JPH10153854A - 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 特に、反射型ＴＦＴ型液晶ディスプレイ等
の、低消費電力型液晶ディスプレイの層間絶縁層のパタ
ーン形成や、絶縁ペーストパターン、導電ペーストパタ
ーンの形成等に好適な、透明性、耐熱性、硬化性に優れ
た感光性樹脂組成物およびパターン形成方法を提供す
る。 【解決手段】 （１）アルカリ可溶性アクリル系高分子
バインダー、（２）キノンジアジド基含有化合物、
（３）架橋剤、および（４）光酸発生剤を含有させて感
光性樹脂組成物とし、さらに、該感光性樹脂組成物を基
板上に塗布、乾燥後、マスクパターンを介して選択的に
露光、現像してポジ画像パターンを形成し、次いで加熱
することにより該ポジ画像パターンを架橋硬化させてパ
ターンを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性樹脂組成物に
関し、特に、反射型ＴＦＴ型液晶ディスプレイ等の、低
消費電力型液晶ディスプレイの層間絶縁層のパターン形
成や、絶縁ペーストパターン、導電ペーストパターンの
形成等に好適な、透明性、耐熱性、硬化性に優れた感光
性樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）
は、薄型化、軽量化が可能であることから携帯用ワープ
ロ、携帯用パソコン、車載用ＴＶ、カメラ一体型のＶＴ
Ｒ等のディスプレイとして広く用いられており、将来的
にはＰＤＡ（個人携帯情報端末）等への応用が期待され
ている。

【０００３】このような液晶ディスプレイの構造とし
て、例えばＴＦＴ型液晶ディスプレイでは、ガラス基板
上に偏光板を設け、ＩＴＯ等の透明導電回路層および薄
膜トランジスタ（ＴＦＴ）を任意に形成し、この上を層
間絶縁層で被覆して背面板とし、一方、これと同様に、
ガラス板上に偏光板を設け、必要によってはブラックマ
トリックス層およびカラーフィルタ層（通常は赤、青、
緑の各色パターンからなる）をパターン形成し、さらに
透明導電回路層、層間絶縁層を順次形成して上面板と
し、前記背面板と上面板をスペーサを介して対向させて
両板間に液晶を封入し、液晶パネルとしている。

【０００４】しかしながら、このような液晶ディスプレ
イにあっては、カラーフィルタ層、偏光板、導電層の吸
収による光損失や液晶ディスプレイの光透過部の開口率
が小さい等の問題があり、コントラストの高い画像を得
るために背面板下からバックライトにより可視光を供給
する必要があった。このため、携帯性の高いバッテリー
駆動型の液晶ディスプレイでは数〜数十時間程度でバッ
テリーを消耗してしまい低消費電力型のディスプレイと
言い難く、ＰＤＡなどのディスプレイ使用に実用的であ
るとはいえなかった。

【０００５】そこで、背面板上の層間絶縁層上に銀やア
ルミニウム等の金属を蒸着させ、外光を反射させてバッ
クライトの代りとする反射型の液晶ディスプレイが提案
されている。バックライトを必要としないので低消費電
力型の液晶ディスプレイとなることが期待できるが、依
然としてカラーフィルタ層、偏光板、導電層の吸収によ
る光損失や、開口率が小さい等の問題があり、実用的な
ディスプレイとすることができなかった。

【０００６】上記問題を解決し、実用的な反射型液晶デ
ィスプレイとするには、カラーフィルタ層の分光性能を
落したり、偏光板による偏光率を緩和する方法が考えら
れるが、このような方法ではコントラストが低下する等
の問題点がある。

【０００７】このような現況において、特に反射型液晶
ディスプレイ等において、コントラストの高い画像を得
る技術の開発が望まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、層間絶縁層
として従来より感光性樹脂組成物が用いられている。特
に反射型液晶ディスプレイにおいては、薄膜トランジス
タと、銀やアルミニウム等の金属蒸着膜とを部分的に接
続させるために層間絶縁層にホールを設ける必要がある
が、感光性樹脂組成物を用いることによりこのような加
工が容易にでき、また、均一な膜厚の層間絶縁層の形成
も可能となった。しかしながら、従来の感光性樹脂組成
物では、透明性や硬化性において改良の余地があり、特
に反射型液晶ディスプレイに使用する感光性樹脂組成物
としては、従来のものは透明性、耐熱性、硬化性等を十
分に満足し得る程度に実用的であるとはいえなかった。

【０００９】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、特に、反射型ＴＦＴ型液晶ディスプレイ等の、低消
費電力型液晶ディスプレイの層間絶縁層形成や絶縁ペー
ストパターン、導電ペーストパターン形成に好適な、透
明性、耐熱性、および絶縁性に優れた感光性樹脂組成物
を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために感光性樹脂組成物の各組成についてさ
らに鋭意研究を重ね、本発明を完成するに至った。

【００１１】すなわち本発明は、（１）アルカリ可溶性
アクリル系高分子バインダー、（２）キノンジアジドス
ルホン酸エステル化物、（３）架橋剤、および（４）光
酸発生剤、を含有してなる感光性樹脂組成物およびこれ
を用いたパターン形成方法に関する。

【００１２】本発明により、層間絶縁層の透明性を高め
ることができ、これによりコントラストの高い画像を得
ることができ、また耐熱性、硬化性を向上させることに
より液晶パネルの薄層化を実現することができ、これに
より開口率を上げ、光損失の少ない液晶ディスプレイと
することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に本発明について詳述する。

【００１４】本発明に用いられるアルカリ可溶性アクリ
ル系高分子バインダーとしては、（ａ）アクリル酸、メ
タクリル酸のいずれか１種以上と、（ｂ）アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステルのいずれか１種以上とを
共重合させることによって得ることができる。

【００１５】アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ルとしては、具体的には、メチルアクリレート、メチル
メタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリ
レート、Ｎ−ブチルアクリレート、Ｎ−ブチルメタクリ
レート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、、ベンジルアクリレート、ベンジルメタ
クリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタ
クリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニル
メタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレ
ン、アクリルアミド、メタアクリルアミド、アクリロニ
トリル、メタアクリロニトリル等が挙げられる。

【００１６】上記アクリル酸、メタクリル酸のいずれか
１種以上と、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ルのいずれか１種以上との共重合は、常法によって行う
ことができる。

【００１７】本発明のアルカリ可溶性アクリル系高分子
バインダーには、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セ
ルロース変性物、ポリエチレンオキシド、ポリビニルピ
ロリドン、ポリ酢酸ビニル、アクリロニトリルとスチレ
ンとの共重合体、アクリロニトリルとスチレン、ブタジ
エンとの共重合体、ポリビニルアルキルエーテル、ポリ
ビニルアルキルケトン、ポリスチレン、ポリアミド、ポ
リウレタン、ポリエチレンテレフタレートイソフタレー
ト、アセチルセルロースおよびポリビニルブチラール等
を添加してもよい。

【００１８】このアルカリ可溶性アクリル系高分子バイ
ンダーは、重量平均分子量５，０００〜１００，０００
のものが好ましく、より好ましくは７，０００〜８０，
０００である。重量平均分子量が低すぎると膜形成能に
乏しく、現像時に膜減りが激しくなり、一方、高すぎる
と現像時間が長時間となり、基板に悪影響を及ぼすこと
がある。

【００１９】このアルカリ可溶性アクリル系高分子バイ
ンダーの配合量は、アルカリ可溶性アクリル系高分子バ
インダー、キノンジアジドスルホン酸エステル化物、架
橋剤、および光酸発生剤、総和１００重量部中、３０〜
８０重量部の範囲で配合するのが好ましく、より好まし
くは４０〜７０重量部である。配合量が低すぎると透明
性や絶縁性、塗膜性が低下し、一方、配合量が多すぎる
と感度が低下し、硬化不良を起こすので好ましくない。

【００２０】本発明で用いられるキノンジアジド基含有
化合物としては、感光性成分として用いられ得るもので
あれば特に限定されるものでなく、例えば、ナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸、ナフトキノン
−１，２−ジアジド−５−スルホン酸等のナフトキノン
−１，２−ジアジドスルホニルハライドと、ヒドロキシ
化合物とのエステル化物等が好ましく用いられる。具体
的には、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エス
テル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフ
トキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノンのナフ
トキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル
等の、トリヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−
１，２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン
酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−ス
ルホン酸エステル、２，３，４，３’−テトラヒドロキ
シベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−
５−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジア
ジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テ
トラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，３，４，
２’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン
−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，
３，４，２’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフ
トキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メト
キシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸エステル等の、テトラヒドキシベンゾ
フェノンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸
とのエステル化合物；２，３，４，２’，４’−ペンタ
ヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−４−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，
４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン
−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，
３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン
のナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エ
ステル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベ
ンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸エステル等の、ペンタヒドロキシベンゾフェ
ノンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸との
エステル化合物；２，４，６，３’，４’，５’−ヘキ
サヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−
ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，４，６，
３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エス
テル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキ
シベンゾフェノンのナフトキノン−１，２−ジアジド−
４−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，
５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン
−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル等の、ヘ
キサヒドロキシベンゾフェノンと、ナフトキノン−１，
２−ジアジドスルホン酸とのエステル化合物；２，２’
−ジヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，
２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，２’−ジ
ヒドロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−
ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，４’−ジヒド
ロキシジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジア
ジド−４−スルホン酸エステル、２，４’−ジヒドロキ
シジフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸エステル、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４
−スルホン酸エステル、４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−ス
ルホン酸エステル等の、ジヒドロキシジフェニルメタン
とナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエス
テル化合物；１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−
（２’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（２
−ヒドロキシフェニル）−１−（２’−ヒドロキシフェ
ニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）
−１−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１
−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキ
シフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−ヒ
ドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−
フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）エタ
ンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
エステル、１−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシ
フェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−
４−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−（２，６
−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒ
ドロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシフェニ
ル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−ス
ルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−
２−（２’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−
（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシ
フェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−
４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）エタンのナフ
トキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒ
ドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−４−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキ
シフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）エタ
ンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
エステル、１−フェニル−２−（２，４−ジヒドロキシ
フェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−
４−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，４
−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル
−２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）エタンのナフ
トキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、１−フェニル−２−（２，６−ジヒドロキシフェニ
ル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−ス
ルホン酸エステル等の、ジフェニルヒドロキシエタンと
ナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸とのエステ
ル化合物；１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−
（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン
−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−
（２−ヒドロキシフェニル）−１−（２’−ヒドロキシ
フェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エス
テル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−１−（４’−
ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−（４−ヒド
ロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）
プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スル
ホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１
−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−
フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロ
パンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン
酸エステル、１−フェニル−１−（２，４−ジヒドロキ
シフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジ
ド−５−スルホン酸エステル、１−フェニル−１−
（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１
−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プ
ロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホ
ン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−
（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン
−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−
（２−ヒドロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシ
フェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エス
テル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−
ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−（２−ヒド
ロキシフェニル）−１−（４’−ヒドロキシフェニル）
プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スル
ホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１
−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−
（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシ
フェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−スルホン酸エステル、１−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エス
テル、１−フェニル−２−（２，４−ジヒドロキシフェ
ニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４
−スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−フェニル
−１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２−フェニル−１−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸エステル、１−フェニル−２−（２，６−ジ
ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−
２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフ
トキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル、２−フェニル−１−（２，６−ジヒドロキシフェニ
ル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−
スルホン酸エステル、２−フェニル−１−（２，６−ジ
ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−（２−ヒド
ロキシフェニル）−２−（２’−ヒドロキシフェニル）
プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スル
ホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェニル）−２
−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２−
（２−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシ
フェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−スルホン酸エステル、２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エス
テル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−
ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２−（４−ヒド
ロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）
プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スル
ホン酸エステル、２−フェニル−２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−４−スルホン酸エステル、２−フェニル−２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２
−フェニル−２−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プ
ロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホ
ン酸エステル、２−フェニル−２−（２，６−ジヒドロ
キシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジア
ジド−５−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシ
フェニル）−３−（２’−ヒドロキシフェニル）プロパ
ンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸
エステル、１−（２−ヒドロキシフェニル）−３−
（２’−ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン
−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−
（２−ヒドロキシフェニル）−３−（４’−ヒドロキシ
フェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−スルホン酸エステル、１−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−３−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エス
テル、１−（４−ヒドロキシフェニル）−３−（４’−
ヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−（４−ヒド
ロキシフェニル）−３−（４’−ヒドロキシフェニル）
プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スル
ホン酸エステル、１−フェニル−３−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−４−スルホン酸エステル、１−フェニル−３−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパンのナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１
−フェニル−３−（２，６−ジヒドロキシフェニル）プ
ロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホ
ン酸エステル、１−フェニル−３−（２，６−ジヒドロ
キシフェニル）プロパンのナフトキノン−１，２−ジア
ジド−５−スルホン酸エステル等の、ジヒドロキシフェ
ニルプロパンとナフトキノン−１，２−ジアジドスルホ
ン酸とのエステル化合物；２，２’，２’’−トリヒド
ロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，２’’−
トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，
２’，４’’−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２，２’，４’’−トリヒドロキシトリフェニルメ
タンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン
酸エステル、２，４’，４’’−トリヒドロキシトリフ
ェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−
スルホン酸エステル、２，４’，４’’−トリヒドロキ
シトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２−ジアジ
ド−５−スルホン酸エステル、４，４’，４’’−トリ
ヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−４−スルホン酸エステル、４，４’，
４’’−トリヒドロキシトリフェニルメタンのナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、
２，２’，２’’−トリヒドロキシトリフェニルエタン
のナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エ
ステル、２，２’，２’’−トリヒドロキシトリフェニ
ルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スル
ホン酸エステル、２，２’，４’’−トリヒドロキシト
リフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−
４−スルホン酸エステル、２，２’，４’’−トリヒド
ロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−５−スルホン酸エステル、２，４’，４’’−
トリヒドロキシトリフェニルエタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、２，
４’，４’’−トリヒドロキシトリフェニルエタンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル、４，４’，４’’−トリヒドロキシトリフェニルエ
タンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン
酸エステル、４，４’，４’’−トリヒドロキシトリフ
ェニルエタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸エステル、２，２’，２’’−トリヒドロキ
シトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジア
ジド−４−スルホン酸エステル、２，２’，２’’−ト
リヒドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、２，
２’，４’’−トリヒドロキシトリフェニルプロパンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エス
テル、２，２’，４’’−トリヒドロキシトリフェニル
プロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スル
ホン酸エステル、２，４’，４’’−トリヒドロキシト
リフェニルプロパンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−スルホン酸エステル、２，４’，４’’−トリヒ
ドロキシトリフェニルプロパンのナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４，４’，
４’’−トリヒドロキシトリフェニルプロパンのナフト
キノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、
４，４’，４’’−トリヒドロキシトリフェニルプロパ
ンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロ
キシメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニ
ル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−ス
ルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ
−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキ
シフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−
１−（ｏ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｐ−
ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−
ジアジド−４−スルホン酸エステル、４−［１，１−ジ
メチル−１−（ｏ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビ
ス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、４−
［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシメチル）フ
ェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシメ
チル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メ
タンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン
酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒド
ロキシメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェ
ニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−
スルホン酸エステル、４−［１，１−ジメチル−１−
（ｐ−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジア
ジド−５−スルホン酸エステル、［４−（ｏ−ヒドロキ
シフェニルメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシ
フェニル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−
４−スルホン酸エステル、［４−（ｏ−ヒドロキシフェ
ニルメチル）フェニル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニ
ル）メタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−ス
ルホン酸エステル、［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメ
チル）フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メ
タンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン
酸エステル、［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）
フェニル］−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンの
ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エス
テル、［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニ
ル］−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフト
キノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、
［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−
ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン
−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、［４−
（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、［４−
（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４
−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニ
ル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキ
シフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメ
チル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニ
ル｝−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタン
のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒ
ドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４
−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニ
ル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンのジアジド
−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメ
チル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニ
ル｝−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタン
のナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エ
ステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス
（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４
−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）メチル］フェニル｝−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメ
チル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニ
ル｝−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン
のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）
フェニル］−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）
エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホ
ン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメ
チル）フェニル］−１，１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェ
ニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキシフェ
ニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキ
シフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒ
ドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，１−ビス
（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−［４
−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−１，
１−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１
−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］
−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェ
ニル］−１，１−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタ
ンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
エステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−
ヒドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビ
ス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４
−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニ
ル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキ
シフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメ
チル−１−（ｏ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニ
ル｝−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン
のナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エ
ステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｏ−ヒ
ドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−｛４
−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキ
シフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−４−スルホン酸エステル、１−｛４−［１，１−ジメ
チル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチル］フェニ
ル｝−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタン
のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、１−｛４−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス
（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１−｛４
−［１，１−ジメチル−１−（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）メチル］フェニル｝−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒドロキ
シフェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｏ−ヒ
ドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジ
アジド−４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｏ−ヒ
ドロキシフェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス
（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキノン−
１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル、１−［４
−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］−２，
２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸エステル、１
−［４−（ｏ−ヒドロキシフェニルメチル）フェニル］
−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタンのナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステ
ル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチル）フェ
ニル］−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニル）エタ
ンのナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸
エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニルメチ
ル）フェニル］−２，２−ビス（ｏ−ヒドロキシフェニ
ル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−５−ス
ルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシフェニ
ルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジアジド−
４−スルホン酸エステル、１−［４−（ｐ−ヒドロキシ
フェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）エタンのナフトキノン−１，２−ジア
ジド−５−スルホン酸エステル等が挙げられる。

【００２１】これらは単独で用いても、あるいは２種以
上組み合わせて用いてもよい。なお本発明で用いられる
上記のようなヒドロキシ化合物のナフトキノンジアジド
スルホン酸エステルではエステル化率は３０〜１００重
量％程度であるのが好ましい。エステル化率は、〔（ナ
フトキノンジアジドスルホン酸エステル基モル数）／
（ヒドロキシ化合物のエステル化前のヒドロキシ基モル
数）〕×１００で求めることができる。

【００２２】本発明においては、ポジ画像形成時、この
キノンジアジド基含有化合物が活性光線の照射により、
分子構造が変化し現像液に対して可溶性となる。キノン
ジアジド基含有化合物は、アルカリ可溶性アクリル系高
分子バインダー、キノンジアジドスルホン酸エステル化
物、架橋剤、および光酸発生剤の総和１００重量部中、
５〜７０重量部の範囲で配合するのが好ましく、より好
ましくは１５〜６０重量部である。配合量が少なすぎる
と感度が低下し、現像不良を起こすことがあり、一方、
配合量が多すぎると透明性、絶縁性や塗膜性が悪くなり
好ましくない。

【００２３】本発明に用いられる架橋剤としては、メラ
ミン、尿素のほかに、アルコキシメチル化メラミン樹
脂、アルコキシメチル化尿素樹脂等のアルコキシメチル
化アミノ樹脂等が好適なものとして挙げられる。これら
のアルコキシメチル化アミノ樹脂は、例えば、沸騰水溶
液中でメラミンまたは尿素をホルマリンと反応させて縮
合物を得た後、これをメチルアルコール、エチルアルコ
ール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール等の低級アルコール類でエーテル化さ
せ、次いで反応液を冷却して析出する樹脂を取り出すこ
とにより調製することができる。アルコキシメチル化ア
ミノ樹脂の具体例としては、メトキシメチル化メラミン
樹脂、エトキシメチル化メラミン樹脂、プロポキシメチ
ル化メラミン樹脂、ブトキシメチル化メラミン樹脂、メ
トキシメチル化尿素樹脂、エトキシメチル化尿素樹脂、
プロポキシメチル化尿素樹脂、ブトキシメチル化尿素樹
脂等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２
種以上を組み合わせて用いてもよい。前記アルコキシメ
チル化アミノ樹脂の中で、特にアルコキシメチル化尿素
樹脂が好ましく、これを用いることにより、放射線の照
射量の変化に対するレジストパターンの寸法変化量が特
に小さい安定したレジストパターンを得ることができ
る。

【００２４】架橋剤は、アルカリ可溶性アクリル系高分
子バインダー、キノンジアジドスルホン酸エステル化
物、架橋剤、および光酸発生剤の総和１００重量部中、
３〜５０重量部の範囲で配合するのが好ましく、より好
ましくは５〜４０重量部である。配合量が少なすぎると
感度が低下し、現像不良を起こすことがあり、一方、配
合量が多すぎると透明性、絶縁性や塗膜性が悪くなり好
ましくない。

【００２５】本発明で用いられる光酸発生剤としては、
光により直接若しくは間接的に酸を発生するものであれ
ば特に限定されるものでなく、具体的には、ジフェニル
ヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、フェニ
ルジアゾニウム塩、ベンジルトシレート、ニトロベンジ
ルトシレート、ジニトロベンジルトシレート、ベンジル
スルホネート、ニトロベンジルスルホネート、ベンジル
カルボネート、ニトロベンジルカルボネート、ジニトロ
ベンジルカルボネートや、２，４−ビス（トリクロロメ
チル）−６−［２−（２−フリル）エテニル］−ｓ−ト
リアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
［２−（５−メチル−２−フリル）エテニル］−ｓ−ト
リアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
［２−（５−エチル−２−フリル）エテニル］−ｓ−ト
リアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
［２−（５−プロピル−２−フリル）エテニル］−ｓ−
トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
［２−（３，５−ジメトキシフェニル）エテニル］−ｓ
−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６
−［２−（３，５−ジエトキシフェニル）エテニル］−
ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−
６−［２−（３，５−ジプロポキシフェニル）エテニ
ル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチ
ル）−６−［２−（３−メトキシ−５−エトキシフェニ
ル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリ
クロロメチル）−６−［２−（３−メトキシ−５−プロ
ポキシフェニル）エテニル］−ｓ−トリアジン、２，４
−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（３，４−メ
チレンジオキシフェニル）エテニル］−ｓ−トリアジ
ン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（３，４
−メチレンジオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，
４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４メ
トキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−ト
リクロロメチル−６−（２−ブロモ−４メトキシ）フェ
ニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチ
ル−６−（２−ブロモ−４メトキシ）スチリルフェニル
−ｓ−トリアジン、４−ビス−トリクロロメチル−６−
（３−ブロモ−４メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−ト
リアジン等のトリアジン化合物、α−（ｐ−トルエンス
ルホニルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル、α
−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシイミノ）−フ
ェニルアセトニトリル、α−（４−ニトロベンゼンスル
ホニルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル、α−
（４−ニトロ−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホ
ニルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル、α−
（ベンゼンスルホニルオキシイミノ）−４−クロロフェ
ニルアセトニトリル、α−（ベンゼンスルホニルオキシ
イミノ）−２，４−ジクロロフェニルアセトニトリル、
α−（ベンゼンスルホニルオキシイミノ）−２，６−ジ
クロロフェニルアセトニトリル、α−（２−クロロベン
ゼンスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル
アセトニトリル、α−（ベンゼンスルホニルオキシイミ
ノ）−２−チエニルアセトニトリル、α−（４−ドデシ
ルベンゼンスルホニルオキシイミノ）−フェニルアセト
ニトリル、α−［（４−トルエンスルホニルオキシイミ
ノ）−４−メトキシフェニル］アセトニトリル、α−
［（ドデシルベンゼンスルホニルオキシイミノ）−４−
メトキシフェニル］アセトニトリル、α−（トシルオキ
シイミノ）−３−チエニルアセトニトリル、α−（メチ
ルスルホニルオキシイミノ）−１−シクロペンテニルア
セトニトリル、α−（メチルスルホニルオキシイミノ）
−１−シクロヘキセニルアセトニトリル、α−（エチル
スルホニルオキシイミノ）−１−シクロペンテニルアセ
トニトリル、α−（イソプロピルスルホニルオキシイミ
ノ）−１−シクロペンテニルアセトニトリル、α−（ｎ
−ブチルスルホニルオキシイミノ）−１−シクロペンテ
ニルアセトニトリル、α−（エチルスルホニルオキシイ
ミノ）−１−シクロヘキセニルアセトニトリル、α−
（イソプロピルスルホニルオキシイミノ）−１−シクロ
ヘキセニルアセトニトリル、α−（ｎ−ブチルスルホニ
ルオキシイミノ）−１−シクロヘキセニルアセトニトリ
ル等のオキシムスルホネート化合物等が挙げられる。中
でも、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノ）−
フェニルアセトニトリルなど、オキシムスルホネート化
合物は、透明性に優れ、かつ光酸発生剤としての性能が
高く、溶剤を用いる場合においても溶解性が良好であ
り、液晶パネル等の層間絶縁膜に使用し、液晶組成物と
隣接した場合であっても、ハロゲン原子等の浸潤がな
く、液晶組成物を変質させることが少ないため好ましく
用いることができる。

【００２６】この光酸発生剤は、アルカリ可溶性アクリ
ル系高分子バインダー、キノンジアジドスルホン酸エス
テル化物、架橋剤、および光酸発生剤の総和１００重量
部中、０．１〜３０重量部の範囲で配合することが好ま
しく、より好ましくは１〜２０重量部である。配合量が
少なすぎると架橋硬化不良を起こすことがあり、一方、
配合量が多すぎるとポジ画像パターン形成時にスカムが
発生し、現像不良が起きてしまうことがあるので好まし
くない。

【００２７】本発明の感光性樹脂組成物を溶解するため
の溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレン
グリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピ
レングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエ
ーテルアセテート、２−メトキシブチルアセテート、３
−メトキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセ
テート、２−メチル−３−メトキシブチルアセテート、
３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチ
ル−３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチ
ルアセテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プ
ロポキシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセ
テート、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキ
シペンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペン
チルアセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルア
セテート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテー
ト、４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、ア
セトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチル
シソブチルケトン、エチルイソブチルケトン、テトラヒ
ドロフラン、シクロヘキサノン、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオ
ン酸イソプロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチ
ル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキ
シ−２−メチル、メチル−３−メトキシプロピオネー
ト、エチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３
−エトキシプロピオネート、エチル−３−プロポキシプ
ロピオネート、プロピル−３−メトキシプロピオネー
ト、イソプロピル−３−メトキシプロピオネート、エト
キシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−
３−メチルブタン酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イ
ソアミル、炭酸メチル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭
酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピル
ビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチ
ル、アセト酢酸エチル、ベンジルメチルエーテル、ベン
ジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、酢酸ベンジ
ル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジ
エチル、γ−ブチロラクトン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキ
サノール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、グリセリン等を挙げることができる。

【００２８】該溶剤は、アルカリ可溶性アクリル系高分
子バインダー、キノンジアジドスルホン酸エステル化
物、架橋剤、および酸発生剤の総和１００重量部に対し
て２０００重量部以下、好ましくは１０００重量部以下
の範囲で配合させることができる。

【００２９】本発明の感光性樹脂組成物には、さらに必
要に応じて可塑剤、界面活性剤、消泡剤、その他の添加
剤を添加することができる。

【００３０】可塑剤としては、ジオクチルフタレート、
ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプ
リレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジ
ルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバ
ケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。

【００３１】界面活性剤としては、アニオン系、カチオ
ン系、ノニオン系の各種活性剤が挙げられる。

【００３２】消泡剤としてはシリコーン系、フッ素系各
種消泡剤等が挙げられる。

【００３３】次に、本発明感光性樹脂組成物を用いたパ
ターン形成方法について、図１を参照して説明する。

【００３４】図１は本発明のパターン形成方法の一実施
の態様を示す。

【００３５】まず、基板１上に本発明感光性樹脂組成物
を溶剤に溶解した溶液をスピンナー等を用いて塗布、乾
燥させ、ホトレジスト層２を設ける（図１（ａ））。基
板１としては、例えば液晶パネルの製造においては、偏
光板、さらには必要によりブラックマトリックス層およ
びカラーフィルタ層を設け、さらに透明導電回路層が設
けられたガラス基板等が挙げられる。

【００３６】次いで、所定のマスクパターン３を介し
て、ホトレジスト層２を選択的に露光する（図１
（ｂ））。露光は、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水
銀灯、ケミカルランプ、エキシマレーザー発生装置など
を用いて、ポジ画像を形成するに十分な量まで照射する
ことにより行う。本発明では、露光時、活性光線が照射
された部分でキノンジアジド基含有化合物の分子構造が
変化して、アルカリ水溶液に対して極めて可溶となる。
そこでこれを現像液に浸漬すると、露光によって可溶化
した部分が選択的に溶解除去されてマスクパターン３に
忠実なホトレジストパターン４を得ることができる（図
１（ｃ））。

【００３７】上記現像液としては、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム等アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭
酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩；ベンジルアミン、ブチ
ルアミン等の第１級アミン；ジメチルアミン、ジベンジ
ルアミン、ジエタノールアミン等の第２級アミン；トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミ
ン等の第３級アミン；モルホリン、ピペラジン、ピリジ
ン等の環状アミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミン等のポリアミン；テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド、トリメチルフェニルベンジルアンモニウムヒドロ
キシド等のアンモニウムヒドロキシド類；トリメチルス
ルホニウムヒドロキシド、ジエチルメチルスルホニウム
ヒドロキシド、ジメチルベンジルスルホニウムヒドロキ
シド等のスルホニウムヒドロキシド類；その他コリン等
の、１〜１０重量％水溶液が用いられる。

【００３８】次いで、このホトレジストパターン４をホ
ットプレート上などで架橋硬化に十分な量まで加熱す
る。加熱温度および時間は、ホトレジストパターン４が
硬化するに十分な温度および時間であればよく、通常は
８０〜１３０℃、１〜１０分間程度加熱するのが好まし
い。この加熱により、本発明感光性樹脂組成物中に含ま
れる架橋剤と酸発生剤とが反応して架橋硬化作用が働
き、架橋硬化されたホトレジストパターン５が得られる
（図１（ｄ））。

【００３９】なお、露光時、ホトレジスト層の照射部分
において、光酸発生剤は露光の影響を受け、開裂が生じ
ているが、未加熱状態のため、架橋硬化剤との反応が起
こらず、したがってホトレジストパターンの架橋硬化は
生じない。本発明では、露光後の加熱工程において、光
酸発生剤と架橋硬化剤との反応による架橋硬化反応が起
こる。

【００４０】

【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて説明する
が、本発明範囲はこれによってなんら限定されるもので
ない。

【００４１】実施例１ メタクリル酸／メタクリル酸メチル／２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体
（５０／２０／２０／１０重量比、重量平均分子量約２
０，０００）６０重量部、２，２’，４，４’−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル１５重量部、ブトキシメ
チル化尿素樹脂２２重量部、α−（ｐ−トルエンスルホ
ニルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル３重量
部、プロピレングリコールモノメチルエーテル２００重
量部を混合してミキサーで５分間かくはんした後、減圧
脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。

【００４２】これをガラス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ×
０．７ｍｍ）上に膜厚５μｍとなるようにスピンナーで
塗布した後、温風ヒーター中で１００℃、２分間乾燥さ
せ、２０μｍパターン／２０μｍスペースのポジマスク
パターンを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ
²の露光量で露光を行い、２．３８％トリエタノールア
ミン水溶液中に１分間浸漬して現像、除去し、さらに温
度１００℃のホットプレート上で１０分間加熱硬化させ
た。

【００４３】測定器として「偏光ゼーマン原子吸光光度
計」（日立製作所社製）を使用し、硬化後の感光性樹脂
組成物の波長４００〜７００ｎｍの可視光の平均透過率
を測定したところ９０．８％／ｍｍであった。

【００４４】また、上記加熱温度を１８０℃とし、１０
分間加熱しても、パターンくずれを起こさなかった。

【００４５】一方、これとは別に、あらかじめ偏光板、
ブラックマトリックス層およびカラーフィルタ層、透明
導電回路層が設けられたガラス板上に、上記感光性樹脂
組成物をスピンナーを用いて乾燥後の膜厚が５μｍとな
るように塗布、乾燥した後、所要のポジマスクを介して
超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光
した。露光後、２．３８％トリエタノールアミン水溶液
中に１分間浸漬してガラス板端部の感光性樹脂組成物を
現像、除去し、次いで温度１００℃のホットプレート上
で２０分間加熱硬化させ、液晶パネルの上面板とした。

【００４６】続いて導電回路層、トランジスタが任意に
設けられたフェノールレジン−ガラスクロス積層基板を
背面板として、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用
いて乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した
後、所要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５
０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光し、２．３８％トリエタ
ノールアミン水溶液中に１分間浸漬して現像し、温度１
００℃のホットプレート上で８分間加熱硬化させた。乾
燥後、該基板上にアルミニウム層を蒸着しホトリソグラ
フィーによりアルミニウムパターンを形成し、さらに上
記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾燥後の膜厚
が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所要のポジマ
スクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の
露光量で露光し、２．３８％トリエタノールアミン水溶
液中に１分間浸漬して現像し、背面板端部の感光性樹脂
組成物を現像除去した。次いで、温度１００℃のホット
プレート上で８分間加熱硬化させた。

【００４７】しかる後、前記上面板と背面板とをスペー
サを介して対向させて各板間に液晶を封入し、液晶パネ
ルを作成した。

【００４８】得られた液晶パネルは視認性が高く、バッ
クライトを必要としない優れたものであった。

【００４９】実施例２ メタクリル酸／アクリル酸メチル／２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体
（４０／３０／２０／１０重量比、重量平均分子量約２
２，０００）７０重量部、２，４，６−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−
スルホン酸エステル１０重量部、メトキシメチル化尿素
樹脂２０重量部、α−（４−ドデシルベンゼンスルホニ
ルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル０．５重量
部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト２００重量部を混合してミキサーで５分間かくはんし
た後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物を調製した。

【００５０】これを実施例１と同様にして、ガラス基板
（１０ｃｍ×１０ｃｍ×０．７ｍｍ）上に膜厚５μｍと
なるようにスピンナーで塗布した後、温風ヒーター中で
１００℃、２分間乾燥させ、２０μｍパターン／２０μ
ｍスペースのポジマスクパターンを介して超高圧水銀灯
を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光を行い、２．
３８％トリエタノールアミン水溶液中に１分間浸漬して
現像、除去し、さらに温度１００℃のホットプレート上
で１０分間加熱硬化させ、実施例１と同様にして硬化後
の感光性樹脂組成物の波長４００〜７００ｎｍの可視光
の平均透過率を測定したところ、９５．４％／ｍｍであ
った。

【００５１】また、上記加熱温度を１８０℃とし、１０
分間加熱しても、パターンくずれを起こさなかった。

【００５２】一方、これとは別に、実施例１と同様にし
て、あらかじめ偏光板、ブラックマトリックス層および
カラーフィルタ層、透明導電回路層が設けられたガラス
板上に、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾
燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所
要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ
／ｃｍ²の露光量で露光した。露光後、２．３８％トリ
エタノールアミン水溶液中に１分間浸漬してガラス板端
部の感光性樹脂組成物を現像、除去し、次いで温度１０
０℃のホットプレート上で２０分間加熱硬化させ、液晶
パネルの上面板とした。

【００５３】続いて導電回路層、トランジスタが任意に
設けられたフェノールレジン−ガラスクロス積層基板を
背面板として、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用
いて乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した
後、所要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５
０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光し、２．３８％トリエタ
ノールアミン水溶液中に１分間浸漬して現像し、温度１
００℃のホットプレート上で８分間加熱硬化させた。乾
燥後、該基板上にアルミニウム層を蒸着しホトリソグラ
フィーによりアルミニウムパターンを形成し、さらに上
記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾燥後の膜厚
が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所要のポジマ
スクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の
露光量で露光し、２．３８％トリエタノールアミン水溶
液中に１分間浸漬して現像し、背面板端部の感光性樹脂
組成物を現像除去した。次いで、温度１００℃のホット
プレート上で８分間加熱硬化させた。

【００５４】しかる後、前記上面板と背面板とをスペー
サを介して対向させて各板間に液晶を封入し、液晶パネ
ルを作成した。

【００５５】得られた液晶パネルは視認性が高く、バッ
クライトを必要としない優れたものであった。

【００５６】実施例３ メタクリル酸／メタクリル酸メチル／２−ヒドロキシエ
チルアクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体
（５０／２０／２０／１０重量比、重量平均分子量約１
８，０００）４０重量部、１−［４−（ｏ−ヒドロキシ
フェニルメチル）フェニル］−２，２−ビス（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル４０重量部、メトキシメチ
ル化メラミン樹脂１０重量部、α−（ｐ−トルエンスル
ホニルオキシイミノ）−フェニルアセトニトリル１０重
量部、プロピレングリコールモノエチルエーテル２００
重量部を混合してミキサーで５分間かくはんした後、減
圧脱気し、感光性樹脂組成物を得た。

【００５７】これを実施例１と同様にして、ガラス基板
（１０ｃｍ×１０ｃｍ×０．７ｍｍ）上に膜厚５μｍと
なるようにスピンナーで塗布した後、温風ヒーター中で
１００℃、２分間乾燥させ、２０μｍパターン／２０μ
ｍスペースのポジマスクパターンを介して超高圧水銀灯
を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光を行い、２．
３８％トリエタノールアミン水溶液中に１分間浸漬して
現像、除去し、さらに温度１００℃のホットプレート上
で１０分間加熱硬化させ、実施例１と同様にして硬化後
の感光性樹脂組成物の波長４００〜７００ｎｍの可視光
の平均透過率を測定したところ、８９．３％／ｍｍであ
った。

【００５８】また、上記加熱温度を１８０℃とし、１０
分間加熱しても、パターンくずれを起こさなかった。

【００５９】一方、これとは別に、実施例１と同様にし
て、あらかじめ偏光板、ブラックマトリックス層および
カラーフィルタ層、透明導電回路層が設けられたガラス
板上に、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾
燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所
要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ
／ｃｍ²の露光量で露光した。露光後、２．３８％トリ
エタノールアミン水溶液中に１分間浸漬して現像してガ
ラス板端部の感光性樹脂組成物を現像、除去し、次いで
温度１００℃のホットプレート上で２０分間加熱硬化さ
せ、液晶パネルの上面板とした。

【００６０】続いて導電回路層、トランジスタが任意に
設けられたフェノールレジン−ガラスクロス積層基板を
背面板として、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用
いて乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した
後、所要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５
０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光し、２．３８％トリエタ
ノールアミン水溶液中に１分間浸漬して現像し、温度１
００℃のホットプレート上で８分間加熱硬化させた。乾
燥後、該基板上にアルミニウム層を蒸着しホトリソグラ
フィーによりアルミニウムパターンを形成し、さらに上
記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾燥後の膜厚
が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所要のポジマ
スクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の
露光量で露光し、２．３８％トリエタノールアミン水溶
液中に１分間浸漬して現像し、背面板端部の感光性樹脂
組成物を現像除去した。次いで、温度１００℃のホット
プレート上で８分間加熱硬化させた。

【００６１】しかる後、前記上面板と背面板とをスペー
サを介して対向させて各板間に液晶を封入し、液晶パネ
ルを作成した。

【００６２】得られた液晶パネルは視認性が高く、バッ
クライトを必要としない優れたものであった。

【００６３】実施例４ メタクリル酸／メタクリル酸メチル／２−ヒドロキシチ
ルメタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体
（５０／２０／２０／１０重量比、重量平均分子量約２
０，０００）５０重量部、２，２’，４，４’−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル２０重量部、メトキシメ
チル化尿素樹脂３０重量部、２，４−ビス（トリクロロ
メチル）−６−［２−（３，５−ジエトキシフェニル）
エテニル］−ｓ−トリアジン１重量部、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル２００重量部を混合してミキサ
ーで５分間かくはんした後、減圧脱気し、感光性樹脂組
成物を得た。

【００６４】これを実施例１と同様にして、これをガラ
ス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ×０．７ｍｍ）上に膜厚５
μｍとなるようにスピンナーで塗布した後、温風ヒータ
ー中で１００℃、２分間乾燥させ、２０μｍパターン／
２０μｍスペースのポジマスクパターンを介して超高圧
水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光を行
い、２．３８％トリエタノールアミン水溶液中に１分間
浸漬して現像、除去し、さらに温度１００℃のホットプ
レート上で１０分間加熱硬化させ、実施例１と同様にし
て硬化後の感光性樹脂組成物の波長４００〜７００ｎｍ
の可視光の平均透過率を測定したところ、８３．７％／
ｍｍであった。

【００６５】また、上記加熱温度を１８０℃とし、１０
分間加熱しても、パターンくずれを起こさなかった。

【００６６】一方、これとは別に、実施例１と同様にし
て、あらかじめ偏光板、ブラックマトリックス層および
カラーフィルタ層、透明導電回路層が設けられたガラス
板上に、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾
燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所
要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ
／ｃｍ²の露光量で露光した。露光後、２．３８％トリ
エタノールアミン水溶液中に１分間浸漬してガラス板端
部の感光性樹脂組成物を現像、除去し、次いで温度１０
０℃のホットプレート上で２０分間加熱硬化させ、液晶
パネルの上面板とした。

【００６７】続いて導電回路層、トランジスタが任意に
設けられたフェノールレジン−ガラスクロス積層基板を
背面板として、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用
いて乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した
後、所要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５
０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光し、２．３８％トリエタ
ノールアミン水溶液中に１分間浸漬して現像し、温度１
００℃のホットプレート上で８分間加熱硬化させた。乾
燥後、該基板上にアルミニウム層を蒸着しホトリソグラ
フィーによりアルミニウムパターンを形成し、さらに上
記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾燥後の膜厚
が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所要のポジマ
スクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の
露光量で露光し、２．３８％トリエタノールアミン水溶
液中に１分間浸漬して現像し、背面板端部の感光性樹脂
組成物を現像除去した。次いで、温度１００℃のホット
プレート上で８分間加熱硬化させた。

【００６８】しかる後、前記上面板と背面板とをスペー
サを介して対向させて各板間に液晶を封入し、液晶パネ
ルを作成した。

【００６９】得られた液晶パネルは視認性が高く、バッ
クライトを必要としない優れたものであった。

【００７０】比較例１ ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールとを重量比で６０：４
０で混合し、これにホルムアルデヒドをシュウ酸触媒の
存在下で加え、常法により製造したクレゾールノボラッ
ク樹脂（重量平均分子量約７，５００）６０重量部に、
２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン
−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル１５重量部、メトキシメチル化メラミン樹脂２２重
量部、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノ）−
フェニルアセトニトリル３重量部、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル２００重量部を加え、ミキサーで
５分間かくはんした後、減圧脱気し、感光性樹脂組成物
を得た。

【００７１】これを実施例１と同様にして、ガラス基板
（１０ｃｍ×１０ｃｍ×０．７ｍｍ）上に膜厚５μｍと
なるようにスピンナーで塗布した後、温風ヒーター中で
１００℃、２分間乾燥させ、２０μｍパターン／２０μ
ｍスペースのポジマスクパターンを介して超高圧水銀灯
を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光を行い、２．
３８％トリエタノールアミン水溶液中に１分間浸漬して
現像、除去し、さらに温度１００℃のホットプレート上
で１０分間加熱硬化させ、実施例１と同様にして硬化後
の感光性樹脂組成物の波長４００〜７００ｎｍの可視光
の平均透過率を測定したところ、７２．１％／ｍｍであ
った。

【００７２】また、上記加熱温度を１８０℃とし、３分
間加熱したところ、熱だれを生じ、パターンくずれを起
こした。

【００７３】一方、これとは別に、実施例１と同様にし
て、あらかじめ偏光板、ブラックマトリックス層および
カラーフィルタ層、透明導電回路層が設けられたガラス
板上に、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾
燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所
要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ
／ｃｍ²の露光量で露光した。露光後、２．３８％トリ
エタノールアミン水溶液中に１分間浸漬してガラス板端
部の感光性樹脂組成物を現像、除去し、次いで温度１０
０℃のホットプレート上で２０分間加熱硬化させ、液晶
パネルの上面板とした。

【００７４】続いて導電回路層、トランジスタが任意に
設けられたフェノールレジン−ガラスクロス積層基板を
背面板として、上記感光性樹脂組成物をスピンナーを用
いて乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布、乾燥した
後、所要のポジマスクを介して超高圧水銀灯を用いて５
０ｍＪ／ｃｍ²の露光量で露光し、２．３８％トリエタ
ノールアミン水溶液中に１分間浸漬して現像し、温度１
００℃のホットプレート上で８分間加熱硬化させた。乾
燥後、該基板上にアルミニウム層を蒸着しホトリソグラ
フィーによりアルミニウムパターンを形成し、さらに上
記感光性樹脂組成物をスピンナーを用いて乾燥後の膜厚
が５μｍとなるように塗布、乾燥した後、所要のポジマ
スクを介して超高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ²の
露光量で露光し、２．３８％トリエタノールアミン水溶
液中に１分間浸漬して現像し、背面板端部の感光性樹脂
組成物を現像除去した。次いで、温度１００℃のホット
プレート上で８分間加熱硬化させた。

【００７５】しかる後、前記上面板と背面板とをスペー
サを介して対向させて各板間に液晶を封入し、液晶パネ
ルを作成した。

【００７６】得られた液晶パネルは視認性が低く、反射
型液晶パネルとしては実用性に欠けるものであった。

【００７７】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物は、透明性、
耐熱性、硬化性に優れるので、これを液晶パネルの層間
絶縁層とすることにより、層間絶縁層の透明性を高める
ことができ、コントラストの高い画像を得、しかも液晶
パネルの薄層化の実現化を図ることができる。これによ
り開口率を上げ、光損失の少ない実用的な反射型液晶デ
ィスプレイとすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のパターン形成方法の工程の概念説明図
である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ ホトレジスト層 ３ マスクパターン ４ レジストパターン（層間絶縁層パターン） ５ 架橋硬化されたレジストパターン（層間絶縁層パ
ターン）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （１）アルカリ可溶性アクリル系高分子
   バインダー、（２）キノンジアジド基含有化合物、
   （３）架橋剤、および（４）光酸発生剤を含有してなる
   感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 光酸発生剤がオキシムスルホネート化合
   物である、請求項１記載の感光性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の感光性樹脂組成
   物を基板上に塗布、乾燥後、マスクパターンを介して選
   択的に露光、現像してポジ画像をパターンを形成し、次
   いで加熱することにより該ポジ画像パターンを架橋硬化
   させることを特徴とする、パターン形成方法。
4. 【請求項４】 前記基板が液晶パネル用ガラス基板であ
   る、請求項３記載のパターン形成方法。
5. 【請求項５】 前記ポジ画像パターンが層間絶縁層であ
   る、請求項３または４記載のパターン形成方法。