の
制御条件に基づいて駆動手段Ｒを制御し、駆動手段Ｒに
よって基板Ｗを保持した基板保持手段Ｔを移動させてチ
ャンバに対する基板Ｗの搬送を行わせる。したがって、
基板のずれが発生することのない搬送速度及び搬送加速
度を設定することによって、基板のずれの発生を防止す
ることができる。また、基板のずれが発生しない範囲内
で、搬送速度及び搬送加速度を設定することによって、
搬送処理にかかる時間を短縮することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のチャンバを
備えた半導体製造装置において、複数のチャンバに対す
る基板の搬送処理を行う基板搬送装置に関する。
備えた半導体製造装置において、複数のチャンバに対す
る基板の搬送処理を行う基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置には、半導体ウェーハや
ガラス基板等といった処理対象の基板に対して複数の所
定の処理を施すために、複数のチャンバを備え、各チャ
ンバ間の基板の搬送処理を基板搬送装置によって行わせ
るものがある。このような半導体製造装置を図３に示す
当該装置の一部分を参照して説明する。この半導体製造
装置は、基板に対して所定の処理を施すプロセスチャン
バＰＣ１〜ＰＣ３と、チャンバ間の基板の搬送処理を行
う基板搬送装置Ｊと、を備えている。
ガラス基板等といった処理対象の基板に対して複数の所
定の処理を施すために、複数のチャンバを備え、各チャ
ンバ間の基板の搬送処理を基板搬送装置によって行わせ
るものがある。このような半導体製造装置を図３に示す
当該装置の一部分を参照して説明する。この半導体製造
装置は、基板に対して所定の処理を施すプロセスチャン
バＰＣ１〜ＰＣ３と、チャンバ間の基板の搬送処理を行
う基板搬送装置Ｊと、を備えている。
【０００３】プロセスチャンバＰＣ１〜ＰＣ３は、互い
に異なる処理を行うチャンバとなっており、チャンバの
形状が異なっている。基板搬送装置Ｊは、基板を載置保
持する基板保持手段Ｔと、回転及び伸縮動作を行うこと
によって基板保持手段Ｔを移動させる駆動手段Ｒと、を
備え、各チャンバに対する基板の搬入処理及び搬出処理
を予め設定された同一の搬送速度及び搬送加速度に基づ
いて行っている。
に異なる処理を行うチャンバとなっており、チャンバの
形状が異なっている。基板搬送装置Ｊは、基板を載置保
持する基板保持手段Ｔと、回転及び伸縮動作を行うこと
によって基板保持手段Ｔを移動させる駆動手段Ｒと、を
備え、各チャンバに対する基板の搬入処理及び搬出処理
を予め設定された同一の搬送速度及び搬送加速度に基づ
いて行っている。
【０００４】例えば、プロセスチャンバＰＣ１へ基板を
搬入する場合には、前記設定に基づいた回転及び伸長動
作によって駆動手段Ｒが基板を載置保持した基板保持手
段ＴをプロセスチャンバＰＣ１内に移動させ、所定の基
板載置位置に基板保持手段Ｔが保持する基板を載置させ
る。次いで、前記設定に基づいた収縮動作によって駆動
手段Ｒが基板保持手段ＴをプロセスチャンバＰＣ１外に
移動させる。
搬入する場合には、前記設定に基づいた回転及び伸長動
作によって駆動手段Ｒが基板を載置保持した基板保持手
段ＴをプロセスチャンバＰＣ１内に移動させ、所定の基
板載置位置に基板保持手段Ｔが保持する基板を載置させ
る。次いで、前記設定に基づいた収縮動作によって駆動
手段Ｒが基板保持手段ＴをプロセスチャンバＰＣ１外に
移動させる。
【０００５】一方、プロセスチャンバＰＣ１から基板を
搬出する場合には、前記設定に基づいた回転及び伸長動
作によって駆動手段ＲがプロセスチャンバＰＣ１内に移
動させ、所定の基板載置位置の基板を基板保持手段Ｔに
載置させる。次いで、前記設定に基づいた収縮動作によ
って駆動手段Ｒが基板を載置保持した基板保持手段Ｔを
プロセスチャンバＰＣ１外に移動させる。そして、他の
チャンバに対しても予め設定された前記同一の搬送速度
及び搬送加速度に基づいて基板の搬送処理を行ってい
る。なお、駆動装置Ｒが複数の機構（軸）で構成されて
いる場合には、上記した搬送速度及び搬送加速度とし
て、各軸毎の速度及び加速度が設定されている場合があ
る。
搬出する場合には、前記設定に基づいた回転及び伸長動
作によって駆動手段ＲがプロセスチャンバＰＣ１内に移
動させ、所定の基板載置位置の基板を基板保持手段Ｔに
載置させる。次いで、前記設定に基づいた収縮動作によ
って駆動手段Ｒが基板を載置保持した基板保持手段Ｔを
