JPH10152670A

JPH10152670A - 紫外線吸収剤及びこれを用いた繊維材料用処理剤

Info

Publication number: JPH10152670A
Application number: JP8313505A
Authority: JP
Inventors: Shiyounan You; 小南楊; Tatsuo Uchida; 達夫内田
Original assignee: NIKKA CHEM CO Ltd; Nikka Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: NIKKA CHEM CO Ltd; Nikka Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1996-11-25
Filing date: 1996-11-25
Publication date: 1998-06-09
Anticipated expiration: 2016-11-25
Also published as: JP3781496B2

Abstract

(57)【要約】【課題】耐熱性に優れた紫外線吸収剤及び耐昇華性及
び耐光性に優れたポリエステル系合成繊維材料用処理剤
を提供する。【解決手段】下記一般式（１）で表されるベンゾフェ
ノン系化合物を有効成分とする紫外線吸収剤及びこの化
合物を含むポリエステル系繊維材料用処理剤。【化１】〔式中、Ｒ₁は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、ヒ
ドロキシル基、メトキシ基、２−ヒドロキシ−２−フェ
ノキシエトキシ基又は２−ヒドロキシ−３−フェノキシ
プロポキシ基を表し、Ｒ₂はフェニル基又は置換もしく
は未置換のフェノキシメチル基を表す。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック、ゴ
ム製品や繊維材料の耐光性向上等に使用される紫外線吸
収剤に関する。更に、日光による変褪色を生じるポリエ
ステル繊維からなる繊維材料又はポリエステル繊維を含
む複合繊維材料の日光堅牢度を向上させる繊維材料用処
理剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリエステル繊維からなる繊維材料又は
ポリエステル繊維を含む複合繊維材料（以下、ポリエス
テル系合成繊維材料と略す。）において高度の耐久性や
高度の日光堅牢度が要求されるもの、例えば、カーシー
ト、カーマット、シートベルト等に対しては、染色浴又
は捺染糊中に紫外線吸収剤を併用して加工することが一
般に行われている。併用する紫外線吸収剤として、例え
ば、特開昭６０−５９１８５号及び特開平２−４１４６
８号には、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５
−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール
が開示されているが、染色後の熱処理（仕上げセット）
工程で１６０〜１９０℃に加熱すると紫外線吸収剤が繊
維表面から昇華してしまい、セット用機械を汚染した
り、日光堅牢度を低下させるといった問題を有してい
る。また、特開平４−９１２７４号には２−〔２−ヒド
ロキシ−３−（３，４，５，６−テトラフタルイミドメ
チル）−５−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール及び
２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾ
フェノンが開示されており、これらは耐昇華性を有する
紫外線吸収剤であることが示されているが、前者におい
ては日光による変褪色を防止する効果が従来品に比較し
て弱く、また太陽光に近い波長を持っているといわれる
キセノン光源での長時間照射の試験結果では、化合物自
体の光分解による白化や黄変が起こるという問題を有
し、後者においては化合物自体が黄色の色彩を呈してい
ることから、淡色に染色された繊維の加工処理では変色
をきたすなどの問題を有している。

【０００３】更に、特開平６−１９２９７２号に開示さ
れた１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフ
ェノキシ）ブタンや、最近開示された２−（２−ヒドロ
キシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−
１，３，５−トリアジンは、耐昇華性に優れることによ
り、高温処理を行うポリエステル系合成繊維材料の染色
品の日光堅牢度を向上させるのに有用であることが知ら
れているが、これらの化合物は、カーシート等に近年使
用されているカチオン可染型ポリエステル系繊維材料に
対する吸着性が乏しく、かかる繊維に対して日光堅牢度
を向上させる効果は得られていない。

【０００４】また、更に、特開平４−１９８１４８号に
は、ヒドロキシベンゾフェノン類へのエポキシ化合物の
付加反応について開示されているが、本発明の化合物に
関する物性や性能等については何等具体的な記載はなさ
れていない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の如き
従来技術に見られる種々の問題点を解消し、プラスチッ
ク、ゴム製品や繊維材料の耐光性向上に必要とされる紫
外線吸収剤の固有吸収波長が２５０から４００nmに吸収
領域を持ち、昇華性が小さく、耐熱性に優れ、ポリエス
テル系合成繊維材料、特にカチオン可染型ポリエステル
系合成繊維材料に対する耐光性能（日光堅牢度）に優
れ、更に安価で、副生物が少なく、工業的にも製造が容
易である化合物を有効成分とする紫外線吸収剤及び該化
合物を含有するポリエステル系合成繊維材料用処理剤を
提供することを目的としてなされたものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
を重ねた結果、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン系
化合物にフェニル基を有する置換基を導入することによ
り上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成さ
せたものである。すなわち、本発明は、下記一般式
（１）で表されるベンゾフェノン系化合物を有効成分と
する紫外線吸収剤を提供する。

【０００７】

【化３】

【０００８】〔式中、Ｒ₁は水素原子、ハロゲン原子、
メチル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、２−ヒドロキ
シ−２−フェノキシエトキシ基又は２−ヒドロキシ−３
−フェノキシプロポキシ基を表し、Ｒ₂はフェニル基又
は下記一般式（２）の基を表す。

【０００９】

【化４】

【００１０】（式中、Ｒ₃及びＲ₄はそれぞれ水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表
す。）〕本発明は、また、前記一般式（１）で表されるベンゾフ
ェノン系化合物から選ばれる少なくとも１種を含む、ポ
リエステル繊維からなる繊維材料又はポリエステル繊維
を含む複合繊維材料用処理剤を提供する。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明による上記一般式（１）で
表されるベンゾフェノン系化合物は、下記一般式（３）

【００１２】

【化５】

【００１３】（式中、Ｒ₅は水素原子、ハロゲン原子、
メチル基、ヒドロキシル基又はメトキシ基を表す。）で
表される２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン系化合物
と、スチレンオキシド又は下記一般式（４）

【００１４】

【化６】

【００１５】（式中、Ｒ₃及びＲ₄はそれぞれ水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、２−フェニル−２−プ
ロピル基又はフェニル基を表す。）で表されるエポキシ
化合物とを常圧又は加圧下で反応させることにより合成
することができる。また、適当な反応触媒を用いること
により効率よく合成できる。上記一般式（３）を有する
化合物は、市販品として入手することも可能であり、あ
るいはまた常法により、レゾルシン、水及び分散剤の混
合液に、ベンゾトリクロリド類を滴下して反応させ、反
応終了後濾過、水洗及び乾燥を行い、目的とする２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノン系化合物を合成して得る
こともできる。

【００１６】上記一般式（４）を有する化合物も、市販
品として入手することも可能であり、あるいはまた常法
により、フェノール類、過剰のエピクロルヒドリン及び
反応触媒（トリメチルベンジルアンモニウムクロリド等
の４級カチオン活性剤）を仕込み、還流下に反応させた
後、冷却し、水酸化ナトリウム等を滴下して閉環反応さ
せ、反応後溶剤抽出し、水洗し、次いで液体の場合は減
圧蒸留を行い、あるいは固体の場合は再結晶を行うこと
により精製し、目的のエポキシ化合物を合成して得るこ
ともできる。

【００１７】このようにして得られた式（３）の化合物
に式（４）のエポキシ化合物を付加することにより目的
の式（１）のベンゾフェノン系化合物を得ることができ
る。一般式（３）で表される２，４−ジヒドロキベンゾ
フェノン系化合物としては、例えば、２，４−ジヒドロ
キベンゾフェノン、４′−クロロ−２，４−ジヒドロキ
ベンゾフェノン、４′−ブロモ−２，４−ジヒドロキベ
ンゾフェノン、４′−メチル−２，４−ジヒドロキベン
ゾフェノン、２，２′，４−トリヒドロキベンゾフェノ
ン、２，４，４′−トリヒドロキベンゾフェノン、４′
−メトキシ−２，４−ジヒドロキベンゾフェノン等が挙
げられる。

【００１８】一般式（４）で表されるエポキシ化合物と
しては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、３−メ
チル−フェニルグリシジルエーテル、３，５−ジメチル
−フェニルグリシジルエーテル、ｐ−フェニル−フェニ
ルグリシジルエーテル、４−（２−フェニル−２−プロ
ピル）−フェニルグリシジルエーテル等が挙げられる。

【００１９】これらの原料を用いて一般式（１）のベン
ゾフェノン系化合物を合成する時のエポキシ化合物の使
用量は、一般式（３）で表される２，４−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン系化合物１モルに対し、１．０〜５．０
モルが好ましく、１．０〜２．０モルが更に好ましい。
エポキシ化合物が１モルより少ないと反応後多量の２，
４−ジヒドロキシベンゾフェノン系化合物が残存するこ
とにより、また５モルより多いと原料２，４−ジヒドロ
キシベンゾフェノン系化合物の２位のヒドロキル基にエ
ポキシ化合物が付加した化合物が生成することにより、
目的とする紫外線吸収機能を損なうこととなる。

【００２０】反応には従来公知の方法が用いられ、例え
ば、溶媒中でもしくは無溶媒で、反応触媒としてアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、有機金属化合物、ルイス
酸、第４級アンモニウム塩等を用い、加圧反応させる方
法が挙げられる。なかでも、スケールアップが容易で反
応効率が高く、しかも副生成物が少ない点で、溶媒を用
いる溶液法が好ましい。

【００２１】これに有用な溶媒としては、例えば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系炭
化水素、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、
イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、
ｔ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、シクロヘキサノー
ル等のアルコール類、水−メタノール、水−エタノー
ル、水−ｎ−プロパノール、水−イソプロパノール等の
水−アルコール混合溶媒が挙げられる。

【００２２】反応触媒としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウム、酢酸ナトリウム、酢
酸カルシウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、ｔ−ブトキシカリウム、メチルリチウム、ブチ
ルリチウム、トリフェニルホスフィン、３フッ化ホウ
素、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、テトラメチルアンモ
ニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロ
リド等が挙げられるが、なかでも水酸化カリウムが好適
である。

【００２３】反応温度は５０℃から１５０℃が好まし
く、９０℃から１２０℃がさらに好適である。ポリエス
テル系合成繊維材料に前記一般式（１）のベンゾフェノ
ン系化合物を適用する方法としては、水系分散液のパデ
ィングによる連続処理、浸漬による吸着処理、捺染糊に
配合して用いる印捺処理、あるいは溶剤に溶解して処理
する溶液処理等の方法を用いることができるが、これら
に特に限定されるものではない。これらの処理は、染色
工程や捺染工程の前もしくは後に、あるいは染色工程や
捺染工程と同時に行ってもよい。水系で処理する際に
は、前記一般式（１）のベンゾフェノン系化合物を水中
に安定に均一分散させる必要があるが、水への分散は従
来公知の方法により容易に行うことができる。一般式
（１）のベンゾフェノン系化合物は水に不溶であるの
で、例えば、この化合物をアニオン又はノニオン系界面
活性剤を用いて水に分散させ、５〜５０重量％の濃度の
一次分散液を調整し、さらにビーズミル等を使用して物
理的に粉砕することにより、安定な微粒子水分散液が得
られる。粒子の大きさは特に限定されないが、平均粒子
系が２μｍ以下の大きさに粉砕した状態で使用するのが
望ましい。

【００２４】分散剤として用いるアニオン又はノニオン
系界面活性剤としては下記のような化合物が挙げられる
が、特にこれらに限定されるものではない。（ａ）ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合
物。（ｂ）炭素数８〜１２のアルキルフェノールの４〜５０
モルのアルキレンオキシド付加物、その硫酸化物あるい
は炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここで、
アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロ
ピレンオキシド及びブチレンオキシドを挙げることがで
き、その単独付加物、２者又は３者のブロックあるいは
ランダム付加物のいずれでもよい。（ｃ）３〜８モルのスチレンを付加したフェノールの４
〜５０モルのアルキレンオキシド付加物、その硫酸化物
あるいは炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。こ
こで、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド及びブチレンオキシドを挙げる
ことができ、その単独付加物、２者又は３者のブロック
あるいはランダム付加物のいずれでもよい。（ｄ）１〜２モルのスチレンを付加した、炭素数８〜１
２のアルキル基を有するアルキルフェノールの４〜５０
モルのアルキレンオキシド付加物、その硫酸化物あるい
は炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここで、
アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロ
ピレンオキシド及びブチレンオキシドを挙げることがで
き、その単独付加物、２者又は３者のブロックあるいは
ランダム付加物のいずれでもよい。（ｅ）ポリオキシアルキレンオキシド、その硫酸化物あ
るいは炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここ
で、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、
プロピレンオキシド及びブチレンオキシドを挙げること
ができ、その単独付加物、２者又は３者のブロックある
いはランダム付加物のいずれでもよい。（ｆ）エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等のア
ミン類のアルキレンオキシド付加物、その硫酸化物ある
いは炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここ
で、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、
プロピレンオキシド及びブチレンオキシドを挙げること
ができ、その単独付加物、２者又は３者のブロックある
いはランダム付加物のいずれでもよい。（ｇ）炭素数８〜１２のアルキル基を有するアルキルジ
フェニルエーテルの硫酸化物。（ｈ）ポリビニルアルコール。（ｉ）アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、アクリ
ルアミド、アクリルニトリロ、酢酸ビニル等のビニル系
モノマーの重合物及び共重合物。（ｊ）カルボキシメチルセルロース。（ｋ）アルギン酸ソーダ。（ｌ）ローカストビン、グアールガム等の天然多糖類の
アルキレンオキシド付加物。ここで、アルキレンオキシ
ドは、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドであ
る。

【００２５】上記処理剤による処理に特に適する繊維材
料としては、ポリエステル繊維またはポリエステル繊維
と他の繊維、例えば、綿、レーヨン、ウール、ナイロ
ン、アセテート等との複合繊維からなる不織布、織物、
編物、及びそれらの起毛品からなるカーペット、カーマ
ット、カーシート、シートベルト等を挙げることができ
る。

【００２６】実際の処理に際しては、浸染用の染色浴に
おいては、前記一般式（１）のベンゾフェノン系化合物
を５〜５０重量％含有する水分散液を、繊維重量に対し
て０．２〜１０％の重量で使用し、他に分散染料等の染
料、均染剤としての界面活性剤、酢酸等のpH調整剤、Ｅ
ＤＴＡ類もしくはポリアクリル酸ソーダ等のキレート
剤、酸化防止剤、消泡剤等の通常の染色に用いられる薬
剤が使用される。染色加工工程は、従来実施されている
ものと同様でよく、繊維製品を精練し、または精練せず
に、液流染色機、ビーム染色機、チーズ染色機等の染色
機中において１２０〜１４０℃で２０〜６０分間染色し
た後、仕上工程を実施する。

【００２７】連続染色では、前記一般式（１）のベンゾ
フェノン系化合物を５〜５０重量％含有する水分散液を
０．２〜１０重量％含み、かつ、染料、アルギン酸ソー
ダ、アクリル酸とアクリルアミド共重合物等のマイグレ
ーション防止剤、及び濃染剤、均染剤、浸透剤としての
界面活性剤、塩素酸ソーダ等の還元防止剤、クエン酸、
リンゴ酸等のpH調整剤を含む染色浴に、精練した繊維製
品を浸漬し、絞り、次いで乾燥し、サーモゾール、スチ
ーミング等の固着処理を実施する。その後、ソーピング
及び仕上処理を行う。

【００２８】また、捺染においては、繊維材料を精練せ
ず、又は精練後、あるいは染色後に捺染糊を印捺する。
捺染糊中には、０．２〜１０％重量の前記一般式（１）
のベンゾフェノン系化合物の水分散液と、他にアルギン
酸ソーダ、加工澱粉、グアーガム系糊剤、カルボキシメ
チルセルロース等の捺染用糊剤、pH調整用のクエン酸、
リンゴ酸等の有機酸、塩素酸ソーダ等の還元防止剤、濃
染剤としての界面活性剤やターペンエマルジョン、及び
消泡剤等の、通常の捺染において使用される薬剤が用い
られる。印捺後乾燥し、ＨＴスチーミング、サーモゾー
ル等での固着処理を行い、次いでソーピングし、仕上処
理を行う。

【００２９】本発明は、前記一般式（１）のベンゾフェ
ノン系化合物の少なくとも１種を、一般には繊維重量に
対して０．０１〜１０％、好ましくは０．１〜５％の量
で、ポリエステル系合成繊維材料に吸着又は付着させる
ことにより、日光堅牢度が向上し、また耐昇華性に優れ
たものとなるため、従って熱処理工程後もセット用機械
の汚染や耐光性の低下を生じさせることが少なく、更に
カチオン可染型ポリエステル系合成繊維材料に対する吸
着性、耐光性も良好となり、ポリエステル合成繊維材料
用処理剤として極めて有効である。

【００３０】本発明の紫外線吸収剤は、本発明のものを
２種以上混合して用いることも可能であり、また、必要
に応じ従来公知の紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤
などと併用することも可能である。本発明の紫外線吸収
剤は、容易に入手可能な２，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノンへのエポキシドの付加反応により合成されるが、
目的物はほぼ定量的に得られ、工業的生産が可能であ
る。また、分子内にアルコール性水酸基を有しているた
め、耐昇華性と高温安定性に優れている。特に紫外線吸
収剤を微細化し、ポリエステル系合成繊維材料に処理す
ると、吸着率が高く、カチオン可染型ポリエステルにも
同様な性質を示し、従って染色物の日光堅牢度において
極めて良好な向上作用を示す。

【００３１】

【実施例】以下に実施例をもって本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。例中に示す融点は、島津製作所社製示
差走差熱量計（以下ＤＳＣと記す）の吸熱ピークより求
めた。紫外線極大吸収波長は日立製作所社製Ｕ−３４１
０型自記分光光度計のＵＶスペクトル測定により求め
た。¹Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（以下¹Ｈ−ＮＭＲと
記す）は、日立製作所社製ＦＴ−ＮＭＲＲ−１９００
を用いて測定した。赤外吸収スペクトル（以下ＩＲと記
す）は、パーキンエルマー社製パーキンエルマー１６５
０を用いて測定した。また、熱減量率は島津製作所社製
の示差熱熱重量同時測定装置ＤＴＧ−５０を用いて測定
した。

【００３２】実施例１１０００mlオートクレーブにイソプロピルアルコール３
６０ｇ、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１０７ｇ
（０．５mol)、水酸化カリウム３ｇ及びフェニルグリシ
ジルエーテル９７．５ｇ（０．６５mol)を仕込み、撹拌
加熱し、１００℃まで昇温し、反応温度１００℃〜１１
０℃で５時間反応させた。反応終了後８０℃まで冷却
し、酢酸５ｇを添加し、触媒を中和した。中和後反応物
を取り出し、濃縮し、エポキシ付加粗製物を得た。粗製
物を再結晶し、目的とする下記化学式の２−ヒドロキシ
−４−（２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロポキシ）
ベンゾフェノンの淡黄色粉末が収率９０％で得られた。
生成物の融点は１１９℃で、クロロホルム溶液で測定し
た紫外線極大吸収波長は３２８及び２８７nmであり、テ
トラメチルシランを標準品にした２％−重クロロホルム
溶液の¹Ｈ−ＮＭＲ分析（図１）及びＩＲ分析（図２）
はいずれも目的化合物であることを支持していた。

【００３３】

【化７】

【００３４】実施例２１０００mlオートクレーブにイソプロピルアルコール３
６０ｇ、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１０７ｇ
（０．５mol)、水酸化カリウム３ｇ及び３，５−ジメチ
ルフェニルグリシジルエーテル９８ｇ（０．５５mol)を
仕込み、撹拌加熱し、１２０℃まで昇温し、１２０〜１
３０℃で５時間反応させた。反応終了後８０℃まで冷却
し、酢酸５ｇを添加し、中和した。中和後反応物を取り
出し、濃縮し、エポキシ付加粗製物を得た。粗製物を再
結晶し、目的とする下記化学式の２−ヒドロキシ−４−
〔２−ヒドロキシ−３−（３，５−ジメチルフェノキ
シ）プロポキシ〕ベンゾフェノンの淡黄色粉末を収率９
２％で得た。生成物の融点は１２８℃で、クロロホルム
溶液で測定した紫外線極大吸収波長は３２７及び２７９
nmであり、¹Ｈ−ＮＭＲ，ＩＲはいずれも目的化合物で
あることを支持していた。

【００３５】

【化８】

【００３６】実施例３１０００mlオートクレーブにイソプロピルアルコール３
６０ｇ、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１０７ｇ
（０．５mol)、水酸化カリウム３ｇ及び３−メチルフェ
ニルグリシジルエーテル９８．４ｇ（０．６mol)を仕込
み、撹拌加熱し、１２０℃まで昇温し、１２０〜１３０
℃で５時間反応させた。反応終了後８０℃まで冷却し、
酢酸５ｇを添加し、中和した。中和後反応物を取り出
し、濃縮し、エポキシ付加粗製物を得た。粗製物を再結
晶し、目的とする下記化学式の２−ヒドロキシ−４−
〔２−ヒドロキシ−３−（３−メチルフェノキシ）プロ
ポキシ〕ベンゾフェノンの淡黄色粉末を収率７９％で得
た。生成物の融点は１０４℃で、クロロホルム溶液で測
定した紫外線極大吸収波長は３２７及び２７８nmであ
り、¹Ｈ−ＮＭＲ，ＩＲはいずれも目的化合物であるこ
とを支持していた。

【００３７】

【化９】

【００３８】実施例４１０００mlオートクレーブにイソプロピルアルコール３
６０ｇ、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１０７ｇ
（０．５mol)、水酸化カリウム３ｇ及びｐ−フェニルフ
ェニルグリシジルエーテル１２４．３ｇ（０．５５mol)
を仕込み、撹拌加熱し、１２０℃まで昇温し、１２０〜
１３０℃で５時間反応させた。反応終了後８０℃まで冷
却し、酢酸５ｇを添加し、中和した。中和後反応物を取
り出し、濃縮し、エポキシ付加粗製物を得た。粗製物を
再結晶し、目的とする下記化学式の２−ヒドロキシ−４
−〔２−ヒドロキシ−３−（４−フェニルフェノキシ）
プロポキシ〕ベンゾフェノンの白色粉末を収率７３％で
得た。生成物の融点は１６４℃で、クロロホルム溶液で
測定した紫外線極大吸収波長は３２７及び２７９nmであ
り、¹Ｈ−ＮＭＲ，ＩＲはいずれも目的化合物であるこ
とを支持していた。

【００３９】

【化１０】

【００４０】実施例５１０００mlオートクレーブにイソプロピルアルコール３
６０ｇ、４′−メトキシ−２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン１２２ｇ（０．５mol)、水酸化カリウム３ｇ及
びフェニルグリシジルエーテル９４．５ｇ（０．６３mo
l)を仕込み、撹拌加熱し、１１０℃まで昇温し、１１０
〜１２０℃で４時間反応させた。反応終了後８０℃まで
冷却し、酢酸５ｇを添加し、中和した。中和後反応物を
取り出し、濃縮し、エポキシ付加粗製物を得た。粗製物
を再結晶し、目的とする下記化学式の２−ヒドロキシ−
４−（２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロポキシ）−
４′−メトキシベンゾフェノンの淡黄色粉末を収率９０
％で得た。生成物の融点は１１５℃で、クロロホルム溶
液で測定した紫外線極大吸収波長は３３０及び２９０nm
であり、¹Ｈ−ＮＭＲ，ＩＲはいずれも目的化合物であ
ることを支持していた。

【００４１】

【化１１】

【００４２】実施例６１０００mlオートクレーブにイソプロピルアルコール３
６０ｇ、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン１０７ｇ
（０．５mol)、水酸化カリウム３ｇ及びスチレンオキシ
ド１０８ｇ（０．９mol)を仕込み、撹拌加熱し、１１０
℃まで昇温し、１１０〜１２０℃で４時間反応させた。
反応終了後８０℃まで冷却し、酢酸５ｇを添加し、中和
した。中和後反応物を取り出し、濃縮し、エポキシ付加
粗製物を得た。粗製物を再結晶し、目的とする下記化学
式の２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−２−フェ
ニルエトキシ）ベンゾフェノンの淡黄色粉末を収率７０
％で得た。生成物の融点は１４２℃で、クロロホルム溶
液で測定した紫外線極大吸収波長は３２７及び２８７nm
であり、¹Ｈ−ＮＭＲ，ＩＲはいずれも目的化合物であ
ることを支持していた。

【００４３】

【化１２】

【００４４】実施例７１０００mlオートクレーブにイソプロピルアルコール３
６０ｇ、２，４，４′−トリヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン１１５ｇ（０．５mol)、水酸化カリウム３ｇ及びフェ
ニルグリシジルエーテル１８７．５ｇ（１．２５mol)を
仕込み、撹拌加熱し、１１０℃まで昇温し、１１０〜１
２０℃で５時間反応させた。反応終了後８０℃まで冷却
し、酢酸５ｇを添加し、中和した。中和後反応物を取り
出し、濃縮し、エポキシ付加粗製物を得た。粗製物を再
結晶し、目的とする下記化学式の２−ヒドロキシ−４，
４′−ビス（２−ヒドロキシ−２−フェノキシプロポキ
シ）ベンゾフェノンの淡黄色粉末を収率７５％で得た。
生成物の融点は１２０℃で、クロロホルム溶液で測定し
た紫外線極大吸収波長は３２９及び２９０nmであり、¹
Ｈ−ＮＭＲ，ＩＲはいずれも目的化合物であることを支
持していた。

【００４５】

【化１３】

【００４６】比較例１

【００４７】

【化１４】

【００４８】で示される２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ
−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール。比較例２

【００４９】

【化１５】

【００５０】で示される１，４−ビス（４−ベンゾイル
−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタン。比較例３

【００５１】

【化１６】

【００５２】で示される２−（２−ヒドロキシ−４−メ
トキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−
トリアジン。減量率の測定実施例１〜７及び比較例１〜３の化合物について熱重量
分析した結果を表１に示す。分析は空気中、昇温速度５
℃／分で行い、２００℃で３０分間保持し、減量率
（％）を測定した。

【００５３】

【表１】

【００５４】実施例１〜７のいずれの化合物も熱減量率
が小さく、優れた耐昇華性及び耐熱性を有していること
が認められる。繊維材料への使用例〔水分散液の調製〕下記の試験に供する実施例１〜７及
び比較例１〜３の化合物の水分散液を次のようにして調
製した。化合物１５０ｇ、リポトールＢ−１２（日華化
学（株）製アニオン系界面活性剤）１００ｇ及び水２５
０ｇを攪拌機で予備分散した後、五十嵐機械製造（株）
製サンドグラインダーで４時間処理して、平均粒子径約
０．４μｍのそれぞれの微粒子水分散液を得た。粒子径
を島津製作所（株）製粒度分布測定機ＳＡＬＤ−１１０
０により測定した。

【００５５】〔性能試験例１〕上記で得られたそれぞれ
の微粒子水分散液を処理剤として用いて繊維材料を処理
し、その性能を評価した。（ａ）供試布カーシート用ポリエステル立毛品（目付け６５０ｇ／ｍ
²）（供試布１）及びレギュラーポリエステル／カチオ
ン可染型ポリエステル（５０／５０）交編布（供試布
２）を下記の方法により処理した後、日光堅牢度試験及
び吸着性試験に供した。（ｂ）処理方法下記のそれぞれの処理浴組成で、１３０℃で３０分間染
色処理（テクサム技研（株）製染色機ミニカラーにて）
した後、８０℃で３０分間還元洗浄し、水洗し、乾燥
し、グレーの染色処理布を得た。次いで、上野山鉄工
（株）製ピンテンターを用い、１６０℃で２分間の乾燥
処理を行った。染色処理浴組成住友化学製分散染料Ｒｅｄ−ＧＦ０．６％owf 住友化学製分散染料Ｙｅｌｌｏｗ−ＧＦ０．６％owf 住友化学製分散染料Ｂｌｕｅ−ＧＦ０．６％owf ニッカサンソルトＲＭ−ＥＸ（日華化学（株）製分散均染剤）０．５ｇ／リットル９０％酢酸０．５ｇ／リットル微粒子水分散液２．０％owf 浴比１：２還元洗浄浴組成サンモールＲＣ−１（日華化学（株）製ソーピング剤）２．０ｇ／リットル（ｃ）評価方法（１）日光堅牢度上記（ｂ）の乾熱処理後のそれぞれの処理布に厚さ１cm
のポリウレタン製スポンジを裏打ちし、高温フェード・
オ・メーター（スガ試験機（株）製）を用い、８３℃で
４００時間照射した。変褪色の度合いを変褪色グレース
ケール（ＪＩＳ−０８０４−７４）により級数で判定し
た。結果を下記の表２に示す。級数が大きいほど日光堅
牢度は良好である。

【００５６】

【表２】

【００５７】本発明の実施例１〜７の処理剤は日光堅牢
度に優れた性能を有していることが認められる。（２）吸着性上記（ｂ）の乾燥後のそれぞれの処理布をソックスレー
抽出（クロロホルムにて３時間）し、生地に吸着した化
合物量を測定した。染色前の染色処理浴中に存在してい
た化合物量との比較により吸着率を算出した結果を表３
に示す。

【００５８】吸着率＝（抽出化合物量／染色処理液中の
化合物量）×１００

【００５９】

【表３】

【００６０】（３）乾熱昇華性の評価上記（ｂ）の乾熱処理前後の処理布をソックスレー抽出
（クロロホルムにて３時間）し、化合物の残存率を求め
た結果を表４に示す。残存率＝（乾熱処理後の吸着量／乾熱処理前の吸着量）
×１００

【００６１】

【表４】

【００６２】これらの結果から、本発明品は日光堅牢
度、耐昇華性に非常に優れていることが解る。

【００６３】

【発明の効果】本発明によれば、耐熱性に優れたヒドロ
キシベンゾフェノン系の紫外線吸収剤が得られる。従っ
て、該紫外線吸収剤を含有した繊維処理剤を用いれば、
高温条件での加工や、加工製品の高温時使用での昇華を
押さえることができ、日光堅牢度の低下の少ないポリエ
ステル系合成繊維材料の染色物又は捺染物が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲチャ
ートである。

【図２】実施例１で得られた化合物のＩＲチャートであ
る。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）で表されるベンゾフェ
ノン系化合物を有効成分とする紫外線吸収剤。【化１】〔式中、Ｒ₁は水素原子、ハロゲン原子、メチル基、ヒ
ドロキシル基、メトキシ基、２−ヒドロキシ−２−フェ
ノキシエトキシ基又は２−ヒドロキシ−３−フェノキシ
プロポキシ基を表し、Ｒ₂はフェニル基又は下記一般式
（２）の基を表す。【化２】（式中、Ｒ₃及びＲ₄はそれぞれ水素原子、炭素数１〜
４のアルキル基又はフェニル基を表す。）〕
【請求項２】前記一般式（１）で表されるベンゾフェ
ノン系化合物から選ばれる少なくとも１種を含む、ポリ
エステル繊維からなる繊維材料又はポリエステル繊維を
含む複合繊維材料用処理剤。