JPH10151396A

JPH10151396A - 塗布装置

Info

Publication number: JPH10151396A
Application number: JP8324765A
Authority: JP
Inventors: Toshio Hikichi; 敏夫引地
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1996-11-20
Filing date: 1996-11-20
Publication date: 1998-06-09
Also published as: FR2756406A1; US5976254A; FR2756406B1

Abstract

(57)【要約】【課題】塗布厚むらのない平坦な磁性層の塗布面を作
業性良く形成できる塗布装置を提供すること。【解決手段】エクストルージョン・ダイ１による磁性
塗料３Ａの塗布位置の下流側の非塗布面側において、平
板状の磁石１５がベースフィルム１９の走行方向Ｒに沿
って多数積層された磁場発生体１２Ａをベースフィルム
１９の走行方向Ｒに対し４５度〜８５度傾斜させて配置
する。これにより、磁性層３の塗布面の凹凸が平滑化さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布装置に関し、
例えば、オーディオテープ、ビデオテープ等に用いられ
る磁気記録媒体の磁性層等の塗布に好適な塗布装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】オーディオ装置やビデオ装置、コンピュ
ータ装置などで用いられる記録媒体としては、磁性粉
末、結合剤及び各種添加剤を有機溶媒に分散、混練する
ことによって調製される磁性塗料を非磁性支持体上に塗
布、乾燥して磁性層を形成した、いわゆる塗布型の磁気
記録媒体が、生産性、汎用性に優れることから主流を占
めている。

【０００３】これまで、磁性層を塗布する方法として
は、グラビアロールを用いたグラビア・コーティング方
式が採用されているが、塗布速度や均一塗布の面で不十
分なことが多い。そこで、磁性塗料をスリットから押し
出して塗布するエクストルージョン・ダイを用いたダイ
・コーティング方式が、塗布量の制御性や均一性を保持
しながら塗布速度を増大させる上で有利であり、近時採
用されることが多くなっている。

【０００４】塗布型の磁気記録媒体においては、電磁変
換特性を向上させるために、非磁性支持体上への磁性塗
料の塗布後に、未乾燥状態で磁性層の表面平滑化処理が
行われている。即ち、非磁性ベースフィルム上に塗布さ
れる磁性層の表面が適度な表面性を呈していない場合、
特に磁性層の塗布むらに伴う塗布厚の不均一は信号の記
録性能の低下を生じるため、表面平滑化手段としてのバ
ースムーザーを塗布面に機械的に接触させて表面を平滑
化させる技術が一般に知られている。

【０００５】特に、上記したエクストルージョン・ダイ
による塗布方式は、ダイを固定した位置で塗布すること
から、塗布層の表面に非磁性ベースフィルム走行方向に
おいて微細な縦スジ状の面荒れが生じ易い。この面荒れ
は、塗布部で塗料が受ける剪断の大きさに依存し、ダイ
をベースフィルムに接触させて塗布する接触式よりも非
接触式の方が面荒れが生じ易い。しかも、これは、磁気
記録媒体の高記録密度化に伴う磁性粉の微粉末化のため
に塗料の凝集性が増大することによって更に助長され、
ダイ・コーティングではその影響が大きい。

【０００６】そこで、こうしたダイ・コーティング方式
において、塗布面の平滑化のために、ダイとバースムー
ザーを組み合わせること（特に、非接触式のダイ・コー
ティングの場合）が必要となる。

【０００７】しかし、バースムーザーによる塗布面の平
滑化は次の〜の如き問題点を有し、なお改善の余地
がある。

【０００８】．塗料と接触するスムーザー部に異物が
捕獲されることにより、塗布した磁性層の表面にスジが
発生する場合がある。．塗布後に巻き取ってロール化する毎にスムーザーの
バーの面の清掃を要し、作業性が良くない。．ベースフィルム両端において、バースムーザーのエ
ッジ部による非塗布部でのベースフィルムの削れや、乾
燥してバーに固着した塗料による塗布性の悪化が生じ易
い。

【０００９】こうしたバースムーザーに代えて、特開昭
６０−２０２５４２号公報には、磁石によるスムーザー
を磁性塗料のロール塗布部の下流側に配した方式が示さ
れている。

【００１０】このようなマグネット方式のスムーザーを
用いると、磁性塗料の塗布面が一見平滑化されるように
思えるが、実際は、磁石を単にベースフィルム走行方向
と直角に配置しているために平滑化が不十分であり、磁
性層の表面性が向上しない。しかも、塗料をロール塗布
で行うために、上述したように塗布速度が遅く、均一塗
布性も悪くなり易い。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な事情に鑑みてなされたものであり、従来のバースムー
ザーの上記した問題を解消し、塗布面が平坦で塗布厚む
らのない塗膜を高速に得ることのできる塗布装置を提供
することを目的とするものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記した従
来技術の問題点につき鋭意検討を重ねた結果、連続的に
走行するフィルム（可撓性支持体）上にスリットから磁
気塗料を押し出しながら塗布するエクストルージョン型
（ダイ）塗布方式において、Ｎ極とＳ極の永久磁石をフ
ィルムの走行方向に交互に所定段積層させた平板状構造
の磁石ユニットを、塗布後でかつ配向前の未乾燥状態
で、フィルムを介して非塗布面側に配置し、さらにフィ
ルムの走行方向に対して所定の取付け角度で傾斜して配
することによって、未乾燥塗布面を十分に平滑化できる
ことを見出し、これによってスジやフィルム両端の不安
定塗布が無く、作業性の良い塗布装置を見出し、本発明
に到達したものである。

【００１３】即ち、本発明は、連続的に走行する支持体
上に磁気材料を押し出しながら塗布するエクストルージ
ョン・ダイと、前記塗布の後に未乾燥状態のうちに前記
磁気材料の塗布面を磁場の作用下で平滑にするスムーザ
ーとを有し、前記支持体の走行方向に沿ってＮ極とＳ極
とが交互に積層された複数の磁石の積層体が前記スムー
ザーとして、前記支持体の前記塗布面とは反対側におい
て前記支持体とほぼ平行な面内で前記支持体の走行方向
に対し傾斜して配設されている塗布装置に係るものであ
る。

【００１４】本発明の塗布装置によれば、エクストルー
ジョン・ダイによって支持体上に磁気材料を押し出し塗
布し、支持体の走行方向に対し傾斜して配設された複数
の磁石の積層体からなるスムーザーによって、塗布後の
未乾燥状態のうちに塗布面を磁場の作用下で平滑にして
いるので、このスムーザーによる磁場（磁力線）の作用
方向が支持体の走行方向に対し交差することになり、塗
布された磁気材料が上記磁場作用方向に流動し、この流
動によって磁気材料の塗布厚が支持体の走行方向と共
に、この走行方向と直行する支持体幅方向にも平均化
（スムージング）されることになる。こうした塗布面の
平滑化によって、エクストルージョン・ダイを用いる塗
布方式のもつ高速塗布性といった特長を十分に生かすこ
とができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明による塗布装置において
は、前記複数の磁石の積層体からなるスムーザーが前記
支持体の走行方向に対し±（４５〜８５）度で傾斜して
配設されているのが望ましい。この傾斜角度が上記範囲
を外れると、磁石積層体による磁場の作用が支持体幅方
向で弱くなり、支持体上での塗料の流動が乏しくなり、
平滑化が困難となる。

【００１６】また、前記複数の磁石の積層体からなるス
ムーザーが、前記支持体の走行方向において順次配設さ
れた第１の磁石積層体と第２の磁石積層体とからなり、
これらの磁石積層体の前記支持体の走行方向に対する傾
斜角度が上記した±（４５〜８５）度の範囲で互いに異
なっていることが望ましい。

【００１７】また、前記スムーザーを構成する平板状の
磁石を２０〜１００段に積層させることが望ましい。

【００１８】この場合、磁石として永久磁石が望ましい
が、電磁石を用いてもかまわない。

【００１９】前記エクストルージョン・ダイと前記支持
体とが非接触の状態で前記磁気材料が塗布される場合、
本発明による効果が顕著となる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
が以下の実施例に限定されるものでないことは勿論であ
る。

【００２１】図１は、本発明の第１の実施例による塗布
装置のスムーザー部の概略平面図である。図２〜図４
は、本実施例に係るスムーザー部の具体的な構成、及び
これに伴う現象やその原理を説明するための図である。

【００２２】まず、図１は、磁性塗料の塗布部（ここで
は図示省略）の下流側において、ベースフィルム１９に
対し、その非塗布面側にベースフィルム１９と非接触で
かつほぼ平行な面内に配置された磁場発生体１２Ａを示
している。ベースフィルム１９には後記のエクストルー
ジョン・ダイによって磁性塗料が塗布され、未乾燥の磁
性層３が形成され、走行方向Ｒ（又はｘ）に走行してい
る状態を示している。

【００２３】磁場発生体１２Ａは、マグネット式スムー
ザーとして、平板状の永久磁石１５が走行方向Ｒに沿っ
て２０〜１００段、例えば５０段積層された積層体に構
成されたものである。この磁場発生体１２Ａの配置は、
その長さ方向がベースフィルム１９の走行方向Ｒに対し
て角度＋θ（例えば＋４５度）をなして傾斜している。
ここにおいて、時計方向へ回る角度を＋θとし、反時計
方向への角度を−θとする。

【００２４】この磁場発生体１２Ａは、例えば、平板状
のネオジウム合金（最大エネルギー積は４６ＭＧＯｅ）
からなる永久磁石１５（以下、磁石と称することがあ
る。）が５０段積層されたものであり、図２（図１のII
−II線断面図）に示す如く、Ｓ極とＮ極とが方向Ｒに沿
って交互に隣接し、背部がヨーク１４で固定され、前面
（ベースフィルム１９との対向側）が保護膜１４ａで覆
われている。そして、保護膜１４ａ側がベースフィルム
１９に対し密着して、若しくは数ｍｍ以内の間隔をなし
て配設され、ｘ及びｙ方向においてほぼ平行になってい
る。

【００２５】なお、図３において、仮想線で示すように
ベースフィルム１９の走行方向Ｒと直交した状態から実
線で示す傾斜角θの位置へ、磁場発生体１２Ａが回動可
能になっていてよく、またその傾斜角は調節可能になっ
ていてよい。

【００２６】上記のように平板状の磁石１５が多段に隣
接して配置されていることにより、これらの磁石１５か
らは図４に示すように隣接する磁石１５間の対接ライン
（図３のＡ方向）と直交する方向Ｂに沿って磁力線Ｆが
放出される。この磁力線Ｆは、ベースフィルム１９を介
してその反対側に塗布された磁性塗料３に作用する。こ
の結果、塗布直後の液状態の磁性塗料３は、磁場発生体
１２Ａの磁力線Ｆによる磁気的吸引作用によって、隣接
する磁石５間の最大磁束密度を呈する領域（磁石間の対
接部）に対応する位置において盛り上がり、塗布面３ａ
に塗料ビード１６を形成することになる。

【００２７】そして、このビード１６は、磁場発生体１
２Ａと同じ例えば４５度の角度で、上記磁石間の対接ラ
インに沿ってＡ方向に連続した凸状に磁性塗料の塗布面
に発生し、このようなビード１６がベースフィルム１９
の走行と共にあたかも転動して塗布面をならしていく。

【００２８】この過程で、塗布面の微細なスジ状の凹凸
が存在していても、その凸部が凹部内に倒れ込み、これ
が磁石の段数に応じて多段に繰り返されるから、ベース
フィルムの幅方向を含む全面において塗布面の平滑化を
実現できる。

【００２９】ここで、磁場発生体１２Ａのベースフィル
ム１９の走行方向に対する傾斜角度が±（４５度〜８５
度）に形成されることが重要である。この角度で配設す
ることにより、磁性塗料３Ａの未乾燥塗布面が十二分に
平滑化されることが各種の試験結果から得られている。

【００３０】本実施例における上記のスムーザー部は、
磁性塗料をエクストルージョン・ダイ、特にマグネット
方式のエクストルージョン・ダイ（以下、ダイと称す
る。）により塗布する際に好適である。

【００３１】このダイによる塗布には、ダイとベースフ
ィルムが接触しないで塗布する非接触方式と、ダイとベ
ースフィルムが接触しながら塗布する接触方式とがあ
り、いずれにも適用してよいが、非接触の場合には塗布
時の微細なスジ状の面荒れが生じ易いので、上記のスム
ーザーによる平滑化効果が大きい。接触式の場合には、
ダイの接触により塗布時にある程度の平滑化を図れる。

【００３２】図５は、非接触方式のエクストルージョン
・ダイを用いるときの要部の概略断面図を示している。

【００３３】ダイ１は図示の如く、フロントリップ５及
びバックリップ６により例えば１６０ｍｍの幅に構成さ
れ、バックリップ６には塗料溜りとなるポケット２が設
けられ、このポケット２から吐出口にかけてスリット
（塗布幅は例えば１１０ｍｍ、スリットギャップは例え
ば２６０μｍ）４が形成され、塗料３Ａはこのスリット
４を通って吐出される。

【００３４】そして、上記のダイ１と所定間隔で対向し
て磁場発生体１０が配されている。この磁場発生体１０
は、磁石（ネオジウム合金の永久磁石を用いているが、
電磁石でもよい。）８がＳ２０Ｃ相当の低炭素鋼からな
るヨーク（先端磁力は実測で最大磁束密度３８００Ｇ）
７Ａ、７Ｂに挟まれて閉磁路を構成している。

【００３５】被塗布体であり、ＶＨＳ用ＰＥＴ（ポリエ
チレンテレフタレート）からなるフィルム（幅は例えば
１２７ｍｍ、厚さは例えば１４．５μｍ）１９は、図５
のように、ダイ１と磁場発生体１０との間を非接触で走
行し、鉛直方向に搬送されながら磁性塗料３Ａが塗布さ
れる。

【００３６】磁性塗料３Ａは、塗布厚に対応する流量で
図示省略したポンプによって、乾燥後塗布厚が例えば１
〜２μｍとなるように、張力が例えば３ｋｇ／幅、塗布
速度が例えば４００ｍ／分でポケット２へ供給される。
そして、前記した磁場発生体１２Ａからなるスムーザー
部は、ダイ１による塗布の直後の下流側に設けられてい
る。

【００３７】これにより、ベースフィルム１９の一方の
面に表面がスムージングされて平坦となった磁性塗膜３
が形成される。

【００３８】本実施例における塗布装置には、上記した
ように、塗布部においてはダイ１と対向する位置にベー
スフィルム１９を挟んで磁場発生体１０が設けられてお
り、そのヨーク７Ａ、７Ｂを経由して流れる磁石８の磁
力線ｆの作用により、ダイ１から吐出する磁性塗料３Ａ
は磁場発生体１０に引きつけられるようにしてフィルム
９の面に吸引、塗布されるので、塗布性が良く、また塗
布時に塗料３Ａが垂れることもない。

【００３９】上記したようにして磁性塗料３Ａをベース
フィルム１９上に塗布、平滑化、乾燥した後、所定幅に
裁断し、非磁性支持体上に、磁性層３を形成した磁気テ
ープを作製することができる。また、この磁性層とは反
対側の支持体面にはバックコート層が設けられてよい
し、磁性層上にはオーバーコート層を設けてよい。非磁
性支持体の表面には、磁性層の接着性を向上させるため
に、中間層又は下引層を設けてもよい。

【００４０】なお、本発明に基づく磁気テープ等の磁気
記録媒体において、磁性塗料（又は磁性層）に使用され
る磁性粉末としては、従来から公知のものがいずれも使
用可能であって、酸化磁性粉末でもよく、金属磁性粉末
でもよい。

【００４１】酸化磁性粉末としては、例えばγ−Ｆｅ₂
Ｏ₃、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ含有
Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ被着Ｆｅ₃
Ｏ₄、ＣｒＯ₂等が挙げられる。

【００４２】金属磁性粉末としては、例えば、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ−
Ｂ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｖ等が挙げ
られ、更にこれらの種々の特性を改善する目的でＡｌ、
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ等の金属成分が添
加されたものであってもよい。また、バリウムフェライ
ト等の六方晶系フェライトやＦｅ₅Ｃ₂等の炭化鉄、窒
化鉄等も使用可能である。

【００４３】本発明の磁気記録媒体を構成する他の構成
要素は、通常の塗布型の磁気記録媒体で用いられている
ものがいずれも使用可能である。

【００４４】例えば、磁性層に使用可能な結合剤として
は、変性又は非変性の塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル共
重合体等のビニル系共重合体、ポリエステルポリウレタ
ン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂等のポリウ
レタン樹脂、或いはポリエステル樹脂を使用又は混用す
ることができるし、更にニトロセルロース等の繊維素系
樹脂、フェノキシ樹脂或いは特定の使用方式を有する熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬
化型樹脂等を併用しても良い。

【００４５】上記の変性のために導入される基として
は、磁性粉の分散性向上を図れる−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ
₃Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＰＯ（ＯＭ’）₂等であってよい
（ＭはＮａ等のアルカリ金属原子、Ｍ’は同アルカリ金
属原子又はアルキル基）。

【００４６】また、磁性層には、磁性粉末、結合剤の他
に、必要に応じて、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤等の添
加剤が添加されていてもよい。これら添加剤としては、
従来公知の材料がいずれも使用可能であり、何ら限定さ
れるものではない。

【００４７】また、磁性層には更に、必要に応じてレシ
チン等の分散剤、カーボンブラック等の帯電防止剤、ア
ルミナ等の研磨剤、防錆剤等が加えられてもよい。これ
らの分散剤、帯電防止剤、研磨剤及び防錆剤としては、
従来公知の材料がいずれも使用可能であり、何ら限定さ
れるものではない。

【００４８】また、磁性層は通常、非磁性支持体上に形
成されるが、使用可能な非磁性支持体としては、ポリエ
チレンテレフタレート以外に、ポリエチレン−２，６−
ナフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリ
プロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセ
テート、セルロースダイアセテート、セルロースブチレ
ート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリアミド、ポリアミド
イミド、ポリカーボネート等のプラスチック等が挙げら
れる。

【００４９】非磁性支持体上に磁性層を形成するには、
上記磁性粉末を、結合剤、潤滑剤や有機溶剤、各種添加
剤と共に磁性塗料とし、この磁性塗料を非磁性支持体上
に塗布することによって実現できる。必要な場合に設け
るバックコート層やトップコート層は、公知の材料及び
方法で形成可能である。

【００５０】図６は、本発明の第２の実施例による塗布
装置のスムーザー部を示し、（ａ）はその平面図、
（ｂ）は（ａ）のｂ−ｂ線断面図であり、図１に対応す
る部分を表している。

【００５１】図示の如く、本実施例においては、塗布部
からみて第１の磁場発生体１２とその下流側の第２の磁
場発生体１３とを順次配設したものである。そして、こ
の場合は、上記した第１の実施例と同じ平板状の永久磁
石１５が、いずれも例えば２５段に積層され、第１の磁
場発生体１２はベースフィルム１９の走行方向Ｒに対し
時計方向に＋θ：６５度で傾斜し、第２の磁場発生体１
３は反時計方向に−θ：８５度で傾斜している。

【００５２】更に、本実施例によるスムーザーは大量生
産向きであり、ベースフィルム幅Ｗが例えば６２０ｍ
ｍ、フィルム張力が例えば１２ｋｇで、例えば４００〜
９００ｍ／分で走行するものである。

【００５３】そして、第１の磁場発生体１２はガイドロ
ーラー１１ａ、１１ｂ間に、第２の磁場発生体１３はガ
イドローラー１１ｂ、１１ｃ間に配置され、ベースフィ
ルム１９の非塗布面との間隙Ｃは例えば０．５ｍｍ以内
でほぼ平行に保たれている。

【００５４】ここで、第１の磁場発生体１２及び第２の
磁場発生体１３のベースフィルム１９の走行方向に対す
る傾斜角度が±（４５度〜８５度）に形成されることが
重要である。この角度で配設することにより、磁性塗料
３Ａの未乾燥塗布面が十二分に平滑化され、スジやフィ
ルム両端での不安定塗布がなく、作業性良く塗布を行え
ることが各種の試験結果から得られている。

【００５５】図７は、本実施例による塗布方法を実施す
るダイ１及び磁場発生体１０を含む要部の断面図であ
る。

【００５６】本実施例による塗布装置は、上述した第１
の実施例よりは大型に構成され、ダイ１も幅が例えば７
００ｍｍ、塗布幅も例えば６１０ｍｍと大きいが、ダイ
１及び磁場発生体１０の構造や作用は上記した第１の実
施例の場合と同様であるので、その説明は省略する。

【００５７】本実施例においては、ダイ１による磁気塗
料の塗布直後に、第１の磁場発生体１２によりある程度
平滑化された磁性層３の表面３ａが、第１の磁場発生体
１２とは逆方向に傾斜して配された第２の磁場発生体１
３により一層平滑化されることになる。

【００５８】即ち、図４に示したようなビード１６が磁
場発生体１２と１３とで互いに逆向きに生じることとな
り、磁性塗料の流動化がフィルム１９上で多様な方向に
生じるため、一層平滑化が促進されるものと考えられ
る。このため、磁気テープの特性及び塗料の磁気・粘性
特性によって図１のような１つの磁場発生体１２Ａでは
平滑化効果が少ない場合、複数の磁場発生体１２及び１
３の上記した作用によって、十分な平滑化が可能となる
のである。

【００５９】次に、上記した各実施例による塗布を具体
的に実施した例を説明する。

【００６０】図８は、ベースフィルムに塗布により形成
された磁性層３の最大粗度ＳＲmaxと、第１の実施例に
おける磁場発生体１２Ａ（但し、ベースフィルム走行方
向に対する傾斜角度θは＋４５度）を構成する平板状の
磁石の積層段数との関係を示すグラフである。

【００６１】即ち、磁石を用いない場合の最大粗度（１
５０ｎｍ）に対し、ＶＨＳ方式の電磁変換特性で許容さ
れた塗布面粗度のレベル（約１１０ｎｍ）は、平板状の
磁石が２０段積層されることにより得られる。そして、
磁石数を増して５０段にすれば、更に最大粗度が緩和さ
れて約９６ｎｍ程度となり、それ以上であれば既述した
バースムーザーを用いる場合と同等の良好な結果を示
し、ほぼ変化しなくなるという傾向曲線１８が得られ
た。従って、磁石の積層段数は２０段以上とするのが望
ましく、また実用的には１００段以下が望ましい。

【００６２】図８に示す結果において、磁石積層段数が
５０段のときの約９６ｎｍの最大粗度は、現行の塗布面
平滑化方式で最も優れているとされているバースムーザ
ーによって得られる塗布面粗度にほぼ相当するものであ
る。これは、第１の実施例による塗布面平滑化方式はそ
れに匹敵する性能を有していることの証明であり、第１
の実施例の磁石積層数を５０段としている所以である。
これは、第２の実施例でも同様であり、２本の磁場発生
体の磁石積層数をトータルで５０段（１本では２５段）
とするのがよい。

【００６３】次に、上記した各実施例における塗布は、
具体的には下記の表１に示す条件で行ったものである。

【００６４】表１Ａ（塗布部） ──────────────────────────────────── 分類項目第１の実施例第２の実施例 ──────────────────────────────────── ダイ１塗布方式非接触式のエクストルージョン型塗布方式ダイ幅１６０ｍｍ７００ｍｍ塗布幅１１０ｍｍ６１０ｍｍスリット隙間２６０μｍ２６０μｍ磁場磁石８ネオジウム合金磁石（３０ＭＧＯｅ）発生体10 ヨーク７Ａ、７Ｂ材質：低炭素鋼（Ｓ２０Ｃ）磁力：ヨーク先端で３８００ガウス ──────────────────────────────────── 磁気塗料ＶＨＳ用塗料（磁性粉：Ｆｅ系３Ａバインダー：塩化ビニル系重合体、ポリウレタンフィラー：アルミナ等）ベースフＶＨＳ用ポリエチレンテレフタレートィルム19 フィルム幅１２７ｍｍ６２０ｍｍ厚さ１４．５μｍ１４．５μｍ ──────────────────────────────────── 塗布条件フィルム張力３ｋｇ１２ｋｇ走行速度４００ｍ／分 400m〜900m／分フィルム／ダイ１ｍｍ１ｍｍ間の間隔フィルム／ヨーク０．５ｍｍ０．５ｍｍ間の間隔 ────────────────────────────────────

【００６５】表１Ｂ（塗布面平滑用の磁場発生体（マグネット式スムーザー）） ──────────────────────────────────── 分類項目第１の実施例第２の実施例 ──────────────────────────────────── 磁石15 ネオジウム合金磁石（４６ＭＧＯｅ） ──────────────────────────────────── 有効磁力幅３００ｍｍ８５０ｍｍ ──────────────────────────────────── 磁石段数５０段×１ユニット２５段×２ユニット ──────────────────────────────────── 取り付けフィルム走行方向と＋９０°、＋４５° 条件なす角度θ 第１磁場発生体12：＋65° 第２磁場発生体13：−85° ─────────────────────────────── 位置フィルム裏面（未塗布面）に０〜0.5mm の隙間で設置→走行塗布中に接触することもあり ────────────────────────────────────

【００６６】上記の各実施例による磁場発生体のフィル
ム走行方向に対する取り付け角度別の各種の特性を測定
し、最も特性が良いとされているバースムーザーによる
性能及び何ら平滑処理をしない場合を同じ測定方法によ
り測定した。その結果は下記表２に示す（なお、ビデオ
特性においてレファレンステープはＶＨＳ用塗布テー
プ）。

【００６７】表２ ──────────────────────────────────── 項目／サンプル１２３４５ ──────────────────────────────────── 磁石角度磁石角度磁石角度バースム平滑手段 90° 45° (+65°、ーザーなし -85°） ──────────────────────────────────── RF-OUT （dB） -1.1 -0.8 -0.7 -0.6 -2.3 SRmax(TD) （nm） 128.75 96.25 95.32 95.0 151.25 SRz (TD) （nm） 101.25 81.25 80.14 79.25 117.0 SRa (TD) （nm） 7.3728 6.9324 6.2250 5.8210 13.3004 ────────────────────────────────────

【００６８】上記の測定結果から、磁場発生体をベース
フィルムの走行方向に対し、＋４５度、又は＋６５度及
び−８５度に傾斜させた場合に得られた各テープの特性
は、直交させた場合やスムーザーなしの場合に比べて著
しく良好であり、しかも、従来から最も良いとされてい
るバースムーザーにより平滑化した場合とほぼ匹敵して
いることが顕著に現れている。

【００６９】以上の結果から、本実施例によれば、次の
顕著な効果を得ることができる。．塗布面が改善され、品質規格を安定に維持できる。．スジの発生はなく、安定した品質を確保できる。．フィルム両端の未塗布部でのフィルム削れがなく、
スジや不安定塗布が解消する。．巻取りロール毎の清掃が皆無となり、連続塗布を持
続できる（塗布作業の軽減に寄与）。

【００７０】このように、本発明に基づけば、磁気テー
プのエクストルージョン型（ダイ）塗布層装置に未乾燥
塗布面を平滑化する磁石ユニットを具備したことによ
り、高品質な塗布面に加えて作業性が良く、かつ高速性
に優れた塗布装置を得ることができる。

【００７１】以上、本発明の実施例を説明したが、上述
の実施例は本発明の技術的思想に基づいて種々に変形す
ることができる。

【００７２】例えば、実施例では塗布面を平滑化させる
ための磁場発生体１２、１２Ａ、１３をベースフィルム
１９の非塗布面側に離して設けてよいし、接触させても
よい。また、それらの磁場発生体は塗布面側に設けるこ
ともできる。

【００７３】また、上述の実施例においては、磁場発生
体１２、１２Ａ、１３の磁石１５又はその磁場Ｆの強さ
を同一にしたがベースフィルム１９の走行方向に変化さ
せてもよい。即ち、平板状磁石１５が上流側は積層段数
を粗くし、下流側を多層にしてもよく、上流側と下流側
との磁力の強さを変化させることもできる。

【００７４】また、実施例では磁場発生体の数を１個又
は向きを変えて２個配置したが、３個以上としてもよ
く、平板状の磁石１５の積層段数も上述の実施例に限定
されるものではない。磁場発生体の個数や積層数は、要
求される磁気記録媒体の特性や磁気塗料の磁気又は粘度
特性によって変化させてよく、例えば１つの磁場発生体
で効果が弱ければ、図６のように複数個を配置すること
がよい。

【００７５】また、磁場発生体１２、１２Ａ、１３のベ
ースフィルム１９の走行方向との角度も上述の実施例に
限らず、適宜の角度を採ることもできる。例えば、磁場
発生体を固定してよいが、固定せずに、ある角度範囲で
角度変化するような方式であってもよい。

【００７６】また、磁場発生体１２、１２Ａ、１３の形
状や構成も、上述した実施例以外に適宜にすることがで
き、ダイ１や磁場発生体の形状や構成材料も適宜に採用
することができる。磁石としては、永久磁石に限らず、
電磁石等でもよい。また、上述した磁場発生体１０は必
ずしも設けることを要せず、通常のエクストルージョン
・ダイ方式で塗布してもよい。

【００７７】また、本発明は上述した磁気テープのほ
か、あらゆるテープ形状の磁気記録媒体についても有効
であり、また、原反から所定形状に裁断されて製造され
るフロッピーディスク等の磁気ディスクや磁気カード等
の磁気シートにも本発明が同様に適用可能である。

【００７８】

【発明の作用効果】本発明は、上述した如く、エクスト
ルージョン・ダイによって支持体上に磁気材料を押し出
し塗布し、支持体の走行方向に対し傾斜して配設された
複数の磁石の積層体からなるスムーザーによって、塗布
後の未乾燥状態のうちに塗布面を磁場の作用下で平滑に
しているので、このスムーザーによる磁場（磁力線）の
作用方向が支持体の走行方向に対し交差することにな
り、塗布された磁気材料が上記磁場作用方向に流動し、
この流動によって磁気材料の塗布厚が支持体の走行方向
と共に、この走行方向と直交する支持体幅方向にも平均
化されることになる。そして、エクストルージョン・ダ
イを用いる塗布方式の特長である高速塗布性等を十分に
生かすことができる。

【００７９】従って、本発明によれば、ビデオ用やオー
ディオ用の磁気テープに適用する場合は、フィルムに塗
布して形成される磁性層に厚みむらが少なく、平坦とな
るため、磁気特性、電磁変換特性、表面性に優れた良質
の磁気テープを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例による塗布装置のスムー
ザー部を示す概略平面図である。

【図２】図１のII−II線断面図である。

【図３】同塗布装置の磁場発生体の取り付け可能な角度
を示す概略平面図（但し、図１を９０度回転させた状態
で示した図）である。

【図４】図３のIV−IV線に沿う一部分の拡大断面図であ
り、磁力線の作用による現象を示す図である。

【図５】同塗布装置の非接触方式による塗布部とスムー
ザー部を示す概略断面図である。

【図６】本発明の第２の実施例による塗布装置のスムー
ザー部を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｂ−
ｂ線断面図である。

【図７】同塗布装置の塗布部とスムーザー部とを示す概
略断面図である。

【図８】磁石段数に応じて変化する塗布面最大粗度を示
すグラフである。

【符号の説明】

１…エクストルージョン・ダイ、３…磁性層、３Ａ…磁
性塗料又は磁気塗料、３ａ…塗布面、４…スリット、５
…フロントリップ、６…バックリップ、７Ａ、７Ｂ…ヨ
ーク、８、１５…磁石、１０、１２Ａ…磁場発生体、１
２…第１磁場発生体、１３…第２磁場発生体、１６…ビ
ード、１８…塗布面粗度、１９…ベースフィルム、Ｆ、
ｆ…磁力線、θ…傾斜角、Ｒ…走行方向

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】連続的に走行する支持体上に磁気材料を
押し出しながら塗布するエクストルージョン・ダイと、
前記塗布の後に未乾燥状態のうちに前記磁気材料の塗布
面を磁場の作用下で平滑にするスムーザーとを有し、前
記支持体の走行方向に沿ってＮ極とＳ極とが交互に積層
された複数の磁石の積層体が前記スムーザーとして、前
記支持体の前記塗布面とは反対側において前記支持体と
ほぼ平行な面内で前記支持体の走行方向に対し傾斜して
配設されている塗布装置。
【請求項２】前記複数の磁石の積層体からなるスムー
ザーが前記支持体の走行方向に対し±（４５〜８５）度
で傾斜して配設されている、請求項１に記載した装置。
【請求項３】前記スムーザーを構成する平板状の磁石
が２０〜１００段に積層されている、請求項１に記載し
た装置。
【請求項４】前記複数の磁石の積層体からなるスムー
ザーが、前記支持体の走行方向において順次配設された
第１の磁石積層体と第２の磁石積層体とからなり、これ
らの磁石積層体の前記支持体の走行方向に対する傾斜角
度が互いに異なっている、請求項１〜３のいずれか１項
に記載した装置。
【請求項５】前記エクストルージョン・ダイと前記支
持体とが非接触の状態で前記磁気材料が塗布される、請
求項１に記載した装置。