JPS63219134A - 拡散炉ウエハ・ハンドラ装置 - Google Patents
拡散炉ウエハ・ハンドラ装置Info
- Publication number
- JPS63219134A JPS63219134A JP62052153A JP5215387A JPS63219134A JP S63219134 A JPS63219134 A JP S63219134A JP 62052153 A JP62052153 A JP 62052153A JP 5215387 A JP5215387 A JP 5215387A JP S63219134 A JPS63219134 A JP S63219134A
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- Japan
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- cassette
- wafer
- boat
- wafers
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims description 13
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 241000282806 Rhinoceros Species 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体ウェハ(以下ウェハという)の製造
工程において、拡散炉で使用される熱処理用ボートへカ
セットに収納されたウェハな移し替えるだめの拡散炉ウ
ェハ・ノ・ラドラ装置に関するものである。
工程において、拡散炉で使用される熱処理用ボートへカ
セットに収納されたウェハな移し替えるだめの拡散炉ウ
ェハ・ノ・ラドラ装置に関するものである。
第3図は、たとえば本出願人の出願に係る(特願昭57
−21603)従来の拡散炉ウェハ・ハンドラ装部であ
り、カセットを搬送するカセット搬送装置(2)、カセ
ットを収納するカセット収納装置(3)、カセットを移
載するカセット移載装置(4)、ウェハを移載するウェ
ハ移載装置(5)、ウェハのオリフラ(オリエンテーシ
ョン・フラット)部を位置決めするためのファセット・
アライナ装置(6)、ボートを移動させるボート移動装
置(7)、ウェハを収納するカセット(8)、ボート(
9)等からなっている。
−21603)従来の拡散炉ウェハ・ハンドラ装部であ
り、カセットを搬送するカセット搬送装置(2)、カセ
ットを収納するカセット収納装置(3)、カセットを移
載するカセット移載装置(4)、ウェハを移載するウェ
ハ移載装置(5)、ウェハのオリフラ(オリエンテーシ
ョン・フラット)部を位置決めするためのファセット・
アライナ装置(6)、ボートを移動させるボート移動装
置(7)、ウェハを収納するカセット(8)、ボート(
9)等からなっている。
以上の構成により、手動にてウェハのセットされたカセ
ット(8)をカセット収納装置(3)に保管した状態に
おいて、外部からの指令により任意のカセット(8)を
とり出してカセット搬送装置(2)により搬送し、ファ
セット・アライナ装置(6)にセットする。
ット(8)をカセット収納装置(3)に保管した状態に
おいて、外部からの指令により任意のカセット(8)を
とり出してカセット搬送装置(2)により搬送し、ファ
セット・アライナ装置(6)にセットする。
この装置(6)でカセット(8)内のウエノ1のオリフ
ラ部を位置決めし、その後、カセット移載装f(4)で
カセット(8)を移載し、ウエノ・移載装置(5)でカ
セット(8)内のウェハのみを移載し、最終的にボート
移動装置(7)内のボート(9)に移し替える。
ラ部を位置決めし、その後、カセット移載装f(4)で
カセット(8)を移載し、ウエノ・移載装置(5)でカ
セット(8)内のウェハのみを移載し、最終的にボート
移動装置(7)内のボート(9)に移し替える。
従来の拡散炉ウェハ・ハンドラ装置は以上のように構成
されているので、拡散炉とカセット収納装置間のスペー
スをかなり必要とし、装置が大型化するため、既存の拡
散炉に設置することが困難であるなどの問題点があった
。
されているので、拡散炉とカセット収納装置間のスペー
スをかなり必要とし、装置が大型化するため、既存の拡
散炉に設置することが困難であるなどの問題点があった
。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、よりコンパクトな拡散炉ウェハ・ハンドラ装
置を得ることを目的とする。
たもので、よりコンパクトな拡散炉ウェハ・ハンドラ装
置を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る拡散炉ウエノ・・ノ・ラドラ装置は、カ
セット収納装置と各ハンドラ手段とを一体化したもので
ある。
セット収納装置と各ハンドラ手段とを一体化したもので
ある。
この発明においては既設炉用ハンドラとしてコンパクト
な装置が具現される。
な装置が具現される。
第1図、第2図はこの発明の一実施例を示し、図におい
て、ウェハをセットしたカセット(8)を仮設置するI
lo (入出力)ステーション(1)が設けられている
。カセット搬送装置(2)が付設され、カセット(8)
を一時保管するカセット収納装置には、これと一体向に
、カセット移載装置(4)、カセット(8)内部のウェ
ハだげを移載するウェハ移載装置(5)、ウェハのオリ
フラ部を位置決めするためのファセット・アライナ装置
(6)および移載されたウェハを受けるボート移動装置
(7)が設けられている。
て、ウェハをセットしたカセット(8)を仮設置するI
lo (入出力)ステーション(1)が設けられている
。カセット搬送装置(2)が付設され、カセット(8)
を一時保管するカセット収納装置には、これと一体向に
、カセット移載装置(4)、カセット(8)内部のウェ
ハだげを移載するウェハ移載装置(5)、ウェハのオリ
フラ部を位置決めするためのファセット・アライナ装置
(6)および移載されたウェハを受けるボート移動装置
(7)が設けられている。
次に、動作について説明する。
ここで、ウェハをカセット(8)からボート(9)へ移
し替え、炉に搬入する行程をチューブロードと呼び、炉
から搬出されたウェハをボート(9)からカセット(8
)へ移し替える行程をチューブアンロードと呼ぶことに
する。
し替え、炉に搬入する行程をチューブロードと呼び、炉
から搬出されたウェハをボート(9)からカセット(8
)へ移し替える行程をチューブアンロードと呼ぶことに
する。
まず、チューブロードの場合、外部から搬送されたカセ
ット(8)(この場合4個ロットとする)は、I10ス
テーション(1)へ運び込まれる。その後、カセット搬
送装置(2)により4個ロットでカセット収納装置(3
)に送られる。カセット収納装置(3)内でのカセット
(8)は、必要に応じて外部指令により呼び出され、カ
セット移載装置(4)によりファセット−アライナ装置
(6)へと送られる。ファセット・アライナ装置(6)
は、ウェハのオリフラ位置を位置決めする。その後、ウ
ェハ移載装置(5)によりカセット(8)内部のウェハ
だけを、カセット(8)からボート(9)へバッチ式(
1力セツト分のウェハな一度に)で移載する。最終的に
ボート移動装置(7)で所定の場所までボート(9)を
搬送する。
ット(8)(この場合4個ロットとする)は、I10ス
テーション(1)へ運び込まれる。その後、カセット搬
送装置(2)により4個ロットでカセット収納装置(3
)に送られる。カセット収納装置(3)内でのカセット
(8)は、必要に応じて外部指令により呼び出され、カ
セット移載装置(4)によりファセット−アライナ装置
(6)へと送られる。ファセット・アライナ装置(6)
は、ウェハのオリフラ位置を位置決めする。その後、ウ
ェハ移載装置(5)によりカセット(8)内部のウェハ
だけを、カセット(8)からボート(9)へバッチ式(
1力セツト分のウェハな一度に)で移載する。最終的に
ボート移動装置(7)で所定の場所までボート(9)を
搬送する。
ボート(9)を炉に入れる動作については省略する。
チューブアンロードの場合は、チューブロードの逆動作
であり、そのうちのファセット・アライナの処理が省略
される。
であり、そのうちのファセット・アライナの処理が省略
される。
なお、上記実施例では自動化のために工10ステーショ
ン(1)、カセット搬送装置(2)を設けたが、直接人
間が関与してカセット収納装置(3)へカセット(8)
を搬入してもよく、この場合はI10ステーション(1
)とカセット搬送装置(2)を省略できる。
ン(1)、カセット搬送装置(2)を設けたが、直接人
間が関与してカセット収納装置(3)へカセット(8)
を搬入してもよく、この場合はI10ステーション(1
)とカセット搬送装置(2)を省略できる。
以上のように、この発明によれば、カセット収納装置と
移載装置を一体にしたので、装置が安価にでき、また、
コンパクトな装置となりうる。したがって、既設炉に容
易に設置できる装置となる。
移載装置を一体にしたので、装置が安価にでき、また、
コンパクトな装置となりうる。したがって、既設炉に容
易に設置できる装置となる。
第1図はこの発明の一実施例の正断面図、第2図は第1
図のものの平面図、第3図は従来の拡散炉ウェハ・ハン
ドラ装置の斜視図である。 (1)e・入出力ステーション、(21−・カセット搬
送装置、(3)・ゆカセット収納装置、(4)・・カセ
ット移載装置、(5)・−ウェハ移載装置、(6)・・
ファセット・アライナ装置、(7)・・ボート移動装置
、(8)・・カセット、(9)・・ボート。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第1図 犀2図 喝
図のものの平面図、第3図は従来の拡散炉ウェハ・ハン
ドラ装置の斜視図である。 (1)e・入出力ステーション、(21−・カセット搬
送装置、(3)・ゆカセット収納装置、(4)・・カセ
ット移載装置、(5)・−ウェハ移載装置、(6)・・
ファセット・アライナ装置、(7)・・ボート移動装置
、(8)・・カセット、(9)・・ボート。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第1図 犀2図 喝
Claims (3)
- (1)ウェハを収納したカセットをカセット収納装置に
それぞれ搬送および搬出するカセット搬送装置およびカ
セット移載装置と、前記ウェハを位置決めするファセッ
ト・アライナ装置と、位置決めされた前記ウェハをボー
トへ移載するウェハ移載装置と、前記ボートを移動させ
るボート移動装置とが、前記カセット収納装置に一体的
に配設されてなる拡散炉ウェハ・ハンドラ装置。 - (2)ウェハをセットしたカセットを仮設置する入出力
ステーションを備えた特許請求の範囲第1項記載の拡散
炉ウェハ・ハンドラ装置。 - (3)バッチ式のウェハ移載装置を備えた特許請求の範
囲第1項記載の拡散炉ウェハ・ハンドラ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62052153A JPS63219134A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 拡散炉ウエハ・ハンドラ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62052153A JPS63219134A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 拡散炉ウエハ・ハンドラ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63219134A true JPS63219134A (ja) | 1988-09-12 |
Family
ID=12906911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62052153A Pending JPS63219134A (ja) | 1987-03-09 | 1987-03-09 | 拡散炉ウエハ・ハンドラ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63219134A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6273110B1 (en) | 1997-12-19 | 2001-08-14 | Semitool, Inc. | Automated semiconductor processing system |
US6279724B1 (en) | 1997-12-19 | 2001-08-28 | Semitoll Inc. | Automated semiconductor processing system |
US6723174B2 (en) | 1996-03-26 | 2004-04-20 | Semitool, Inc. | Automated semiconductor processing system |
US6942738B1 (en) | 1996-07-15 | 2005-09-13 | Semitool, Inc. | Automated semiconductor processing system |
US7278813B2 (en) | 2000-07-07 | 2007-10-09 | Semitool, Inc. | Automated processing system |
-
1987
- 1987-03-09 JP JP62052153A patent/JPS63219134A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6723174B2 (en) | 1996-03-26 | 2004-04-20 | Semitool, Inc. | Automated semiconductor processing system |
US6942738B1 (en) | 1996-07-15 | 2005-09-13 | Semitool, Inc. | Automated semiconductor processing system |
US6273110B1 (en) | 1997-12-19 | 2001-08-14 | Semitool, Inc. | Automated semiconductor processing system |
US6279724B1 (en) | 1997-12-19 | 2001-08-28 | Semitoll Inc. | Automated semiconductor processing system |
US7278813B2 (en) | 2000-07-07 | 2007-10-09 | Semitool, Inc. | Automated processing system |
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