プロセスチャンバＰＣ１外に移動させる。そして、他の
チャンバに対しても予め設定された前記同一の搬送速度
及び搬送加速度に基づいて基板の搬送処理を行ってい
る。なお、駆動装置Ｒが複数の機構（軸）で構成されて
いる場合には、上記した搬送速度及び搬送加速度とし
て、各軸毎の速度及び加速度が設定されている場合があ
る。
【０００６】なお、特開平７−３０７３７３号公報に記
載された発明では、ウエハ（基板）の搬送処理におい
て、ウエハが保持されているか否かによって、速度及び
加速度を変えることによって、搬送処理の処理効率を向
上させることが記載されている。
載された発明では、ウエハ（基板）の搬送処理におい
て、ウエハが保持されているか否かによって、速度及び
加速度を変えることによって、搬送処理の処理効率を向
上させることが記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】半導体製造装置では、
基板の搬送処理に要する時間を短縮して処理効率を向上
させることが望まれており、このために、上記した基板
搬送装置では、搬送速度を速く、搬送加速度を大きくす
ることが行われている。
基板の搬送処理に要する時間を短縮して処理効率を向上
させることが望まれており、このために、上記した基板
搬送装置では、搬送速度を速く、搬送加速度を大きくす
ることが行われている。
【０００８】しかしながら、上記した従来の基板搬送装
置においては、駆動装置が伸長する長さが長くなるほ
ど、基板保持手段に与える振動が大きくなり、搬送速度
が速く又は搬送加速度が大きくなるほど振動が基板保持
手段の基板に与える影響が大きくなるといった傾向にあ
り、基板保持手段が基板を保持している際の搬送速度及
び搬送加速度は、駆動装置による最も長い伸長動作を必
要とするチャンバに対する搬送処理において、基板のず
れ、基板の脱落等といった事態を防止できるものでなけ
ればならず、時間の短縮にも限度があった。
置においては、駆動装置が伸長する長さが長くなるほ
ど、基板保持手段に与える振動が大きくなり、搬送速度
が速く又は搬送加速度が大きくなるほど振動が基板保持
手段の基板に与える影響が大きくなるといった傾向にあ
り、基板保持手段が基板を保持している際の搬送速度及
び搬送加速度は、駆動装置による最も長い伸長動作を必
要とするチャンバに対する搬送処理において、基板のず
れ、基板の脱落等といった事態を防止できるものでなけ
ればならず、時間の短縮にも限度があった。
【０００９】そこで、本発明は、従来の事情に鑑みなさ
れたもので、搬送処理において基板のずれを防止すると
ともに基板搬送処理の処理効率をさらに向上することの
できる基板搬送装置を提供することを目的としている。
れたもので、搬送処理において基板のずれを防止すると
ともに基板搬送処理の処理効率をさらに向上することの
できる基板搬送装置を提供することを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために本発明は、搬送対象のチャンバ毎に基板のずれが
発生する搬送速度及び搬送加速度が異なる場合があるこ
とに着目してなされたもので、各チャンバ毎に搬送処理
における搬送速度及び搬送加速度の少なくとも一方の制
御条件を設定し、当該制御条件に基づいて、各チャンバ
に対する搬送処理を行う。
ために本発明は、搬送対象のチャンバ毎に基板のずれが
発生する搬送速度及び搬送加速度が異なる場合があるこ
とに着目してなされたもので、各チャンバ毎に搬送処理
における搬送速度及び搬送加速度の少なくとも一方の制
御条件を設定し、当該制御条件に基づいて、各チャンバ
に対する搬送処理を行う。
【００１１】本発明に係る基板搬送装置は、複数のチャ
ンバに対して基板の搬送処理を行う基板搬送装置におい
て、基板を保持して搬送を行う基板保持手段と、基板保
持手段を移動させてチャンバに対する基板の搬送を行わ
せる駆動手段と、各チャンバ毎に設定された搬送速度及
び搬送加速度の少なくとも一方の制御条件に基づいて、
各チャンバ毎に駆動手段による基板保持手段の移動を制
御する駆動制御手段と、を備えたことを特徴とする。
ンバに対して基板の搬送処理を行う基板搬送装置におい
て、基板を保持して搬送を行う基板保持手段と、基板保
持手段を移動させてチャンバに対する基板の搬送を行わ
せる駆動手段と、各チャンバ毎に設定された搬送速度及
び搬送加速度の少なくとも一方の制御条件に基づいて、
各チャンバ毎に駆動手段による基板保持手段の移動を制
