JPH10168109A - オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 - Google Patents
オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法Info
- Publication number
- JPH10168109A JPH10168109A JP32835396A JP32835396A JPH10168109A JP H10168109 A JPH10168109 A JP H10168109A JP 32835396 A JP32835396 A JP 32835396A JP 32835396 A JP32835396 A JP 32835396A JP H10168109 A JPH10168109 A JP H10168109A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- olefin
- zirconium dichloride
- group
- propylene
- catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
重合活性を極めて高くすることができ、得られた重合体
から触媒成分を除去する必要がないような、触媒及びそ
れを用いた重合方法の提供。 【解決手段】 [A]共役五員環配位子を有する4〜6
族遷移金属化合物、[B]酸および塩類の共存下処理を
行って得られた、(1)珪酸塩を除くイオン交換性層状化
合物および(2)無機珪酸塩からなる群より選ばれた少な
くとも一種の化合物、および[C]有機アルミニウム化
合物の3成分の存在下にオレフィンを予備重合して得ら
れるオレフィン重合用触媒において、予備重合する際、
炭素数3以上のオレフィン濃度を1mol/l以上とす
ることを特徴とする、オレフィン重合用触媒、並びに、
上記触媒の存在下、オレフィンを単独重合または共重合
することを特徴とするオレフィンの重合方法。
Description
触媒およびオレフィンの重合方法に関し、更に詳しくは
オレフィンを用いた重合体を高い活性で製造するのに適
し、粒子性状に優れたオレフィン重合体が得られる重合
用触媒ならびに該触媒を用いたオレフィンの重合方法に
関するものである。
ウム化合物からなる触媒の存在下に、オレフィンを予備
重合させ、この予備重合触媒を用いてオレフィン重合体
を製造することは公知である(特開昭63−15260
8号、、特開昭63−280703号、特開平2−84
407号、特開平3−234710号、特開平4−87
04号、特開平5−140224号、特開平5−155
930号、特開平5−170823号等)。
分当たりの重合活性が不充分なものが多く、また得られ
るオレフィン重合体の嵩密度や微粉等の粒子性状も十分
とはいえない。本発明者らは、これらの諸問題を解決す
べく、特定の固体成分を用いてオレフィンを予備重合す
る方法を提案した(特開平5−295022号、特開平
7−309906号、)。しかし、これらの方法におい
ても、重合活性については、かならずしも十分なもので
はなかった。
現状に鑑み鋭意検討した結果、本発明に到達した。すな
わち本発明は、[A]共役五員環配位子を有する4〜6
族遷移金属化合物、[B]酸および塩類の共存下処理を
行って得られた、(1)珪酸塩を除くイオン交換性層状化
合物および(2)無機珪酸塩からなる群より選ばれた少な
くとも一種の化合物、および[C]有機アルミニウム化
合物の3成分の存在下にオレフィンを予備重合して得ら
れるオレフィン重合用触媒において、予備重合する際、
炭素数3以上のオレフィン濃度を1mol/l以上とす
ることを特徴とする、オレフィン重合用触媒、並びに、
該重合触媒の存在下、オレフィンを単独重合または共重
合することを特徴とするオレフィンの重合方法に存す
る。
子の周期律は、1989年にIUPACにより推奨され
た18族方式に基ずくものである。) 本発明の触媒に用いられる[A]成分である、共役五員
環配位子を有する4〜6族遷移金属化合物は、共役五員
環配位子を少なくとも1個有する遷移金属化合物であ
る。このような遷移金属化合物は、それ自身ならびにそ
れをオレフィン重合用触媒成分として使用することは既
に知られている。
一般式[1]、[2]および[3]で表される化合物で
ある。 (C5H5-aR1 a)(C5H5-bR2 b)MXY [1] Q(C5H4-cR1 c)(C5H4-dR2 d)MXY [2] Q’(C5H4-eR3 e)ZMXY [3]
架橋する結合性基を、Q’は共役五員環配位子とZ基を
架橋する結合性基を、Mは周期律表4〜6族遷移金属
を、XおよびYは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン
基、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20の酸
素含有炭化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素
基、炭素数1〜20のリン含有炭化水素基または炭素数
1〜20のケイ素含有炭化水素基を、Zは酸素、イオ
ウ、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜40の
ケイ素含有炭化水素基、炭素数1〜40の窒素含有炭化
水素基または炭素数1〜40のリン含有炭化水素基を示
す。R1、R2およびR3はそれぞれ独立して、炭素数1
〜20の炭化水素基、ハロゲン基、炭素数1〜20のハ
ロゲン含有炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ケイ素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素
含有炭化水素基またはホウ素含有炭化水素基を示す。ま
た、隣接する2個のR1、2個のR2または2個のR3が
それぞれ結合してC4〜C10環を形成していてもよい。
a、b、c、dおよびeは、0≦a≦5、0≦b≦5、
0≦c≦4、0≦d≦4、0≦e≦4を満足する整数で
ある。)
合性基Qおよび共役五員環配位子とZ基とを架橋する結
合性基Q’は、具体的には下記のようなものが挙げられ
る。メチレン基、エチレン基のようなアルキレン基、エ
チリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、フ
ェニルメチリデン基、ジフェニルメチリデン基のような
アルキリデン基、ジメチルシリレン基、ジエチルシリレ
ン基、ジプロピルシリレン基、ジフェニルシリレン基、
メチルエチルシリレン基、メチルフェニルシリレン基、
メチル−t−ブチルシリレン基、ジシリレン基、テトラ
メチルジシリレン基のようなケイ素含有架橋基、ジメチ
ルゲルミレン基、ジエチルゲルミレン基、ジフェニルゲ
ルミレン基、メチルフェニルゲルミレン基のようなゲル
マニウム含有架橋基、アルキルフォスフィン、アミン等
である。これらのうち、アルキレン基、アルキリデン
基、およびケイ素含有架橋基が特に好ましく用いられ
る。
(C5H5-bR2 b)、(C5H4-cR1 c)、(C5H
4-dR2 d)及び(C5H4-eR3 e)で示される共役五員環
配位子は、同一または異なっていてもよい。R1、R2及
びR3は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブ
チル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、ノニル、デシル、フェニル、クロロメチル、
クロロエチル基等のハロゲン基を含有していてもよい炭
素数1〜20の炭化水素基、フッ素、塩素、臭素、沃素
等のハロゲン基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノ
キシ、ペンタメチルフェノキシ基等のアリールオキシ
基、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニ
ルシリル基等のケイ素含有炭化水素基、または、リン含
有炭化水素基、窒素含有炭化水素基、ホウ素含有炭化水
素基である。R1(あるいはR2、R3)が複数個存在す
るときは、それらは同一でも異なっていてもよい。
R3がシクロペンタジェニル環の隣接する炭素原子に存
在する場合は、相互に結合してC4〜C10環を形成し、
インデニル、テトラヒドロインデニル、フルオレニル、
オクタヒドロフルオレニル、アズレニル、ヘキサヒドロ
アズレニル基等となってもよい。a、b、c、dおよび
eは、0≦a≦5、0≦b≦5、0≦c≦4、0≦d≦
4、0≦e≦4を満足する整数である。
ウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオ
ブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン等で
ある。好ましくは、チタニウム、ジルコニウム、ハフニ
ウムであり、特にはチタニウム、ジルコニウムが好まし
い。Zは、酸素(−O−)、イオウ(−S−)、炭素数
1〜20、好ましくは1〜10のアルコキシ基、炭素数1
〜20、好ましくは1〜12のチオアルコキシ基、炭素
数1〜40、好ましくは1〜18のケイ素含有炭化水素
基、炭素数1〜40、好ましくは1〜18の窒素含有炭
化水素基、炭素数1〜40、好ましくは1〜18のリン
含有炭化水素基であり、Z基の一部が結合性基である
Q’基と結合しているものである。
基、炭素数1〜20、好ましくは1〜10の炭化水素
基、炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルコキシ
基、アルキルアミド基、炭素数1〜20、好ましくは1
〜12のリン含有炭化水素基、炭素数1〜20、好まし
くは1〜12のケイ素含有炭化水素基等である。XとY
は同一でも異なっていてもよい。これらのうちハロゲン
基、炭化水素基およびアルキルアミド基が好ましい。
属化合物の具体例は、式[1]に相当するものとして
は、ビス(2−フェニルインデニル)ジルコニウムジク
ロリド、ビス{2−(3,5−ジトリフルオロメチルフ
ェニル)インデニル}ジルコニウムジクロリド等が例示
される。
ンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレ
ンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレ
ンビス(インデニル)ジルコニウムモノハイドライドモ
ノクロリド、エチレンビス(インデニル)メチルジルコ
ニウムモノクロリド、エチレンビス(インデニル)ジル
コニウムモノメトキシドモノクロ−4−リド、エチレン
ビス(インデニル)ジルコニウムジエトキシド、エチレ
ンビス(インデニル)ジルコニウムジメチル、エチレン
ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジル
コニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチルインデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−エ
チルインデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビ
ス(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロ
リド、エチレンビス(2,4,7−トリメチルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチ
ル−4−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(2−エチル−4−フェニルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチ
ル−4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレン(2,4−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(3’,5’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレン(2−メチル−4−t
−ブチルシクロペンタジエニル)(3’−t−ブチル−
5’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、エチレン(2,3,5−トリメチルシクロペン
タジエニル)(2’,4’,5’−トリメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリ
デンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、イソ
プロピリデン(2,4−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(3’,5’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(2−メチル
−4−t−ブチルシクロペンタジエニル)(3’−t−
ブチル−5’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、メチレン(シクロペンタジエニル)
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、メチレン(シクロペンタジエニル)
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムクロリドヒドリド、メチレン(シクロペンタジエニ
ル)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、メチレン(シクロペンタジエニル)
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジフェニル、メチレン(シクロペンタジエニル)(ト
リメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、メチレン(シクロペンタジエニル)(テトラメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、イソ
プロピリデン(シクロペンタジエニル)(3,4−ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド?A
イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2,3,
4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエ
ニル)(3−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン
(2−メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニ−5
−ル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(3
−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(3−t−
ブチルシクロペンタジェニル)(2−メチル−4−フェ
ニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピ
リデン(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリド、エチレン(シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジク
ロリド、エチレン(2,5−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レン(2,5−ジエチルシクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロリド、ジフェニルメチレ
ン(シクロペンタジエニル)(3,4−ジエチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキ
シリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(2,5−
ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、メ
チレンビス(2−メチル−4−フェニルアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレンビス(4−メチルアズ
レニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2,
4−ジメチルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エ
チレンビス(2−メチル−4−フェニルアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−エチル−4
−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レンビス(2−メチル−4−フェニルヘキサヒドロアズ
レニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−
メチル−4−イソプロピルアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、シクロヘキシリデンビス(2,4,4,−ト
リメチルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(4,5,6,7−テトラヒ
ドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リレンビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリレンビス(2,4,7−トリメチ
ルインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レンビス(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4,
5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジメチルシリレン(2,4−ジメチルシクロ
ペンタジエニル)(3’,5’−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン
ビス(2−メチル−4,4−ジメチル−4,5,6,7
−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(2−メチル−4,4−ジメチル
−シラ−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メ
チル−4.5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロ
リド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニ
ルインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジル
コニウムジメチル、ジメチルシリレンビス(2−メチル
−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルアズ
レニル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−フェニルヘキサヒドロアズレニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−
メチル−4,4−ジフェニルアズレニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
イソプロピロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、フ
ェニルメチルシリレンビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロリド、フェニルメチルシリレンビス(2−メチル
インデニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルメチル
シリレンビス(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、フェニルメチルシリレンビス(4,
5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、フェニルメチルシリレン(2,4−ジメチル
シクロペンタジエニル)(3’,5’−ジメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルメ
チルシリレン(2,3,5−トリメチルシクロペンタジ
エニル)(2’,4’,5’−トリメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルメチルシ
リレンビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、フェニルメチルシリレンビス
(2,4,4−トリメチルアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジフェニルシリレンビス(インデニル)ジル
コニウムジクロリド、テトラメチルジシリレンビス(イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、テトラメチルジシ
リレンビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、テトラメチルジシリレン(3−メチルシクロペ
ンタジエニル)(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,
4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)
(3,4−ジエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(トリエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(テトラエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t
−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメ
チルシリレン(シクロペンタジエニル)(オクタヒドロ
フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レン(2−メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(2,
5−ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(2−エチ
ルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(2,5−ジエチルシ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジエチルシリレン(2−メチルシクロペンタ
ジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(2,5−ジ
メチルシクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチ
ルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リレン(ジエチルシクロペンタジエニル)(2,7−ジ
−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(オ
クタヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルシリレン(ジメチルシクロペンタジエニル)(オ
クタヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルシリレン(エチルシクロペンタジエニル)(オク
タヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメ
チルシリレン(ジエチルシクロペンタジエニル)(オク
タヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメ
チルゲルミレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロ
リド、ジメチルゲルミレン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲ
ルミレンビス(2,4,4−トリメチルアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、フェニルホスフィノビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルアミノビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルアミ
ノ(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、エチレンビス{4−(3−メチル−1
−フェニル)インデニル}ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルシリレンビス{4−(3−メチル−1−フェニ
ル)インデニル}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リレンビス{4−(3−メチル−1−フェニル)インデ
ニル}ジルコニウムビス(ジメチルアミド)、ジメチル
シリレンビス{4−(3−エチル−1−フェニル)イン
デニル}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビ
ス[4−{3−メチル−1−(2−ナフチル)}インデ
ニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
[4−{3−メチル−1−(3−メチルフェニル)}イ
ンデニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン
ビス[4−{3−メチル−1−(3,5−ジメチルフェ
ニル)}インデニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルゲルミレンビス{4−(3−メチル−1−フェニル)
インデニル}ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
{4−(7−t−ブチル)インデニル}ジルコニウムジ
クロリド、ジメチルシリレンビス{4−(2−メチルイ
ンデニル)}ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
{4−(2,7−ジメチルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド等が例示される。
メチルシクロペンタジエニル−ビス(フェニル)アミド
ジルコニウムジクロリド、インデニル−ビス(フェニ
ル)アミドジルコニウムジクロリド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニル−ビス(トリメチルシリル)アミドジ
ルコニウムジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルフェノキシジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レン(テトラメチルシクロペンタジエニル)フェニルア
ミドジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(テト
ラメチルシクロペンタジエニル)t−ブチルアミドジル
コニウムジクロリド、ジメチルシリレン(インデニル)
シクロヘキシルアミドジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレン(テトラヒドロインデニル)デシルアミノジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(テトラヒド
ロインデニル)((トリメチルシリル)アミノ)ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルゲルミレン(テトラメチル
シクロペンタジエニル)(フェニル)アミノジルコニウ
ムジクロリド等が例示される。
物等の他の第4、5、6族遷移金属化合物についても、
上記と同様の化合物が挙げられる。更に、これらの混合
物を用いてもよい。また更に、公知の三塩化チタンを主
成分とする固体触媒やマグネシウム、チタン、ハロゲン
を必須成分として含有する担体担持型触媒と同時に用い
ることもできる。
珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物および(2)無機珪
酸塩からなる群より選ばれた少なくとも一種の化合物を
用いる。珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物は、イオ
ン結合等によって構成される面が互いに弱い結合力で平
行に積み重なった結晶構造をとる化合物であり、含有す
るイオンが交換可能なものを言う。
六方最密パッキング型、アンチモン型、CdCl2 型、
CdI2 型等の層状の結晶構造を有するイオン結晶性化
合物等を例示することができる。このような結晶構造を
有するイオン交換性層状化合物の具体例としては、α−
Zr(HAsO4 )2 ・H2 O、α−Zr(HPO4)
2 、α−Zr(KPO4 )2 ・3H2 O、α−Ti(H
PO4 )2 、α−Ti(HAsO4 )2 ・H2 O、α−
Sn(HPO4 )2 ・H2 O、γ−Zr(HP
O4 )2、γ−Ti(HPO4 )2 、γ−Ti(NH4
PO4 )2 ・H2 O等の多価金属の結晶性酸性塩があげ
られる。
オライト、珪藻土等が挙げられる。これらは、合成品を
用いてもよいし、天然に産出する鉱物を用いてもよい。
粘土、粘土鉱物の具体例としては、アロフェン等のアロ
フェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、
アノーキサイト等のカオリン族、メタハロイサイト、ハ
ロイサイト等のハロイサイト族、クリソタイル、リザル
ダイト、アンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイ
ト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サ
ポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュ
ライト等のバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイ
ト、海緑石等の雲母鉱物、アタパルジャイト、セピオラ
イト、パイゴルスカイト、ベントナイト、木節粘土、ガ
イロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライト、リョク
デイ石群等が挙げられる。これらは混合層を形成してい
てもよい。人工合成物としては、合成雲母、合成ヘクト
ライト、合成サポナイト、合成テニオライト等が挙げら
れる。
イッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイ
ト等のカオリン族、メタハロサイト、ハロサイト等のハ
ロサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴラ
イト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、
バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトラ
イト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキ
ュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石等の雲母
鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、
合成テニオライトが挙げられ、特に好ましくはモンモリ
ロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイ
ト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バー
ミキュライト等のバーミキュライト鉱物、合成雲母、合
成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが
挙げられる。
状化合物および(2)無機珪酸塩からなる群より選ばれた
少なくとも一種の化合物は、そのまま用いてもよいが、
塩酸、硝酸、硫酸等による酸処理および/または、Li
Cl、NaCl、KCl、CaCl2 、MgCl2 、M
gSO4 、ZnSO4 、Ti(SO4 )2 、Zr(S
O4 )2 、Al2 (SO4 )3 等の塩類処理を行った
ほうが好ましい。また、粉砕や造粒等の形状制御を行っ
てもよく、粒子性状に優れたオレフィン重合体を得るた
めには、造粒することが好ましい。
用いる。本発明の[C]成分として用いられる有機アル
ミニウム化合物の例は、 AlR4 mX3-m
基、Xは水素、ハロゲン、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、mは0<m≦3の数)で示される化合物であり、
具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミ
ニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム等のトリアルキルアルミニウムまたはジエチ
ルアルミニウムモノクロライド、ジエチルアルミニウム
エトキシド等のハロゲンもしくはアルコキシ含有アルキ
ルアルミニウムである。またこの他、メチルアルミノキ
サン等のアルミノキサン等も使用できる。これらを混合
して用いてもよい。これらのうち特にトリアルキルアル
ミニウムが好ましい。
在下に、オレフィンの予備重合を行って予備重合触媒を
得る。この際、[A]成分、[B]成分、[C]成分の
接触方法は特に限定されない。 接触は窒素等の不活性
ガス中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キ
シレン等の不活性炭化水素溶媒中で行ってもよい。触媒
各成分の使用量は、[B]成分1gあたり[A]成分が
0.0001〜10mmol、好ましくは0.001〜
5mmolであり、[C]成分が0.01〜10000
mmol、好ましくは0.1〜100mmolである。
また、[A]成分中の遷移金属と[C]成分中のアルミ
ニウムの原子比が1:0.01〜1000000、好ま
しくは、0.1〜100000である。
スラリー重合である。本発明では、この予備重合時にお
ける液相中の炭素数3以上のオレフィンの濃度を1mo
l/l以上とすることを特徴とするものである。即ち、
この濃度は、次式で表されるものである。
l)=導入した炭素数3以上のオレフィンのモル数/
{導入した炭素数3以上のオレフィンの容量+溶媒の容
量}
は、3〜20mol/lの高濃度で予備重合を行うこと
により、高活性なものが得られる。要するに、従来予備
重合は、マイルドな条件で行うのが好ましいとされてき
たので、モノマー濃度としては、低濃度が採用されてき
たため、本発明の効果は従来技術から考えると予想外の
ものである。
フィンとしては、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセ
ン、3−メチル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテ
ン、ビニルシクロアルカン、スチレンあるいはこれらの
誘導体等が挙げられる。また、重合は単独重合のほか通
常公知のエチレンやその他の炭素数3以上のオレフィン
とのランダム共重合やブロック共重合にも適用できる。
尚、本発明において、炭素数3以上のオレフィンが前記
した範囲存在すればよく、エチレンの存在を否定するも
のではない。
り、予備重合時間は0.01〜10時間程度である。ま
た、予備重合は、固体触媒1gあたり、0.01〜10
00g、好ましくは0.1〜100gの重合体が生成す
るように行うことが望ましい。この様にして得られた触
媒は、そのまま洗浄せずに用いてもよく、洗浄した後に
用いてもよい。
合せて用いてもよい。この際に用いられる[C]成分の
量は、[A]成分中の遷移金属に対する[C]成分中の
アルミニウムの原子で1:0〜10000になるように
選ばれる。重合に用いられるオレフィンとしては、エチ
レン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、3−メ
チル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、ビニル
シクロアルカン、スチレンあるいはこれらの誘導体等が
挙げられる。また、重合は単独重合であっても、共重合
であってもよく、共重合の場合、ランダム共重合であっ
ても、ブロック共重合であってもよい。
ン、ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等の不活性炭
化水素や液化αーオレフィン等の溶媒存在下、あるいは
不存在下に行われる。温度は、−50℃〜250℃であ
り、圧力は特に制限されないが、好ましくは常圧〜20
00kgf/cm2の範囲である。また、重合系内に分
子量調節剤として水素を存在させてもよい。
説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限りこれら
実施例によって制約を受けるものではない。なお、以下
の触媒合成工程および重合工程は、すべて精製窒素雰囲
気下で行った。また溶媒はMS−4Aで脱水した後、精
製窒素でバブリングして脱気したものを用いた。
メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロ
リド) 上記錯体の合成は、Organometallics
1994,13,954−963に記載の方法と同様に
して行った。
の粉砕品5kgを、ZnSO4・7H2O 1kgを溶解
させた脱塩水25リットル中に分散させて、室温で1時
間攪拌した。その後脱塩水で洗浄し、水スラリー液とし
た後、スプレードライヤーにより噴霧造粒を行って球状
の造粒合成雲母を得た。
℃で2時間の加熱処理を行った。これにトルエン92m
lを加えてスラリーとした後、2Lオートクレーブに全
量導入した。ついでトリエチルアルミニウムのトルエン
溶液(0.5mmol/ml)を1mlおよびジメチル
シリレンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)
ジルコニウムジクロリドのトルエン溶液(4.1μmo
l/ml)を7.4ml加えた。攪拌下昇温し、70℃
において50℃の液化プロピレン20mlを導入し、7
分間予備重合を行った。この時のプロピレン濃度は1.
82mol/lであった。ついで未反応のプロピレンを
パージし、精製窒素で加圧置換した後、予備重合触媒を
取り出した。このものは、[B]成分1gあたり14.
7gの重合体を含有していた。
ン溶液(0.5mmol/ml)を1ml加え、プロピ
レンを1400ml導入した。攪拌下昇温し、70℃で
(3)で得られた予備重合触媒を固体成分([B]成
分)として50mg導入し、70℃で1時間重合を行っ
た。その後未反応のプロピレンをパージして、重合を停
止させた。得られたプロピレン重合体は62gであっ
た。固体成分1g・1時間あたりの重合体生成量は、1
240gであった。
lとし、30分間の重合とした以外は、実施例−1
(3)と同様にして予備重合を行った。この時のプロピ
レン濃度は0.55mol/lであった。また、このも
のは、[B]成分1gあたり0.8gの重合体を含有し
ていた。
分)として50mg用いた以外は、実施例−1(4)と
同様にしてプロピレンの重合を行った。得られた重合体
は、20gであり、固体成分1g・1時間あたりの重合
体生成量は、400gであった。
メチル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロ
リド) 以下の反応は全て不活性ガス雰囲気下で行い、また、反
応溶媒は予め乾燥したものを使用した。2−メチルアズ
レン2.22gをヘキサン30mlに溶かし、フェニル
リチウムのシクロヘキサン−ジエチルエーテル溶液1
5.6ml(1.0等量)を0℃で少しずつ加えた。こ
の溶液を室温で1時間攪拌した後、−78℃に冷却しテ
トラヒドロフラン30mlを加えた。この溶液にジメチ
ルジクロロシラン0.95mlを加え、室温まで昇温
し、さらに50℃で1.5時間加熱した。この後、塩化
アンモニウム水溶液を加え、分液した後有機相を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン−ジクロロメタン 5:1)で精製するとジメチル
ビス{1−(2−メチル−4−フェニル−1,4−ジヒ
ドロアズレニル)}シラン1.48gが得られた。
メチル−4−フェニル−1,4−ジヒドロアズレニ
ル)}シラン768mgをジエチルエーテル15mlに
溶かし、−78℃でノルマルブチルリチウムのヘキサン
溶液1.98ml(1.64mol/L)を滴下し、徐
々に昇温して室温で12時間攪拌した。減圧下溶媒留去
した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し減圧乾固し
た。これにトルエン・ジエチルエーテル(40:1)2
0mlを加え、−60℃で四塩化ジルコニウム325m
gを加え、徐々に昇温し室温で15時間攪拌した。得ら
れた溶液を減圧下濃縮し、ヘキサンを加えて再沈殿させ
るとジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニル
アズレニル)ジルコニウムジクロリドのジアステレオマ
ー混合物150mgが得られた。
フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリドのジアス
テレオマー混合物全量を塩化メチレン5mlに溶解し、
100W高圧水銀ランプを有するパイレックスガラス製
の反応器に導入した。この溶液を攪拌しながら常圧下1
0分間光照射(300nm〜600nm)した後、塩化
メチレンを減圧下留去した。得られた黄褐色固体にトル
エン7mlを加え攪拌した後静置すると黄色固体が沈殿
し上澄み液を除いた。さらに同様の操作をトルエン1m
l、1ml、ヘキサン1mlで行った後、得られた固形
物を減圧下乾固すると、ジメチルシリレンビス(2−メ
チル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ドの単一のジアステレオマ−75mgが得られた。
F)8kgを振動ボールミルで4時間粉砕し、MgCl
2・6H2O 10kgを溶解させた脱塩水50リットル
中に分散させて、80℃で1時間攪拌した。得られた固
体成分を水洗した後、8.2%の塩酸水溶液56リット
ル中に分散させて90℃で2時間攪拌し、脱塩水で水洗
した。この化学処理されたモンモリロナイト4.6kg
の水スラリーを固形分濃度15.2%に調製し、スプレ
ードライヤーにより噴霧造粒を行って球状の造粒モンモ
リロナイトを得た。
200℃で2時間の加熱脱水処理を行った。ついでトル
エン10mlを加えた後、トリエチルアルミニウム1.
3mlを添加し室温で1時間反応させた。反応後、トル
エン50mlで2回洗浄した後トルエンスラリーとし
た。
て100mg)採取しジメチルシリレンビス(2−メチ
ル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド
のトルエン溶液(1.8μmol/ml)を1.6ml
添加した。ついでトリイソブチルアルミニウムのトルエ
ン溶液(0.01mmol/ml)を3ml添加し、室
温で5分接触させた。2Lオートクレーブに上記接触物
を全量加えて、攪拌下に液化プロピレン100mlを導
入して、室温で5分間予備重合を行った。この時のプロ
ピレン濃度は、10.2mol/lであった。
ニウムのトルエン溶液(0.5mmol/ml)を1m
l加え、液化プロピレン1300mlを導入し、80℃
に昇温後80℃で1時間重合を行った。その後未反応の
プロピレンをパージして、重合を停止させた。得られた
プロピレン重合体は305gであった。固体成分1g・
1時間あたりの重合体生成量は、3050gであった。
理[B]成分スラリーを31ml(固体成分として1
g)採取しジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フ
ェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリドのトルエン
溶液(1.8μmol/ml)を16ml添加した。つ
いでトリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液(0.
1mmol/ml)を3ml添加し、室温で5分接触さ
せた。2Lオートクレーブに上記接触物全量とトルエン
10mlを加えて、攪拌下に液化プロピレン40mlを
導入して、室温で15分間予備重合を行った。この時の
プロピレン濃度は、4.1mol/lであった。予備重
合後、プロピレンをパージして、精製窒素で加圧置換し
た後、予備重合触媒を取り出した。
ルエン溶液(0.5mmol/ml)を1ml加え、液
化プロピレン1400mlを導入した後、(1)で得ら
れた予備重合触媒を固体成分として100mg加え、攪
拌下昇温して80℃で1時間重合を行った。その後未反
応のプロピレンをパージして、重合を停止させた。得ら
れたプロピレン重合体は290gであった。固体成分1
g・1時間あたりの重合体生成量は、2900gであっ
た。
l、液化プロピレン量を15mlとし、重合時間を30
分とした以外は、実施例−3(1)と同様にして予備重
合触媒を得た。この時のプロピレン濃度は1.5mol
/lであった。
触媒を用いた以外は実施例−3(2)と同様にしてプロ
ピレンの重合を行った。得られたプロピレン重合体は2
10gであった。固体成分1g・1時間あたりの重合体
生成量は、2100gであった。
l、液化プロピレン量を7mlとし、重合時間を60分
とした以外は、実施例−3(1)と同様にして予備重合
触媒を得た。この時のプロピレン濃度は0.7mol/
lであった。
触媒を用いた以外は実施例−3(2)と同様にしてプロ
ピレンの重合を行った。得られたプロピレン重合体は1
30gであった。固体成分1g・1時間あたりの重合体
生成量は、1300gであった。
理[B]成分スラリーを13ml(固体成分として41
9mg)採取しジメチルシリレンビス(2−メチル−4
−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリドのトル
エン溶液(1.8μmol/ml)を4.4ml添加し
た。ついでトリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液
(0.01mmol/ml)を7.8ml添加し、室温
で5分接触させた。
えて、攪拌下に液化プロピレン200mlを導入して、
室温で5分間予備重合を行った。この時のプロピレン濃
度は、9.7mol/lであった。予備重合後、プロピ
レンをパージして、精製窒素で加圧置換した後、予備重
合触媒を取り出した。このものは、[B]成分1gあた
り0.7gの重合体を含有していた。
触媒を用いた以外は実施例−3(2)と同様にしてプロ
ピレンの重合を行った。得られたプロピレン重合体は2
65gであった。固体成分1g・1時間あたりの重合体
生成量は、2650gであった。
水200mlに、市販の合成雲母(コープケミカル社
製、ME−100)15.6gを分散させ、室温で30
分攪拌した後、濾過した。この操作を1回繰り返した
後、脱塩水で十分洗浄し乾燥を行って[B]成分を得
た。
時間減圧して、加熱脱水処理を行った。これに、n−ヘ
キサン25mlを加えてスラリーとした後、2Lオート
クレーブに導入した。さらにトリエチルアルミニウムの
トルエン溶液(0.5mmol/ml)を1mlおよび
ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルイン
デニル)ジルコニウムジクロリドのトルエン溶液(4.
1μmol/ml)を6.5ml加えた。攪拌下液化プ
ロピレンを100ml導入して室温で2分の予備重合を
行った。この時のプロピレン濃度は、8.3mol/l
であった。予備重合後、プロピレンをパージして、精製
窒素で加圧置換した後、予備重合触媒を取り出した。こ
のものは、[B]成分1gあたり5.8gの重合体を含
有していた。
分)として50mg用いた以外は、実施例−1(4)と
同様にしてプロピレンの重合を行った。得られた重合体
は、85gであり、固体成分1g・1時間あたりの重合
体生成量は、1700gであった。
に代えて、n−ヘキサン90mlと液化プロピレン10
mlとし、重合時間を60分とした以外は、実施例−6
(2)と同様にして予備重合触媒を得た。この時のプロ
ピレン濃度は0.8mol/lであった。
分)として50mg用いた以外は、実施例−1(4)と
同様にしてプロピレンの重合を行った。得られた重合体
は、40gであり、固体成分1g・1時間あたりの重合
体生成量は、800gであった。
法によれば、オレフィンの重合に際し、固体成分あたり
の重合活性を極めて高くすることができ、得られた重合
体から触媒成分を除去する必要がないため、工業的に有
用である。
Claims (7)
- 【請求項1】 [A]共役五員環配位子を有する4〜6
族遷移金属化合物、[B]酸および塩類の共存下処理を
行って得られた、(1)珪酸塩を除くイオン交換性層状化
合物および(2)無機珪酸塩からなる群より選ばれた少な
くとも一種の化合物、および[C]有機アルミニウム化
合物の3成分の存在下にオレフィンを予備重合して得ら
れるオレフィン重合用触媒において、予備重合する際、
炭素数3以上のオレフィン濃度を1mol/l以上とす
ることを特徴とする、オレフィン重合用触媒。 - 【請求項2】 炭素数3以上のオレフィンが、プロピレ
ンであることを特徴とする、請求項1記載のオレフィン
重合用触媒。 - 【請求項3】 予備重合の形態が、スラリー重合である
ことを特徴とする、請求項1記載のオレフィン重合用触
媒。 - 【請求項4】 予備重合する際の炭素数3以上のオレフ
ィン濃度が3mol/l以上であることを特徴とする、
請求項1記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項5】 予備重合量が[B]成分1gあたり0.
01〜1000gであることを特徴とする、請求項1記
載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項6】 [C]成分が、一般式 AlR4 mX3-m (式中、R4は炭素数1〜20の炭化水素基、Xは水
素、ハロゲン、アルコキシ基、アリールオキシ基、mは
0<m≦3の数)で示される化合物であることを特徴と
する、請求項1記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項7】 請求項1記載のオレフィン重合用触媒の
存在下、炭素数3以上のオレフィンを単独重合または共
重合することを特徴とする、オレフィンの重合方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32835396A JP3641535B2 (ja) | 1996-12-09 | 1996-12-09 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32835396A JP3641535B2 (ja) | 1996-12-09 | 1996-12-09 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10168109A true JPH10168109A (ja) | 1998-06-23 |
JP3641535B2 JP3641535B2 (ja) | 2005-04-20 |
Family
ID=18209303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32835396A Expired - Fee Related JP3641535B2 (ja) | 1996-12-09 | 1996-12-09 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3641535B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008162857A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Japan Polypropylene Corp | イオン交換性層状珪酸塩粒子とその製造方法、及びこれよりなるオレフィン重合用触媒とこれを用いたオレフィン重合体の製造方法 |
JP2012206910A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Japan Polypropylene Corp | 層状ケイ酸塩粒子の製造方法およびそれを用いたオレフィン重合用触媒の製造方法 |
WO2015060421A1 (ja) | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 日本ポリプロ株式会社 | オレフィン重合用触媒成分、オレフィン重合用触媒およびそれを用いたオレフィン(共)重合体の製造方法 |
WO2020203274A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 日本ポリプロ株式会社 | オレフィン重合用触媒成分の製造方法、オレフィン重合用触媒の製造方法、及び、オレフィン重合体の製造方法 |
-
1996
- 1996-12-09 JP JP32835396A patent/JP3641535B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008162857A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Japan Polypropylene Corp | イオン交換性層状珪酸塩粒子とその製造方法、及びこれよりなるオレフィン重合用触媒とこれを用いたオレフィン重合体の製造方法 |
JP2012206910A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Japan Polypropylene Corp | 層状ケイ酸塩粒子の製造方法およびそれを用いたオレフィン重合用触媒の製造方法 |
WO2015060421A1 (ja) | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 日本ポリプロ株式会社 | オレフィン重合用触媒成分、オレフィン重合用触媒およびそれを用いたオレフィン(共)重合体の製造方法 |
US9751961B2 (en) | 2013-10-25 | 2017-09-05 | Japan Polypropylene Corporation | Catalyst component for olefin polymerization, catalyst for olefin polymerization, and process for producing olefin (co)polymer using the same |
JP2018111841A (ja) * | 2013-10-25 | 2018-07-19 | 日本ポリプロ株式会社 | オレフィン重合用触媒成分、オレフィン重合用触媒およびそれを用いたオレフィン(共)重合体の製造方法 |
WO2020203274A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 日本ポリプロ株式会社 | オレフィン重合用触媒成分の製造方法、オレフィン重合用触媒の製造方法、及び、オレフィン重合体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3641535B2 (ja) | 2005-04-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0846696B1 (en) | Catalyst for polymerization of alpha-olefins | |
EP0511665B1 (en) | Catalyst for polymerizing an olefin and method for producing an olefin polymer | |
EP0528041A1 (en) | Novel transition metal compound and process for polymerizing olefin by using the same | |
JPH11349633A (ja) | 新規な遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒成分およびα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JPH07224106A (ja) | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 | |
JPH06100613A (ja) | α‐オレフィン重合体の製造法 | |
JPH11240909A (ja) | 新規な遷移金属化合物、α−オレフィン重合用触媒成分およびα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP3414769B2 (ja) | オレフィン重合用触媒およびこれを用いたオレフィン重合体の製造方法 | |
JP2000072813A (ja) | オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2000198812A (ja) | オレフィン重合用触媒及びオレフィン重合体の製造方法 | |
JP3376091B2 (ja) | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 | |
JP2974494B2 (ja) | オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法 | |
JPH1045819A (ja) | エチレン重合用触媒及びエチレンの重合法 | |
JP4202397B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒 | |
JP2000095791A (ja) | 遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒成分およびα―オレフィン重合体の製造方法 | |
JP3641535B2 (ja) | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 | |
JPH05295019A (ja) | α‐オレフィン重合体の製造法 | |
JP4535573B2 (ja) | プロピレンブロック共重合体の製造方法 | |
JPH10168111A (ja) | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 | |
JPH10168110A (ja) | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 | |
JP4476443B2 (ja) | オレフィン重合用触媒の製造方法 | |
JP2004059828A (ja) | オレフィン重合用触媒及びそれを用いるオレフィン重合体の製造方法 | |
JP3295076B1 (ja) | α−オレフィン重合用触媒成分 | |
JPH11349618A (ja) | α−オレフィン重合用触媒成分、触媒およびα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2972161B2 (ja) | オレフィン重合用触媒成分 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040423 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040430 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20040628 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041227 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20050124 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090128 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090128 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100128 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110128 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110128 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120128 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120128 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130128 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |