JPH10168109A - オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 - Google Patents

オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法

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JPH10168109A
JPH10168109A JP32835396A JP32835396A JPH10168109A JP H10168109 A JPH10168109 A JP H10168109A JP 32835396 A JP32835396 A JP 32835396A JP 32835396 A JP32835396 A JP 32835396A JP H10168109 A JPH10168109 A JP H10168109A
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olefin
zirconium dichloride
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propylene
catalyst
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Toshihiko Sugano
利彦 菅野
Yasuo Maruyama
康夫 丸山
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 オレフィンの重合に際し、固体成分あたりの
重合活性を極めて高くすることができ、得られた重合体
から触媒成分を除去する必要がないような、触媒及びそ
れを用いた重合方法の提供。 【解決手段】 [A]共役五員環配位子を有する4〜6
族遷移金属化合物、[B]酸および塩類の共存下処理を
行って得られた、(1)珪酸塩を除くイオン交換性層状化
合物および(2)無機珪酸塩からなる群より選ばれた少な
くとも一種の化合物、および[C]有機アルミニウム化
合物の3成分の存在下にオレフィンを予備重合して得ら
れるオレフィン重合用触媒において、予備重合する際、
炭素数3以上のオレフィン濃度を1mol/l以上とす
ることを特徴とする、オレフィン重合用触媒、並びに、
上記触媒の存在下、オレフィンを単独重合または共重合
することを特徴とするオレフィンの重合方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィン重合用
触媒およびオレフィンの重合方法に関し、更に詳しくは
オレフィンを用いた重合体を高い活性で製造するのに適
し、粒子性状に優れたオレフィン重合体が得られる重合
用触媒ならびに該触媒を用いたオレフィンの重合方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】
(1)メタロセン(2)担体および(3)有機アルミニ
ウム化合物からなる触媒の存在下に、オレフィンを予備
重合させ、この予備重合触媒を用いてオレフィン重合体
を製造することは公知である(特開昭63−15260
8号、、特開昭63−280703号、特開平2−84
407号、特開平3−234710号、特開平4−87
04号、特開平5−140224号、特開平5−155
930号、特開平5−170823号等)。
【0003】しかし、これらの方法においては、固体成
分当たりの重合活性が不充分なものが多く、また得られ
るオレフィン重合体の嵩密度や微粉等の粒子性状も十分
とはいえない。本発明者らは、これらの諸問題を解決す
べく、特定の固体成分を用いてオレフィンを予備重合す
る方法を提案した(特開平5−295022号、特開平
7−309906号、)。しかし、これらの方法におい
ても、重合活性については、かならずしも十分なもので
はなかった。
【0004】
【問題を解決するための手段】本発明者は、このような
現状に鑑み鋭意検討した結果、本発明に到達した。すな
わち本発明は、[A]共役五員環配位子を有する4〜6
族遷移金属化合物、[B]酸および塩類の共存下処理を
行って得られた、(1)珪酸塩を除くイオン交換性層状化
合物および(2)無機珪酸塩からなる群より選ばれた少な
くとも一種の化合物、および[C]有機アルミニウム化
合物の3成分の存在下にオレフィンを予備重合して得ら
れるオレフィン重合用触媒において、予備重合する際、
炭素数3以上のオレフィン濃度を1mol/l以上とす
ることを特徴とする、オレフィン重合用触媒、並びに、
該重合触媒の存在下、オレフィンを単独重合または共重
合することを特徴とするオレフィンの重合方法に存す
る。
【0005】以下本発明を詳細に説明する。(本願の原
子の周期律は、1989年にIUPACにより推奨され
た18族方式に基ずくものである。) 本発明の触媒に用いられる[A]成分である、共役五員
環配位子を有する4〜6族遷移金属化合物は、共役五員
環配位子を少なくとも1個有する遷移金属化合物であ
る。このような遷移金属化合物は、それ自身ならびにそ
れをオレフィン重合用触媒成分として使用することは既
に知られている。
【0006】[A]成分として好ましい化合物は、下記
一般式[1]、[2]および[3]で表される化合物で
ある。 (C55-a1 a)(C55-b2 b)MXY [1] Q(C54-c1 c)(C54-d2 d)MXY [2] Q’(C54-e3 e)ZMXY [3]
【0007】(ここで、Qは二つの共役五員環配位子を
架橋する結合性基を、Q’は共役五員環配位子とZ基を
架橋する結合性基を、Mは周期律表4〜6族遷移金属
を、XおよびYは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン
基、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20の酸
素含有炭化水素基、炭素数1〜20の窒素含有炭化水素
基、炭素数1〜20のリン含有炭化水素基または炭素数
1〜20のケイ素含有炭化水素基を、Zは酸素、イオ
ウ、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜40の
ケイ素含有炭化水素基、炭素数1〜40の窒素含有炭化
水素基または炭素数1〜40のリン含有炭化水素基を示
す。R1、R2およびR3はそれぞれ独立して、炭素数1
〜20の炭化水素基、ハロゲン基、炭素数1〜20のハ
ロゲン含有炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ケイ素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素
含有炭化水素基またはホウ素含有炭化水素基を示す。ま
た、隣接する2個のR1、2個のR2または2個のR3
それぞれ結合してC4〜C10環を形成していてもよい。
a、b、c、dおよびeは、0≦a≦5、0≦b≦5、
0≦c≦4、0≦d≦4、0≦e≦4を満足する整数で
ある。)
【0008】2個の共役五員環配位子の間を架橋する結
合性基Qおよび共役五員環配位子とZ基とを架橋する結
合性基Q’は、具体的には下記のようなものが挙げられ
る。メチレン基、エチレン基のようなアルキレン基、エ
チリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、フ
ェニルメチリデン基、ジフェニルメチリデン基のような
アルキリデン基、ジメチルシリレン基、ジエチルシリレ
ン基、ジプロピルシリレン基、ジフェニルシリレン基、
メチルエチルシリレン基、メチルフェニルシリレン基、
メチル−t−ブチルシリレン基、ジシリレン基、テトラ
メチルジシリレン基のようなケイ素含有架橋基、ジメチ
ルゲルミレン基、ジエチルゲルミレン基、ジフェニルゲ
ルミレン基、メチルフェニルゲルミレン基のようなゲル
マニウム含有架橋基、アルキルフォスフィン、アミン等
である。これらのうち、アルキレン基、アルキリデン
基、およびケイ素含有架橋基が特に好ましく用いられ
る。
【0009】上記一般式において、(C55-a1 a)、
(C55-b2 b)、(C54-c1 c)、(C5
4-d2 d)及び(C54-e3 e)で示される共役五員環
配位子は、同一または異なっていてもよい。R1、R2
びR3は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブ
チル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、ノニル、デシル、フェニル、クロロメチル、
クロロエチル基等のハロゲン基を含有していてもよい炭
素数1〜20の炭化水素基、フッ素、塩素、臭素、沃素
等のハロゲン基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノ
キシ、ペンタメチルフェノキシ基等のアリールオキシ
基、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニ
ルシリル基等のケイ素含有炭化水素基、または、リン含
有炭化水素基、窒素含有炭化水素基、ホウ素含有炭化水
素基である。R1(あるいはR2、R3)が複数個存在す
るときは、それらは同一でも異なっていてもよい。
【0010】また、2個のR1、2個のR2または2個の
3がシクロペンタジェニル環の隣接する炭素原子に存
在する場合は、相互に結合してC4〜C10環を形成し、
インデニル、テトラヒドロインデニル、フルオレニル、
オクタヒドロフルオレニル、アズレニル、ヘキサヒドロ
アズレニル基等となってもよい。a、b、c、dおよび
eは、0≦a≦5、0≦b≦5、0≦c≦4、0≦d≦
4、0≦e≦4を満足する整数である。
【0011】Mは、周期律表4〜6族遷移金属のチタニ
ウム、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオ
ブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン等で
ある。好ましくは、チタニウム、ジルコニウム、ハフニ
ウムであり、特にはチタニウム、ジルコニウムが好まし
い。Zは、酸素(−O−)、イオウ(−S−)、炭素数
1〜20、好ましくは1〜10のアルコキシ基、炭素数1
〜20、好ましくは1〜12のチオアルコキシ基、炭素
数1〜40、好ましくは1〜18のケイ素含有炭化水素
基、炭素数1〜40、好ましくは1〜18の窒素含有炭
化水素基、炭素数1〜40、好ましくは1〜18のリン
含有炭化水素基であり、Z基の一部が結合性基である
Q’基と結合しているものである。
【0012】XおよびYは、それぞれ水素、ハロゲン
基、炭素数1〜20、好ましくは1〜10の炭化水素
基、炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルコキシ
基、アルキルアミド基、炭素数1〜20、好ましくは1
〜12のリン含有炭化水素基、炭素数1〜20、好まし
くは1〜12のケイ素含有炭化水素基等である。XとY
は同一でも異なっていてもよい。これらのうちハロゲン
基、炭化水素基およびアルキルアミド基が好ましい。
【0013】Mがジルコニウムである場合のこの遷移金
属化合物の具体例は、式[1]に相当するものとして
は、ビス(2−フェニルインデニル)ジルコニウムジク
ロリド、ビス{2−(3,5−ジトリフルオロメチルフ
ェニル)インデニル}ジルコニウムジクロリド等が例示
される。
【0014】式[2]に相当するものとしては、メチレ
ンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレ
ンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレ
ンビス(インデニル)ジルコニウムモノハイドライドモ
ノクロリド、エチレンビス(インデニル)メチルジルコ
ニウムモノクロリド、エチレンビス(インデニル)ジル
コニウムモノメトキシドモノクロ−4−リド、エチレン
ビス(インデニル)ジルコニウムジエトキシド、エチレ
ンビス(インデニル)ジルコニウムジメチル、エチレン
ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジル
コニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチルインデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−エ
チルインデニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビ
ス(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロ
リド、エチレンビス(2,4,7−トリメチルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチ
ル−4−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレンビス(2−エチル−4−フェニルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−メチ
ル−4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレン(2,4−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(3’,5’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレン(2−メチル−4−t
−ブチルシクロペンタジエニル)(3’−t−ブチル−
5’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、エチレン(2,3,5−トリメチルシクロペン
タジエニル)(2’,4’,5’−トリメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリ
デンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、イソ
プロピリデン(2,4−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(3’,5’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(2−メチル
−4−t−ブチルシクロペンタジエニル)(3’−t−
ブチル−5’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、メチレン(シクロペンタジエニル)
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、メチレン(シクロペンタジエニル)
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムクロリドヒドリド、メチレン(シクロペンタジエニ
ル)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、メチレン(シクロペンタジエニル)
(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジフェニル、メチレン(シクロペンタジエニル)(ト
リメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、メチレン(シクロペンタジエニル)(テトラメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、イソ
プロピリデン(シクロペンタジエニル)(3,4−ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド?A
イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2,3,
4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエ
ニル)(3−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン
(2−メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニ−5
−ル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(3
−t−ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(3−t−
ブチルシクロペンタジェニル)(2−メチル−4−フェ
ニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピ
リデン(2,5−ジメチルシクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリド、エチレン(シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジク
ロリド、エチレン(2,5−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レン(2,5−ジエチルシクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウムジクロリド、ジフェニルメチレ
ン(シクロペンタジエニル)(3,4−ジエチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、シクロヘキ
シリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、シクロヘキシリデン(2,5−
ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、メ
チレンビス(2−メチル−4−フェニルアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレンビス(4−メチルアズ
レニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2,
4−ジメチルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エ
チレンビス(2−メチル−4−フェニルアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−エチル−4
−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レンビス(2−メチル−4−フェニルヘキサヒドロアズ
レニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス(2−
メチル−4−イソプロピルアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、シクロヘキシリデンビス(2,4,4,−ト
リメチルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレンビス(4,5,6,7−テトラヒ
ドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リレンビス(2−メチルインデニル)ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリレンビス(2,4,7−トリメチ
ルインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レンビス(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4,
5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジメチルシリレン(2,4−ジメチルシクロ
ペンタジエニル)(3’,5’−ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン
ビス(2−メチル−4,4−ジメチル−4,5,6,7
−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(2−メチル−4,4−ジメチル
−シラ−4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メ
チル−4.5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロ
リド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニ
ルインデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)ジル
コニウムジメチル、ジメチルシリレンビス(2−メチル
−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルアズ
レニル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリレンビス
(2−メチル−4−フェニルヘキサヒドロアズレニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−
メチル−4,4−ジフェニルアズレニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
イソプロピロアズレニル)ジルコニウムジクロリド、フ
ェニルメチルシリレンビス(インデニル)ジルコニウム
ジクロリド、フェニルメチルシリレンビス(2−メチル
インデニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルメチル
シリレンビス(2,4−ジメチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、フェニルメチルシリレンビス(4,
5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、フェニルメチルシリレン(2,4−ジメチル
シクロペンタジエニル)(3’,5’−ジメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルメ
チルシリレン(2,3,5−トリメチルシクロペンタジ
エニル)(2’,4’,5’−トリメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルメチルシ
リレンビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、フェニルメチルシリレンビス
(2,4,4−トリメチルアズレニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジフェニルシリレンビス(インデニル)ジル
コニウムジクロリド、テトラメチルジシリレンビス(イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、テトラメチルジシ
リレンビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、テトラメチルジシリレン(3−メチルシクロペ
ンタジエニル)(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,
4−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)
(3,4−ジエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(トリエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(テトラエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t
−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメ
チルシリレン(シクロペンタジエニル)(オクタヒドロ
フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レン(2−メチルシクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(2,
5−ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(2−エチ
ルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(2,5−ジエチルシ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジ
クロリド、ジエチルシリレン(2−メチルシクロペンタ
ジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(2,5−ジ
メチルシクロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチ
ルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リレン(ジエチルシクロペンタジエニル)(2,7−ジ
−t−ブチルフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(オ
クタヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルシリレン(ジメチルシクロペンタジエニル)(オ
クタヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルシリレン(エチルシクロペンタジエニル)(オク
タヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメ
チルシリレン(ジエチルシクロペンタジエニル)(オク
タヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメ
チルゲルミレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロ
リド、ジメチルゲルミレン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルゲ
ルミレンビス(2,4,4−トリメチルアズレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、フェニルホスフィノビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルアミノビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド、フェニルアミ
ノ(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、エチレンビス{4−(3−メチル−1
−フェニル)インデニル}ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルシリレンビス{4−(3−メチル−1−フェニ
ル)インデニル}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リレンビス{4−(3−メチル−1−フェニル)インデ
ニル}ジルコニウムビス(ジメチルアミド)、ジメチル
シリレンビス{4−(3−エチル−1−フェニル)イン
デニル}ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビ
ス[4−{3−メチル−1−(2−ナフチル)}インデ
ニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス
[4−{3−メチル−1−(3−メチルフェニル)}イ
ンデニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン
ビス[4−{3−メチル−1−(3,5−ジメチルフェ
ニル)}インデニル]ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルゲルミレンビス{4−(3−メチル−1−フェニル)
インデニル}ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
{4−(7−t−ブチル)インデニル}ジルコニウムジ
クロリド、ジメチルシリレンビス{4−(2−メチルイ
ンデニル)}ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
{4−(2,7−ジメチルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド等が例示される。
【0015】式[3]に相当するものとしては、ペンタ
メチルシクロペンタジエニル−ビス(フェニル)アミド
ジルコニウムジクロリド、インデニル−ビス(フェニ
ル)アミドジルコニウムジクロリド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニル−ビス(トリメチルシリル)アミドジ
ルコニウムジクロリド、ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルフェノキシジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レン(テトラメチルシクロペンタジエニル)フェニルア
ミドジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(テト
ラメチルシクロペンタジエニル)t−ブチルアミドジル
コニウムジクロリド、ジメチルシリレン(インデニル)
シクロヘキシルアミドジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリレン(テトラヒドロインデニル)デシルアミノジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(テトラヒド
ロインデニル)((トリメチルシリル)アミノ)ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルゲルミレン(テトラメチル
シクロペンタジエニル)(フェニル)アミノジルコニウ
ムジクロリド等が例示される。
【0016】また、チタニウム化合物、ハフニウム化合
物等の他の第4、5、6族遷移金属化合物についても、
上記と同様の化合物が挙げられる。更に、これらの混合
物を用いてもよい。また更に、公知の三塩化チタンを主
成分とする固体触媒やマグネシウム、チタン、ハロゲン
を必須成分として含有する担体担持型触媒と同時に用い
ることもできる。
【0017】本発明において、[B]成分として、(1)
珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物および(2)無機珪
酸塩からなる群より選ばれた少なくとも一種の化合物を
用いる。珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物は、イオ
ン結合等によって構成される面が互いに弱い結合力で平
行に積み重なった結晶構造をとる化合物であり、含有す
るイオンが交換可能なものを言う。
【0018】珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物は、
六方最密パッキング型、アンチモン型、CdCl2 型、
CdI2 型等の層状の結晶構造を有するイオン結晶性化
合物等を例示することができる。このような結晶構造を
有するイオン交換性層状化合物の具体例としては、α−
Zr(HAsO4 2 ・H2 O、α−Zr(HPO4
2 、α−Zr(KPO4 2 ・3H2 O、α−Ti(H
PO4 2 、α−Ti(HAsO4 2 ・H2 O、α−
Sn(HPO4 2 ・H2 O、γ−Zr(HP
4 2、γ−Ti(HPO4 2 、γ−Ti(NH4
PO4 2 ・H2 O等の多価金属の結晶性酸性塩があげ
られる。
【0019】無機珪酸塩としては、粘土、粘土鉱物、ゼ
オライト、珪藻土等が挙げられる。これらは、合成品を
用いてもよいし、天然に産出する鉱物を用いてもよい。
粘土、粘土鉱物の具体例としては、アロフェン等のアロ
フェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、
アノーキサイト等のカオリン族、メタハロイサイト、ハ
ロイサイト等のハロイサイト族、クリソタイル、リザル
ダイト、アンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイ
ト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サ
ポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュ
ライト等のバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイ
ト、海緑石等の雲母鉱物、アタパルジャイト、セピオラ
イト、パイゴルスカイト、ベントナイト、木節粘土、ガ
イロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライト、リョク
デイ石群等が挙げられる。これらは混合層を形成してい
てもよい。人工合成物としては、合成雲母、合成ヘクト
ライト、合成サポナイト、合成テニオライト等が挙げら
れる。
【0020】[B]成分の具体例のうち好ましくは、デ
イッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイ
ト等のカオリン族、メタハロサイト、ハロサイト等のハ
ロサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴラ
イト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、
バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトラ
イト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキ
ュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石等の雲母
鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、
合成テニオライトが挙げられ、特に好ましくはモンモリ
ロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイ
ト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バー
ミキュライト等のバーミキュライト鉱物、合成雲母、合
成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが
挙げられる。
【0021】これら、(1)珪酸塩を除くイオン交換性層
状化合物および(2)無機珪酸塩からなる群より選ばれた
少なくとも一種の化合物は、そのまま用いてもよいが、
塩酸、硝酸、硫酸等による酸処理および/または、Li
Cl、NaCl、KCl、CaCl2 、MgCl2 、M
gSO4 、ZnSO4 、Ti(SO4 2 、Zr(S
4 2 、Al2 (SO4 3 等の塩類処理を行った
ほうが好ましい。また、粉砕や造粒等の形状制御を行っ
てもよく、粒子性状に優れたオレフィン重合体を得るた
めには、造粒することが好ましい。
【0022】上記[B]成分は、通常脱水乾燥してから
用いる。本発明の[C]成分として用いられる有機アル
ミニウム化合物の例は、 AlR4 m3-m
【0023】(式中、R4は炭素数1〜20の炭化水素
基、Xは水素、ハロゲン、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、mは0<m≦3の数)で示される化合物であり、
具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミ
ニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム等のトリアルキルアルミニウムまたはジエチ
ルアルミニウムモノクロライド、ジエチルアルミニウム
エトキシド等のハロゲンもしくはアルコキシ含有アルキ
ルアルミニウムである。またこの他、メチルアルミノキ
サン等のアルミノキサン等も使用できる。これらを混合
して用いてもよい。これらのうち特にトリアルキルアル
ミニウムが好ましい。
【0024】[A]成分、[B]成分、[C]成分の存
在下に、オレフィンの予備重合を行って予備重合触媒を
得る。この際、[A]成分、[B]成分、[C]成分の
接触方法は特に限定されない。 接触は窒素等の不活性
ガス中、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キ
シレン等の不活性炭化水素溶媒中で行ってもよい。触媒
各成分の使用量は、[B]成分1gあたり[A]成分が
0.0001〜10mmol、好ましくは0.001〜
5mmolであり、[C]成分が0.01〜10000
mmol、好ましくは0.1〜100mmolである。
また、[A]成分中の遷移金属と[C]成分中のアルミ
ニウムの原子比が1:0.01〜1000000、好ま
しくは、0.1〜100000である。
【0025】本発明における予備重合の形態は、通常、
スラリー重合である。本発明では、この予備重合時にお
ける液相中の炭素数3以上のオレフィンの濃度を1mo
l/l以上とすることを特徴とするものである。即ち、
この濃度は、次式で表されるものである。
【0026】
【数1】[炭素数3以上のオレフィン濃度](mol/
l)=導入した炭素数3以上のオレフィンのモル数/
{導入した炭素数3以上のオレフィンの容量+溶媒の容
量}
【0027】本発明では、1mol/l以上、好ましく
は、3〜20mol/lの高濃度で予備重合を行うこと
により、高活性なものが得られる。要するに、従来予備
重合は、マイルドな条件で行うのが好ましいとされてき
たので、モノマー濃度としては、低濃度が採用されてき
たため、本発明の効果は従来技術から考えると予想外の
ものである。
【0028】予備重合に用いられる炭素数3以上のオレ
フィンとしては、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセ
ン、3−メチル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテ
ン、ビニルシクロアルカン、スチレンあるいはこれらの
誘導体等が挙げられる。また、重合は単独重合のほか通
常公知のエチレンやその他の炭素数3以上のオレフィン
とのランダム共重合やブロック共重合にも適用できる。
尚、本発明において、炭素数3以上のオレフィンが前記
した範囲存在すればよく、エチレンの存在を否定するも
のではない。
【0029】予備重合温度は、−50℃〜100℃であ
り、予備重合時間は0.01〜10時間程度である。ま
た、予備重合は、固体触媒1gあたり、0.01〜10
00g、好ましくは0.1〜100gの重合体が生成す
るように行うことが望ましい。この様にして得られた触
媒は、そのまま洗浄せずに用いてもよく、洗浄した後に
用いてもよい。
【0030】また、必要に応じて新たに[C]成分を組
合せて用いてもよい。この際に用いられる[C]成分の
量は、[A]成分中の遷移金属に対する[C]成分中の
アルミニウムの原子で1:0〜10000になるように
選ばれる。重合に用いられるオレフィンとしては、エチ
レン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、3−メ
チル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、ビニル
シクロアルカン、スチレンあるいはこれらの誘導体等が
挙げられる。また、重合は単独重合であっても、共重合
であってもよく、共重合の場合、ランダム共重合であっ
ても、ブロック共重合であってもよい。
【0031】重合反応は、ブタン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等の不活性炭
化水素や液化αーオレフィン等の溶媒存在下、あるいは
不存在下に行われる。温度は、−50℃〜250℃であ
り、圧力は特に制限されないが、好ましくは常圧〜20
00kgf/cm2の範囲である。また、重合系内に分
子量調節剤として水素を存在させてもよい。
【0032】
【実施例】次に実施例によって本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限りこれら
実施例によって制約を受けるものではない。なお、以下
の触媒合成工程および重合工程は、すべて精製窒素雰囲
気下で行った。また溶媒はMS−4Aで脱水した後、精
製窒素でバブリングして脱気したものを用いた。
【0033】(実施例−1) (1)[A]成分の合成(ジメチルシリレンビス(2−
メチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロ
リド) 上記錯体の合成は、Organometallics
1994,13,954−963に記載の方法と同様に
して行った。
【0034】(2)[B]成分の製造 市販の合成雲母(コープケミカル社製、ME−100)
の粉砕品5kgを、ZnSO4・7H2O 1kgを溶解
させた脱塩水25リットル中に分散させて、室温で1時
間攪拌した。その後脱塩水で洗浄し、水スラリー液とし
た後、スプレードライヤーにより噴霧造粒を行って球状
の造粒合成雲母を得た。
【0035】(3)プロピレン予備重合 (2)で得られた[B]成分1.05gを減圧下200
℃で2時間の加熱処理を行った。これにトルエン92m
lを加えてスラリーとした後、2Lオートクレーブに全
量導入した。ついでトリエチルアルミニウムのトルエン
溶液(0.5mmol/ml)を1mlおよびジメチル
シリレンビス(2−メチル−4−フェニルインデニル)
ジルコニウムジクロリドのトルエン溶液(4.1μmo
l/ml)を7.4ml加えた。攪拌下昇温し、70℃
において50℃の液化プロピレン20mlを導入し、7
分間予備重合を行った。この時のプロピレン濃度は1.
82mol/lであった。ついで未反応のプロピレンを
パージし、精製窒素で加圧置換した後、予備重合触媒を
取り出した。このものは、[B]成分1gあたり14.
7gの重合体を含有していた。
【0036】(4)プロピレンの重合 2Lオートクレーブにトリエチルアルミニウムのトルエ
ン溶液(0.5mmol/ml)を1ml加え、プロピ
レンを1400ml導入した。攪拌下昇温し、70℃で
(3)で得られた予備重合触媒を固体成分([B]成
分)として50mg導入し、70℃で1時間重合を行っ
た。その後未反応のプロピレンをパージして、重合を停
止させた。得られたプロピレン重合体は62gであっ
た。固体成分1g・1時間あたりの重合体生成量は、1
240gであった。
【0037】(比較例−1) (1)プロピレン予備重合 実施例−1(3)において、導入するプロピレンを6m
lとし、30分間の重合とした以外は、実施例−1
(3)と同様にして予備重合を行った。この時のプロピ
レン濃度は0.55mol/lであった。また、このも
のは、[B]成分1gあたり0.8gの重合体を含有し
ていた。
【0038】(2)プロピレンの重合 (1)で得られた予備重合触媒を固体成分([B]成
分)として50mg用いた以外は、実施例−1(4)と
同様にしてプロピレンの重合を行った。得られた重合体
は、20gであり、固体成分1g・1時間あたりの重合
体生成量は、400gであった。
【0039】(実施例−2) (1)[A]成分の合成(ジメチルシリレンビス(2−
メチル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロ
リド) 以下の反応は全て不活性ガス雰囲気下で行い、また、反
応溶媒は予め乾燥したものを使用した。2−メチルアズ
レン2.22gをヘキサン30mlに溶かし、フェニル
リチウムのシクロヘキサン−ジエチルエーテル溶液1
5.6ml(1.0等量)を0℃で少しずつ加えた。こ
の溶液を室温で1時間攪拌した後、−78℃に冷却しテ
トラヒドロフラン30mlを加えた。この溶液にジメチ
ルジクロロシラン0.95mlを加え、室温まで昇温
し、さらに50℃で1.5時間加熱した。この後、塩化
アンモニウム水溶液を加え、分液した後有機相を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン−ジクロロメタン 5:1)で精製するとジメチル
ビス{1−(2−メチル−4−フェニル−1,4−ジヒ
ドロアズレニル)}シラン1.48gが得られた。
【0040】上記で得られたジメチルビス{1−(2−
メチル−4−フェニル−1,4−ジヒドロアズレニ
ル)}シラン768mgをジエチルエーテル15mlに
溶かし、−78℃でノルマルブチルリチウムのヘキサン
溶液1.98ml(1.64mol/L)を滴下し、徐
々に昇温して室温で12時間攪拌した。減圧下溶媒留去
した後、得られた固体をヘキサンで洗浄し減圧乾固し
た。これにトルエン・ジエチルエーテル(40:1)2
0mlを加え、−60℃で四塩化ジルコニウム325m
gを加え、徐々に昇温し室温で15時間攪拌した。得ら
れた溶液を減圧下濃縮し、ヘキサンを加えて再沈殿させ
るとジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニル
アズレニル)ジルコニウムジクロリドのジアステレオマ
ー混合物150mgが得られた。
【0041】ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−
フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリドのジアス
テレオマー混合物全量を塩化メチレン5mlに溶解し、
100W高圧水銀ランプを有するパイレックスガラス製
の反応器に導入した。この溶液を攪拌しながら常圧下1
0分間光照射(300nm〜600nm)した後、塩化
メチレンを減圧下留去した。得られた黄褐色固体にトル
エン7mlを加え攪拌した後静置すると黄色固体が沈殿
し上澄み液を除いた。さらに同様の操作をトルエン1m
l、1ml、ヘキサン1mlで行った後、得られた固形
物を減圧下乾固すると、ジメチルシリレンビス(2−メ
チル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリ
ドの単一のジアステレオマ−75mgが得られた。
【0042】(2)[B]成分の製造 市販のモンモリロナイト(クニミネ工業社製、クニピア
F)8kgを振動ボールミルで4時間粉砕し、MgCl
2・6H2O 10kgを溶解させた脱塩水50リットル
中に分散させて、80℃で1時間攪拌した。得られた固
体成分を水洗した後、8.2%の塩酸水溶液56リット
ル中に分散させて90℃で2時間攪拌し、脱塩水で水洗
した。この化学処理されたモンモリロナイト4.6kg
の水スラリーを固形分濃度15.2%に調製し、スプレ
ードライヤーにより噴霧造粒を行って球状の造粒モンモ
リロナイトを得た。
【0043】(3)プロピレン予備重合 (2)で得られた[B]成分を4.7g採取し、減圧下
200℃で2時間の加熱脱水処理を行った。ついでトル
エン10mlを加えた後、トリエチルアルミニウム1.
3mlを添加し室温で1時間反応させた。反応後、トル
エン50mlで2回洗浄した後トルエンスラリーとし
た。
【0044】上記スラリーを3.1ml(固体成分とし
て100mg)採取しジメチルシリレンビス(2−メチ
ル−4−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリド
のトルエン溶液(1.8μmol/ml)を1.6ml
添加した。ついでトリイソブチルアルミニウムのトルエ
ン溶液(0.01mmol/ml)を3ml添加し、室
温で5分接触させた。2Lオートクレーブに上記接触物
を全量加えて、攪拌下に液化プロピレン100mlを導
入して、室温で5分間予備重合を行った。この時のプロ
ピレン濃度は、10.2mol/lであった。
【0045】(4)プロピレン重合 (3)の予備重合に引き続いて、トリイソブチルアルミ
ニウムのトルエン溶液(0.5mmol/ml)を1m
l加え、液化プロピレン1300mlを導入し、80℃
に昇温後80℃で1時間重合を行った。その後未反応の
プロピレンをパージして、重合を停止させた。得られた
プロピレン重合体は305gであった。固体成分1g・
1時間あたりの重合体生成量は、3050gであった。
【0046】(実施例−3) (1)プロピレン予備重合 実施例−2(3)で得られたトリエチルアルミニウム処
理[B]成分スラリーを31ml(固体成分として1
g)採取しジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フ
ェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリドのトルエン
溶液(1.8μmol/ml)を16ml添加した。つ
いでトリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液(0.
1mmol/ml)を3ml添加し、室温で5分接触さ
せた。2Lオートクレーブに上記接触物全量とトルエン
10mlを加えて、攪拌下に液化プロピレン40mlを
導入して、室温で15分間予備重合を行った。この時の
プロピレン濃度は、4.1mol/lであった。予備重
合後、プロピレンをパージして、精製窒素で加圧置換し
た後、予備重合触媒を取り出した。
【0047】(2)プロピレン重合 2Lオートクレーブにトリイソブチルアルミニウムのト
ルエン溶液(0.5mmol/ml)を1ml加え、液
化プロピレン1400mlを導入した後、(1)で得ら
れた予備重合触媒を固体成分として100mg加え、攪
拌下昇温して80℃で1時間重合を行った。その後未反
応のプロピレンをパージして、重合を停止させた。得ら
れたプロピレン重合体は290gであった。固体成分1
g・1時間あたりの重合体生成量は、2900gであっ
た。
【0048】(実施例−4) (1)プロピレン予備重合 実施例−3(1)において、加えるトルエン量を35m
l、液化プロピレン量を15mlとし、重合時間を30
分とした以外は、実施例−3(1)と同様にして予備重
合触媒を得た。この時のプロピレン濃度は1.5mol
/lであった。
【0049】(2)プロピレン重合 実施例−3(2)において、(1)で得られた予備重合
触媒を用いた以外は実施例−3(2)と同様にしてプロ
ピレンの重合を行った。得られたプロピレン重合体は2
10gであった。固体成分1g・1時間あたりの重合体
生成量は、2100gであった。
【0050】(比較例−2) (1)プロピレン予備重合 実施例−3(1)において、加えるトルエン量を43m
l、液化プロピレン量を7mlとし、重合時間を60分
とした以外は、実施例−3(1)と同様にして予備重合
触媒を得た。この時のプロピレン濃度は0.7mol/
lであった。
【0051】(2)プロピレン重合 実施例−3(2)において、(1)で得られた予備重合
触媒を用いた以外は実施例−3(2)と同様にしてプロ
ピレンの重合を行った。得られたプロピレン重合体は1
30gであった。固体成分1g・1時間あたりの重合体
生成量は、1300gであった。
【0052】(実施例−5) (1)プロピレン予備重合 実施例−2(3)で得られたトリエチルアルミニウム処
理[B]成分スラリーを13ml(固体成分として41
9mg)採取しジメチルシリレンビス(2−メチル−4
−フェニルアズレニル)ジルコニウムジクロリドのトル
エン溶液(1.8μmol/ml)を4.4ml添加し
た。ついでトリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液
(0.01mmol/ml)を7.8ml添加し、室温
で5分接触させた。
【0053】2Lオートクレーブに上記接触物全量を加
えて、攪拌下に液化プロピレン200mlを導入して、
室温で5分間予備重合を行った。この時のプロピレン濃
度は、9.7mol/lであった。予備重合後、プロピ
レンをパージして、精製窒素で加圧置換した後、予備重
合触媒を取り出した。このものは、[B]成分1gあた
り0.7gの重合体を含有していた。
【0054】(2)プロピレン重合 実施例−3(2)において、(1)で得られた予備重合
触媒を用いた以外は実施例−3(2)と同様にしてプロ
ピレンの重合を行った。得られたプロピレン重合体は2
65gであった。固体成分1g・1時間あたりの重合体
生成量は、2650gであった。
【0055】(実施例−6) (1)[B]成分の製造 Zr(SO42・4H2O 6.4gを溶解させた脱塩
水200mlに、市販の合成雲母(コープケミカル社
製、ME−100)15.6gを分散させ、室温で30
分攪拌した後、濾過した。この操作を1回繰り返した
後、脱塩水で十分洗浄し乾燥を行って[B]成分を得
た。
【0056】(2)プロピレン予備重合 (1)で得られた[B]成分1.08gを200℃で1
時間減圧して、加熱脱水処理を行った。これに、n−ヘ
キサン25mlを加えてスラリーとした後、2Lオート
クレーブに導入した。さらにトリエチルアルミニウムの
トルエン溶液(0.5mmol/ml)を1mlおよび
ジメチルシリレンビス(2−メチル−4−フェニルイン
デニル)ジルコニウムジクロリドのトルエン溶液(4.
1μmol/ml)を6.5ml加えた。攪拌下液化プ
ロピレンを100ml導入して室温で2分の予備重合を
行った。この時のプロピレン濃度は、8.3mol/l
であった。予備重合後、プロピレンをパージして、精製
窒素で加圧置換した後、予備重合触媒を取り出した。こ
のものは、[B]成分1gあたり5.8gの重合体を含
有していた。
【0057】(2)プロピレン重合 (1)で得られた予備重合触媒を固体成分([B]成
分)として50mg用いた以外は、実施例−1(4)と
同様にしてプロピレンの重合を行った。得られた重合体
は、85gであり、固体成分1g・1時間あたりの重合
体生成量は、1700gであった。
【0058】(比較例−3) (1)プロピレン予備重合 実施例−6(2)において、液化プロピレン100ml
に代えて、n−ヘキサン90mlと液化プロピレン10
mlとし、重合時間を60分とした以外は、実施例−6
(2)と同様にして予備重合触媒を得た。この時のプロ
ピレン濃度は0.8mol/lであった。
【0059】(2)プロピレン重合 (1)で得られた予備重合触媒を固体成分([B]成
分)として50mg用いた以外は、実施例−1(4)と
同様にしてプロピレンの重合を行った。得られた重合体
は、40gであり、固体成分1g・1時間あたりの重合
体生成量は、800gであった。
【0060】
【発明の効果】本発明の触媒およびそれを用いた重合方
法によれば、オレフィンの重合に際し、固体成分あたり
の重合活性を極めて高くすることができ、得られた重合
体から触媒成分を除去する必要がないため、工業的に有
用である。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 [A]共役五員環配位子を有する4〜6
    族遷移金属化合物、[B]酸および塩類の共存下処理を
    行って得られた、(1)珪酸塩を除くイオン交換性層状化
    合物および(2)無機珪酸塩からなる群より選ばれた少な
    くとも一種の化合物、および[C]有機アルミニウム化
    合物の3成分の存在下にオレフィンを予備重合して得ら
    れるオレフィン重合用触媒において、予備重合する際、
    炭素数3以上のオレフィン濃度を1mol/l以上とす
    ることを特徴とする、オレフィン重合用触媒。
  2. 【請求項2】 炭素数3以上のオレフィンが、プロピレ
    ンであることを特徴とする、請求項1記載のオレフィン
    重合用触媒。
  3. 【請求項3】 予備重合の形態が、スラリー重合である
    ことを特徴とする、請求項1記載のオレフィン重合用触
    媒。
  4. 【請求項4】 予備重合する際の炭素数3以上のオレフ
    ィン濃度が3mol/l以上であることを特徴とする、
    請求項1記載のオレフィン重合用触媒。
  5. 【請求項5】 予備重合量が[B]成分1gあたり0.
    01〜1000gであることを特徴とする、請求項1記
    載のオレフィン重合用触媒。
  6. 【請求項6】 [C]成分が、一般式 AlR4 m3-m (式中、R4は炭素数1〜20の炭化水素基、Xは水
    素、ハロゲン、アルコキシ基、アリールオキシ基、mは
    0<m≦3の数)で示される化合物であることを特徴と
    する、請求項1記載のオレフィン重合用触媒。
  7. 【請求項7】 請求項1記載のオレフィン重合用触媒の
    存在下、炭素数3以上のオレフィンを単独重合または共
    重合することを特徴とする、オレフィンの重合方法。
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