御する駆動制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】上記した基板搬送装置では、駆動制御手段
が各チャンバ毎に設定された搬送速度及び搬送加速度の
少なくとも一方の制御条件に基づいて駆動手段による基
板保持手段の移動を制御し、チャンバに対する基板の搬
送を行わせる。したがって、各チャンバ毎に基板のずれ
が発生することのない搬送速度及び搬送加速度の少なく
とも一方の制御条件を設定することによって、基板のず
れの発生を防止することができる。また、各チャンバ毎
に基板のずれが発生しない範囲内で、搬送速度を速く、
搬送加速度を大きく設定することによって、搬送処理に
かかる時間を短縮することができる。
が各チャンバ毎に設定された搬送速度及び搬送加速度の
少なくとも一方の制御条件に基づいて駆動手段による基
板保持手段の移動を制御し、チャンバに対する基板の搬
送を行わせる。したがって、各チャンバ毎に基板のずれ
が発生することのない搬送速度及び搬送加速度の少なく
とも一方の制御条件を設定することによって、基板のず
れの発生を防止することができる。また、各チャンバ毎
に基板のずれが発生しない範囲内で、搬送速度を速く、
搬送加速度を大きく設定することによって、搬送処理に
かかる時間を短縮することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例に係る基板搬送
装置を備えた半導体製造装置の一部分を図１を参照して
説明する。なお、従来例と同一部分には同一番号を付し
ている。基板搬送装置Ｋは、基板を載置保持する基板保
持手段Ｔと、基板保持手段Ｔを移動させる駆動手段Ｒ
と、駆動手段Ｒの動作を規定する速度及び加速度の制御
条件を保持するメモリＭと、メモリＭの制御条件に基づ
いて駆動手段Ｒを制御する駆動制御手段Ｃと、を備えて
いる。
装置を備えた半導体製造装置の一部分を図１を参照して
説明する。なお、従来例と同一部分には同一番号を付し
ている。基板搬送装置Ｋは、基板を載置保持する基板保
持手段Ｔと、基板保持手段Ｔを移動させる駆動手段Ｒ
と、駆動手段Ｒの動作を規定する速度及び加速度の制御
条件を保持するメモリＭと、メモリＭの制御条件に基づ
いて駆動手段Ｒを制御する駆動制御手段Ｃと、を備えて
いる。
【００１４】駆動手段Ｒは、複数の軸を備えた構成とな
っており、各軸が供働することによって伸長、収縮、回
転といった動作を行って基板保持手段Ｔを移動させる。
メモリＭは、例えば、図２に示すように駆動手段Ｒによ
る動作の状況に対応させた速度及び加速度の制御条件を
テーブルとして保持しており、本実施例では、速度及び
加速度の制御条件を駆動手段Ｒの各軸毎に分けて保持し
ている。
っており、各軸が供働することによって伸長、収縮、回
転といった動作を行って基板保持手段Ｔを移動させる。
メモリＭは、例えば、図２に示すように駆動手段Ｒによ
る動作の状況に対応させた速度及び加速度の制御条件を
テーブルとして保持しており、本実施例では、速度及び
加速度の制御条件を駆動手段Ｒの各軸毎に分けて保持し
ている。
【００１５】例えば、駆動手段Ｒの加速度（減速度）
を”速度１”として、駆動手段Ｒを通常移動させる際の
イニシャル速度と、プロセスチャンバ内の異物を検出し
ながら基板を搬送するといった事象の第１調整速度と
を”速度２”として、駆動手段Ｒの軸１〜軸４による動
作を行う或る事象の速度と、駆動手段Ｒの軸５及び軸６
による動作を行う或る事象の第２調整速度とを”速度
３”として、基板保持手段Ｔが基板を保持していない場
合の速度を”速度４”として、プロセスチャンバＰＣ１
に対しての動作において基板保持手段Ｔが基板を保持し
ている際に基板のずれを生じさせることのない搬送速度
を”速度５”として、プロセスチャンバＰＣ２に対して
の動作において基板保持手段Ｔが基板を保持している際
に基板のずれを生じさせることのない搬送速度を”速度
６”として、プロセスチャンバＰＣ２に対しての動作に
おいて基板保持手段Ｔが基板を保持している際に基板の
ずれを生じさせることのない搬送速度を”速度７”とし
て保持している。ここで、基板を保持していない場合の
速度”速度４”としては、基板を保持している場合の速
度”速度５”、”速度６”及び”速度７”よりも速いも
のを設定している。
を”速度１”として、駆動手段Ｒを通常移動させる際の
イニシャル速度と、プロセスチャンバ内の異物を検出し
ながら基板を搬送するといった事象の第１調整速度と
を”速度２”として、駆動手段Ｒの軸１〜軸４による動
作を行う或る事象の速度と、駆動手段Ｒの軸５及び軸６
による動作を行う或る事象の第２調整速度とを”速度
３”として、基板保持手段Ｔが基板を保持していない場
合の速度を”速度４”として、プロセスチャンバＰＣ１
に対しての動作において基板保持手段Ｔが基板を保持し
ている際に基板のずれを生じさせることのない搬送速度
を”速度５”として、プロセスチャンバＰＣ２に対して
の動作において基板保持手段Ｔが基板を保持している際
に基板のずれを生じさせることのない搬送速度を”速度
６”として、プロセスチャンバＰＣ２に対しての動作に
おいて基板保持手段Ｔが基板を保持している際に基板の
ずれを生じさせることのない搬送速度を”速度７”とし
て保持している。ここで、基板を保持していない場合の
速度”速度４”としては、基板を保持している場合の速
度”速度５”、”速度６”及び”速度７”よりも速いも
のを設定している。
【００１６】なお、複数の事象であっても速度が同一の
場合には、上記した”速度２”のように同一のエントリ
にまとめることによって、メモリＭの記憶効率を向上さ
せることができる。また、或る事象において動作する軸
と、他の或る事象において動作する軸とが重ならない場
合には、上記した”速度３”のように同一のエントリに
まとめることによってメモリＭの記憶効率を向上するこ
とができる。
場合には、上記した”速度２”のように同一のエントリ
にまとめることによって、メモリＭの記憶効率を向上さ
せることができる。また、或る事象において動作する軸
と、他の或る事象において動作する軸とが重ならない場
合には、上記した”速度３”のように同一のエントリに
まとめることによってメモリＭの記憶効率を向上するこ
とができる。
【００１７】なお、図２に示すテーブルをディスプレイ
装置等の表示装置（図示せず）に表示させておき、キー
ボード等の入力手段（図示せず）からオペレータがメモ
リＭへ情報を設定できるようにすることもできる。
装置等の表示装置（図示せず）に表示させておき、キー
ボード等の入力手段（図示せず）からオペレータがメモ
リＭへ情報を設定できるようにすることもできる。
【００１８】駆動制御手段Ｃは、駆動手段Ｒを動作させ
る状況に応じて、メモリＭから当該状況に対応する速度
及び加速度を取り出し、取り出した速度及び加速度に従
って駆動手段Ｒの各軸を制御する。例えば、プロセスチ
ャンバＰＣ１に対して基板を搬入する場合においては、
メモリＭから”速度１”及び”速度５”を取り出し、当
該取り出した”速度１”を搬送加速度とし、”速度５”
を搬送速度として、駆動手段Ｒの各軸を制御する。
る状況に応じて、メモリＭから当該状況に対応する速度
及び加速度を取り出し、取り出した速度及び加速度に従
って駆動手段Ｒの各軸を制御する。例えば、プロセスチ
ャンバＰＣ１に対して基板を搬入する場合においては、
メモリＭから”速度１”及び”速度５”を取り出し、当
該取り出した”速度１”を搬送加速度とし、”速度５”
を搬送速度として、駆動手段Ｒの各軸を制御する。
【００１９】次に、上記した基板搬送装置Ｋの動作をプ
ロセスチャンバＰＣ１に載置されている基板をプロセス
チャンバＰＣ３に搬送する場合を例にとって説明する。
まず、駆動制御手段ＣがメモリＭから基板不保持速度”
速度４”と、加速度”速度１”を取り出し、当該”速度
４”及び”速度１”に従って、駆動手段Ｒを回転及び伸
長させて基板を保持していない基板保持手段Ｔをプロセ
スチャンバＰＣ１内に移動させ、所定の基板載置位置の
基板を基板保持手段Ｔに載置させる。次いで、駆動制御
手段Ｃは、メモリＭからプロセスチャンバＰＣ１に対す
る基板の搬送速度”速度５”を取り出し、当該”速度
５”及び”速度１”に従って、駆動手段Ｒを収縮させ
て、基板保持手段ＴをプロセスチャンバＰＣ１外に移動
させる。
ロセスチャンバＰＣ１に載置されている基板をプロセス
チャンバＰＣ３に搬送する場合を例にとって説明する。
まず、駆動制御手段ＣがメモリＭから基板不保持速度”
速度４”と、加速度”速度１”を取り出し、当該”速度
４”及び”速度１”に従って、駆動手段Ｒを回転及び伸
長させて基板を保持していない基板保持手段Ｔをプロセ
スチャンバＰＣ１内に移動させ、所定の基板載置位置の
基板を基板保持手段Ｔに載置させる。次いで、駆動制御
手段Ｃは、メモリＭからプロセスチャンバＰＣ１に対す
る基板の搬送速度”速度５”を取り出し、当該”速度
５”及び”速度１”に従って、駆動手段Ｒを収縮させ
て、基板保持手段ＴをプロセスチャンバＰＣ１外に移動
させる。
【００２０】次に、駆動制御手段ＣがメモリＭからプロ
セスチャンバＰＣ３に対する基板搬送速度”速度７”を
取り出し、当該”速度７”及び”速度１”に従って、駆
動手段Ｒを回転及び伸長させて基板保持手段Ｔをプロセ
スチャンバＰＣ３内に移動させ、所定の基板載置位置に
基板保持手段Ｔが保持する基板を載置させる。次いで、
駆動制御手段Ｃは、メモリＭから基板不保持速度”速度
４”を取り出し、当該”速度４”及び”速度１”に従っ
て、駆動手段Ｒを収縮させて、基板保持手段Ｔをプロセ
スチャンバＰＣ３外に移動させる。
セスチャンバＰＣ３に対する基板搬送速度”速度７”を
取り出し、当該”速度７”及び”速度１”に従って、駆
動手段Ｒを回転及び伸長させて基板保持手段Ｔをプロセ
スチャンバＰＣ３内に移動させ、所定の基板載置位置に
基板保持手段Ｔが保持する基板を載置させる。次いで、
駆動制御手段Ｃは、メモリＭから基板不保持速度”速度
４”を取り出し、当該”速度４”及び”速度１”に従っ
て、駆動手段Ｒを収縮させて、基板保持手段Ｔをプロセ
スチャンバＰＣ３外に移動させる。
【００２１】このように、各チャンバに対する駆動手段
Ｒによる動作時に、基板保持手段Ｔが基板を保持してい
る場合には、基板のずれを生じさせない各チャンバ毎の
搬送速度に従って基板の搬送が行われるために、基板の
ずれが発生することを防止できる。また、各チャンバ毎
の搬送速度を基板のずれが発生しない範囲で速くすれば
するほど、搬送処理時間を短縮することができる。ま
た、基板を搬送していない場合には基板を保持している
場合よりも速度を速くしたために、搬送処理の時間をさ
らに短縮することができる。
Ｒによる動作時に、基板保持手段Ｔが基板を保持してい
る場合には、基板のずれを生じさせない各チャンバ毎の
搬送速度に従って基板の搬送が行われるために、基板の
ずれが発生することを防止できる。また、各チャンバ毎
の搬送速度を基板のずれが発生しない範囲で速くすれば
するほど、搬送処理時間を短縮することができる。ま
た、基板を搬送していない場合には基板を保持している
場合よりも速度を速くしたために、搬送処理の時間をさ
らに短縮することができる。
【００２２】なお、例えば、高温処理を行うプロセスチ
ャンバに対して搬送処理を行う場合には、搬送処理の時
間を短縮することができるために、搬送処理中に当該チ
ャンバから奪われる熱量を抑えることができ、当該チャ
ンバに対する温度制御を容易にすることができる。
ャンバに対して搬送処理を行う場合には、搬送処理の時
間を短縮することができるために、搬送処理中に当該チ
ャンバから奪われる熱量を抑えることができ、当該チャ
ンバに対する温度制御を容易にすることができる。
【００２３】なお、上記した実施例では、いずれのチャ
ンバに対する搬送処理においても搬送加速度を同一にし
ていたが、各チャンバ毎に搬送加速度を設定するように
すれば、より効果的に各チャンバに対する搬送処理での
基板のずれを防ぐとともに、搬送処理の時間を短縮する
ことができる。また、基板を保持していない場合の加速
度は、基板を保持している場合の搬送加速度よりも大き
くすることができるので、基板を保持していない場合の
加速度を基板を保持している場合より大きく設定してお
けば、搬送処理の時間をより短縮することができる。
ンバに対する搬送処理においても搬送加速度を同一にし
ていたが、各チャンバ毎に搬送加速度を設定するように
すれば、より効果的に各チャンバに対する搬送処理での
基板のずれを防ぐとともに、搬送処理の時間を短縮する
ことができる。また、基板を保持していない場合の加速
度は、基板を保持している場合の搬送加速度よりも大き
くすることができるので、基板を保持していない場合の
加速度を基板を保持している場合より大きく設定してお
けば、搬送処理の時間をより短縮することができる。
【００２４】なお、上記した実施例では、基板を保持し
ていない場合の速度を、基板を保持している場合の搬送
速度より速くすることによって、搬送処理時間をより効
果的に短縮していたが、基板を保持しているか否かに関
わらず速度を同一として、各チャンバ毎に設定した場合
においても、搬送処理の時間を短縮することができる。
ていない場合の速度を、基板を保持している場合の搬送
速度より速くすることによって、搬送処理時間をより効
果的に短縮していたが、基板を保持しているか否かに関
わらず速度を同一として、各チャンバ毎に設定した場合
においても、搬送処理の時間を短縮することができる。
【００２５】なお、上記した実施例では、各チャンバ毎
に設定された搬送速度及び搬送加速度の両方の制御条件
に基づいて、駆動手段を制御するようにしていたが、各
チャンバ毎に搬送加速度のみの制御条件を設定し、当該
制御条件に基づいて制御を行うようにしてもよく、要
は、各チャンバ毎に設定された搬送速度及び搬送加速度
の少なくとも一方の制御条件に基づいて制御を行えばよ
い。
に設定された搬送速度及び搬送加速度の両方の制御条件
に基づいて、駆動手段を制御するようにしていたが、各
チャンバ毎に搬送加速度のみの制御条件を設定し、当該
制御条件に基づいて制御を行うようにしてもよく、要
は、各チャンバ毎に設定された搬送速度及び搬送加速度
の少なくとも一方の制御条件に基づいて制御を行えばよ
い。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る基板
搬送装置では、各チャンバ毎に搬送速度及び搬送加速度
の少なくとも一方の制御条件を設定し、当該制御条件に
基づいて、基板の搬送を行うようにしたために、各チャ
ンバに対する搬送処理において、基板のずれが発生する
といった事態を防ぐことができるとともに、搬送処理に
要する時間を短縮することができる。
搬送装置では、各チャンバ毎に搬送速度及び搬送加速度
の少なくとも一方の制御条件を設定し、当該制御条件に
基づいて、基板の搬送を行うようにしたために、各チャ
ンバに対する搬送処理において、基板のずれが発生する
といった事態を防ぐことができるとともに、搬送処理に
要する時間を短縮することができる。
【図１】 本発明の一実施例に係る基板搬送装置を備え
た半導体製造装置の一部分の構成図である。
た半導体製造装置の一部分の構成図である。
【図２】 本発明の一実施例に係る駆動手段を制御する
速度及び加速度の制御条件を説明する図である。
速度及び加速度の制御条件を説明する図である。
【図３】 従来例に係る基板搬送装置を備えた半導体製
造装置の一部分の構成図である。
造装置の一部分の構成図である。
ＰＣ１、ＰＣ２、ＰＣ３・・プロセスチャンバ、 Ｊ、Ｋ・・基板搬送装置、 Ｔ・・基板保持手段、 Ｒ・・駆動手段、 Ｃ・・駆動制御手段、 Ｍ・・メモリ、
Claims (1)
- 【請求項１】 複数のチャンバに対して基板の搬送処理
を行う基板搬送装置において、 基板を保持して搬送を行う基板保持手段と、 基板保持手段を移動させてチャンバに対する基板の搬送
を行わせる駆動手段と、 各チャンバ毎に設定された搬送速度及び搬送加速度の少
なくとも一方の制御条件に基づいて、各チャンバ毎に駆
動手段による基板保持手段の移動を制御する駆動制御手
段と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35408796A JP3934191B2 (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35408796A JP3934191B2 (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10178083A true JPH10178083A (ja) | 1998-06-30 |
| JP3934191B2 JP3934191B2 (ja) | 2007-06-20 |
Family
ID=18435208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35408796A Expired - Lifetime JP3934191B2 (ja) | 1996-12-18 | 1996-12-18 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3934191B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6712907B1 (en) * | 2000-06-23 | 2004-03-30 | Novellus Systems, Inc. | Magnetically coupled linear servo-drive mechanism |
| US6860965B1 (en) | 2000-06-23 | 2005-03-01 | Novellus Systems, Inc. | High throughput architecture for semiconductor processing |
| US6977014B1 (en) | 2000-06-02 | 2005-12-20 | Novellus Systems, Inc. | Architecture for high throughput semiconductor processing applications |
| WO2007000914A1 (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-04 | Tokyo Electron Limited | 被処理体の搬送装置 |
| US7286890B2 (en) | 2005-06-28 | 2007-10-23 | Tokyo Electron Limited | Transfer apparatus for target object |
| WO2012111669A1 (ja) * | 2011-02-17 | 2012-08-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の搬送方法及び被処理体処理装置 |
| JP2020017645A (ja) * | 2018-07-26 | 2020-01-30 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置 |
-
1996
- 1996-12-18 JP JP35408796A patent/JP3934191B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6977014B1 (en) | 2000-06-02 | 2005-12-20 | Novellus Systems, Inc. | Architecture for high throughput semiconductor processing applications |
| US6712907B1 (en) * | 2000-06-23 | 2004-03-30 | Novellus Systems, Inc. | Magnetically coupled linear servo-drive mechanism |
| US6860965B1 (en) | 2000-06-23 | 2005-03-01 | Novellus Systems, Inc. | High throughput architecture for semiconductor processing |
| WO2007000914A1 (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-04 | Tokyo Electron Limited | 被処理体の搬送装置 |
| US7286890B2 (en) | 2005-06-28 | 2007-10-23 | Tokyo Electron Limited | Transfer apparatus for target object |
| KR100793502B1 (ko) * | 2005-06-28 | 2008-01-14 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 피처리체의 반송 장치 |
| WO2012111669A1 (ja) * | 2011-02-17 | 2012-08-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の搬送方法及び被処理体処理装置 |
| JP2012174716A (ja) * | 2011-02-17 | 2012-09-10 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送方法及び被処理体処理装置 |
| JP2020017645A (ja) * | 2018-07-26 | 2020-01-30 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置 |
| CN110767586A (zh) * | 2018-07-26 | 2020-02-07 | 株式会社国际电气 | 基板处理装置 |
| US11289350B2 (en) | 2018-07-26 | 2022-03-29 | Kokusai Electric Corporation | Method of manufacturing semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3934191B2 (ja) | 2007-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4087328B2 (ja) | 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法 | |
| EP0861487A4 (ja) | ||
| JP3684056B2 (ja) | 半導体製造装置の基板搬送制御方法 | |
| US7392812B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate transporting device mounted thereto | |
| JP2009021275A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH05304112A (ja) | 真空処理装置 | |
| JP6049394B2 (ja) | 基板処理システム及び基板の搬送制御方法 | |
| JP3784110B2 (ja) | 処理装置 | |
| JPH10178083A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP2628335B2 (ja) | マルチチャンバ型ｃｖｄ装置 | |
| JP2011091334A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH10335416A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2002237507A (ja) | 処理システム及び処理システムの被処理体の搬送方法 | |
| KR0150052B1 (ko) | 웨이퍼 이송장치 및 방법 | |
| JP2002246443A (ja) | 基板搬送制御方法及びその装置 | |
| JP2001144019A (ja) | バッチ式熱処理装置 | |
| JPH11340297A (ja) | 基板搬送装置および方法 | |
| JP2001077176A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH11121587A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2866570B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JPS63219134A (ja) | 拡散炉ウエハ・ハンドラ装置 | |
| JP3390183B2 (ja) | 拡散炉用ウエハー立替システム | |
| JPH0329317A (ja) | 半導体ウエハ整列装置 | |
| JPH0750333A (ja) | プロセス設備のシーケンス制御装置 | |
| JPH10247679A (ja) | 半導体処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061219 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070216 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070313 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070315 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100330 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120330 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120330 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130330 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130330 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140330 Year of fee payment: 7 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |