JPH1016419A - 平版印刷版用アルミニウム支持体 - Google Patents
平版印刷版用アルミニウム支持体Info
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- JPH1016419A JPH1016419A JP8176586A JP17658696A JPH1016419A JP H1016419 A JPH1016419 A JP H1016419A JP 8176586 A JP8176586 A JP 8176586A JP 17658696 A JP17658696 A JP 17658696A JP H1016419 A JPH1016419 A JP H1016419A
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- aqueous solution
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y15/00—Nanotechnology for interacting, sensing or actuating, e.g. quantum dots as markers in protein assays or molecular motors
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 粗面化処理の生産管理に結びつけることがで
き、品質の安定を確保することができる、アルミニウム
支持体の表面形状の測定方法及び評価範囲を規定する。 【解決手段】原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で規定した値を
用いて定義した表面形状が、０．１μｍの分解能で比表
面積が１．１５〜１．５であり、１．９μｍの分解能で
平均表面粗さが０．３５〜１．０μｍ、且つ、傾斜度３
０°以上の割合が５〜４０％となるアルミニウム支持
体。
き、品質の安定を確保することができる、アルミニウム
支持体の表面形状の測定方法及び評価範囲を規定する。 【解決手段】原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で規定した値を
用いて定義した表面形状が、０．１μｍの分解能で比表
面積が１．１５〜１．５であり、１．９μｍの分解能で
平均表面粗さが０．３５〜１．０μｍ、且つ、傾斜度３
０°以上の割合が５〜４０％となるアルミニウム支持
体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷版等
に利用される平版印刷版用アルミニウム支持体に関する
ものである。
に利用される平版印刷版用アルミニウム支持体に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術としては原子間力顕微鏡によ
る計測で求めた平均表面粗さが０．３５μｍ以上１．０
μｍ以下、表面傾斜度３０度以上の分布が５％以上４０
％以下である支持体について、又粗面化処理方法として
は、機械的な粗面化、化学的なエッチング、電気化学的
な粗面化（直流または交流、硝酸または塩酸水溶液によ
る）を組み合わせた方法を出願している（特願平８−４
６１７０号）。
る計測で求めた平均表面粗さが０．３５μｍ以上１．０
μｍ以下、表面傾斜度３０度以上の分布が５％以上４０
％以下である支持体について、又粗面化処理方法として
は、機械的な粗面化、化学的なエッチング、電気化学的
な粗面化（直流または交流、硝酸または塩酸水溶液によ
る）を組み合わせた方法を出願している（特願平８−４
６１７０号）。
【０００３】又、一方平版印刷版用アルミニウム支持体
として、表面積差が３２％以上９０％以下の範囲の表面
形状であることを特徴とする、又表面形状がボックスカ
ウンティング法でのフラクタル次元で２．２９以上２．
４以下の範囲にあることを特徴とする平版印刷版用アル
ミニウム支持体（特開平８−５８２５６号公報参照）が
開示されている。
として、表面積差が３２％以上９０％以下の範囲の表面
形状であることを特徴とする、又表面形状がボックスカ
ウンティング法でのフラクタル次元で２．２９以上２．
４以下の範囲にあることを特徴とする平版印刷版用アル
ミニウム支持体（特開平８−５８２５６号公報参照）が
開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術には良好な印刷性能を有するアルミニウム支持体形状
を代表する特性について規定はしてあるが、これらを生
産管理に結びつけて、安定した性能を示すアルミニウム
支持体を定常的に製造して提供するには不十分であっ
た。
術には良好な印刷性能を有するアルミニウム支持体形状
を代表する特性について規定はしてあるが、これらを生
産管理に結びつけて、安定した性能を示すアルミニウム
支持体を定常的に製造して提供するには不十分であっ
た。
【０００５】本発明の目的は、前記問題点を解消し、ア
ルミニウム支持体の表面形状の測定方法及び評価範囲を
規定し、良好な印刷性能を有する支持体を提供すること
が可能であり、しかもその良好な支持体を的確に判断し
て生産管理に結びつけ、品質の安定及び供給の安定を確
保できる平版印刷版用アルミニウム支持体を提供するこ
とにある。
ルミニウム支持体の表面形状の測定方法及び評価範囲を
規定し、良好な印刷性能を有する支持体を提供すること
が可能であり、しかもその良好な支持体を的確に判断し
て生産管理に結びつけ、品質の安定及び供給の安定を確
保できる平版印刷版用アルミニウム支持体を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、原
子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用て測定した表面形状につい
て、水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能０．１μｍで１００μ
ｍ角の測定範囲で測定し、近似三点法により求めた表面
積をａ、上部投影面積をｂとしたとき、ａ／ｂの値（比
表面積）が１．１５〜１．５であり、水平（Ｘ，Ｙ）方
向の分解能１．９μｍで２４０μｍ角の測定範囲で測定
し、平均表面粗さが０．３５〜１．０μｍ、且つ、傾斜
度３０度以上の割合が５〜４０％である平版印刷版用ア
ルミニウム支持体により達成される。
子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用て測定した表面形状につい
て、水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能０．１μｍで１００μ
ｍ角の測定範囲で測定し、近似三点法により求めた表面
積をａ、上部投影面積をｂとしたとき、ａ／ｂの値（比
表面積）が１．１５〜１．５であり、水平（Ｘ，Ｙ）方
向の分解能１．９μｍで２４０μｍ角の測定範囲で測定
し、平均表面粗さが０．３５〜１．０μｍ、且つ、傾斜
度３０度以上の割合が５〜４０％である平版印刷版用ア
ルミニウム支持体により達成される。
【０００７】本発明において、感光層を塗布する前のア
ルミニウム支持体は、ＪＩＳ Ｚ９７４１−１９８３で
規定している８５度光沢度が３０以下が好ましく、３０
をこえると印刷機上の湿し水の量が見にくくなる。
ルミニウム支持体は、ＪＩＳ Ｚ９７４１−１９８３で
規定している８５度光沢度が３０以下が好ましく、３０
をこえると印刷機上の湿し水の量が見にくくなる。
【０００８】更に、走査型電子顕微鏡で倍率７５０倍で
観察したとき、８０μｍの視野の中に、平均直径０．５
〜２０μｍのハニカムピットがしめる面積の割合が３０
〜１００％である平版印刷版用アルミニウム支持体がよ
り好適である。特に、走査型電子顕微鏡で観察したとき
に平均ピット径が０．５〜３μｍのハニカムピットまた
はクレーター状のビットが生成している部分が全表面積
に占める割合が３０〜１００％である。３０を未満だと
印刷版としたときの面質が悪くなり、校正作業がしにく
くなる。
観察したとき、８０μｍの視野の中に、平均直径０．５
〜２０μｍのハニカムピットがしめる面積の割合が３０
〜１００％である平版印刷版用アルミニウム支持体がよ
り好適である。特に、走査型電子顕微鏡で観察したとき
に平均ピット径が０．５〜３μｍのハニカムピットまた
はクレーター状のビットが生成している部分が全表面積
に占める割合が３０〜１００％である。３０を未満だと
印刷版としたときの面質が悪くなり、校正作業がしにく
くなる。
【０００９】ハニカムピットまたはクレーター状ピット
の生成している部分の面積は以下の如くにして求める。 倍率１５００倍のＳＥＭ写真を走査型電子顕微鏡で
試料を真上から撮影する。 富士写真フィルム（株）製ピクトログラフィーに
て、２００％に拡大コピーする。 ２００％に拡大コピーした画像に、透明なＰＥＴシ
ートを重ね合わせ、人手によってピットの生成している
部分を黒く塗りつぶす。 フラットベッドスキャナーにてＰＥＴシートの画像
を取り込み、マッキントッシュ上のフォトショップで２
値化処理した後に、黒く塗りつぶした部分の面積を算出
した。
の生成している部分の面積は以下の如くにして求める。 倍率１５００倍のＳＥＭ写真を走査型電子顕微鏡で
試料を真上から撮影する。 富士写真フィルム（株）製ピクトログラフィーに
て、２００％に拡大コピーする。 ２００％に拡大コピーした画像に、透明なＰＥＴシ
ートを重ね合わせ、人手によってピットの生成している
部分を黒く塗りつぶす。 フラットベッドスキャナーにてＰＥＴシートの画像
を取り込み、マッキントッシュ上のフォトショップで２
値化処理した後に、黒く塗りつぶした部分の面積を算出
した。
【００１０】本発明で言うＡＦＭで測定した三次元表面
形状を基に算出した平均表面粗さ、比表面積、傾斜度が
３０度以上の面積の割合（ａ３０）は、ブランケット状
の汚れ性能（ブラン汚れ）、網点比画像部の汚れ難さ
（絡み難さ）、耐刷性能に関わっており、互いにトレー
ドオフの関係にあり、上記の様な範囲が好ましい。
形状を基に算出した平均表面粗さ、比表面積、傾斜度が
３０度以上の面積の割合（ａ３０）は、ブランケット状
の汚れ性能（ブラン汚れ）、網点比画像部の汚れ難さ
（絡み難さ）、耐刷性能に関わっており、互いにトレー
ドオフの関係にあり、上記の様な範囲が好ましい。
【００１１】まず、水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が０．
１μｍとしたＡＦＭを用いて１００μｍ角の測定範囲で
測定し、近似三点法により求めた表面積をａ、上部投影
面積をｂとしたとき、ａ／ｂの値（比表面積）が１．１
５〜１．５０となる場合である。この時、特に１．１５
〜１．３０が好ましく、１．１５未満だと感光層と支持
体の密着性が悪くなり（耐刷性能が劣る）、１．５０を
越えるとブラン汚れ性能が悪くなる。
１μｍとしたＡＦＭを用いて１００μｍ角の測定範囲で
測定し、近似三点法により求めた表面積をａ、上部投影
面積をｂとしたとき、ａ／ｂの値（比表面積）が１．１
５〜１．５０となる場合である。この時、特に１．１５
〜１．３０が好ましく、１．１５未満だと感光層と支持
体の密着性が悪くなり（耐刷性能が劣る）、１．５０を
越えるとブラン汚れ性能が悪くなる。
【００１２】次に、水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が１．
９μｍとしたＡＦＭを用いて２４０μｍ角の測定範囲で
測定した平均表面粗さが０．３５〜１．０μｍとなる場
合である。この時、特に０．３５〜０．８μｍが好まし
い。平均表面粗さが０．３５μｍ未満だと網点非画像部
で汚れやすくなり、１．０μｍよりも大きいとブランケ
ット状で非画像部が汚れやすくなる。
９μｍとしたＡＦＭを用いて２４０μｍ角の測定範囲で
測定した平均表面粗さが０．３５〜１．０μｍとなる場
合である。この時、特に０．３５〜０．８μｍが好まし
い。平均表面粗さが０．３５μｍ未満だと網点非画像部
で汚れやすくなり、１．０μｍよりも大きいとブランケ
ット状で非画像部が汚れやすくなる。
【００１３】更に、水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が１．
９μｍとしたＡＦＭを用いて２４０μｍ角の測定範囲で
測定した傾斜度が３０度以上の割合が５〜４０％となる
場合である。この時、傾斜度が３０度以上の割合が５％
未満だと、網点非画像部で汚れやすくなり、４０％より
も大きいとブランケット上で非画像部が汚れやすくな
る。
９μｍとしたＡＦＭを用いて２４０μｍ角の測定範囲で
測定した傾斜度が３０度以上の割合が５〜４０％となる
場合である。この時、傾斜度が３０度以上の割合が５％
未満だと、網点非画像部で汚れやすくなり、４０％より
も大きいとブランケット上で非画像部が汚れやすくな
る。
【００１４】本発明で好ましい表面形態を表すフラクタ
ル次元は、水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が０．１μｍま
たは１．９μｍとしたＡＦＭを用いて１００μｍ角また
は２４０μｍ角の測定範囲で測定したボックスカウンテ
ィング法、スケール変換法、カバー法、回転半径法、密
度相関関数法などで求めたフラクタル次元が２．１〜
２．５である。
ル次元は、水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能が０．１μｍま
たは１．９μｍとしたＡＦＭを用いて１００μｍ角また
は２４０μｍ角の測定範囲で測定したボックスカウンテ
ィング法、スケール変換法、カバー法、回転半径法、密
度相関関数法などで求めたフラクタル次元が２．１〜
２．５である。
【００１５】本発明で測定に使用した原子間力顕微鏡
（Atomic Force Microscope：ＡＦＭ）は、セイコー
電子工業（株）製ＳＰ１３７００で、測定は１ｃｍ角の
大きさに切り取ったアルミニウム板をピエゾスキャナー
上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面
にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところ
で、ＸＹ方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をＺ方
向のピエゾ変位でとらえた。ピエゾスキャナーはＸＹ１
５０μｍ、Ｚ１０μｍ走査可能なものを使用した。カン
チレバーはNANOPROBE社製ＳＩ−ＤＦ２０で、共振周波
数１２０〜１５０ｋＨｚ、バネ定数１２〜２０Ｎ／ｍの
もので、ＤＦＭモード（Dinamic Force ００）で測定
した。また、得られた３次元データを最小２乗近似する
ことで試料の僅かな傾きを補正し、基準面を求めた。
（Atomic Force Microscope：ＡＦＭ）は、セイコー
電子工業（株）製ＳＰ１３７００で、測定は１ｃｍ角の
大きさに切り取ったアルミニウム板をピエゾスキャナー
上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面
にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところ
で、ＸＹ方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をＺ方
向のピエゾ変位でとらえた。ピエゾスキャナーはＸＹ１
５０μｍ、Ｚ１０μｍ走査可能なものを使用した。カン
チレバーはNANOPROBE社製ＳＩ−ＤＦ２０で、共振周波
数１２０〜１５０ｋＨｚ、バネ定数１２〜２０Ｎ／ｍの
もので、ＤＦＭモード（Dinamic Force ００）で測定
した。また、得られた３次元データを最小２乗近似する
ことで試料の僅かな傾きを補正し、基準面を求めた。
【００１６】ＸＹ方向の分解能が１．９μｍの測定のと
きは、２４０μｍ角（１２０μｍ角を４視野）の測定を
行い、Ｚ方向の分解能は１ｎｍ、スキャン速度は６０μ
ｍ／ｓｅｃであった。ＸＹ方向の分解能が０．１μｍの
測定のときは、１００μｍ角（５０μｍ角を４視野）の
測定を行い、Ｚ方向の分解能は１ｎｍ、スキャン速度は
２５μｍ／ｓｅｃであった。
きは、２４０μｍ角（１２０μｍ角を４視野）の測定を
行い、Ｚ方向の分解能は１ｎｍ、スキャン速度は６０μ
ｍ／ｓｅｃであった。ＸＹ方向の分解能が０．１μｍの
測定のときは、１００μｍ角（５０μｍ角を４視野）の
測定を行い、Ｚ方向の分解能は１ｎｍ、スキャン速度は
２５μｍ／ｓｅｃであった。
【００１７】大波の起伏のピッチは３次元データを周波
数分析することにより算出した。平均表面粗さは、ＪＩ
Ｓ Ｂ０６０１−９４で定義されている中心線平均粗さ
Ｒａを３次元に拡張したものである。表面傾斜度は、３
次元データより隣り合う３点を抽出し、その３点で形成
する微小三角形と基準面とのなす角を全データについて
算出し、傾斜度分布曲線を求め、これより傾斜度３０度
以上の割合を算出した。中波のピット径は、ピットのエ
ッジで囲まれた上部投影面積Ｓを求め、２・（Ｓ／π）
1/2により算出した。表面積は、３次元データより隣り
合う３点を抽出し、その３点で形成する微小三角形の面
積の総和から求めた。
数分析することにより算出した。平均表面粗さは、ＪＩ
Ｓ Ｂ０６０１−９４で定義されている中心線平均粗さ
Ｒａを３次元に拡張したものである。表面傾斜度は、３
次元データより隣り合う３点を抽出し、その３点で形成
する微小三角形と基準面とのなす角を全データについて
算出し、傾斜度分布曲線を求め、これより傾斜度３０度
以上の割合を算出した。中波のピット径は、ピットのエ
ッジで囲まれた上部投影面積Ｓを求め、２・（Ｓ／π）
1/2により算出した。表面積は、３次元データより隣り
合う３点を抽出し、その３点で形成する微小三角形の面
積の総和から求めた。
【００１８】本発明は、常法に従い、感光層または、中
間層および感光層を塗布・乾燥することによって印刷性
能が優れた平版印刷版となる。感光層の上には常法に従
い、マット層を設けるなどしてもよい。現像時のアルミ
ニウムの溶け出しを防ぐ目的で裏面にバックコート層を
設けてもよい。本発明は片面のみでなく両面を処理した
平版印刷版であっても良い。本発明のおける平版印刷版
用アルミニウム支持体に対する条件は、平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の粗面化のみならず、あらゆるアルミ
ニウム板の粗面化に応用できる。
間層および感光層を塗布・乾燥することによって印刷性
能が優れた平版印刷版となる。感光層の上には常法に従
い、マット層を設けるなどしてもよい。現像時のアルミ
ニウムの溶け出しを防ぐ目的で裏面にバックコート層を
設けてもよい。本発明は片面のみでなく両面を処理した
平版印刷版であっても良い。本発明のおける平版印刷版
用アルミニウム支持体に対する条件は、平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の粗面化のみならず、あらゆるアルミ
ニウム板の粗面化に応用できる。
【００１９】本発明に適用される装置は金属ウエブの連
続的表面処理に使用する公知のものがいずれも適用でき
る。本発明に使用されるアルミニウム板は、純アルミニ
ウム板、アルミニウムを主成分として微量の異元素を含
む合金板、またはアルミニウムがラミネートまたは蒸着
されたプラスチックフィルムの中から選ばれる。該アル
ミニウム合金に含まれる異元素には、珪素、鉄、ニッケ
ル、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、チタン、バナジウムなどがある。通常はアルミニ
ウムハンドブック第４版（１９９０、軽金属協会）に記
載の、従来より公知の素材のもの、例えばＪＩＳ Ａ
１０５０、ＪＩＳ Ａ ３１０３材、ＪＩＳ Ａ ３０
０５材、ＪＩＳ Ａ １１００材、ＪＩＳ Ａ ３００
４材または引っ張り強度を増す目的でこれらに５重量％
以下のマグネシウムを添加した合金を用いることが出来
る。また、アルミニウム板の製造方法において、中間焼
鈍を省略したアルミニウム板も使用することができる。
最終圧延はプレーンフィニッシュでもミルフィニッシュ
でもよい。
続的表面処理に使用する公知のものがいずれも適用でき
る。本発明に使用されるアルミニウム板は、純アルミニ
ウム板、アルミニウムを主成分として微量の異元素を含
む合金板、またはアルミニウムがラミネートまたは蒸着
されたプラスチックフィルムの中から選ばれる。該アル
ミニウム合金に含まれる異元素には、珪素、鉄、ニッケ
ル、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、チタン、バナジウムなどがある。通常はアルミニ
ウムハンドブック第４版（１９９０、軽金属協会）に記
載の、従来より公知の素材のもの、例えばＪＩＳ Ａ
１０５０、ＪＩＳ Ａ ３１０３材、ＪＩＳ Ａ ３０
０５材、ＪＩＳ Ａ １１００材、ＪＩＳ Ａ ３００
４材または引っ張り強度を増す目的でこれらに５重量％
以下のマグネシウムを添加した合金を用いることが出来
る。また、アルミニウム板の製造方法において、中間焼
鈍を省略したアルミニウム板も使用することができる。
最終圧延はプレーンフィニッシュでもミルフィニッシュ
でもよい。
【００２０】上記アルミニウム板は通常のＤＣ鋳造法に
よるアルミニウム板の他、連続鋳造圧延法により製造さ
れたものでも良い。連続鋳造圧延の方法としては双ロー
ル法、ベルトキャスター法、ブロックキャスター法など
を用いることができる。また、本発明に用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ０．１〜０．６ｍｍ程度であ
る。
よるアルミニウム板の他、連続鋳造圧延法により製造さ
れたものでも良い。連続鋳造圧延の方法としては双ロー
ル法、ベルトキャスター法、ブロックキャスター法など
を用いることができる。また、本発明に用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ０．１〜０．６ｍｍ程度であ
る。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明の表面形状を形成させる粗
面化処理方法について順次述べると、 （実施態様１） （ａ）機械的な粗面化処理 原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板表面を、平均
表面粗さ０．３５〜１．０μｍとする目的で、特開平６
−１３５１７５、特公昭５０−４００４７各号公報に記
載されている機械的な粗面化処理をおこなう。第１段目
の電解研磨処理の前に行うことが好ましい。毛径が０．
２〜０．９ｍｍの回転するナイロンブラシロールと、ア
ルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機械的に粗
面化処理することが有利である。勿論スラリー液を吹き
付ける方式、ワイヤーブラシを用いた方式、凹凸を付け
た圧延ロールの表面形状をアルミニウム板に転写する方
式などを用いても良い。研磨剤としては公知の物が使用
できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウムまたはこれ
らの混合物が好ましい。
面化処理方法について順次述べると、 （実施態様１） （ａ）機械的な粗面化処理 原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板表面を、平均
表面粗さ０．３５〜１．０μｍとする目的で、特開平６
−１３５１７５、特公昭５０−４００４７各号公報に記
載されている機械的な粗面化処理をおこなう。第１段目
の電解研磨処理の前に行うことが好ましい。毛径が０．
２〜０．９ｍｍの回転するナイロンブラシロールと、ア
ルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機械的に粗
面化処理することが有利である。勿論スラリー液を吹き
付ける方式、ワイヤーブラシを用いた方式、凹凸を付け
た圧延ロールの表面形状をアルミニウム板に転写する方
式などを用いても良い。研磨剤としては公知の物が使用
できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウムまたはこれ
らの混合物が好ましい。
【００２２】（ｂ） 酸性水溶液中での電解研磨処理、
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理。 前記（ａ）の機械的な粗面化によって生成した凹凸のエ
ッジ部分を溶解し、滑らかなうねりを持つ表面を得、汚
れ性能がよ印刷版を得る目的でおこなう。このときのア
ルミニウム板の溶解量は５〜２０ｇ／ｍ2 が好ましい。
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理。 前記（ａ）の機械的な粗面化によって生成した凹凸のエ
ッジ部分を溶解し、滑らかなうねりを持つ表面を得、汚
れ性能がよ印刷版を得る目的でおこなう。このときのア
ルミニウム板の溶解量は５〜２０ｇ／ｍ2 が好ましい。
【００２３】（ｃ） 硝酸または塩酸を主体とする水溶
液中での、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処
理。 平均直径約０．５〜２０μｍのクレーターまたはハニカ
ム状のピットをアルミニウム表面に３０〜１００％の面
積率で生成し、原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム
板表面を、平均表面粗さ０．３５〜１．０μｍとする目
的でおこなう。印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷新
力を向上する作用がある。
液中での、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処
理。 平均直径約０．５〜２０μｍのクレーターまたはハニカ
ム状のピットをアルミニウム表面に３０〜１００％の面
積率で生成し、原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム
板表面を、平均表面粗さ０．３５〜１．０μｍとする目
的でおこなう。印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷新
力を向上する作用がある。
【００２４】（ｄ） 酸性水溶液中での電解研磨処理、
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理。 前記（ｃ）の交流を用いた電気化学的な粗面化で生成し
た、水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除
去と、生成したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷
版としたときの汚れ性能を良化させる目的でおこなう。
アルミニウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2 溶解す
ることが好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2溶解することが
より好ましい。 （ｅ） 陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理。 前記（ｃ）の交流を用いた電気化学的な粗面化で生成し
た、水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除
去と、生成したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷
版としたときの汚れ性能を良化させる目的でおこなう。
アルミニウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2 溶解す
ることが好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2溶解することが
より好ましい。 （ｅ） 陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。
【００２５】（実施態様２） （ａ） 酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸ま
たはアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 アルミニウム板にある圧延油、自然酸化皮膜、汚れなど
を除去し、電気化学的な粗面化が均一におこなう目的で
処理する。アルミニウム板の溶解量は１〜３０ｇ／ｍ2
溶解することが好ましく、１．５〜２０ｇ／ｍ2 溶解す
ることがより好ましい。
たはアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 アルミニウム板にある圧延油、自然酸化皮膜、汚れなど
を除去し、電気化学的な粗面化が均一におこなう目的で
処理する。アルミニウム板の溶解量は１〜３０ｇ／ｍ2
溶解することが好ましく、１．５〜２０ｇ／ｍ2 溶解す
ることがより好ましい。
【００２６】（ｂ） 硝酸または塩酸を主体とする水溶
液中での、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処
理 平均直径約０．５〜２０μｍのクレーターまたはハニカ
ム状のピットをアルミニウム表面に３０〜１００％の面
積率で生成し、原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム
板表面を、平均表面粗さ０．３５〜１．０μｍとする目
的でおこなう。印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷力
を向上する作用がある。
液中での、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処
理 平均直径約０．５〜２０μｍのクレーターまたはハニカ
ム状のピットをアルミニウム表面に３０〜１００％の面
積率で生成し、原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム
板表面を、平均表面粗さ０．３５〜１．０μｍとする目
的でおこなう。印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷力
を向上する作用がある。
【００２７】（ｃ） 酸性水溶液中での電解研磨処理、
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理 前記（ｂ）の電気化学的な粗面化で生成したスマット
と、ピットのエッジ部分またはピットが生成していない
プラトーな部分の溶解をおこない、滑らかな凹凸を持つ
表面を得る目的でおこなう。印刷版の非画像部の汚れに
くさと耐刷力を向上する作用がある。アルミニウム板の
溶解量は１〜３０ｇ／ｍ2 溶解することが好ましく、
１．５〜２０ｇ／ｍ2 溶解することがより好ましい。
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理 前記（ｂ）の電気化学的な粗面化で生成したスマット
と、ピットのエッジ部分またはピットが生成していない
プラトーな部分の溶解をおこない、滑らかな凹凸を持つ
表面を得る目的でおこなう。印刷版の非画像部の汚れに
くさと耐刷力を向上する作用がある。アルミニウム板の
溶解量は１〜３０ｇ／ｍ2 溶解することが好ましく、
１．５〜２０ｇ／ｍ2 溶解することがより好ましい。
【００２８】（ｄ） 硝酸または塩酸を主体とする水溶
液中での、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処
理 平均直径約０．５〜２０μｍのクレーターまたはハニカ
ム状のピットをアルミニウム表面に３０〜１００％の面
積率で生成する目的でおこなう。印刷版の非画像部の汚
れにくさと耐刷力を向上する作用がある。
液中での、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処
理 平均直径約０．５〜２０μｍのクレーターまたはハニカ
ム状のピットをアルミニウム表面に３０〜１００％の面
積率で生成する目的でおこなう。印刷版の非画像部の汚
れにくさと耐刷力を向上する作用がある。
【００２９】（ｅ） 酸性水溶液中での電解研磨処理、
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理 前記（ｄ）の交流を用いた電気化学的な粗面化で生成し
た、水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除
去と、生成したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷
版としたときの汚れ性能を良化させる目的でおこなう。
アルミニウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2 溶解す
ることが好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2溶解することが
より好ましい。 （ｆ） 陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理 前記（ｄ）の交流を用いた電気化学的な粗面化で生成し
た、水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除
去と、生成したピットのエッジ部分を滑らかにし、印刷
版としたときの汚れ性能を良化させる目的でおこなう。
アルミニウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2 溶解す
ることが好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2溶解することが
より好ましい。 （ｆ） 陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。
【００３０】（実施態様３） （ａ） 酸性水溶液中での電解研磨処理、または、酸ま
たはアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 アルミニウム板にある圧延油、自然酸化皮膜、汚れなど
を除去し、電気化学的な粗面化が均一におこなう目的で
処理する。アルミニウム板の溶解量は１〜３０ｇ／ｍ2
溶解することが好ましく、１．５〜２０ｇ／ｍ2 溶解す
ることがより好ましい。
たはアルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理 アルミニウム板にある圧延油、自然酸化皮膜、汚れなど
を除去し、電気化学的な粗面化が均一におこなう目的で
処理する。アルミニウム板の溶解量は１〜３０ｇ／ｍ2
溶解することが好ましく、１．５〜２０ｇ／ｍ2 溶解す
ることがより好ましい。
【００３１】（ｂ） 硝酸または塩酸を主体とする水溶
液中での、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処
理。 塩酸または硝酸を主体とする水溶液中での直流または交
流を用いた電気化学的な粗面化処理は、平均直径約０．
５〜２０μｍのクレーターまたはハニカム状のピットを
アルミニウム表面に３０〜１００％の面積率で生成し、
原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板表面を、平均
表面粗さ０．３５〜１．０μｍとする目的でおこなう。
印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷力を向上する作用
がある。
液中での、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処
理。 塩酸または硝酸を主体とする水溶液中での直流または交
流を用いた電気化学的な粗面化処理は、平均直径約０．
５〜２０μｍのクレーターまたはハニカム状のピットを
アルミニウム表面に３０〜１００％の面積率で生成し、
原子間力顕微鏡で測定したアルミニウム板表面を、平均
表面粗さ０．３５〜１．０μｍとする目的でおこなう。
印刷版の非画像部の汚れにくさと耐刷力を向上する作用
がある。
【００３２】（ｃ） 酸性水溶液中での電解研磨処理、
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理 前記（ｂ）の直流または交流を用いた電気化学的な粗面
化で生成した、水酸化アルミニウムを主体とするスマッ
ト成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を滑らか
にし、印刷版としたときの非画像部汚れ性能を良化させ
ることと耐刷性を向上させる目的でおこなう。アルミニ
ウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2溶解することが
好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2 溶解することがより好ま
しい。 （ｄ） 陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。
または、酸またはアルカリ水溶液中での化学的なエッチ
ング処理 前記（ｂ）の直流または交流を用いた電気化学的な粗面
化で生成した、水酸化アルミニウムを主体とするスマッ
ト成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を滑らか
にし、印刷版としたときの非画像部汚れ性能を良化させ
ることと耐刷性を向上させる目的でおこなう。アルミニ
ウム板の溶解量は０．０５〜５ｇ／ｍ2溶解することが
好ましく、０．１〜３ｇ／ｍ2 溶解することがより好ま
しい。 （ｄ） 陽極酸化処理 アルミニウム板の表面の耐磨耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。
【００３３】次に、上記実施態様の各項目について更に
詳細について説明する。（酸性水溶液中でアルミニウム
板を電解研磨処理、または、酸またはアルカリ水溶液中でア
ルミニウム板を化学的なエッチング処理を行うことにつ
いて） 酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処理 間宮富士雄：洗浄設計 ＮＯ．２１，Ｐ６５ー７２
（１９８４）に電解研磨処理の材質別による処方例が記
載されている。公知の電解研磨に用いる水溶液が使用で
きる。好ましくは硫酸またはリン酸を主体とする水溶液
であり、特に好ましくはリン酸を主体とする水溶液であ
る。
詳細について説明する。（酸性水溶液中でアルミニウム
板を電解研磨処理、または、酸またはアルカリ水溶液中でア
ルミニウム板を化学的なエッチング処理を行うことにつ
いて） 酸性水溶液中でアルミニウム板を電解研磨処理 間宮富士雄：洗浄設計 ＮＯ．２１，Ｐ６５ー７２
（１９８４）に電解研磨処理の材質別による処方例が記
載されている。公知の電解研磨に用いる水溶液が使用で
きる。好ましくは硫酸またはリン酸を主体とする水溶液
であり、特に好ましくはリン酸を主体とする水溶液であ
る。
【００３４】リン酸２０〜９０重量％（好ましくは４０
〜８０重量％）、液温１０〜９０℃（好ましくは５０〜
８０℃）、電流密度１〜１００Ａ／ｄｍ2 （好ましくは
５〜８０Ａ／ｄｍ2 ）、電解時間は１〜１８０秒の範囲
から選択できる。リン酸水溶液中に、硫酸、クロム酸、
過酸化水素、クエン酸、硼酸、フッ化水素酸、無水フタ
ール酸などを１〜５０重量％添加しても良い。また、ア
ルミニウムは勿論アルミニウム合金中に含有する合金成
分が０〜１０重量％含有していてよい。電流は直流、パ
ルス直流、交流を用いることが可能であるが、連続直流
が好ましい。
〜８０重量％）、液温１０〜９０℃（好ましくは５０〜
８０℃）、電流密度１〜１００Ａ／ｄｍ2 （好ましくは
５〜８０Ａ／ｄｍ2 ）、電解時間は１〜１８０秒の範囲
から選択できる。リン酸水溶液中に、硫酸、クロム酸、
過酸化水素、クエン酸、硼酸、フッ化水素酸、無水フタ
ール酸などを１〜５０重量％添加しても良い。また、ア
ルミニウムは勿論アルミニウム合金中に含有する合金成
分が０〜１０重量％含有していてよい。電流は直流、パ
ルス直流、交流を用いることが可能であるが、連続直流
が好ましい。
【００３５】電解処理装置はフラット型槽、ラジアル型
槽など公知の電解処理に使われているものを用いること
ができる。流速はアルミニウム板に対して、パラレルフ
ロー、カウンターフローどちらでもよく、０．０１〜１
００００ｃｍ／minの間から選定される。アルミニウム
板と電極との距離は０．３〜１０ｃｍが好ましく、０．
８〜２ｃｍがとくに好ましい。給電方法はコンダクタロ
ールを用いた直接給電方式を用いてもよいし、コンダク
タロールを用いない間接給電方式（液給電方式）を用い
ても良い。使用する電極材質、構造は電解処理に使われ
ている公知のものが使用可能であるが、陰極材質はカー
ボン、陽極材質はフェライト、酸化イリジウムまたは白
金が好ましい。アルミニウム板の処理面は、上面でも下
面でも両面でもよい。
槽など公知の電解処理に使われているものを用いること
ができる。流速はアルミニウム板に対して、パラレルフ
ロー、カウンターフローどちらでもよく、０．０１〜１
００００ｃｍ／minの間から選定される。アルミニウム
板と電極との距離は０．３〜１０ｃｍが好ましく、０．
８〜２ｃｍがとくに好ましい。給電方法はコンダクタロ
ールを用いた直接給電方式を用いてもよいし、コンダク
タロールを用いない間接給電方式（液給電方式）を用い
ても良い。使用する電極材質、構造は電解処理に使われ
ている公知のものが使用可能であるが、陰極材質はカー
ボン、陽極材質はフェライト、酸化イリジウムまたは白
金が好ましい。アルミニウム板の処理面は、上面でも下
面でも両面でもよい。
【００３６】 酸またはアルカリ水溶液中でアルミニ
ウム板を化学的なエッチング処理 かかるエッチング方法の詳細については米国特許第３８
３４３９８号明細書に記載されており、公知の手段を用
いることが出来る。酸性水溶液に用いることの出来る酸
またはアルカリとしては特開昭５７−１６９１８号公報
などに記載されているものを単独または組み合わせて用
いることが出来る。液温は４０〜９０℃で、１〜１２０
秒間処理することが好ましい。酸性水溶液の濃度は０．
５〜２５重量％が好ましく、さらに酸性水溶液中に溶解
しているアルミニウムは０．５〜５重量％が好ましい。
アルカリ水溶液の濃度は５〜３０重量％が好ましく、さ
らにアルカリ水溶液中に溶解しているアルミニウムは１
〜３０重量％が好ましい。
ウム板を化学的なエッチング処理 かかるエッチング方法の詳細については米国特許第３８
３４３９８号明細書に記載されており、公知の手段を用
いることが出来る。酸性水溶液に用いることの出来る酸
またはアルカリとしては特開昭５７−１６９１８号公報
などに記載されているものを単独または組み合わせて用
いることが出来る。液温は４０〜９０℃で、１〜１２０
秒間処理することが好ましい。酸性水溶液の濃度は０．
５〜２５重量％が好ましく、さらに酸性水溶液中に溶解
しているアルミニウムは０．５〜５重量％が好ましい。
アルカリ水溶液の濃度は５〜３０重量％が好ましく、さ
らにアルカリ水溶液中に溶解しているアルミニウムは１
〜３０重量％が好ましい。
【００３７】エッチング処理が終了した後には、処理液
を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液
切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。化学
的なエッチングを塩基の水溶液を用いて行った場合は一
般にアルミニウムの表面にはスマットが生成するので、
この場合には燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸または
これらの２以上の酸を含む混酸で処理する。さらに酸性
水溶液中にはアルミニウムが０〜５重量％が溶解してい
ても良い。
を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液
切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。化学
的なエッチングを塩基の水溶液を用いて行った場合は一
般にアルミニウムの表面にはスマットが生成するので、
この場合には燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸または
これらの２以上の酸を含む混酸で処理する。さらに酸性
水溶液中にはアルミニウムが０〜５重量％が溶解してい
ても良い。
【００３８】液温は常温から７０℃で実施され、処理時
間は１〜３０秒が好ましい。デスマット処理が終了した
後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップロ
ーラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが
好ましい。また、電気化学的な粗面化処理で用いる電解
液のオーバーフロー廃液を使用することが出来る。電気
化学的な粗面化処理で用いる電解液のオーバーフロー廃
液を使用するときは、デスマット処理後の水洗処理は省
略しても良いが、アルミニウム板が乾いてデスマット液
中の成分が析出しないように注意する必要がある。
間は１〜３０秒が好ましい。デスマット処理が終了した
後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップロ
ーラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが
好ましい。また、電気化学的な粗面化処理で用いる電解
液のオーバーフロー廃液を使用することが出来る。電気
化学的な粗面化処理で用いる電解液のオーバーフロー廃
液を使用するときは、デスマット処理後の水洗処理は省
略しても良いが、アルミニウム板が乾いてデスマット液
中の成分が析出しないように注意する必要がある。
【００３９】（塩酸または硝酸水溶液で直流または交流
を用いた電気化学的な粗面化処理） 直流を用いた電気化学的な粗面化 塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、通常の交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
１〜１００g/リットルの塩酸または硝酸水溶液に、硝酸
アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の
硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化
アンモニウム、等の塩酸イオンを有する塩酸または硝酸
化合物の１つ以上を１g/リットル〜飽和まで添加して使
用することができる。また塩酸または硝酸を主体とする
水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、
マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれ
る金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸０．５
〜２重量％水溶液中にアルミニウムイオンが３〜５０ｇ
／リットルとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミ
ニウムを添加した液を用いることが好ましい。温度は１
０〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃がより好ましい。
を用いた電気化学的な粗面化処理） 直流を用いた電気化学的な粗面化 塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、通常の交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
１〜１００g/リットルの塩酸または硝酸水溶液に、硝酸
アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の
硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化
アンモニウム、等の塩酸イオンを有する塩酸または硝酸
化合物の１つ以上を１g/リットル〜飽和まで添加して使
用することができる。また塩酸または硝酸を主体とする
水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、
マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれ
る金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸０．５
〜２重量％水溶液中にアルミニウムイオンが３〜５０ｇ
／リットルとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミ
ニウムを添加した液を用いることが好ましい。温度は１
０〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃がより好ましい。
【００４０】直流を用いた電気化学的な粗面化に用いる
処理装置は公知の直流を用いたものを使用することが出
来るが、特開平１−１４１０９４号公報に記載されてい
るように一対以上の陽極と陰極を交互に並べた装置を用
いることが好ましい。公知の装置の一例としては特開平
６−３２８８７６号、特開平８−６７０７８５号、特開
昭６１−１９１１５号公報、特公昭５７−４４７６０号
公報などに記載されている。電解処理が終了した後に
は、処理液を次工程に持ちこまないためにニップローラ
ーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ま
しい。
処理装置は公知の直流を用いたものを使用することが出
来るが、特開平１−１４１０９４号公報に記載されてい
るように一対以上の陽極と陰極を交互に並べた装置を用
いることが好ましい。公知の装置の一例としては特開平
６−３２８８７６号、特開平８−６７０７８５号、特開
昭６１−１９１１５号公報、特公昭５７−４４７６０号
公報などに記載されている。電解処理が終了した後に
は、処理液を次工程に持ちこまないためにニップローラ
ーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ま
しい。
【００４１】電気化学的な粗面化に使用する直流はリッ
プル率が２０％以下の直流を用いることが好ましい。電
流密度は１０〜２００Ａ／ｄｍ2 が好ましく、アルミニ
ウム板が陽極時の電気量は１００〜１０００Ｃ／ｄｍ2
が好ましい。陽極はフェライト、酸化イリジウム、白
金、白金をチタン、ニオブ、ジルコニウムなどのバルブ
金属にクラッドまたはメッキしたものなど公知の酸素発
生用電極から選定して用いることが出来る。陰極はカー
ボン、白金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステンレ
スや燃料電池用陰極に用いる電極から選定して用いるこ
とができる。
プル率が２０％以下の直流を用いることが好ましい。電
流密度は１０〜２００Ａ／ｄｍ2 が好ましく、アルミニ
ウム板が陽極時の電気量は１００〜１０００Ｃ／ｄｍ2
が好ましい。陽極はフェライト、酸化イリジウム、白
金、白金をチタン、ニオブ、ジルコニウムなどのバルブ
金属にクラッドまたはメッキしたものなど公知の酸素発
生用電極から選定して用いることが出来る。陰極はカー
ボン、白金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステンレ
スや燃料電池用陰極に用いる電極から選定して用いるこ
とができる。
【００４２】 交流を用いた電気化学的な粗面化 塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、通常の交流を用
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
１〜１００ｇ／リットルの塩酸または硝酸水溶液に、硝
酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム、
等の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、
塩化アンモニウム、等の塩酸イオンを有する塩酸または
硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／リットル〜飽和まで添加
して使用することができる。また塩酸または硝酸を主体
とする水溶液中には鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタ
ン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含
まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸ま
たは硝酸０．５〜２重量％水溶液中にアルミニウムイオ
ンが３〜５０ｇ／リットルとなるように塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いることが好ま
しい。温度は１０〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃が
より好ましい。
いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、
１〜１００ｇ／リットルの塩酸または硝酸水溶液に、硝
酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム、
等の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、
塩化アンモニウム、等の塩酸イオンを有する塩酸または
硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／リットル〜飽和まで添加
して使用することができる。また塩酸または硝酸を主体
とする水溶液中には鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタ
ン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含
まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸ま
たは硝酸０．５〜２重量％水溶液中にアルミニウムイオ
ンが３〜５０ｇ／リットルとなるように塩化アルミニウ
ム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いることが好ま
しい。温度は１０〜６０℃が好ましく、２０〜５０℃が
より好ましい。
【００４３】硝酸を主体とした水溶液中での電気化学的
な粗面化では平均直径０．５〜３μｍのピットが１×１
０5 から１×１０6 個／ｍｍ2 の割合でピットが生成し
ていることが好ましい。但し、電気量を比較的多くした
ときは、電解反応が集中し、３μｍを越えるハニカムピ
ットも生成する。塩酸を主体とする水溶液中での電気化
学的な粗面化では平均直径２〜２０μｍのクレーター状
またはハニカム状の大きなうねりに重畳して０．１〜
０．４μｍ角のキュービック状のピットが全面に均一に
生成する。クレーター状のピットは５００〜３００００
０個／ｍｍ2 の密度で生成していることが好ましい。
な粗面化では平均直径０．５〜３μｍのピットが１×１
０5 から１×１０6 個／ｍｍ2 の割合でピットが生成し
ていることが好ましい。但し、電気量を比較的多くした
ときは、電解反応が集中し、３μｍを越えるハニカムピ
ットも生成する。塩酸を主体とする水溶液中での電気化
学的な粗面化では平均直径２〜２０μｍのクレーター状
またはハニカム状の大きなうねりに重畳して０．１〜
０．４μｍ角のキュービック状のピットが全面に均一に
生成する。クレーター状のピットは５００〜３００００
０個／ｍｍ2 の密度で生成していることが好ましい。
【００４４】電気化学的な粗面化に用いる交流電源波形
は、サイン波、矩形波、台形波、三角波などが用いられ
る。硝酸水溶液中での電気化学的な粗面化には矩形波ま
たは台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。台形波
において、電流が０からピークに達するまでの時間ＴＰ
は０．５〜３ｍｓｅｃが好ましい。硝酸水溶液中での電
気化学的な粗面化にはサイン波、矩形波、台形波、三角
波が好ましく、電源波形及びその周波数によって粗面化
形状が異なるため、求める表面形状によって選択する。
塩酸水溶液中での電気化学的な粗面化には台形波、サイ
ン波、三角波が好ましく、台形波、三角波が特に好まし
い。台形波、三角波において、電流が０からピークに達
するまでの時間ＴＰは、電流波形１周期の中で、アルミ
ニウム板が陽極である時間の０〜５０％、更に１〜３０
％、とくに１〜１０％が好ましい。
は、サイン波、矩形波、台形波、三角波などが用いられ
る。硝酸水溶液中での電気化学的な粗面化には矩形波ま
たは台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。台形波
において、電流が０からピークに達するまでの時間ＴＰ
は０．５〜３ｍｓｅｃが好ましい。硝酸水溶液中での電
気化学的な粗面化にはサイン波、矩形波、台形波、三角
波が好ましく、電源波形及びその周波数によって粗面化
形状が異なるため、求める表面形状によって選択する。
塩酸水溶液中での電気化学的な粗面化には台形波、サイ
ン波、三角波が好ましく、台形波、三角波が特に好まし
い。台形波、三角波において、電流が０からピークに達
するまでの時間ＴＰは、電流波形１周期の中で、アルミ
ニウム板が陽極である時間の０〜５０％、更に１〜３０
％、とくに１〜１０％が好ましい。
【００４５】台形波においてアルミニウム板の陽極時の
電流波形のピークを保持する時間ＴＨは、電流波形１周
期の中で、アルミニウム板が陽極である周期の１〜５０
％、更に１〜３０％、とくに１〜１０％が好ましい。硝
酸または塩酸を主体とする水溶液中での電気化学的な粗
面化に用いる電源波形は、いずれもｄｕｔｙ比は１：２
〜２：１が好ましく、電源本体のコストからするとｄｕ
ｔｙ比１：１の物がとくに好ましい。周波数は０．１〜
１２０Ｈｚのものを用いることが可能であるが、２０〜
７０Ｈｚが設備上好ましい。但し、硝酸水溶液中での電
気化学的な粗面化で、Ｃｕが０．１重量％よりも多く含
まれるアルミニウム合金を用いるときには周波数０．１
〜１０Ｈｚ、とくに０．３−１．２Ｈｚの交流を用いる
ことが好ましい。
電流波形のピークを保持する時間ＴＨは、電流波形１周
期の中で、アルミニウム板が陽極である周期の１〜５０
％、更に１〜３０％、とくに１〜１０％が好ましい。硝
酸または塩酸を主体とする水溶液中での電気化学的な粗
面化に用いる電源波形は、いずれもｄｕｔｙ比は１：２
〜２：１が好ましく、電源本体のコストからするとｄｕ
ｔｙ比１：１の物がとくに好ましい。周波数は０．１〜
１２０Ｈｚのものを用いることが可能であるが、２０〜
７０Ｈｚが設備上好ましい。但し、硝酸水溶液中での電
気化学的な粗面化で、Ｃｕが０．１重量％よりも多く含
まれるアルミニウム合金を用いるときには周波数０．１
〜１０Ｈｚ、とくに０．３−１．２Ｈｚの交流を用いる
ことが好ましい。
【００４６】電流密度は電流波形のピーク値で１０〜２
００Ａ／ｄｍ2 が好ましい。本発明で交流を用いた電気
化学的な粗面化に用いる電解槽は、縦型、フラット型、
ラジアル型など公知の表面処理に用いる電解槽が使用可
能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載のよ
うな図１に示すようなラジアル型電解槽がとくに好まし
い。電解槽内を通過する電解液はアルミニウムウエブの
進行とパトラレルでもカウンターでもよい。
００Ａ／ｄｍ2 が好ましい。本発明で交流を用いた電気
化学的な粗面化に用いる電解槽は、縦型、フラット型、
ラジアル型など公知の表面処理に用いる電解槽が使用可
能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載のよ
うな図１に示すようなラジアル型電解槽がとくに好まし
い。電解槽内を通過する電解液はアルミニウムウエブの
進行とパトラレルでもカウンターでもよい。
【００４７】図１に示すように、電解槽２０には１個以
上の交流電源１０を接続することができる。主極３ａ，
３ｂに対向するアルミニウムウエブ１に加わる交流の陽
極と陰極の電流比をコントロールし、均一な砂目立てを
行うことと、主極３ａ，３ｂのカーボンの溶解を少なく
する目的で、図１に記載のように補助陽極８を設け、交
流電流の一部を分流させることが好ましい。整流素子９
ａ，９ｂまたはスイッチング素子を介して電流値の一部
を２つの主電極とは別の補助陽極槽３０に設けた補助陽
極８に直流電流として分流させることにより、主極に対
向するアルミニウムウエブ上で作用するアノード反応に
あずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との
比を制御できる。主極に対向するアルミニウムウエブ上
で作用するアノード反応にあずかる電気量と、カソード
反応にあずかる電気量は０．３−０．９５であることが
好ましい。
上の交流電源１０を接続することができる。主極３ａ，
３ｂに対向するアルミニウムウエブ１に加わる交流の陽
極と陰極の電流比をコントロールし、均一な砂目立てを
行うことと、主極３ａ，３ｂのカーボンの溶解を少なく
する目的で、図１に記載のように補助陽極８を設け、交
流電流の一部を分流させることが好ましい。整流素子９
ａ，９ｂまたはスイッチング素子を介して電流値の一部
を２つの主電極とは別の補助陽極槽３０に設けた補助陽
極８に直流電流として分流させることにより、主極に対
向するアルミニウムウエブ上で作用するアノード反応に
あずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との
比を制御できる。主極に対向するアルミニウムウエブ上
で作用するアノード反応にあずかる電気量と、カソード
反応にあずかる電気量は０．３−０．９５であることが
好ましい。
【００４８】（陽極酸化処理）アルミニウム板の表面の
耐磨耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アル
ミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては
多孔質酸化皮膜を形成するものならば、いかなるもので
も使用することができる。一般には硫酸、リン酸、シュ
ウ酸、クロム酸、またはそれらの混合液が用いられる。
それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宣決め
られる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質によって変
わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃
度が１〜８０重量％、液温は５〜７０℃、電流密度１〜
６０A/dｍ2 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜３
００秒の範囲にあれば適当である。硫酸法は通常直流電
流で処理がおこなわれるが、交流を用いることも可能で
ある。
耐磨耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アル
ミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては
多孔質酸化皮膜を形成するものならば、いかなるもので
も使用することができる。一般には硫酸、リン酸、シュ
ウ酸、クロム酸、またはそれらの混合液が用いられる。
それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宣決め
られる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質によって変
わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃
度が１〜８０重量％、液温は５〜７０℃、電流密度１〜
６０A/dｍ2 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜３
００秒の範囲にあれば適当である。硫酸法は通常直流電
流で処理がおこなわれるが、交流を用いることも可能で
ある。
【００４９】陽極酸化皮膜の量は１〜１０g/ｍ2 の範囲
が適当である。１g/ｍ2 よりも少ないと耐刷性が不十分
であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付きやすくな
って、同時にキズの部分にインキが付着する、いわゆる
キズ汚れが生じやすくなる。
が適当である。１g/ｍ2 よりも少ないと耐刷性が不十分
であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付きやすくな
って、同時にキズの部分にインキが付着する、いわゆる
キズ汚れが生じやすくなる。
【００５０】（陽極酸化皮膜を形成した後の親水化処
理）陽極酸化処理が施された後、アルミニウム表面は必
要により親水化処理が施される。本発明に使用される親
水化処理としては、米国特許第２７１４０６６号、同第
３１８１４６１号、同第３２８０７３４号及び同第３９
０２７３４号各明細書に開示されているようなアルカリ
金属シリケート（例えば珪酸ナトリウム水溶液）法があ
る。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶
液中で浸漬されるか、また電解処理される。他に特公昭
３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコ
ン酸カリウム、および、米国特許第３２７６８６８号、
同第４１５３４６１号および同第４６８９２７２号各明
細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処
理する方法などが用いられる。また、砂目立て処理及び
陽極酸化処理後、封孔処理を施したものも好ましい。か
かる封孔処理は熱水および無機塩または有機塩を含む熱
水溶液への浸漬ならびに水蒸気浴等によっておこなわれ
る。
理）陽極酸化処理が施された後、アルミニウム表面は必
要により親水化処理が施される。本発明に使用される親
水化処理としては、米国特許第２７１４０６６号、同第
３１８１４６１号、同第３２８０７３４号及び同第３９
０２７３４号各明細書に開示されているようなアルカリ
金属シリケート（例えば珪酸ナトリウム水溶液）法があ
る。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶
液中で浸漬されるか、また電解処理される。他に特公昭
３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコ
ン酸カリウム、および、米国特許第３２７６８６８号、
同第４１５３４６１号および同第４６８９２７２号各明
細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処
理する方法などが用いられる。また、砂目立て処理及び
陽極酸化処理後、封孔処理を施したものも好ましい。か
かる封孔処理は熱水および無機塩または有機塩を含む熱
水溶液への浸漬ならびに水蒸気浴等によっておこなわれ
る。
【００５１】このようにして得られた平版印刷版用支持
体の上には、従来より知られている感光層を設けて、感
光性平版印刷版を得ることができ、これを製版処理して
得た平版印刷版は優れた性能を有している。この感光層
中に用いられる感光性物質は特に限定されるものではな
く、通常、感光性平版印刷版に用いられているものを使
用できる。例えば特開平６−１３５１７５号公報に記載
のような各種のものを使用することが出来る。アルミニ
ウム板は感光層を塗布する前に必要に応じて有機下塗層
（中間層）が設けられる。この下塗層に設けられる有機
下塗層としては従来より知られているものを用いること
ができ、例えば特開平９−１３５１７５号公報に記載の
ものを用いることができる。感光層はネガ型でもポジ型
でもよい。
体の上には、従来より知られている感光層を設けて、感
光性平版印刷版を得ることができ、これを製版処理して
得た平版印刷版は優れた性能を有している。この感光層
中に用いられる感光性物質は特に限定されるものではな
く、通常、感光性平版印刷版に用いられているものを使
用できる。例えば特開平６−１３５１７５号公報に記載
のような各種のものを使用することが出来る。アルミニ
ウム板は感光層を塗布する前に必要に応じて有機下塗層
（中間層）が設けられる。この下塗層に設けられる有機
下塗層としては従来より知られているものを用いること
ができ、例えば特開平９−１３５１７５号公報に記載の
ものを用いることができる。感光層はネガ型でもポジ型
でもよい。
【００５２】
（実施例１）厚さ０．３ｍｍの幅１０３０ｍｍの連続鋳
造法によるＪＩＳ１０５０アルミニウム板を用いて以下
の処理を連続しておこなった。 （ａ） 比重１．１２の研磨剤（水酸化アルミニウム）
と水の懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の
表面に供給しながら、回転するローラー状ナイロンブラ
シにより機械的な粗面化をおこなった。ナイロンブラシ
の材質は６・１０ナイロンを使用し、毛長５０ｍｍ、毛
の直径は表１に示したとおりであった。ナイロンブラシ
はΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密にな
るように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ
下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の距離は３０
０ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆
動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押
さえつける前の負荷に対して７ｋｗプラスになるまで押
さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動
方向と同じであった。
造法によるＪＩＳ１０５０アルミニウム板を用いて以下
の処理を連続しておこなった。 （ａ） 比重１．１２の研磨剤（水酸化アルミニウム）
と水の懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の
表面に供給しながら、回転するローラー状ナイロンブラ
シにより機械的な粗面化をおこなった。ナイロンブラシ
の材質は６・１０ナイロンを使用し、毛長５０ｍｍ、毛
の直径は表１に示したとおりであった。ナイロンブラシ
はΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密にな
るように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ
下部の２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）の距離は３０
０ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆
動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押
さえつける前の負荷に対して７ｋｗプラスになるまで押
さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動
方向と同じであった。
【００５３】（ｂ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度
２６重量％、アルミニウムイオン濃度６．５重量％、液
温７５℃でスプレーによるエッチング処理をおこない、
アルミニウム板を１５ｇ／ｍ2 溶解した。その後スプレ
ーによる水洗をおこなった。 （ｃ） 液温３０℃の硝酸濃度１重量％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによる
デスマット処理をおこない、その後スプレーで水洗し
た。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液
中で交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の
廃液を用いた。
２６重量％、アルミニウムイオン濃度６．５重量％、液
温７５℃でスプレーによるエッチング処理をおこない、
アルミニウム板を１５ｇ／ｍ2 溶解した。その後スプレ
ーによる水洗をおこなった。 （ｃ） 液温３０℃の硝酸濃度１重量％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによる
デスマット処理をおこない、その後スプレーで水洗し
た。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液
中で交流を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の
廃液を用いた。
【００５４】（ｄ） 周波数６０Ｈｚの三角波交流電流
を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。こ
のときの電解液は、硝酸１重量％水溶液（アルミニウム
イオン０．５重量％、アンモニウムイオン０．００７重
量％含む）、液温３５℃であった。交流電源波形は電流
値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが２ｍｓｅ
ｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カ
ーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行っ
た。電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で
表１に示したとおりであった。その後、スプレーによる
水洗をおこなった。
を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。こ
のときの電解液は、硝酸１重量％水溶液（アルミニウム
イオン０．５重量％、アンモニウムイオン０．００７重
量％含む）、液温３５℃であった。交流電源波形は電流
値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが２ｍｓｅ
ｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カ
ーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行っ
た。電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で
表１に示したとおりであった。その後、スプレーによる
水洗をおこなった。
【００５５】（ｅ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度
２６重量％、アルミニウムイオン濃度６．５重量％でス
プレーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム
板を、表１に示す量で溶解し、前段の交流を用いて電気
化学的な粗面化をおこなったときに生成した水酸化アル
ミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成した
ピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにし
た。その後スプレーで水洗した。
２６重量％、アルミニウムイオン濃度６．５重量％でス
プレーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム
板を、表１に示す量で溶解し、前段の交流を用いて電気
化学的な粗面化をおこなったときに生成した水酸化アル
ミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成した
ピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにし
た。その後スプレーで水洗した。
【００５６】（ｆ） 液温６０℃の硫酸濃度２５重量％
水溶液（アルミニウムイオンを０．５重量％含む）で、
スプレーによるデスマット処理をおこない、その後スプ
レーによる水洗をおこなった。 （ｇ） 液温３５℃の硫酸濃度１５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２A/dｍ2 陽極酸化皮膜量が２．４g/m2に
なるように陽極酸化処理をおこなった。その後、スプレ
ーによる水洗をおこなった。処理されたアルミニウム板
の表面を日立製作所製ＦＥＳＥＭで観察したところ、５
〜３０μｍの大きなうねりに、平均直径０．５〜３．０
μｍのハニカムピットが重畳していた。平均直径０．５
〜３．０μｍのピットが生成している面積割合は表１の
とおりであった。８５度光沢度は表１のとおりであっ
た。原子間力顕微鏡で求めた平均表面粗さ、表面傾斜度
分布、比表面積は表１に示すとおりであった。このアル
ミニウム板に中間層および感光層を塗布し、乾燥し、乾
燥膜厚２．０g/m2のネガ型平版印刷版を作成した。この
平版印刷版を用いて印刷したところ表１の評価結果を得
た。
水溶液（アルミニウムイオンを０．５重量％含む）で、
スプレーによるデスマット処理をおこない、その後スプ
レーによる水洗をおこなった。 （ｇ） 液温３５℃の硫酸濃度１５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２A/dｍ2 陽極酸化皮膜量が２．４g/m2に
なるように陽極酸化処理をおこなった。その後、スプレ
ーによる水洗をおこなった。処理されたアルミニウム板
の表面を日立製作所製ＦＥＳＥＭで観察したところ、５
〜３０μｍの大きなうねりに、平均直径０．５〜３．０
μｍのハニカムピットが重畳していた。平均直径０．５
〜３．０μｍのピットが生成している面積割合は表１の
とおりであった。８５度光沢度は表１のとおりであっ
た。原子間力顕微鏡で求めた平均表面粗さ、表面傾斜度
分布、比表面積は表１に示すとおりであった。このアル
ミニウム板に中間層および感光層を塗布し、乾燥し、乾
燥膜厚２．０g/m2のネガ型平版印刷版を作成した。この
平版印刷版を用いて印刷したところ表１の評価結果を得
た。
【００５７】
【表１】
【００５８】（実施例２）前記（ｇ）の陽極酸化処理の
後に珪酸ソーダ水溶液に浸漬した以外は実施例１−１、
１ー２、１ー３と全く同じ条件でアルミニウム板の表面
処理をおこなった。この処理したアルミニウム板に中間
層とネガ型感光層を塗布、乾燥して平版印刷版を作成し
た。この平版印刷版を印刷したところ良好な印刷版であ
った。
後に珪酸ソーダ水溶液に浸漬した以外は実施例１−１、
１ー２、１ー３と全く同じ条件でアルミニウム板の表面
処理をおこなった。この処理したアルミニウム板に中間
層とネガ型感光層を塗布、乾燥して平版印刷版を作成し
た。この平版印刷版を印刷したところ良好な印刷版であ
った。
【００５９】（実施例３）厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３
０ｍｍの、ＪＩＳ １０５０アルミニウム板を用いて以
下の処理を行った。 （ａ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２６重量％、
アルミニウムイオン濃度６．５重量％、液温７５℃でス
プレーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム
板を６．０ｇ／ｍ2 溶解し、圧延油や自然酸化皮膜を除
去した。その後スプレーによる水洗をおこなった。 （ｂ） 液温３０℃の硝酸濃度１重量％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによる
デスマット処理をおこない、その後スプレーで水洗し
た。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液
中で直流を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の
廃液を用いた。
０ｍｍの、ＪＩＳ １０５０アルミニウム板を用いて以
下の処理を行った。 （ａ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２６重量％、
アルミニウムイオン濃度６．５重量％、液温７５℃でス
プレーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム
板を６．０ｇ／ｍ2 溶解し、圧延油や自然酸化皮膜を除
去した。その後スプレーによる水洗をおこなった。 （ｂ） 液温３０℃の硝酸濃度１重量％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによる
デスマット処理をおこない、その後スプレーで水洗し
た。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液
中で直流を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の
廃液を用いた。
【００６０】（ｃ） 電解液中に陽極と陰極を交互に配
置し、直流電源が接続された陽極と陰極に対して一定間
隔を保ってアルミニウム板を走行させる、直流電圧を用
いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このと
きの電解液は、硝酸１重量％水溶液（アルミニウムイオ
ン０．５重量％、アンモニウムイオン０．００７重量％
含む）、液温４５℃であった。アノードにはフェライ
ト、カソードにはチタンを用いた。電解にはリップル率
２０％以下の直流電圧を用いた。電流密度５０Ａ／ｄｍ
2 、アルミニウム板が陽極時の電気量４００Ｃ／ｄｍ2
であった。 （ｄ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２６重量％、
アルミニウムイオン濃度６．５重量％、液温７５℃でス
プレーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム
板を５g/ｍ2 溶解し、その後スプレーによる水洗をおこ
なった。 （ｅ） 液温３０℃の硝酸濃度１重量％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによる
デスマット処理をおこない、その後スプレーで水洗し
た。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液
中で直流を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の
廃液を用いた。
置し、直流電源が接続された陽極と陰極に対して一定間
隔を保ってアルミニウム板を走行させる、直流電圧を用
いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このと
きの電解液は、硝酸１重量％水溶液（アルミニウムイオ
ン０．５重量％、アンモニウムイオン０．００７重量％
含む）、液温４５℃であった。アノードにはフェライ
ト、カソードにはチタンを用いた。電解にはリップル率
２０％以下の直流電圧を用いた。電流密度５０Ａ／ｄｍ
2 、アルミニウム板が陽極時の電気量４００Ｃ／ｄｍ2
であった。 （ｄ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２６重量％、
アルミニウムイオン濃度６．５重量％、液温７５℃でス
プレーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム
板を５g/ｍ2 溶解し、その後スプレーによる水洗をおこ
なった。 （ｅ） 液温３０℃の硝酸濃度１重量％水溶液（アルミ
ニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによる
デスマット処理をおこない、その後スプレーで水洗し
た。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液
中で直流を用いて電気化学的な粗面化をおこなう工程の
廃液を用いた。
【００６１】（ｆ） ６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続
的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解
液は、硝酸１重量％水溶液（アルミニウムイオン０．５
重量％、アンモニウムイオン０．００７重量％含む）、
液温２０、３５、４５℃であった。交流電源波形は電流
値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが１．０ｍ
ｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用い
て、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理
をおこなった。電気量はアルミニウム板が陽極時の電気
量の総和で１３０Ｃ／ｄｍ2 であった。その後、スプレ
ーによる水洗をおこなった。
的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解
液は、硝酸１重量％水溶液（アルミニウムイオン０．５
重量％、アンモニウムイオン０．００７重量％含む）、
液温２０、３５、４５℃であった。交流電源波形は電流
値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが１．０ｍ
ｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用い
て、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理
をおこなった。電気量はアルミニウム板が陽極時の電気
量の総和で１３０Ｃ／ｄｍ2 であった。その後、スプレ
ーによる水洗をおこなった。
【００６２】（ｇ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度
５重量％、アルミニウムイオン濃度０．５重量％でスプ
レーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム板
を０．１ｇ／ｍ2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学
的な粗面化をおこなったときに生成した水酸化アルミニ
ウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピッ
トのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。
その後スプレーで水洗した。 （ｈ） 液温６０℃の硫酸濃度２５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによ
るデスマット処理をおこない、その後スプレーによる水
洗をおこなった。 （ｉ） 液温３５℃の硫酸濃度１５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ
／ｍ2 になるように陽極酸化処理をおこなった。その
後、スプレーによる水洗をおこなった。
５重量％、アルミニウムイオン濃度０．５重量％でスプ
レーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム板
を０．１ｇ／ｍ2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学
的な粗面化をおこなったときに生成した水酸化アルミニ
ウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピッ
トのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。
その後スプレーで水洗した。 （ｈ） 液温６０℃の硫酸濃度２５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによ
るデスマット処理をおこない、その後スプレーによる水
洗をおこなった。 （ｉ） 液温３５℃の硫酸濃度１５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ
／ｍ2 になるように陽極酸化処理をおこなった。その
後、スプレーによる水洗をおこなった。
【００６３】（ｊ） 親水化処理する目的で、珪酸ソー
ダ２．５重量％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、そ
の後スプレーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の
後にはニップローラで液切りをおこなった。処理された
アルミニウム板の表面を日立製作所製ＦＥＳＥＭで観察
したところ、５〜３０μｍの大きなうねりに、平均直径
0.5〜３μｍのハニカムピットが重畳していた。平均直
径０．５〜３．０μｍのピットが生成している面積割合
は５０％であった。８５度光沢度は１２であった。１．
９μｍの分解能のＡＦＭで求めた平均表面粗さ０．６μ
ｍ、表面傾斜度分布１０％であった。０．１μｍの分解
能のＡＦＭで求めた比表面積１．３０であった。このア
ルミニウム板に中間層および感光層を塗布し、乾燥し、
乾燥膜厚２．０g/m2のネガ型平版印刷版を作成した。こ
の平版印刷版を用いて印刷したところ良好な印刷版あっ
た。
ダ２．５重量％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、そ
の後スプレーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の
後にはニップローラで液切りをおこなった。処理された
アルミニウム板の表面を日立製作所製ＦＥＳＥＭで観察
したところ、５〜３０μｍの大きなうねりに、平均直径
0.5〜３μｍのハニカムピットが重畳していた。平均直
径０．５〜３．０μｍのピットが生成している面積割合
は５０％であった。８５度光沢度は１２であった。１．
９μｍの分解能のＡＦＭで求めた平均表面粗さ０．６μ
ｍ、表面傾斜度分布１０％であった。０．１μｍの分解
能のＡＦＭで求めた比表面積１．３０であった。このア
ルミニウム板に中間層および感光層を塗布し、乾燥し、
乾燥膜厚２．０g/m2のネガ型平版印刷版を作成した。こ
の平版印刷版を用いて印刷したところ良好な印刷版あっ
た。
【００６４】（実施例４）厚さ０．２４ｍｍ、幅１０３
０ｍｍの、ＪＩＳ ３００５アルミニウム板を用いて以
下の処理を連続して行った。 （ａ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２６重量％、
アルミニウムイオン濃度６ ５重量％、液温７５℃でス
プレーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム
板を６．０ｇ／ｍ2 溶解した。その後スプレーによる水
洗をおこなった。 （ｂ） 液温６０℃の硫酸濃度２５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによ
るデスマット処理をおこない、その後スプレーで水洗し
た。
０ｍｍの、ＪＩＳ ３００５アルミニウム板を用いて以
下の処理を連続して行った。 （ａ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度２６重量％、
アルミニウムイオン濃度６ ５重量％、液温７５℃でス
プレーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム
板を６．０ｇ／ｍ2 溶解した。その後スプレーによる水
洗をおこなった。 （ｂ） 液温６０℃の硫酸濃度２５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、スプレーによ
るデスマット処理をおこない、その後スプレーで水洗し
た。
【００６５】（ｃ） ６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続
的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解
液は、硝酸１重量％水溶液（アルミニウムイオン０．５
重量％、アンモニウムイオン０．００７重量％含む）、
液温４５℃であった。交流電源波形は電流値がゼロから
ピークに達するまでの時間ＴＰが２ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ
比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を
対極として電気化学的な粗面化処理をおこなった。補助
アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピ
ーク値で６０Ａ／ｄｍ2 電気量はアルミニウム板が陽極
時の電気量の総和で２７６Ｃ／ｄｍ2 であった。補助陽
極には電源から流れる電流の１０％を分流させた。その
後、スプレーによる水洗をおこなった。
的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解
液は、硝酸１重量％水溶液（アルミニウムイオン０．５
重量％、アンモニウムイオン０．００７重量％含む）、
液温４５℃であった。交流電源波形は電流値がゼロから
ピークに達するまでの時間ＴＰが２ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ
比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を
対極として電気化学的な粗面化処理をおこなった。補助
アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピ
ーク値で６０Ａ／ｄｍ2 電気量はアルミニウム板が陽極
時の電気量の総和で２７６Ｃ／ｄｍ2 であった。補助陽
極には電源から流れる電流の１０％を分流させた。その
後、スプレーによる水洗をおこなった。
【００６６】（ｄ） アルミニウム板を苛性ソーダ濃度
５重量％、アルミニウムイオン濃度０．５重量％でスプ
レーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム板
を０．１ｇ／ｍ2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学
的な粗面化をおこなったときに生成した水酸化アルミニ
ウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピッ
トのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。
その後スプレーで水洗した。
５重量％、アルミニウムイオン濃度０．５重量％でスプ
レーによるエッチング処理をおこない、アルミニウム板
を０．１ｇ／ｍ2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学
的な粗面化をおこなったときに生成した水酸化アルミニ
ウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピッ
トのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。
その後スプレーで水洗した。
【００６７】（ｅ） 液温６０℃の硫酸濃度２５重量％
水溶液（アルミニウムイオンを０．５重量％含む）で、
スプレーによるデスマット処理をおこない、その後スプ
レーによる水洗をおこなった。 （ｆ） 液温３５℃の硫酸濃度１５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ
／ｍ2 になるように陽極酸化処理をおこなった。その
後、スプレーによる水洗をおこなった。
水溶液（アルミニウムイオンを０．５重量％含む）で、
スプレーによるデスマット処理をおこない、その後スプ
レーによる水洗をおこなった。 （ｆ） 液温３５℃の硫酸濃度１５重量％水溶液（アル
ミニウムイオンを０．５重量％含む）で、直流電圧を用
い、電流密度２Ａ／ｄｍ2 で陽極酸化皮膜量が２．４ｇ
／ｍ2 になるように陽極酸化処理をおこなった。その
後、スプレーによる水洗をおこなった。
【００６８】（ｇ） 親水化処理する目的で、珪酸ソー
ダ２．５重量％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、そ
の後スプレーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の
後にはニップローラで液切りをおおなった。処理された
アルミニウム板の表面を日立製作所製ＦＥＳＥＭで観察
したところ、ピッチ５〜３０μｍの大きなうねりに、平
均直径0.5〜３μｍのハニカムピットが重畳していた。
平均直径０．５〜３．０μｍのピットが生成している面
積割合は９５％であった。８５度光沢度は２８であっ
た。１．９μｍの分解能のＡＦＭで求めた平均表面粗さ
０．４５μｍ、表面傾斜度分布は３０度以上の割合が５
〜４０％であった。０．１μｍの分解能のＡＦＭで求め
た比表面積１．４０であった このアルミニウム板に、
中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ
／ｍ2 のネガ型平版印刷版を作成した。この平版印刷版
を用いて印刷したところ良好な印刷版であった。
ダ２．５重量％、７０℃の水溶液に１４秒間浸漬し、そ
の後スプレーで水洗し、乾燥した。各処理および水洗の
後にはニップローラで液切りをおおなった。処理された
アルミニウム板の表面を日立製作所製ＦＥＳＥＭで観察
したところ、ピッチ５〜３０μｍの大きなうねりに、平
均直径0.5〜３μｍのハニカムピットが重畳していた。
平均直径０．５〜３．０μｍのピットが生成している面
積割合は９５％であった。８５度光沢度は２８であっ
た。１．９μｍの分解能のＡＦＭで求めた平均表面粗さ
０．４５μｍ、表面傾斜度分布は３０度以上の割合が５
〜４０％であった。０．１μｍの分解能のＡＦＭで求め
た比表面積１．４０であった このアルミニウム板に、
中間層および感光層を塗布、乾燥し、乾燥膜厚２．０ｇ
／ｍ2 のネガ型平版印刷版を作成した。この平版印刷版
を用いて印刷したところ良好な印刷版であった。
【００６９】
【発明の効果】良好な印刷性能を有する平版印刷版用ア
ルミニウム支持体について特定の測定方法を用い特性を
規定した結果、良好な印刷性能を有する支持体を提供す
ることが可能であり、しかもその良好な支持体を的確に
判断し、生産管理に結びつけ品質の安定を確保すること
ができる。又、酸性水溶液中で交流電流を用いた電気化
学的粗面化処理でも比較的大きなピットを生成すること
ができるようになった。
ルミニウム支持体について特定の測定方法を用い特性を
規定した結果、良好な印刷性能を有する支持体を提供す
ることが可能であり、しかもその良好な支持体を的確に
判断し、生産管理に結びつけ品質の安定を確保すること
ができる。又、酸性水溶液中で交流電流を用いた電気化
学的粗面化処理でも比較的大きなピットを生成すること
ができるようになった。
【図１】本発明の支持体を得ることのできる、交流を用
いた電気化学的な粗面化を行うラジアルル型電解装置の
一例の側面図。
いた電気化学的な粗面化を行うラジアルル型電解装置の
一例の側面図。
１ アルミニウムウエブ ２ ラジアルドラムローラ ３ａ，３ｂ 主極 ４ 電解処理液 ５ 電解液供給口 ６ スリット ７ 電解液通路 ８ 補助電極 ９ サイリスタ １０ 交流電源 ２０ 主電解槽 ３０ 補助陽極槽
Claims (3)
- 【請求項１】 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用て測定し
た表面形状について、 水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能０．１μｍで１００μｍ角
の測定範囲で測定し、近似三点法により求めた表面積を
ａ、上部投影面積をｂとしたとき、ａ／ｂの値（比表面
積）が１．１５〜１．５であり、 水平（Ｘ，Ｙ）方向の分解能１．９μｍで２４０μｍ角
の測定範囲で測定し、平均表面粗さが０．３５〜１．０
μｍ、且つ、傾斜度３０度以上の割合が５〜４０％であ
る、ことを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持
体。 - 【請求項２】 ＪＩＳに規定の８５度光沢度が３０以下
であることを特徴とする請求項１記載の平版印刷版用ア
ルミニウム支持体。 - 【請求項３】 走査型電子顕微鏡で、倍率７５０倍で観
察したとき、８０μｍの視野の中に、平均直径０．５〜
２０μｍのハニカムピットが占める面積の割合が３０〜
１００％であることを特徴とする請求項１または請求項
２記載の平版印刷版用アルミニウム支持体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17658696A JP3580462B2 (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
| US08/888,058 US5832834A (en) | 1996-07-05 | 1997-07-03 | Aluminum support for lithographic printing plate |
| EP97111364A EP0816118B1 (en) | 1996-07-05 | 1997-07-04 | Aluminum support for lithographic printing plate |
| AT97111364T ATE215452T1 (de) | 1996-07-05 | 1997-07-04 | Aluminiumträger für lithographische druckplatten |
| DE69711499T DE69711499T2 (de) | 1996-07-05 | 1997-07-04 | Aluminiumträger für lithographische Druckplatten |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17658696A JP3580462B2 (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1016419A true JPH1016419A (ja) | 1998-01-20 |
| JP3580462B2 JP3580462B2 (ja) | 2004-10-20 |
Family
ID=16016160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17658696A Expired - Fee Related JP3580462B2 (ja) | 1996-07-05 | 1996-07-05 | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5832834A (ja) |
| EP (1) | EP0816118B1 (ja) |
| JP (1) | JP3580462B2 (ja) |
| AT (1) | ATE215452T1 (ja) |
| DE (1) | DE69711499T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7029820B2 (en) | 2001-10-05 | 2006-04-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU743394B2 (en) | 1997-04-04 | 2002-01-24 | University Of Southern California | Article, method, and apparatus for electrochemical fabrication |
| EP0924101B1 (en) * | 1997-12-16 | 2003-09-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for producing aluminium support for lithographic printing plate |
| US6596150B2 (en) * | 1998-05-28 | 2003-07-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Production method for an aluminum support for a lithographic printing plate |
| JP2000062341A (ja) * | 1998-08-13 | 2000-02-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 印刷版用アルミニウム板の表面処理方法および装置 |
| EP1033261A3 (en) * | 1999-03-03 | 2003-03-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate, non-woven cloth roller, and method and apparatus for preliminarily polishing a metal plate for printing plate |
| ATE299099T1 (de) * | 1999-04-22 | 2005-07-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur herstellung eines aluminiumträgers für lithographische druckplatten |
| JP2001011694A (ja) | 1999-06-25 | 2001-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電解処理方法 |
| CN1169680C (zh) * | 2000-05-15 | 2004-10-06 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷印版的支持体和感光性树脂平版 |
| US6716567B2 (en) * | 2000-10-26 | 2004-04-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Supporting body for lithography block and original lithography block |
| US6780305B2 (en) * | 2001-02-20 | 2004-08-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing support for planographic printing plate, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor |
| DE60211426T2 (de) | 2001-07-06 | 2007-05-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Vorsensibilisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
| US9614266B2 (en) | 2001-12-03 | 2017-04-04 | Microfabrica Inc. | Miniature RF and microwave components and methods for fabricating such components |
| US7259640B2 (en) | 2001-12-03 | 2007-08-21 | Microfabrica | Miniature RF and microwave components and methods for fabricating such components |
| US6968637B1 (en) | 2002-03-06 | 2005-11-29 | Nike, Inc. | Sole-mounted footwear stability system |
| EP1396348B1 (en) * | 2002-09-06 | 2009-03-04 | FUJIFILM Corporation | Support for lithographic printing plate and presensitized plate |
| US10416192B2 (en) | 2003-02-04 | 2019-09-17 | Microfabrica Inc. | Cantilever microprobes for contacting electronic components |
| US8613846B2 (en) | 2003-02-04 | 2013-12-24 | Microfabrica Inc. | Multi-layer, multi-material fabrication methods for producing micro-scale and millimeter-scale devices with enhanced electrical and/or mechanical properties |
| US9671429B2 (en) | 2003-05-07 | 2017-06-06 | University Of Southern California | Multi-layer, multi-material micro-scale and millimeter-scale devices with enhanced electrical and/or mechanical properties |
| US10297421B1 (en) | 2003-05-07 | 2019-05-21 | Microfabrica Inc. | Plasma etching of dielectric sacrificial material from reentrant multi-layer metal structures |
| US10641792B2 (en) | 2003-12-31 | 2020-05-05 | University Of Southern California | Multi-layer, multi-material micro-scale and millimeter-scale devices with enhanced electrical and/or mechanical properties |
| JP4520791B2 (ja) * | 2004-08-17 | 2010-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版 |
| KR101152169B1 (ko) | 2006-03-31 | 2012-06-15 | 알코아 인코포레이티드 | 리소 시트 생산을 위한 제조 방법 |
| US11262383B1 (en) | 2018-09-26 | 2022-03-01 | Microfabrica Inc. | Probes having improved mechanical and/or electrical properties for making contact between electronic circuit elements and methods for making |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5926480B2 (ja) * | 1978-03-27 | 1984-06-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体 |
| JPH0858256A (ja) * | 1994-08-22 | 1996-03-05 | Mitsubishi Chem Corp | 平版印刷版用アルミニウム支持体 |
| JP3342776B2 (ja) * | 1994-08-30 | 2002-11-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法並びにアルミニウム支持体の粗面化処理方法 |
| EP0730979B1 (en) * | 1995-03-06 | 2000-08-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate, process for the preparation thereof and electrochemical roughening apparatus |
-
1996
- 1996-07-05 JP JP17658696A patent/JP3580462B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-07-03 US US08/888,058 patent/US5832834A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-04 AT AT97111364T patent/ATE215452T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-07-04 EP EP97111364A patent/EP0816118B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-04 DE DE69711499T patent/DE69711499T2/de not_active Expired - Lifetime
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| US7029820B2 (en) | 2001-10-05 | 2006-04-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate |
Also Published As
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|---|---|
| EP0816118A1 (en) | 1998-01-07 |
| EP0816118B1 (en) | 2002-04-03 |
| JP3580462B2 (ja) | 2004-10-20 |
| DE69711499D1 (de) | 2002-05-08 |
| DE69711499T2 (de) | 2002-07-18 |
| ATE215452T1 (de) | 2002-04-15 |
| US5832834A (en) | 1998-11-10 |
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