JPH101508A - 感活性線酸発生剤組成物、感応性組成物および画像記録用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】活性線に対する感受性に優れた特性を有する酸
発生剤組成物、および該酸発生剤組成物を用いた硬化型
またはポジ型の感応性組成物、さらには発色性の画像記
録用組成物を提供する。 【解決手段】活性線の照射によって酸を発生する、オニ
ウムカチオンと一般式（１）のボレートアニオンとから
構成されるオニウムボレート錯体である感エネルギー線
酸発生剤（Ａ）、および酸増殖剤（Ｂ）、またさらには
増感剤（Ｃ）からなる感活性線酸発生剤組成物、該酸発
生剤組成物に酸硬化性化合物（Ｄ）を添加した感応性組
成物、該酸発生剤組成物に酸を触媒とする反応により現
像液に対する親和性あるいは溶解性が増加する性質を有
する化合物（Ｅ）を添加した感応性組成物、さらには該
酸発生剤組成物に色素前駆体（Ｆ）を添加した画像記録
用組成物。 一般式（１） ［ＢＹ_m Ｚ_n ］^- （ただし、Ｙはフッ素または塩素、Ｚはフッ素、シアノ
基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる
少なくとも２つの電子吸引性基で置換されたフェニル
基、ｍは０〜３の整数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋
ｎ＝４である。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感活性線酸発生剤組
成物、およびそれを用いた感応性組成物ならびに画像記
録用組成物に関する。さらに詳しくは、活性線の照射に
よって、酸を発生する酸発生剤と、その酸発生剤から発
生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤とを組み合
わせることによって、著しく酸発生効率が高まることを
特徴とする感活性線酸発生剤組成物、およびその感活性
線酸発生剤組成物を用い、発生した酸の触媒作用によっ
て重合または硬化可能な化合物とからなる感応性組成物
（活性線硬化性組成物）、酸を触媒とする反応により現
像液に対する親和性あるいは溶解性が増加する性質を有
する化合物とからなる感応性組成物（ポジ型感応性組成
物）、さらには、発生した酸との反応により発色する性
質を有する色素前駆体とからなる画像記録用組成物に関
する。したがってこれらは、成型樹脂、注型樹脂、封止
剤、歯科用重合レジン、光造形樹脂、プリント基板用レ
ジスト、カラーフィルター用レジスト、マイクロエレク
トロニクス用レジスト、印刷版用感光性樹脂、感光性イ
ンキジェット、印刷（オフセット、グラビア、シルクス
クリーン）用インキ、印刷校正用カラープルーフ、塗
料、表面コート剤、接着剤、粘着剤、離型剤、ホログラ
ム記録材料、複写機（またはプリンター）用画像記録材
料等の活性線感応材料に好適に用いられるが、本発明に
よる感活性線酸発生剤組成物は、それによって発生する
酸を触媒とする化学反応に一般的に広く適用できる。

【０００２】

【従来の技術】エネルギー線の照射によって酸を発生す
る化合物としては、芳香族ジアゾニウム塩、ヨードニウ
ム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレノニウム
塩等で代表されるオニウム塩類および金属アレーン錯体
が既に知られており、該オニウム塩または金属アレーン
錯体をカチオン的に重合しうる物質と混合し用いると、
照射によって発生したルイス酸が重合を誘発すること
が、米国特許第４０６９０５４号、同第４４５０３６０
号、同第４５７６９９９号、同第４６４０９６７号、カ
ナダ国特許第１２７４６４６号およびヨーロッパ特許第
２０３８２９号において報告されており、またＡｄｖａ
ｎｃｅｓ ｉｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ６
２， Ｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ − Ｐｏｌｙ Ｒｅａｃ
ｔｉｏｎｓ− Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｃｔｉｖｉｔｙ，１
頁〜４８頁，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ（１９８
４年）、最新ＵＶ硬化技術，技術情報協会編，２９頁
（１９９１年）などにおいて詳細な報告がなされてい
る。特に産業上有用な酸発生剤として、トリアリールス
ルホニウム塩または鉄アレーン錯体が上市されている。
しかしながら、一般に、これら酸発生剤として高い感度
特性を与えるアニオンとしては、ヘキサフルオロアンチ
モネートが好適であるとされているが、該アニオンを含
有する酸発生剤には毒性の危険があり、一方、ヘキサフ
ルオロホスフェートでは感度特性に劣るといった欠点が
ある。

【０００３】また、特開昭５６−１４９４０２号におい
ては、いくつかのスルホキソニウム塩が報告されてい
る。しかしながら、該発明においてアニオン部位として
例示されているのは、テトラフルオロボレート、ヘキサ
フルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、
ヘキサフルオロアンチモネートなどの従来より公知のオ
ニウム塩のアニオン部位と同様のものである。したがっ
て、低毒性で且つ強い酸を発生するためのアニオン部位
を有するオニウム塩の開発が望まれていた。また、上記
したテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェ
ート、ヘキサフルオロアンチモネート塩の場合、一般的
に各種有機材料への溶解性が必ずしも満足するレベルに
ないことがあり、溶解性を向上させうるためのアニオン
種の開発も課題の一つであった。

【０００４】一方、近年、ある種の有機ホウ素アニオン
を有するヨードニウム化合物が、光カチオン重合の開始
剤として良好な特性を示すことが報告されている。Ｃ．
Ｐｒｉｏｕら〔（ラドテック・' ９４・ノースアメリカ
・プロシーディングス（ＲａｄＴｅｃｈ ’９４ Ｎｏ
ｒｔｈ Ａｍｅｒｉｃａ Ｐｒｏｃ．，）第１巻，１８
７頁（１９９４年）およびポリメリック・マテリアルズ
・サイエンス・アンド・エンジニアリング（Ｐｏｌｙ
ｍ．Ｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，），第７２巻，４
１７頁、（１９９５年）〕によると、ジフェニルヨード
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
は、従来のジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアン
チモネートよりも、エポキシシリコンの重合に対し、よ
り高い重合特性を有すると報告されている。さらに、特
開平６−１８４１７０号ならびに国際特許第９５／０３
３３８号公報においては、新規なオニウム有機硼酸塩お
よび金属アレーン有機硼酸塩（例えば、ヨードニウム、
スルホニウム、セレノニウム、ホスホニウム、アンモニ
ウム、鉄アレーン）が提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、酸の
発生源としてさまざまなオニウム塩が検討されている
が、より一層の高い感度を示す感活性線酸発生剤組成
物、感応性組成物、画像記録用組成物が望まれている。

【０００６】しかし、これまでの技術では、酸の発生源
としてオニウム塩を用いる場合、オニウム塩が光を吸収
して分解し、酸を発生する効率（酸発生の量子収率）
は、最大で１であり、それを越えることは理論上不可能
である。したがって、何らかの方法により酸発生の量子
収率を１を越えるレベルまで引き上げる方法を開発し、
より一層の感度の向上を図る必要があった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発
明に至った。すなわち、本発明における第一の発明は、
オニウムカチオンと、一般式（１）のボレートアニオン
とから構成されるオニウムボレート錯体である感エネル
ギー線酸発生剤（Ａ）と、該感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）より発生した酸によって新たに酸を発生する酸増
殖剤（Ｂ）からなることを特徴とする感活性線酸発生剤
組成物であり、 一般式（１） ［ＢＹ_m Ｚ_n ］^- （ただし、Ｙはフッ素または塩素、Ｚはフッ素、シアノ
基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる
少なくとも２つの電子吸引性基で置換されたフェニル
基、ｍは０〜３の整数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋
ｎ＝４である。）

【０００８】第二の発明は、感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）、酸増殖剤（Ｂ）および増感剤（Ｃ）からなる感
活性線酸発生剤組成物であり、第三の発明は、これら感
活性線酸発生剤組成物と、酸硬化性化合物（Ｄ）とから
なる感応性組成物であり、第四の発明は、感活性線酸発
生剤組成物と、酸を触媒とする反応により現像液に対す
る親和性あるいは溶解性が増加する性質を有する化合物
（Ｅ）とからなる感応性組成物であり、第五の発明は、
感活性線酸発生剤組成物と、発生した酸との反応により
発色する性質を有する色素前駆体（Ｆ）とからなる画像
記録用組成物である。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、詳細にわたって本発明を説
明する。まず初めに、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）について説明する。本発明の感エネルギー線酸発
生剤（Ａ）を構成するオニウムカチオンとは、ヨードニ
ウム、スルホニウム、スルホキソニウム、セレノニウ
ム、ホスホニウム、アンモニウム、金属アレーンカチオ
ンのほか、ピリジニウム、キノリニウム、イソキノリニ
ウム、ベンゾオキサゾリウム、ベンゾチアゾリウム等の
複素環カチオンをあげることができる。

【００１０】この内、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）として好ましいオニウムカチオンの構造として
は、一般式（２）〜一般式（１３）から選ばれるオニウ
ムカチオンをあげることができる。 一般式（２）

【００１１】

【化１】

【００１２】一般式（３）

【００１３】

【化２】

【００１４】一般式（４）

【００１５】

【化３】

【００１６】一般式（５）

【００１７】

【化４】

【００１８】一般式（６）

【００１９】

【化５】

【００２０】一般式（７）

【００２１】

【化６】

【００２２】一般式（８）

【００２３】

【化７】

【００２４】一般式（９）

【００２５】

【化８】

【００２６】一般式（１０）

【００２７】

【化９】

【００２８】一般式（１１）

【００２９】

【化１０】

【００３０】一般式（１２）

【００３１】

【化１１】

【００３２】一般式（１３）

【００３３】

【化１２】

【００３４】（ただし、Ｒ¹ は、一般式（２）〜一般式
（８）に共通して、ベンジル基、置換されたベンジル
基、フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリル
基、置換されたアリル基、アルコキシル基、置換された
アルコキシル基、アリールオキシ基、置換されたアリー
ルオキシ基から選ばれる基を表す。Ｒ² は、一般式
（２）〜一般式（４）に共通して、それぞれ独立に、フ
ッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプ
ト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていて
も良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基
もしくは、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル
基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置
換されていても良いＣ₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリー
ル基のいずれかを表す。Ｒ³ は、それぞれ独立に、水
素、メルカプト基あるいは、フッ素、塩素、臭素、水酸
基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ
基、アジド基で置換されていても良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖
状、分岐鎖状、環状アルキル基もしくは、フッ素、塩
素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シ
アノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いＣ
₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキルチオ基から
選ばれる基を表す。Ｒ⁴ は、それぞれ独立に、フッ素、
塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、
シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良い
Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基もしく
は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メ
ルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換され
ていても良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アル
コキシル基のいずれかを表す。Ｒは、一般式（５）〜一
般式（８）に共通して、それぞれ独立に、フッ素、塩
素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シ
アノ基、ニトロ基、カルバモイル基に加え、以下の有機
残基から選ばれる基を表す。ここで有機残基とは、フッ
素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト
基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても
良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、
Ｃ₂ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルケニル基、Ｃ
₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリール基、Ｃ₇ 〜Ｃ₁₈の単
環、縮合多環アリールアルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖
状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、Ｃ₆ 〜Ｃ₁₈の単
環、縮合多環アリールオキシ基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、
分岐鎖状、環状脂肪族もしくはＣ７〜Ｃ１９の単環、縮
合多環芳香族アシル基、Ｃ₂ 〜Ｃ₁₉の直鎖状、分岐鎖
状、環状アルコキシカルボニル基、Ｃ₇ 〜Ｃ₁₉の単環、
縮合多環アリールオキシカルボニル基、のいずれかを表
す。Ａｒは、一般式（１０）〜一般式（１３）に共通し
て、それぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カ
ルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ア
ジド基で置換されていても良いＣ₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合
多環アリール基を表す。Ｃｐは、シクロペンタジエニル
基を表す。Ｘは、酸素もしくは硫黄原子を表す。ｉは０
〜５の整数を表す。ｊは、一般式（６）〜一般式（８）
に共通して、０〜４の整数を表す。ｋは、一般式（６）
〜一般式（７）に共通して、０〜３の整数を表す。さら
に、隣接した、Ｒ同士、Ｒ² 同士、Ａｒ同士、もしく
は、Ｒ¹ とＲ² 、Ｒ¹とＲ³ は、互いに共有結合によっ
て環構造を形成していてもよい。）

【００３５】この内、より好ましいオニウムカチオンの
構造としては、感エネルギー線酸発生剤（Ａ）のオニウ
ムカチオン中心元素に、ベンジル基、置換されたベンジ
ル基、フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリル
基、置換されたアリル基、アルコキシル基、置換された
アルコキシル基、アリールオキシ基、置換されたアリー
ルオキシ基から選ばれる基が、直接化学結合しているも
のであり、具体的には、一般式（２）、一般式（３）、
一般式（５）および一般式（７）から選ばれるオニウム
カチオンである。

【００３６】また、他の好ましいオニウムカチオンの構
造として、一般式（９）〜一般式（１３）のオニウムカ
チオンがあげられる。

【００３７】この理由として、上に説明したオニウムカ
チオンは、概して、その還元電位が高いこと、すなわ
ち、電子受容性が高いことがあげられる。そのため、エ
ネルギー線、ことに光の照射によって、分解し、容易に
酸を発生する。それは、特に増感剤（Ｃ）と組み合わせ
た場合に顕著な結果として認められる。

【００３８】以下に、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）を構成するオニウムカチオン中の置換基について
説明する。まず、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）を構成する一般式（２）〜一般式（８）で表され
るオニウムカチオンにおける置換基Ｒ¹ において、

【００３９】置換されたベンジル基とは、フッ素、塩
素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メ
チルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、Ｃ₁ 〜
Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、Ｃ₂ 〜Ｃ₁₈
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から
選ばれる基で置換されたベンジル基があげられ、さら
に、ベンジル基中のベンゼン環が、不飽和炭化水素基に
よって、Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂の縮合多環芳香族環を形成していて
も良い構造があげられる。

【００４０】これら置換されたベンジル基の具体例とし
ては、ｏ−フルオロベンジル基、ｍ−フルオロベンジル
基、ｐ−フルオロベンジル基、ｏ−クロロベンジル基、
ｍ−クロロベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｏ−ブ
ロモベンジル基、ｍ−ブロモベンジル基、ｐ−ブロモベ
ンジル基、ｏ−シアノベンジル基、ｍ−シアノベンジル
基、ｐ−シアノベンジル基、ｏ−ニトロベンジル基、ｍ
−ニトロベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、２，４−
ジフルオロフェニルメチル基、２、６−ジクロロフェニ
ルメチル基、２、４、６−トリブロモフェニルメチル
基、ペンタフルオロフェニルメチル基、ｐ−（トリフル
オロメチル）ベンジル基、３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニルメチル基、ｏ−ヒドロキシベンジル
基、ｍ−ヒドロキシベンジル基、ｐ−ヒドロキシベンジ
ル基、ｏ−メルカプトベンジル基、ｍ−メルカプトベン
ジル基、ｐ−メルカプトベンジル基、ｏ−メチルスルフ
ィニルベンジル基、ｍ−メチルスルフィニルベンジル
基、ｐ−メチルスルフィニルベンジル基、ｏ−メチルス
ルホニルベンジル基、ｍ−メチルスルホニルベンジル
基、ｐ−メチルスルホニルベンジル基、ｏ−アセチルベ
ンジル基、ｍ−アセチルベンジル基、ｐ−アセチルベン
ジル基、ｏ−ベンゾイルベンジル基、ｍ−ベンゾイルベ
ンジル基、ｐ−ベンゾイルベンジル基、ｏ−メチルベン
ジル基、ｍ−メチルベンジル基、ｐ−メチルベンジル
基、ｐ−エチルベンジル基、ｐ−プロピルベンジル基、
ｐ−イソプロピルベンジル基、ｐ−ｔ−ブチルベンジル
基、ｐ−オクタデシルベンジル基、ｐ−シクロヘキシル
ベンジル基、ｏ−メトキシベンジル基、ｍ−メトキシベ
ンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−エトキシベン
ジル基、ｐ−プロポキシベンジル基、ｐ−イソプロポキ
シベンジル基、ｐ−ｔ−ブトキシベンジル基、ｐ−オク
タデシルオキシベンジル基、ｐ−シクロヘキサンオキシ
ベンジル基、ｏ−メトキシカルボニルベンジル基、ｍ−
メトキシカルボニルベンジル基、ｐ−メトキシカルボニ
ルベンジル基、ｐ−エトキシカルボニルベンジル基、ｐ
−プロポキシカルボニルベンジル基、ｐ−イソプロポキ
シカルボニルベンジル基、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニル
ベンジル基、ｐ−オクタデシルオキシカルボニルベンジ
ル基、ｐ−シクロヘキサンオキシカルボニルベンジル
基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、９
−アンスリルメチル基、１−ピレニルメチル基、５−ナ
フタセニルメチル基、６−ペンタセニルメチル基などが
あげられる。

【００４１】また、置換基Ｒ¹ における置換されたフェ
ナシル基とは、フッ素、塩素、臭素、シアノ基、ニトロ
基、トリフルオロメチル基、水酸基、メルカプト基、メ
チルスルフィニル基、メチルスルホニル基、アセチル
基、ベンゾイル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環
状アルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状ア
ルコキシル基、Ｃ₂ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状ア
ルコキシカルボニル基から選ばれる基で置換されたフェ
ナシル基があげられ、さらに、フェナシル基中のベンゼ
ン環が、不飽和炭化水素基によって、Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂の縮合
多環芳香族環を形成していても良い構造があげられる。

【００４２】これら置換されたフェナシル基の具体例と
しては、ｏ−フルオロフェナシル基、ｍ−フルオロフェ
ナシル基、ｐ−フルオロフェナシル基、ｏ−クロロフェ
ナシル基、ｍ−クロロフェナシル基、ｐ−クロロフェナ
シル基、ｏ−ブロモフェナシル基、ｍ−ブロモフェナシ
ル基、ｐ−ブロモフェナシル基、ｏ−シアノフェナシル
基、ｍ−シアノフェナシル基、ｐ−シアノフェナシル
基、ｏ−ニトロフェナシル基、ｍ−ニトロフェナシル
基、ｐ−ニトロフェナシル基、２，４−ジフルオロフェ
ニルカルボニルメチル基、２、６−ジクロロフェニルカ
ルボニルメチル基、２、４、６−トリブロモフェニルカ
ルボニルメチル基、ペンタフルオロフェニルカルボニル
メチル基、ｐ−（トリフルオロメチル）フェナシル基、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルカルボニ
ルメチル基、ｏ−ヒドロキシフェナシル基、ｍ−ヒドロ
キシフェナシル基、ｐ−ヒドロキシフェナシル基、ｏ−
メルカプトフェナシル基、ｍ−メルカプトフェナシル
基、ｐ−メルカプトフェナシル基、ｏ−メチルスルフィ
ニルフェナシル基、ｍ−メチルスルフィニルフェナシル
基、ｐ−メチルスルフィニルフェナシル基、ｏ−メチル
スルホニルフェナシル基、ｍ−メチルスルホニルフェナ
シル基、ｐ−メチルスルホニルフェナシル基、ｏ−アセ
チルフェナシル基、ｍ−アセチルフェナシル基、ｐ−ア
セチルフェナシル基、ｏ−ベンゾイルフェナシル基、ｍ
−ベンゾイルフェナシル基、ｐ−ベンゾイルフェナシル
基、ｏ−メチルフェナシル基、ｍ−メチルフェナシル
基、ｐ−メチルフェナシル基、ｐ−エチルフェナシル
基、ｐ−プロピルフェナシル基、ｐ−イソプロピルフェ
ナシル基、ｐ−ｔ−ブチルフェナシル基、ｐ−オクタデ
シルフェナシル基、ｐ−シクロヘキシルフェナシル基、
ｏ−メトキシフェナシル基、ｍ−メトキシフェナシル
基、ｐ−メトキシフェナシル基、ｐ−エトキシフェナシ
ル基、ｐ−プロポキシフェナシル基、ｐ−イソプロポキ
シフェナシル基、ｐ−ｔ−ブトキシフェナシル基、ｐ−
オクタデシルオキシフェナシル基、ｐ−シクロヘキサン
オキシフェナシル基、ｏ−メトキシカルボニルフェナシ
ル基、ｍ−メトキシカルボニルフェナシル基、ｐ−メト
キシカルボニルフェナシル基、ｐ−エトキシカルボニル
フェナシル基、ｐ−プロポキシカルボニルフェナシル
基、ｐ−イソプロポキシカルボニルフェナシル基、ｐ−
ｔ−ブトキシカルボニルフェナシル基、ｐ−オクタデシ
ルオキシカルボニルフェナシル基、ｐ−シクロヘキサン
オキシカルボニルフェナシル基、１−ナフトイルメチル
基、２−ナフトイルメチル基、９−アンスロイルメチル
基、１−ピレニルカルボニルメチル基、５−ナフタセニ
ルカルボニルメチル基、６−ペンタセニルカルボニルメ
チル基などがあげられる。

【００４３】また、置換基Ｒ¹ における置換されたアリ
ル基とは、フッ素、ニトロ基、トリフルオロメチル基、
シアノ基、アセチル基、ベンゾイル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈の直
鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、Ｃ₂ 〜Ｃ₁₈の直鎖
状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基、フェニル
基から選ばれる基で置換されたアリル基があげられる。

【００４４】これら置換されたアリル基の具体例として
は、２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル基、
３，３−ジニトロ−２−プロペニル基、３，３−ビス
（トリフルオロメチル）−２−プロペニル基、３，３−
ジシアノ−２−プロペニル基、２−メチル−３，３−ジ
シアノ−２−プロペニル基、２−ヘキシル−３，３−ジ
シアノ−２−プロペニル基、２−オクタデシル−３，３
−ジシアノ−２−プロペニル基、２−イソプロピル−
３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−ｔ−ブチル
−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−シクロヘ
キシル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−ア
セチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−ベ
ンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−
フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、３，
３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル基、
２−メチル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２
−プロペニル基、２−ヘキシル−３，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−２−プロペニル基、２−オクタデシル
−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニ
ル基、２−イソプロピル−３，３−ビス（メトキシカル
ボニル）−２−プロペニル基、２−ｔ−ブチル−３，３
−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル基、２
−シクロヘキシル−３，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−２−プロペニル基、２−アセチル−３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−プロペニル基、２−ベン
ゾイル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プ
ロペニル基、２−フェニル−３，３−ビス（メトキシカ
ルボニル）−２−プロペニル基、２−フェニル−３，３
−ビス（ヘキシルオキシカルボニル）−２−プロペニル
基、２−フェニル−３，３−ビス（オクタデシルオキシ
カルボニル）−２−プロペニル基、２−フェニル−３，
３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）−２−プロペニル
基、２−フェニル−３，３−ビス（シクロヘキシルオキ
シカルボニル）−２−プロペニル基などががあげられ
る。

【００４５】また、置換基Ｒ¹ におけるアルコキシル基
としては、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコ
キシル基があげられ、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、オクタデカン
オキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロ
ペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等があげら
れる。

【００４６】また、置換基Ｒ¹ における置換されたアル
コキシル基とは、フッ素、塩素、臭素、シアノ基、ニト
ロ基、トリフルオロメチル基、水酸基から選ばれる基で
置換されたＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状アルコキシル
基があげられ、フルオロメトキシ基、２−クロロエトキ
シ基、３−ブロモプロポキシ基、４−シアノブトキシ
基、８−ニトロオクチルオキシ基、１８−トリフルオロ
メチルオクタデカンオキシ基、２−ヒドロキシイソプロ
ポキシ基、トリクロロメトキシ基等があげられる。

【００４７】また、置換基Ｒ¹ におけるアリールオキシ
基とは、Ｃ₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリールオキシ基
であり、フェノキシ基、１ーナフチルオキシ基、２−ナ
フチルオキシ基、９−アンスリルオキシ基、９−フェナ
ントリルオキシ基、１−ピレニルオキシ基、５−ナフタ
セニルオキシ基、１−インデニルオキシ基、２−アズレ
ニルオキシ基、１−アセナフチルオキシ基、９−フルオ
レニルオキシ基、ｏ−トリルオキシ基、ｍ−トリルオキ
シ基、ｐ−トリルオキシ基、２，３−キシリルオキシ
基、２，５−キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、ｐ
−クメニルオキシ基、ｐ−デシルフェノキシ基、ｐ−シ
クロヘキシルフェノキシ基、４−フェニルフェノキシ基
等があげられる。

【００４８】また、置換基Ｒ¹ における置換されたアリ
ールオキシ基とは、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カル
ボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジ
ド基から選ばれる基で置換されたＣ₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮
合多環アリールオキシ基であり、ｏ−フルオロフェノキ
シ基、ｍ−クロロフェノキシ基、ｐ−ブロモフェノキシ
基、ｐ−ヒドロキシフェノキシ基、ｍ−カルボキシフェ
ノキシ基、ｏ−メルカプトフェノキシ基、ｐ−シアノフ
ェノキシ基、ｍ−ニトロフェノキシ基、ｍ−アジドフェ
ノキシ基、２−クロロ−１−ナフチルオキシ基、１０−
シアノ−９−アンスリルオキシ基、１１−ニトロ−５−
ナフタセニルオキシ基等があげられる。

【００４９】以上述べた置換基Ｒ¹ において、好ましい
ものとしては、フッ素、シアノ基、ニトロ基、トリフル
オロメチル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₄ の直鎖状、分岐鎖状アシル
基、Ｃ ₂ 〜Ｃ₅ の直鎖状、分岐鎖状アルコキシカルボニ
ル基、ベンゾイル基、メチルスルフィニル基、メチルス
ルホニル基、ｐ−トシル基といった電子吸引性基で置換
されたベンジル基、フェナシル基、アリル基があげられ
る。そのような具体例としては、

【００５０】ｏ−シアノベンジル基、ｐ−シアノベンジ
ル基、ｏ−ニトロベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、
ペンタフルオロフェニルメチル基、３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニルメチル基、ｏ−アセチルベン
ジル基、ｐ−アセチルベンジル基、ｏ−メトキシカルボ
ニルベンジル基、ｐ−メトキシカルボニルベンジル基、
ｏ−ｔ−ブトキシカルボニルベンジル基、ｐ−ｔ−ブト
キシカルボニルベンジル基、ｏ−ベンゾイルベンジル
基、ｐ−ベンゾイルベンジル基、ｏ−メチルスルフィニ
ルベンジル基、ｐ−メチルスルフィニルベンジル基、ｏ
−メチルスルホニルベンジル基、ｐ−メチルスルホニル
ベンジル基、ｏ−（ｐ−トシル）ベンジル基、

【００５１】ｏ−シアノフェナシル基、ｐ−シアノフェ
ナシル基、ｏ−ニトロフェナシル基、ｐ−ニトロフェナ
シル基、ペンタフルオロベンゾイルメチル基、３，５−
ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイルメチル基、ｏ−
アセチルフェナシル基、ｐ−アセチルフェナシル基、ｏ
−メトキシカルボニルフェナシル基、ｐ−メトキシカル
ボニルフェナシル基、ｏ−ｔ−ブトキシカルボニルフェ
ナシル基、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルフェナシル基、
ｏ−ベンゾイルフェナシル基、ｐ−ベンゾイルフェナシ
ル基、ｏ−メチルスルフィニルフェナシル基、ｐ−メチ
ルスルフィニルフェナシル基、ｏ−メチルスルホニルフ
ェナシル基、ｐ−メチルスルホニルフェナシル基、ｏ−
（ｐ−トシル）フェナシル基、ｐ−（ｐ−トシル）フェ
ナシル基、

【００５２】３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、１
−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−
フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、３，
３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル基、
２−フェニル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−
２−プロペニル基、シアノメトキシ基、アセチルメトキ
シ基、ベンゾイルメトキシ基、ｐ−シアノフェノキシ
基、ペンタフルオロフェニルメトキシ基があげられる。

【００５３】この理由として、これらベンジル基やフェ
ナシル基、アリル基、アルコキシル基、アリールオキシ
基中に、シアノ基、ニトロ基、フルオロ基、トリフルオ
ロメチル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、ｔ−
ブトキシカルボニル基、ベンゾイル基、メチルスルフィ
ニル基、メチルスルホニル基、ｐ−トシル基などの電子
吸引性基を導入することにより、オニウムカチオンがエ
ネルギー線の作用で、電子を受けて、非可逆的な反応に
よる還元、分解をする際に、置換基Ｒ¹ が脱離しやすく
なると共に、該オニウムカチオンの還元電位が高めら
れ、すなわち電子受容性が高められるものと考えられ
る。

【００５４】さらに、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）を構成する一般式（２）〜一般式（４）で表され
るオニウムカチオンにおける置換基Ｒ² 、一般式（８）
で表されるオニウムカチオンにおける置換基Ｒ³ 、一般
式（９）で表されるオニウムカチオンにおける置換基Ｒ
⁴ 、一般式（５）〜一般式（８）で表されるオニウムカ
チオンにおける置換基Ｒにおいて、

【００５５】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、
環状アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロ
ピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−デシル
シクロヘキシル基、フルオロメチル基、クロロメチル
基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロ
ロメチル基、トリブロモメチル基、ヒドロキシメチル
基、カルボキシメチル基、メルカプトメチル基、シアノ
メチル基、ニトロメチル基、アジドメチル基等があげら
れる。

【００５６】また、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）を構成する一般式（２）〜一般式（４）で表され
るオニウムカチオンにおける置換基Ｒ² 、一般式（５）
〜一般式（８）で表されるオニウムカチオンにおける置
換基Ｒ、一般式（１０）〜一般式（１３）で表されるオ
ニウムカチオンにおける置換基Ａｒにおいて、

【００５７】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリ
ール基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナ
フチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、
１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル
基、２−アズレニル基、１−アセナフチル基、９−フル
オレニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル
基、２，３−キシリル基、２，５−キシリル基、メシチ
ル基、ｐ−クメニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、ｐ−
シクロヘキシルフェニル基、４−ビフェニル基、ｏ−フ
ルオロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−ブロモ
フェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、ｍ−カルボキ
シフェニル基、ｏ−メルカプトフェニル基、ｐ−シアノ
フェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、ｍ−アジドフェニ
ル基等があげられる。

【００５８】さらに、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）を構成する一般式（８）で表されるオニウムカチ
オンにおける置換基Ｒ³ において、

【００５９】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、
環状アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチ
オ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ
基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、
ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基、イソプロピルチ
オ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−
ブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシル
チオ基、４−デシルシクロヘキシルチオ基、フルオロメ
チルチオ基、クロロメチルチオ基、ブロモメチルチオ
基、トリフルオロメチルチオ基、トリクロロメチルチオ
基、トリブロモメチルチオ基、ヒドロキシメチルチオ
基、カルボキシメチルチオ基、メルカプトメチルチオ
基、シアノメチルチオ基、ニトロメチルチオ基、アジド
メチルチオ基等があげられる。

【００６０】また、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）を構成する一般式（９）で表されるオニウムカチ
オンにおける置換基Ｒ⁴ 、一般式（５）〜一般式（８）
で表されるオニウムカチオンにおける置換基Ｒにおい
て、

【００６１】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、
環状アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、オ
クタデカンオキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ
基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ
基、フルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ブロモメ
トキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキ
シ基、トリブロモメトキシ基、ヒドロキシメトキシ基、
カルボキシメトキシ基、メルカプトメトキシ基、シアノ
メトキシ基、ニトロメトキシ基、アジドメトキシ基等が
あげられる。

【００６２】さらに、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）を構成する一般式（５）〜一般式（８）で表され
るオニウムカチオンにおける置換基Ｒにおいて、

【００６３】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₂ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、
環状アルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニル
基、２−プロペニル基、１−オクテニル基、１−オクタ
デセニル基、イソプロペニル基、１−シクロヘキセニル
基、トリフルオロエテニル基、１−クロロエテニル基、
２，２−ジブロモエテニル基、４−ヒドロキシ−１−ブ
テニル基、１−カルボキシエテニル基、５−メルカプト
−１−ヘキセニル基、１−シアノエテニル基、３−ニト
ロ−１−プロペニル基、４−アジド−２−ブテニル基等
があげられる。

【００６４】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₇ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリ
ールアルキル基としては、ベンジル基、ｐ−トリルメチ
ル基、２−ナフチルメチル基、９−アンスリルメチル
基、４−（９−アンスリル）ブチル基、ｏ−フルオロベ
ンジル基、ｍ−クロロベンジル基、ｐ−ブロモベンジル
基、ｐ−ヒドロキシベンジル基、ｍ−カルボキシベンジ
ル基、ｏ−メルカプトベンジル基、ｐ−シアノベンジル
基、ｍ−ニトロベンジル基、ｍ−アジドベンジル基等が
あげられる。

【００６５】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₆ 〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリ
ールオキシ基としては、フェノキシ基、１ーナフチルオ
キシ基、２−ナフチルオキシ基、９−アンスリルオキシ
基、９−フェナントリルオキシ基、１−ピレニルオキシ
基、５−ナフタセニルオキシ基、１−インデニルオキシ
基、２−アズレニルオキシ基、１−アセナフチルオキシ
基、９−フルオレニルオキシ基、ｏ−トリルオキシ基、
ｍ−トリルオキシ基、ｐ−トリルオキシ基、２，３−キ
シリルオキシ基、２，５−キシリルオキシ基、メシチル
オキシ基、ｐ−クメニルオキシ基、ｐ−デシルフェノキ
シ基、ｐ−シクロヘキシルフェノキシ基、４−ビフェノ
キシ基、ｏ−フルオロフェノキシ基、ｍ−クロロフェノ
キシ基、ｐ−ブロモフェノキシ基、ｐ−ヒドロキシフェ
ノキシ基、ｍ−カルボキシフェノキシ基、ｏ−メルカプ
トフェノキシ基、ｐ−シアノフェノキシ基、ｍ−ニトロ
フェノキシ基、ｍ−アジドフェノキシ基等があげられ
る。

【００６６】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₁ 〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、
環状脂肪族もしくはＣ₇ 〜Ｃ₁₉の単環、縮合多環芳香族
アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、ヘキサノ
イル基、ラウロイル基、パルミトイル基、ステアロイル
基、イソブチリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、
シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニ
ル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイ
ル基、９−アンスロイル基、５−ナフタセロイル基、シ
ンナモイル基、α−フルオロアセチル基、α−クロロア
セチル基、α−ブロモアセチル基、α−ヒドロキシアセ
チル基、α−カルボキシアセチル基、α−メルカプトア
セチル基、α−シアノアセチル基、α−ニトロアセチル
基、α−アジドアセチル基等があげられる。

【００６７】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₂ 〜Ｃ₁₉の直鎖状、分岐鎖状、
環状アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル
基、ブトキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル
基、オクタデカンオキシカルボニル基、イソプロポキシ
カルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、シクロペン
チルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボ
ニル基、フルオロメトキシカルボニル基、クロロメトキ
シカルボニル基、ブロモメトキシカルボニル基、トリフ
ルオロメトキシカルボニル基、トリクロロメトキシカル
ボニル基、トリブロモメトキシカルボニル基、ヒドロキ
シメトキシカルボニル基、カルボキシメトキシカルボニ
ル基、メルカプトメトキシカルボニル基、シアノメトキ
シカルボニル基、ニトロメトキシカルボニル基、アジド
メトキシカルボニル基等があげられる。

【００６８】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基で
置換されていても良いＣ₇ 〜Ｃ₁₉の単環、縮合多環アリ
ールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニ
ル基、１ーナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチル
オキシカルボニル基、９−アンスリルオキシカルボニル
基、９−フェナントリルオキシカルボニル基、１−ピレ
ニルオキシカルボニル基、５−ナフタセニルオキシカル
ボニル基、１−インデニルオキシカルボニル基、２−ア
ズレニルオキシカルボニル基、１−アセナフチルオキシ
カルボニル基、９−フルオレニルオキシカルボニル基、
ｏ−トリルオキシカルボニル基、ｍ−トリルオキシカル
ボニル基、ｐ−トリルオキシカルボニル基、２，３−キ
シリルオキシカルボニル基、２，５−キシリルオキシカ
ルボニル基、メシチルオキシカルボニル基、ｐ−クメニ
ルオキシカルボニル基、ｐ−シクロヘキシルフェノキシ
カルボニル基、４−フェニルフェノキシカルボニル基、
ｏ−フルオロフェノキシカルボニル基、ｍ−クロロフェ
ノキシカルボニル基、ｐ−ブロモフェノキシカルボニル
基、ｐ−ヒドロキシフェノキシカルボニル基、ｍ−カル
ボキシフェノキシカルボニル基、ｏ−メルカプトフェノ
キシカルボニル基、ｐ−シアノフェノキシカルボニル
基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｍ−アジドフ
ェノキシカルボニル基等があげられる。

【００６９】さらに隣接した、Ｒ同士、Ｒ² 同士、Ａｒ
同士、もしくは、Ｒ¹ とＲ² 、Ｒ¹とＲ、Ｒ¹ とＲ
³ は、互いに共有結合によって環構造を形成していても
よく、このようなものとして例えば、メチレン基、エチ
レン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等のアル
キレン基、エチレンジオキシ基、ジエチレンジオキシ基
等のエーテル基、エチレンジチオ基、ジエチレンジチオ
基等のチオエーテル基等があげられるが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。

【００７０】以下に、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）の一般式（２）〜一般式（１３）で表されるオニ
ウムカチオンの構造の具体例をあげる。

【００７１】一般式（２）に該当するオニウムカチオン
（スルホニウムカチオン）：

【００７２】ベンジルスルホニウムカチオンの例：ジメ
チル（ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−フルオ
ロベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロロベン
ジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモベンジル）
スルホニウム、ジメチル（ｐ−シアノベンジル）スルホ
ニウム、ジメチル（ｍ−ニトロベンジル）スルホニウ
ム、ジメチル（２，４，６−トリブロモフェニルメチ
ル）スルホニウム、ジメチル（ペンタフルオロフェニル
メチル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−（トリフルオロ
メチル）ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ヒド
ロキシベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メルカ
プトベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルス
ルフィニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メ
チルスルホニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ
−アセチルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−ベ
ンゾイルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチ
ルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロピ
ルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−オクタデシ
ルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シクロヘキ
シルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メトキシ
ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカル
ボニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプ
ロポキシカルボニルベンジル）スルホニウム、ジメチル
（２−ナフチルメチル）スルホニウム、ジメチル（９−
アンスリルメチル）スルホニウム、ジエチル（ベンジ
ル）スルホニウム、メチルエチル（ベンジル）スルホニ
ウム、メチルフェニル（ベンジル）スルホニウム、ジフ
ェニル（ベンジル）スルホニウム、ジイソプロピル（ベ
ンジル）スルホニウムなど。

【００７３】フェナシルスルホニウムカチオンの例：ジ
メチル（フェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−フ
ルオロフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロ
ロフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモフ
ェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェナ
シル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−ニトロフェナシ
ル）スルホニウム、ジメチル（２，４，６−トリブロモ
フェニルメチル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−（トリ
フルオロメチル）フェナシル）スルホニウム、ジメチル
（ｐ−ヒドロキシフェナシル）スルホニウム、ジメチル
（ｐ−メルカプトフェナシル）スルホニウム、ジメチル
（ｐ−メチルスルフィニルフェナシル）スルホニウム、
ジメチル（ｐ−メチルスルホニルフェナシル）スルホニ
ウム、ジメチル（ｏ−アセチルフェナシル）スルホニウ
ム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェナシル）スルホニウ
ム、ジメチル（ｐ−メチルフェナシル）スルホニウム、
ジメチル（ｐ−イソプロピルフェナシル）スルホニウ
ム、ジメチル（ｐ−オクタデシルフェナシル）スルホニ
ウム、ジメチル（ｐ−シクロヘキシルフェナシル）スル
ホニウム、ジメチル（ｐ−メトキシフェナシル）スルホ
ニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルフェナシ
ル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロポキシカル
ボニルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（２−ナフ
トイルメチル）スルホニウム、ジメチル（９−アンスロ
イルメチル）スルホニウム、ジエチル（フェナシル）ス
ルホニウム、メチルエチル（フェナシル）スルホニウ
ム、メチルフェニル（フェナシル）スルホニウム、ジフ
ェニル（フェナシル）スルホニウム、ジイソプロピル
（フェナシル）スルホニウム、テトラメチレン（フェナ
シル）スルホニウム、ペンタメチレン（フェナシル）ス
ルホニウム、ヘキサメチレン（フェナシル）スルホニウ
ム、エチレンジオキシ（フェナシル）スルホニウム、ジ
エチレンジオキシ（フェナシル）スルホニウム、エチレ
ンジチオ（フェナシル）スルホニウムなど。

【００７４】アリルスルホニウムカチオンの例：ジメチ
ル（アリル）スルホニウム、ジメチル（２，３，３−ト
リフルオロ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル
（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、
ジメチル（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペ
ニル）スルホニウム、ジメチル（２−アセチル−３，３
−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル
（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）スルホニウム、ジメチル（２−フェニル−３，３−
ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル
（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニ
ル）スルホニウムなど。

【００７５】アルコキシスルホニウムカチオンの例：ジ
メチル（メトキシ）スルホニウム、ジメチル（エトキ
シ）スルホニウム、ジメチル（プロポキシ）スルホニウ
ム、ジメチル（ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（オ
クチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（オクタデカン
オキシ）スルホニウム、ジメチル（イソプロポキシ）ス
ルホニウム、ジメチル（ｔ−ブトキシ）スルホニウム、
ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウム、ジメ
チル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウム、ジメチル
（フルオロメトキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ク
ロロエトキシ）スルホニウム、ジメチル（３−ブロモプ
ロポキシ）スルホニウム、ジメチル（４−シアノブトキ
シ）スルホニウム、ジメチル（８−ニトロオクチルオキ
シ）スルホニウム、ジメチル（１８−トリフルオロメチ
ルオクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−
ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル
（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムな
ど。

【００７６】アリールオキシスルホニウムカチオンの
例：ジメチル（フェノキシ）スルホニウム、ジメチル
（１ーナフチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−
ナフチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（９−アンス
リルオキシ）スルホニウム、ジメチル（９−フェナント
リルオキシ）スルホニウム、ジメチル（ｐ−トリルオキ
シ）スルホニウム、ジメチル（２，３−キシリルオキ
シ）スルホニウム、ジメチル（ｏ−フルオロフェノキ
シ）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロロフェノキシ）
スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモフェノキシ）スル
ホニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スル
ホニウム、ジメチル（ｍ−カルボキシフェノキシ）スル
ホニウム、ジメチル（ｏ−メルカプトフェノキシ）スル
ホニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホニ
ウム、ジメチル（ｍ−ニトロフェノキシ）スルホニウ
ム、ジメチル（ｍ−アジドフェノキシ）スルホニウム、
ジメチル（２−クロロ−１−ナフチルオキシ）スルホニ
ウム、ジメチル（１１−ニトロ−５−ナフタセニル）ス
ルホニウムなど。

【００７７】一般式（３）に該当するオニウムカチオン
（スルホキソニウムカチオン）：

【００７８】ベンジルスルホキソニウムカチオンの例：
ジメチル（ベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ
−ブロモベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−
シアノベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ−ニ
トロベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ペンタフ
ルオロフェニルメチル）スルホキソニウム、ジメチル
（ｐ−ヒドロキシベンジル）スルホキソニウム、ジメチ
ル（ｏ−アセチルベンジル）スルホキソニウム、ジメチ
ル（ｏ−ベンゾイルベンジル）スルホキソニウム、ジメ
チル（ｐ−イソプロピルベンジル）スルホキソニウム、
ジメチル（ｐ−メトキシベンジル）スルホキソニウム、
ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルベンジル）スルホキ
ソニウム、ジメチル（２−ナフチルメチル）スルホキソ
ニウム、ジメチル（９−アンスリルメチル）スルホキソ
ニウム、ジエチル（ベンジル）スルホキソニウム、メチ
ルエチル（ベンジル）スルホキソニウム、メチルフェニ
ル（ベンジル）スルホキソニウム、ジフェニル（ベンジ
ル）スルホキソニウム、ジイソプロピル（ベンジル）ス
ルホキソニウムなど。

【００７９】フェナシルスルホキソニウムカチオンの
例：ジメチル（フェナシル）スルホキソニウム、ジメチ
ル（ｐ−ブロモフェナシル）スルホキソニウム、ジメチ
ル（ｐ−シアノフェナシル）スルホキソニウム、ジメチ
ル（ｍ−ニトロフェナシル）スルホキソニウム、ジメチ
ル（２、４、６−トリブロモフェニルメチル）スルホキ
ソニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェナシル）スル
ホキソニウム、ジメチル（ｐ−メルカプトフェナシル）
スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェナシ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メチルフェナシ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メトキシフェナ
シル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカル
ボニルフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（２−
ナフチルメチル）スルホキソニウム、ジメチル（９−ア
ンスリルメチル）スルホキソニウム、ジエチル（フェナ
シル）スルホキソニウム、メチルエチル（フェナシル）
スルホキソニウム、メチルフェニル（フェナシル）スル
ホキソニウム、ジフェニル（フェナシル）スルホキソニ
ウム、ジイソプロピル（フェナシル）スルホキソニウ
ム、テトラメチレン（フェナシル）スルホキソニウムな
ど。

【００８０】アリルスルホキソニウムカチオンの例：ジ
メチル（アリル）スルホキソニウム、ジメチル（３，３
−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニウム、ジメ
チル（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペ
ニル）スルホキソニウム、ジメチル（２−フェニル−
３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニウ
ム、ジメチル（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−
２−プロペニル）スルホキソニウムなど。

【００８１】アルコキシスルホキソニウムカチオンの
例：ジメチル（エトキシ）スルホキソニウム、ジメチル
（プロポキシ）スルホキソニウム、ジメチル（オクチル
オキシ）スルホキソニウム、ジメチル（イソプロポキ
シ）スルホキソニウム、ジメチル（シクロヘキシルオキ
シ）スルホキソニウム、ジメチル（２−クロロエトキ
シ）スルホキソニウムなど。

【００８２】アリールオキシスルホキソニウムカチオン
の例：ジメチル（フェノキシ）スルホキソニウム、ジメ
チル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウム、ジメチ
ル（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム、ジメチ
ル（ｐ−トリルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル
（ｍ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム、ジメチル
（ｍ−カルボキシフェノキシ）スルホキソニウム、ジメ
チル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホキソニウムなど。

【００８３】一般式（４）に該当するオニウムカチオン
（ホスホニウムカチオン）：

【００８４】ベンジルホスホニウムカチオンの例：トリ
メチルベンジルホスホニウム、トリエチルベンジルホス
ホニウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリフ
ェニル（ｐ−フルオロベンジル）ホスホニウム、トリフ
ェニル（ｏ−クロロベンジル）ホスホニウム、トリフェ
ニル（ｍ−ブロモベンジル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｐ−シアノベンジル）ホスホニウム、トリフェニル
（ｍ−ニトロベンジル）ホスホニウム、トリフェニル
（ｏ−ヒドロキシベンジル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｏ−アセチルベンジル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｍ−ベンゾイルベンジル）ホスホニウム、トリフェ
ニル（ｐ−メチルベンジル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｐ−イソプロポキシベンジル）ホスホニウム、トリ
フェニル（ｏ−メトキシカルボニルベンジル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（１−ナフチルメチル）ホスホニウ
ム、トリフェニル（９−アンスリルメチル）ホスホニウ
ムなど。

【００８５】フェナシルホスホニウムカチオンの例：ト
リメチルフェナシルホスホニウム、トリエチルフェナシ
ルホスホニウム、トリフェニルフェナシルホスホニウ
ム、トリフェニル（ｐ−フルオロフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｏ−クロロフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｍ−ブロモフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｐ−シアノフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｍ−ニトロフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｏ−ヒドロキシフェナシル）ホス
ホニウム、トリフェニル（ｏ−アセチルフェナシル）ホ
スホニウム、トリフェニル（ｍ−ベンゾイルフェナシ
ル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−メチルフェナシ
ル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−イソプロポキシ
フェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−メトキ
シカルボニルフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル
（１−ナフチロイルメチル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（９−アンスロイルメチル）ホスホニウムなど。

【００８６】アリルホスホニウムカチオンの例：トリフ
ェニルアリルホスホニウム、トリフェニル（３，３−ジ
シアノ−２−プロペニル）ホスホニウム、トリフェニル
（２−ヘキシル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）
ホスホニウム、トリフェニル（２−アセチル−３，３−
ジシアノ−２−プロペニル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（２−フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）ホスホニウムなど。

【００８７】アルコキシホスホニウムカチオンの例：ト
リフェニルメトキシホスホニウム、トリフェニルブトキ
シホスホニウム、トリフェニルオクタデシルオキシホス
ホニウム、トリフェニルイソプロポキシホスホニウム、
トリフェニル（２−クロロエトキシ）ホスホニウム、ト
リフェニル（４−シアノブトキシ）ホスホニウムなど。

【００８８】アリールオキシホスホニウムカチオンの
例：トリフェニルフェノキシホスホニウム、トリフェニ
ル（１−ナフチルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル
（２−ナフチルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル
（９−アンスリルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル
（ｐ−トリルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル
（２，３−キシリルオキシ）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）ホスホニウム、トリフ
ェニル（ｍ−カルボキシフェノキシ）ホスホニウムな
ど。

【００８９】一般式（５）に該当するオニウムカチオン
（ピリジニウムカチオン）：

【００９０】ベンジルピリジニウムカチオンの例：Ｎ−
ベンジルピリジニウム、Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）ピ
リジニウム、Ｎ−（ｍ−クロロベンジル）ピリジニウ
ム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ピリジニウム、Ｎ−
（ｏ−ニトロベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−アセ
チルベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピル
ベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキ
シベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボ
ニルベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（９−アンスリルメ
チル）ピリジニウム、２−クロロ−１−ベンジルピリジ
ニウム、２−シアノ−１−ベンジルピリジニウム、２−
メチル−１−ベンジルピリジニウム、２−ビニル−１−
ベンジルピリジニウム、２−フェニル−１−ベンジルピ
リジニウム、１，２−ジベンジルピリジニウム、２−メ
トキシ−１−ベンジルピリジニウム、２−フェノキシ−
１−ベンジルピリジニウム、２−アセチル−１−ベンジ
ルピリジニウム、２−メトキシカルボニル−１−ベンジ
ルピリジニウム、３−フルオロ−１−ベンジルピリジニ
ウム、４−メチル−１−ベンジルピリジニウムなど。

【００９１】フェナシルピリジニウムカチオンの例：Ｎ
−フェナシルピリジニウム、Ｎ−（ｏ−クロロフェナシ
ル）ピリジニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフェナシル）ピリ
ジニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）ピリジニウ
ム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−
（ｐ−アセチルフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−
イソプロピルフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−オ
クタデシルオキシフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ
−メトキシカルボニルフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−
（９−アンスロイルメチル）ピリジニウム、２−クロロ
−１−フェナシルピリジニウム、２−シアノ−１−フェ
ナシルピリジニウム、２−メチル−１−フェナシルピリ
ジニウム、２−ビニル−１−フェナシルピリジニウム、
２−フェニル−１−フェナシルピリジニウム、１，２−
ジフェナシルピリジニウム、２−メトキシ−１−フェナ
シルピリジニウム、２−フェノキシ−１−フェナシルピ
リジニウム、２−アセチル−１−フェナシルピリジニウ
ム、２−メトキシカルボニル−１−フェナシルピリジニ
ウム、３−フルオロ−１−フェナシルピリジニウム、４
−メチル−１−フェナシルピリジニウムなど。

【００９２】アリルピリジニウムカチオンの例：Ｎ−ア
リルピリジニウム、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシア
ノ−２−プロペニル）ピリジニウム、Ｎ−（２−イソプ
ロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ピリジニ
ウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−
プロペニル）ピリジニウム、Ｎ−（２−ヘキシル−３，
３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）ピ
リジニウムなど。

【００９３】Ｎ−アルコキシピリジニウムカチオンの
例：Ｎ−メトキシピリジニウム、Ｎ−オクチルオキシピ
リジニウム、Ｎ−オクタデシルオキシピリジニウム、Ｎ
−イソプロポキシピリジニウム、Ｎ−シクロヘキシルオ
キシピリジニウム、１−エトキシ−２−メチルピリジニ
ウム、Ｎ−（２−クロロエトキシ）ピリジニウムなど。

【００９４】Ｎ−アリールオキシピリジニウムカチオン
の例：Ｎ−フェノキシピリジニウム、Ｎ−（２−ナフチ
ルオキシ）ピリジニウム、Ｎ−（９−アンスリルオキ
シ）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）ピリジニ
ウム、Ｎ−（２，３−キシリルオキシ）ピリジニウム、
Ｎ−（ｐ−ブロモフェノキシ）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ
−ヒドロキシフェノキシ）ピリジニウムなど。

【００９５】一般式（６）に該当するオニウムカチオン
（キノリニウムカチオン）：

【００９６】ベンジルキノリニウムカチオンの例：Ｎ−
ベンジルキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）キ
ノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロベンジル）キノリニウ
ム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）キノリニウム、Ｎ−
（ｏ−ニトロベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−アセ
チルベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピル
ベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキ
シベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボ
ニルベンジル）キノリニウム、Ｎ−（９−アンスリルメ
チル）キノリニウム、２−クロロ−１−ベンジルキノリ
ニウム、２−シアノ−１−ベンジルキノリニウム、２−
メチル−１−ベンジルキノリニウム、２−ビニル−１−
ベンジルキノリニウム、２−フェニル−１−ベンジルキ
ノリニウム、１，２−ジベンジルキノリニウム、２−メ
トキシ−１−ベンジルキノリニウム、２−フェノキシ−
１−ベンジルキノリニウム、２−アセチル−１−ベンジ
ルキノリニウム、２−メトキシカルボニル−１−ベンジ
ルキノリニウム、３−フルオロ−１−ベンジルキノリニ
ウム、４−メチル−１−ベンジルキノリニウムなど。

【００９７】フェナシルキノリニウムカチオンの例：Ｎ
−フェナシルキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロフェナシ
ル）キノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフェナシル）キノ
リニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）キノリニウ
ム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェナシル）キノリニウム、Ｎ−
（ｐ−アセチルフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−
イソプロピルフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−オ
クタデシルオキシフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ
−メトキシカルボニルフェナシル）キノリニウム、Ｎ−
（９−アンスロイルメチル）キノリニウム、２−クロロ
−１−フェナシルキノリニウム、２−シアノ−１−フェ
ナシルキノリニウム、２−メチル−１−フェナシルキノ
リニウム、２−ビニル−１−フェナシルキノリニウム、
２−フェニル−１−フェナシルキノリニウム、１，２−
ジフェナシルキノリニウム、２−メトキシ−１−フェナ
シルキノリニウム、２−フェノキシ−１−フェナシルキ
ノリニウム、２−アセチル−１−フェナシルキノリニウ
ム、２−メトキシカルボニル−１−フェナシルキノリニ
ウム、３−フルオロ−１−フェナシルキノリニウム、４
−メチル−１−フェナシルキノリニウムなど。

【００９８】アリルキノリニウムカチオンの例：Ｎ−ア
リルキノリニウム、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシア
ノ−２−プロペニル）キノリニウム、Ｎ−（２−イソプ
ロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）キノリニ
ウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−
プロペニル）キノリニウム、Ｎ−（２−ヘキシル−３，
３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）キ
ノリニウムなど。

【００９９】Ｎ−アルコキシキノリニウムカチオンの
例：Ｎ−メトキシキノリニウム、Ｎ−オクチルオキシキ
ノリニウム、Ｎ−オクタデシルオキシキノリニウム、Ｎ
−イソプロポキシキノリニウム、Ｎ−シクロヘキシルオ
キシキノリニウム、１−エトキシ−２−メチルキノリニ
ウム、Ｎ−（２−クロロエトキシ）キノリニウムなど。

【０１００】Ｎ−アリールオキシキノリニウムカチオン
の例：Ｎ−フェノキシキノリニウム、Ｎ−（２−ナフチ
ルオキシ）キノリニウム、Ｎ−（９−アンスリルオキ
シ）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）キノリニ
ウム、Ｎ−（２，３−キシリルオキシ）キノリニウム、
Ｎ−（ｐ−ブロモフェノキシ）キノリニウム、Ｎ−（ｐ
−ヒドロキシフェノキシ）キノリニウムなど。

【０１０１】一般式（７）に該当するオニウムカチオン
（イソキノリニウムカチオン）：

【０１０２】ベンジルイソキノリニウムカチオンの例：
Ｎ−ベンジルイソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロベン
ジル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロベンジル）
イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）イソキ
ノリニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロベンジル）イソキノリニ
ウム、Ｎ−（ｐ−アセチルベンジル）イソキノリニウ
ム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルベンジル）イソキノリニウ
ム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシベンジル）イソキノ
リニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルベンジル）イ
ソキノリニウム、Ｎ−（９−アンスリルメチル）イソキ
ノリニウム、１，２−ジベンジルイソキノリニウムな
ど。

【０１０３】フェナシルイソキノリニウムカチオンの
例：Ｎ−フェナシルイソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロ
ロフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフ
ェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナ
シル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェナシ
ル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルフェナシ
ル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルフェナ
シル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキ
シフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシ
カルボニルフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（９−
アンスロイルメチル）イソキノリニウムなど。

【０１０４】アリルイソキノリニウムカチオンの例：Ｎ
−アリルイソキノリニウム、Ｎ−（２−メチル−３，３
−ジシアノ−２−プロペニル）イソキノリニウム、Ｎ−
（２−イソプロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）イソキノリニウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３
−ジシアノ−２−プロペニル）イソキノリニウム、Ｎ−
（２−ヘキシル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）
−２−プロペニル）イソキノリニウムなど。

【０１０５】Ｎ−アルコキシイソキノリニウムカチオン
の例：Ｎ−メトキシイソキノリニウム、Ｎ−オクチルオ
キシイソキノリニウム、Ｎ−オクタデシルオキシイソキ
ノリニウム、Ｎ−イソプロポキシイソキノリニウム、Ｎ
−シクロヘキシルオキシイソキノリニウムなど。

【０１０６】Ｎ−アリールオキシイソキノリニウムカチ
オンの例：Ｎ−フェノキシイソキノリニウム、Ｎ−（２
−ナフチルオキシ）イソキノリニウム、Ｎ−（９−アン
スリルオキシ）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−トリルオ
キシ）イソキノリニウム、Ｎ−（２，３−キシリルオキ
シ）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−ブロモフェノキシ）
イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）
イソキノリニウムなど。

【０１０７】一般式（８）に該当するオニウムカチオン
（ベンゾオキサゾリウムカチオン、ベンゾチアゾリウム
カチオン）：

【０１０８】ベンゾオキサゾリウムカチオンの例：Ｎ−
ベンジルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−フルオロベ
ンジル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−クロロベン
ジル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジ
ル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｏ−メトキシカルボ
ニルベンジル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−フェナシル
ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｏ−フルオロフェナシ
ル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシ
ル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｍ−ニトロフェナシ
ル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−イソプロポキシ
カルボニルフェナシル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−ア
リルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（２−メチル−３，３
−ジシアノ−２−プロペニル）ベンゾオキサゾリウム、
Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペ
ニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（３，３−ビス（メ
トキシカルボニル）−２−プロペニル）ベンゾオキサゾ
リウム、Ｎ−メトキシベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｔ
−ブトキシ）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（３−ブロモ
プロポキシ）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−フェノキシベ
ンゾオキサゾリウム、Ｎ−（１−ナフチルオキシ）ベン
ゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｍ−カルボキシフェノキシ）
ベンゾオキサゾリウム、２−メルカプト−３−ベンジル
ベンゾオキサゾリウム、２−メチル−３−ベンジルベン
ゾオキサゾリウム、２−メチルチオ−３−ベンジルベン
ゾオキサゾリウム、６−ヒドロキシ−３−ベンジルベン
ゾオキサゾリウム、７−メルカプト−３−ベンジルベン
ゾオキサゾリウム、４，５−ジフルオロ−３−ベンジル
ベンゾオキサゾリウムなど。

【０１０９】ベンゾチアゾリウムカチオンの例：Ｎ−ベ
ンジルベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−フルオロベンジ
ル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）
ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ベン
ゾチアゾリウム、Ｎ−（ｏ−メトキシカルボニルベンジ
ル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−フェナシルベンゾチアゾ
リウム、Ｎ−（ｏ−フルオロフェナシル）ベンゾチアゾ
リウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）ベンゾチアゾリ
ウム、Ｎ−（ｍ−ニトロフェナシル）ベンゾチアゾリウ
ム、Ｎ−（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェナシル）
ベンゾチアゾリウム、Ｎ−アリルベンゾチアゾリウム、
Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，
３−ジシアノ−２−プロペニル）ベンゾチアゾリウム、
Ｎ−（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロ
ペニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−メトキシベンゾチア
ゾリウム、Ｎ−（ｔ−ブトキシ）ベンゾチアゾリウム、
Ｎ−（３−ブロモプロポキシ）ベンゾチアゾリウム、Ｎ
−フェノキシベンゾチアゾリウム、Ｎ−（１−ナフチル
オキシ）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｍ−カルボキシフ
ェノキシ）ベンゾチアゾリウム、２−メルカプト−３−
ベンジルベンゾチアゾリウム、２−メチル−３−ベンジ
ルベンゾチアゾリウム、２−メチルチオ−３−ベンジル
ベンゾチアゾリウム、６−ヒドロキシ−３−ベンジルベ
ンゾチアゾリウム、７−メルカプト−３−ベンジルベン
ゾチアゾリウム、４，５−ジフルオロ−３−ベンジルベ
ンゾチアゾリウムなど。

【０１１０】一般式（９）に該当するオニウムカチオン
（フリルもしくはチエニルヨードニウムカチオン）：

【０１１１】ジフリルヨードニウム、ジチエニルヨード
ニウム、ビス（４，５−ジメチル−２−フリル）ヨード
ニウム、ビス（５−クロロ−２−チエニル）ヨードニウ
ム、ビス（５−シアノ−２−フリル）ヨードニウム、ビ
ス（５−ニトロ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス
（５−アセチル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５
−カルボキシ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５
−メトキシカルボニル−２−フリル）ヨードニウム、ビ
ス（５−フェニル−２−フリル）ヨードニウム、ビス
（５−（ｐ−メトキシフェニル）−２−チエニル）ヨー
ドニウム、ビス（５−ビニル−２−フリル）ヨードニウ
ム、ビス（５−エチニル−２−チエニル）ヨードニウ
ム、ビス（５−シクロヘキシル−２−フリル）ヨードニ
ウム、ビス（５−ヒドロキシ−２−チエニル）ヨードニ
ウム、ビス（５−フェノキシ−２−フリル）ヨードニウ
ム、ビス（５−メルカプト−２−チエニル）ヨードニウ
ム、ビス（５−ブチルチオ−２−チエニル）ヨードニウ
ム、ビス（５−フェニルチオ−２−チエニル）ヨードニ
ウムなど。

【０１１２】一般式（１０）に該当するオニウムカチオ
ン（ジアリールヨードニウムカチオン）：

【０１１３】ジフェニルヨードニウム、ビス（ｐ−トリ
ル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨー
ドニウム、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニ
ウム、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウ
ム、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニ
ウム、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨ
ードニウムなど。

【０１１４】一般式（１１）に該当するオニウムカチオ
ン（トリアリールスルホニウムカチオン）：

【０１１５】トリフェニルスルホニウム、トリス（ｐ−
トリル）スルホニウム、トリス（フェニル）スルホニウ
ム、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウ
ム、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム、トリ
ス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムなど。

【０１１６】一般式（１２）に該当するオニウムカチオ
ン（トリアリールスルホキソニウムカチオン）：

【０１１７】トリフェニルスルホキソニウム、トリス
（ｐ−トリル）スルホキソニウム、トリス（フェニル）
スルホキソニウム、トリス（２，６−ジメチルフェニ
ル）スルホキソニウム、トリス（ｐ−シアノフェニル）
スルホキソニウム、トリス（ｐ−クロロフェニル）スル
ホキソニウムなど。

【０１１８】一方、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）を構成する一般式（１）で表されるボレートアニ
オンにおける置換基Ｚとしては、３，５−ジフルオロフ
ェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，
３，４，６−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオ
ロフェニル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル基、２，４，６−トリフルオロ−３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル基、３，５−ジニトロフェニ
ル基、２，４，６−トリフルオロ−３，５−ジニトロフ
ェニル基、２，４−ジシアノフェニル基、４−シアノ−
３，５−ジニトロフェニル基、４−シアノ−２，６−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル基等があげられる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１１９】したがって、本発明の感エネルギー線酸発
生剤（Ａ）のボレートアニオンの構造として、具体的に
は、ペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフル
オロボレート、ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフル
オロボレート、ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ジフルオロボレート、トリス（ペンタフ
ルオロフェニル）フルオロボレート、トリス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フルオロボレー
ト、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート等があげられる。

【０１２０】この内、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）のボレートアニオンの構造として、好ましいもの
は、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートお
よびテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレートである。

【０１２１】したがって、本発明の感エネルギー線酸発
生剤（Ａ）を構成する好ましいオニウムボレート錯体の
具体例としては、以下に掲げるものをあげることができ
るが、本発明は、なんらこれらに限定されるものではな
い。

【０１２２】テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レートの例：

【０１２３】ベンジルスルホニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル（ベンジ
ル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチル（ｐ−ブロモベンジル）スルホ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチル（ｐ−シアノベンジル）スルホニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル
（ｍ−ニトロベンジル）スルホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ペンタフル
オロフェニルメチル）スルホニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−（トリフ
ルオロメチル）ベンジル）スルホニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−メチ
ルスルホニルベンジル）スルホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｏ−アセチ
ルベンジル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、ジメチル（ｏ−ベンゾイルベンジ
ル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチル（ｐ−イソプロピルベンジル）
スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、ジメチル（ｐ−メトキシベンジル）スルホニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジ
メチル（２−ナフチルメチル）スルホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（９−
アンスリルメチル）スルホニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、ジエチル（ベンジル）スル
ホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、メチルエチル（ベンジル）スルホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルフェニル
（ベンジル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、ジフェニル（ベンジル）スルホニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートな
ど。

【０１２４】フェナシルスルホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル（フェナ
シル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチル（ｐ−シアノフェナシル）スル
ホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチル（ｍ−ニトロフェナシル）スルホニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチ
ル（ｐ−（トリフルオロメチル）フェナシル）スルホニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジメチル（ｐ−メチルスルホニルフェナシル）スルホニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジメチル（ｏ−アセチルフェナシル）スルホニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル
（ｏ−ベンゾイルフェナシル）スルホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−
イソプロピルフェナシル）スルホニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−イソ
プロポキシカルボニルフェナシル）スルホニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル
（２−ナフトイルメチル）スルホニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（９−アン
スロイルメチル）スルホニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート、ジエチル（フェナシル）スル
ホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、メチルエチル（フェナシル）スルホニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルフェニ
ル（フェナシル）スルホニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート、ジフェニル（フェナシル）ス
ルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、テトラメチレン（フェナシル）スルホニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１２５】アリルスルホニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル（アリル）ス
ルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ジメチル（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）
スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、ジメチル（２−メチル−３，３−ジシアノ−２
−プロペニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、ジメチル（２−ベンゾイル−
３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル
（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニ
ル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートなど。

【０１２６】アルコキシスルホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル（メトキ
シ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル
（ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、ジメチル（イソプロポキシ）スル
ホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１２７】アリールオキシスルホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル
（フェノキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、ジメチル（１ーナフチルオキ
シ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチル（２−ナフチルオキシ）スルホ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチル（９−アンスリルオキシ）スルホニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチ
ル（ｐ−トリルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−ブロモ
フェノキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレートなど。

【０１２８】ベンジルスルホキソニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル（ベン
ジル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−ブロモベンジル）ス
ルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ジメチル（ｐ−シアノベンジル）スルホキソ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチル（ｍ−ニトロベンジル）スルホキソニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメ
チル（ペンタフルオロフェニルメチル）スルホキソニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジ
メチル（ｐ−（トリフルオロメチル）ベンジル）スルホ
キソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ジメチル（ｐ−メチルスルホニルベンジル）スル
ホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、ジメチル（ｏ−アセチルベンジル）スルホキソ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチル（ｏ−ベンゾイルベンジル）スルホキソニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジメチル（ｐ−イソプロピルベンジル）スルホキソニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジ
メチル（ｐ−メトキシベンジル）スルホキソニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル
（２−ナフチルメチル）スルホキソニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（９−
アンスリルメチル）スルホキソニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ジエチル（ベンジル）
スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、メチルエチル（ベンジル）スルホキソニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
メチルフェニル（ベンジル）スルホキソニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル
（ベンジル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートなど。

【０１２９】フェナシルスルホキソニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル
（フェナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−シアノフェ
ナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、ジメチル（ｍ−ニトロフェナシ
ル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ジメチル（ｐ−（トリフルオロメチ
ル）フェナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−メチルス
ルホニルフェナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｏ−アセ
チルフェナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｏ−ベンゾイ
ルフェナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−イソプロピ
ルフェナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｐ−イソプロポ
キシカルボニルフェナシル）スルホキソニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２
−ナフトイルメチル）スルホキソニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（９−アン
スロイルメチル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、ジエチル（フェナシル）
スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、メチルエチル（フェナシル）スルホキソ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、メチルフェニル（フェナシル）スルホキソニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェ
ニル（フェナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、テトラメチレン（フェ
ナシル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレートなど。

【０１３０】アリルスルホキソニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル（アリ
ル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ジメチル（３，３−ジシアノ−２−プ
ロペニル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、ジメチル（２−メチル−３，３
−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル
（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ジメチル（３，３−ビス（メトキシカ
ルボニル）−２−プロペニル）スルホキソニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１３１】アルコキシスルホキソニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル
（メトキシ）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート、ジメチル（エトキシ）スルホ
キソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ジメチル（ブトキシ）スルホキソニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（イ
ソプロポキシ）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、ジメチル（４−シアノブト
キシ）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレートなど。

【０１３２】アリールオキシスルホキソニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：ジメチル
（フェノキシ）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、ジメチル（１ーナフチルオ
キシ）スルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、ジメチル（２−ナフチルオキシ）ス
ルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、ジメチル（９−アンスリルオキシ）スルホキ
ソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチル（ｐ−トリルオキシ）スルホキソニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチ
ル（ｐ−ブロモフェノキシ）スルホキソニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１３３】ベンジルホスホニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートの例：トリメチルベンジル
ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、トリエチルベンジルホスホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルベ
ンジルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、トリフェニル（ｐ−シアノベンジル）ホ
スホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、トリフェニル（ｍ−ニトロベンジル）ホスホニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ト
リフェニル（１−ナフチルメチル）ホスホニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニ
ル（９−アンスリルメチル）ホスホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１３４】フェナシルホスホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：トリエチルフェナ
シルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、トリフェニルフェナシルホスホニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフ
ェニル（ｐ−シアノフェナシル）ホスホニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニル
（ｍ−ニトロフェナシル）ホスホニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニル（１−
ナフタロイルメチル）ホスホニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、トリフェニル（９−アン
スロイルメチル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートなど。

【０１３５】アリルホスホニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートの例：トリフェニルアリルホ
スホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、トリフェニル（３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、トリフェニル（２−フェニル−３，３−
ジシアノ−２−プロペニル）ホスホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１３６】アルコキシホスホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：トリフェニルメト
キシホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、トリフェニルイソプロポキシホスホニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ト
リフェニル（２−クロロエトキシ）ホスホニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１３７】アリールオキシホスホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：トリフェニ
ルフェノキシホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、トリフェニル（９−アンスリルオ
キシ）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、トリフェニル（ｐ−トリルオキシ）ホス
ホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、トリフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）ホスホ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
など。

【０１３８】ベンジルピリジニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−ベンジルピリジ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ピリジニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｏ−ニ
トロベンジル）ピリジニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−アセチルベンジル）
ピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、Ｎ−（９−アンスリルメチル）ピリジニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−シ
アノ−１−ベンジルピリジニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートなど。

【０１３９】フェナシルピリジニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−フェナシルピ
リジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）ピリジニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｏ
−ニトロフェナシル）ピリジニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−アセチルフェ
ナシル）ピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、Ｎ−（９−アンスロイルメチル）ピリ
ジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、２−シアノ−１−フェナシルピリジニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１４０】アリルピリジニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−アリルピリジニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ
−（２−イソプロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペ
ニル）ピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシア
ノ−２−プロペニル）ピリジニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートなど。

【０１４１】Ｎ−アルコキシピリジニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−メトキ
シピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、１−エトキシ−２−メチルピリジニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（２
−クロロエトキシ）ピリジニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートなど。

【０１４２】Ｎ−アリールオキシピリジニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−フェ
ノキシピリジニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ−（９−アンスリルオキシ）ピリジニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）ピリジニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１４３】ベンジルキノリニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−ベンジルキノリ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）キノリニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｏ−ニ
トロベンジル）キノリニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−アセチルベンジル）
キノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、Ｎ−（９−アンスリルメチル）キノリニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、２−シ
アノ−１−ベンジルキノリニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートなど。

【０１４４】フェナシルキノリニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−フェナシルキ
ノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）キノリニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｏ
−ニトロフェナシル）キノリニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−イソプロピル
フェナシル）キノリニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフ
ェナシル）キノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、Ｎ−（９−アンスロイルメチル）キ
ノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、２−シアノ−１−フェナシルキノリニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１４５】アリルキノリニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−アリルキノリニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ
−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）キノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ−（２−ヘキシル−３，３−ビス（メ
トキシカルボニル）−２−プロペニル）キノリニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１４６】Ｎ−アルコキシキノリニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−メトキ
シキノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、Ｎ−イソプロポキシキノリニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１−エトキシ−
２−メチルキノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、Ｎ−（２−クロロエトキシ）キノリ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
など。

【０１４７】Ｎ−アリールオキシキノリニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−フェ
ノキシキノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ−（２−ナフチルオキシ）キノリニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ
−（９−アンスリルオキシ）キノリニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−トリ
ルオキシ）キノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−ブロモフェノキシ）キノ
リニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
トなど。

【０１４８】ベンジルイソキノリニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−ベンジルイ
ソキノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）イソキノリニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ
−（ｏ−ニトロベンジル）イソキノリニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（９−アン
スリルメチル）イソキノリニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、１，２−ジベンジルイソキ
ノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ートなど。

【０１４９】フェナシルイソキノリニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−フェナ
シルイソキノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）イソキ
ノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−アセチルフェナシル）イソキノリニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ
−（ｐ−メトキシカルボニルフェナシル）イソキノリニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ−（９−アンスロイルメチル）イソキノリニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１５０】アリルイソキノリニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−アリルイソキ
ノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、Ｎ−（２−イソプロピル−３，３−ジシアノ−２
−プロペニル）イソキノリニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（２−ベンゾイル−
３，３−ジシアノ−２−プロペニル）イソキノリニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１５１】Ｎ−アルコキシイソキノリニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−メト
キシイソキノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、Ｎ−オクタデシルオキシイソキノリニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ−イソプロポキシイソキノリニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１５２】Ｎ−アリールオキシイソキノリニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−
フェノキシイソキノリニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレート、Ｎ−（９−アンスリルオキシ）
イソキノリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）イソキノリニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）イソキノリニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１５３】ベンゾオキサゾリウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−ベンジルベンゾ
オキサゾリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ベンゾオキサゾ
リウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ−フェナシルベンゾオキサゾリウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−シア
ノフェナシル）ベンゾオキサゾリウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−アリルベンゾオキ
サゾリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロ
ペニル）ベンゾオキサゾリウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート、Ｎ−メトキシベンゾオキサゾ
リウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ−（３−ブロモプロポキシ）ベンゾオキサゾリウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ
−フェノキシベンゾオキサゾリウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（１−ナフチルオキ
シ）ベンゾオキサゾリウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート、２−メルカプト−３−ベンジルベ
ンゾオキサゾリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、２−メチルチオ−３−ベンジルベンゾオ
キサゾリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レートなど。

【０１５４】ベンゾチアゾリウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートの例：Ｎ−ベンジルベンゾチ
アゾリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ベンゾチアゾリウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−
フェナシルベンゾチアゾリウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレート、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシ
ル）ベンゾチアゾリウムテトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレート、Ｎ−アリルベンゾチアゾリウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（２
−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ベンゾ
チアゾリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、Ｎ−メトキシベンゾチアゾリウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−（３−ブロ
モプロポキシ）ベンゾチアゾリウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、Ｎ−フェノキシベンゾチ
アゾリウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、Ｎ−（１−ナフチルオキシ）ベンゾチアゾリウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、２−
メルカプト−３−ベンジルベンゾチアゾリウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、２−メチルチ
オ−３−ベンジルベンゾチアゾリウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１５５】フリルもしくはチエニルヨードニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：ジフ
リルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、ジチエニルヨードニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（４，５−ジメ
チル−２−フリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、ビス（５−クロロ−２−チ
エニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ビヨードニウムテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレート、ビス（５−アセチル−２−
フリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ビス（５−（ｐ−メトキシフェニル）
−２−チエニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートなど。

【０１５６】ジアリールヨードニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートの例：ジフェニルヨード
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス
（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェニル
（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１５７】トリアリールスルホニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレートの例：トリフェニルス
ルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（２，６
−ジメチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−シアノフェ
ニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートなど。

【０１５８】トリアリールスルホキソニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートの例：トリフェニ
ルスルホキソニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、トリス（ｐ−トリル）スルホキソニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ
ス（２，６−ジメチルフェニル）スルホキソニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス
（ｐ−シアノフェニル）スルホキソニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

【０１５９】テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート

【０１６０】ベンジルスルホニウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：ジメチル（ベンジル）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ｐ−ブロモベンジル）スルホニウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジメチル（ｐ−シアノベンジル）スルホ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｍ−ニトロベンジ
ル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル（ペンタフ
ルオロフェニルメチル）スルホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
ジメチル（ｐ−（トリフルオロメチル）ベンジル）スル
ホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−メチルスルホ
ニルベンジル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル
（ｏ−アセチルベンジル）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ｏ−ベンゾイルベンジル）スルホニウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−イソプロピルベンジ
ル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−メト
キシベンジル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル
（２−ナフチルメチル）スルホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
ジメチル（９−アンスリルメチル）スルホニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、ジエチル（ベンジル）スルホニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レート、メチルエチル（ベンジル）スルホニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、メチルフェニル（ベンジル）スルホニウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジフェニル（ベンジル）スルホニウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレートなど。

【０１６１】フェナシルスルホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：ジメチル（フェナシル）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ｐ−シアノフェナシル）スルホニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、ジメチル（ｍ−ニトロフェナシル）ス
ルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−（トリフル
オロメチル）フェナシル）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ｐ−メチルスルホニルフェナシル）ス
ルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｏ−アセチルフ
ェナシル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｏ
−ベンゾイルフェナシル）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ｐ−イソプロピルフェナシル）スルホ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−イソプロポキ
シカルボニルフェナシル）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（２−ナフトイルメチル）スルホニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、ジメチル（９−アンスロイルメチル）
スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、ジエチル（フェナシル）
スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、メチルエチル（フェナシ
ル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、メチルフェニル（フ
ェナシル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフェニル
（フェナシル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、テトラメ
チレン（フェナシル）スルホニウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートな
ど。

【０１６２】アリルスルホニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの例：
ジメチル（アリル）スルホニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメ
チル（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、ジメチル（２−メチル−３，３−ジ
シアノ−２−プロペニル）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−
２−プロペニル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチ
ル（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペ
ニル）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１６３】アルコキシスルホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：ジメチル（メトキシ）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレートなど。

【０１６４】アリールオキシスルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：ジメチル（フェノキシ）スルホニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、ジメチル（１ーナフチルオキシ）スルホニウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、ジメチル（２−ナフチルオキシ）ス
ルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ジメチル（９−アンスリル
オキシ）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−
トリルオキシ）スルホニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル
（ｐ−ブロモフェノキシ）スルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートなど。

【０１６５】ベンジルスルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：ジメチル（ベンジル）スルホキソニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジメチル（ｐ−ブロモベンジル）スルホ
キソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−シアノベン
ジル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｍ
−ニトロベンジル）スルホキソニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
ジメチル（ペンタフルオロフェニルメチル）スルホキソ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−（トリフルオ
ロメチル）ベンジル）スルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ｐ−メチルスルホニルベンジル）スル
ホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｏ−アセチル
ベンジル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル
（ｏ−ベンゾイルベンジル）スルホキソニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レート、ジメチル（ｐ−イソプロピルベンジル）スルホ
キソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−メトキシベ
ンジル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル
（２−ナフチルメチル）スルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（９−アンスリルメチル）スルホキソニ
ウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ジエチル（ベンジル）スルホキソ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、メチルエチル（ベンジル）ス
ルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］ボレート、メチルフェニル（ベン
ジル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフェニル
（ベンジル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１６６】フェナシルスルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：ジメチル（フェナシル）スルホキソニウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジメチル（ｐ−シアノフェナシル）スル
ホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｍ−ニトロフ
ェナシル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル
（ｐ−（トリフルオロメチル）フェナシル）スルホキソ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−メチルスルホ
ニルフェナシル）スルホキソニウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジ
メチル（ｏ−アセチルフェナシル）スルホキソニウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェナシル）
スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル（ｐ−イソ
プロピルフェナシル）スルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェナ
シル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル（２
−ナフトイルメチル）スルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（９−アンスロイルメチル）スルホキソ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、ジエチル（フェナシル）スル
ホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、メチルエチル（フェナシ
ル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレート、メチルフェニル
（フェナシル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジフ
ェニル（フェナシル）スルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、テトラメチレン（フェナシル）スルホキソニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレートなど。

【０１６７】アリルスルホキソニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：ジメチル（アリル）スルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）
スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル（２−メチ
ル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニ
ウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ジメチル（２−ベンゾイル−３，
３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジメチル（３，３−ビス（メトキシカル
ボニル）−２−プロペニル）スルホキソニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レートなど。

【０１６８】アルコキシスルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：ジメチル（メトキシ）スルホキソニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、ジメチル（エトキシ）スルホキソニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、ジメチル（ブトキシ）スルホキソニウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホ
キソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、ジメチル（４−シアノブト
キシ）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１６９】アリールオキシスルホキソニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レートの例：ジメチル（フェノキシ）スルホキソニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、ジメチル（１ーナフチルオキシ）スル
ホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、ジメチル（２−ナフチル
オキシ）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ジメチル
（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジメチル（ｐ−トリルオキシ）スルホキソニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、ジメチル（ｐ−ブロモフェノキシ）ス
ルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１７０】ベンジルホスホニウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：トリメチルベンジルホスホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
トリエチルベンジルホスホニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、トリ
フェニルベンジルホスホニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、トリフ
ェニル（ｐ−シアノベンジル）ホスホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、トリフェニル（ｍ−ニトロベンジル）ホスホニウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、トリフェニル（１−ナフチルメチ
ル）ホスホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、トリフェニル（９−
アンスリルメチル）ホスホニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１７１】フェナシルホスホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：トリエチルフェナシルホスホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、トリフェニルフェナシルホスホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、トリフェニル（ｐ−シアノフェナシル）ホスホニ
ウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、トリフェニル（ｍ−ニトロフェナ
シル）ホスホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］ボレート、トリフェニル（１
−ナフタロイルメチル）ホスホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
トリフェニル（９−アンスロイルメチル）ホスホニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレートなど。

【０１７２】アリルホスホニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの例：
トリフェニルアリルホスホニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、トリ
フェニル（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ホスホ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、トリフェニル（２−フェニル
−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ホスホニウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレートなど。

【０１７３】アルコキシホスホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：トリフェニルメトキシホスホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、トリフェニルイソプロポキシホスホニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、トリフェニル（２−クロロエトキシ）ホスホ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレートなど。

【０１７４】アリールオキシホスホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：トリフェニルフェノキシホスホニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、トリフェニル（９−アンスリルオキシ）ホス
ホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、トリフェニル（ｐ−トリルオ
キシ）ホスホニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェニル］ボレート、トリフェニル（ｐ
−ヒドロキシフェノキシ）ホスホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートなど。

【０１７５】ベンジルピリジニウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：Ｎ−ベンジルピリジニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−
（ｐ−シアノベンジル）ピリジニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
Ｎ−（ｏ−ニトロベンジル）ピリジニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−アセチルベンジル）ピリジニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（９−アンスリルメチル）ピリジニ
ウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、４−シアノ−１−ベンジルピリジ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレートなど。

【０１７６】フェナシルピリジニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：Ｎ−フェナシルピリジニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−
（ｐ−シアノフェナシル）ピリジニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（ｏ−ニトロフェナシル）ピリジニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（ｐ−アセチルフェナシル）ピリジ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、Ｎ−（９−アンスロイルメチ
ル）ピリジニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、２−シアノ−１−フ
ェナシルピリジニウムテトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１７７】アリルピリジニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの例：
Ｎ−アリルピリジニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−（２−イ
ソプロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ピリ
ジニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，
３−ジシアノ−２−プロペニル）ピリジニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レートなど。

【０１７８】Ｎ−アルコキシピリジニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：Ｎ−メトキシピリジニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
１−エトキシ−２−メチルピリジニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（２−クロロエトキシ）ピリジニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレートなど。

【０１７９】Ｎ−アリールオキシピリジニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レートの例：Ｎ−フェノキシピリジニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（９−アンスリルオキシ）ピリジニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）ピリジニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレートなど。

【０１８０】ベンジルキノリニウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：Ｎ−ベンジルキノリニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−
（ｐ−シアノベンジル）キノリニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
Ｎ−（ｏ−ニトロベンジル）キノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−アセチルベンジル）キノリニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（９−アンスリルメチル）キノリニ
ウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、２−シアノ−１−ベンジルキノリ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレートなど。

【０１８１】フェナシルキノリニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：Ｎ−フェナシルキノリニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−
（ｐ−シアノフェナシル）キノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（ｏ−ニトロフェナシル）キノリニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（ｐ−イソプロピルフェナシル）キ
ノリニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル］ボレート、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボ
ニルフェナシル）キノリニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−
（９−アンスロイルメチル）キノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、２−シアノ−１−フェナシルキノリニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレートなど。

【０１８２】アリルキノリニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの例：
Ｎ−アリルキノリニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−（２−ベ
ンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）キノリ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、Ｎ−（２−ヘキシル−３，３
−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）キノ
リニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレートなど。

【０１８３】Ｎ−アルコキシキノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：Ｎ−メトキシキノリニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
Ｎ−イソプロポキシキノリニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、１−
エトキシ−２−メチルキノリニウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ
−（２−クロロエトキシ）キノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートなど。

【０１８４】Ｎ−アリールオキシキノリニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レートの例：Ｎ−フェノキシキノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（２−ナフチルオキシ）キノリニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、Ｎ−（９−アンスリルオキシ）キノリニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）キノリニウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、Ｎ−（ｐ−ブロモフェノキシ）キノ
リニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレートなど。

【０１８５】ベンジルイソキノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：Ｎ−ベンジルイソキノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）イソキノリニウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（ｏ−ニトロベンジル）イソキノリ
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、Ｎ−（９−アンスリルメチ
ル）イソキノリニウムテトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレート、１，２−ジベン
ジルイソキノリニウムテトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１８６】フェナシルイソキノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：Ｎ−フェナシルイソキノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）イソキノリニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、Ｎ−（ｐ−アセチルフェナシル）イソ
キノリニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、Ｎ−（ｐ−メトキシカル
ボニルフェナシル）イソキノリニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
Ｎ−（９−アンスロイルメチル）イソキノリニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレートなど。

【０１８７】アリルイソキノリニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：Ｎ−アリルイソキノリニウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−
（２−イソプロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）イソキノリニウムテトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−（２−ベン
ゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）イソキノ
リニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレートなど。

【０１８８】Ｎ−アルコキシイソキノリニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レートの例：Ｎ−メトキシイソキノリニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−オクタデシルオキシイソキノリニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、Ｎ−イソプロポキシイソキノリニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレートなど。

【０１８９】Ｎ−アリールオキシイソキノリニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレートの例：Ｎ−フェノキシイソキノリニウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（９−アンスリルオキシ）イソキノ
リニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）イ
ソキノリニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシ
フェノキシ）イソキノリニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１９０】ベンゾオキサゾリウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：Ｎ−ベンジルベンゾオキサゾリウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ベンゾオキサゾリウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、Ｎ−フェナシルベンゾオキサゾリウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）ベン
ゾオキサゾリウムテトラキス［３，５−ビス（トリフル
オロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−アリルベンゾオ
キサゾリウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、Ｎ−（２−メチル−３，
３−ジシアノ−２−プロペニル）ベンゾオキサゾリウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、Ｎ−メトキシベンゾオキサゾリウムテ
トラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（３−ブロモプロポキシ）ベンゾオ
キサゾリウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、Ｎ−フェノキシベンゾオ
キサゾリウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、Ｎ−（１−ナフチルオキ
シ）ベンゾオキサゾリウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、２−メル
カプト−３−ベンジルベンゾオキサゾリウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、２−メチルチオ−３−ベンジルベンゾオキサゾリ
ウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレートなど。

【０１９１】ベンゾチアゾリウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの例：
Ｎ−ベンジルベンゾチアゾリウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−
（ｐ−シアノベンジル）ベンゾチアゾリウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−フェナシルベンゾチアゾリウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）ベンゾチアゾリウ
ムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フ
ェニル］ボレート、Ｎ−アリルベンゾチアゾリウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレート、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシアノ−
２−プロペニル）ベンゾチアゾリウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
Ｎ−メトキシベンゾチアゾリウムテトラキス［３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、Ｎ−
（３−ブロモプロポキシ）ベンゾチアゾリウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レート、Ｎ−フェノキシベンゾチアゾリウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、Ｎ−（１−ナフチルオキシ）ベンゾチアゾリウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレート、２−メルカプト−３−ベンジルベンゾ
チアゾリウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニル］ボレート、２−メチルチオ−３−ベ
ンジルベンゾチアゾリウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１９２】フリルもしくはチエニルヨードニウムテト
ラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニ
ル］ボレートの例：ジフリルヨードニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ジチエニルヨードニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ビス
（４，５−ジメチル−２−フリル）ヨードニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、ビス（５−クロロ−２−チエニル）ヨードニ
ウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）
フェニル］ボレート、ビヨードニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
ビス（５−アセチル−２−フリル）ヨードニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、ビス（５−（ｐ−メトキシフェニル）−２−
チエニル）ヨードニウムテトラキス［３，５−ビス（ト
リフルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１９３】ジアリールヨードニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートの
例：ジフェニルヨードニウムテトラキス［３，５−ビス
（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ビス（ｐ
−オクタデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨード
ニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、フェニル（ｐ−オクタデシル
オキシフェニル）ヨードニウムテトラキス［３，５−ビ
ス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１９４】トリアリールスルホニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：トリフェニルスルホニウムテトラキス［３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、
トリス（ｐ−トリル）スルホニウムテトラキス［３，５
−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート、ト
リス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムテトラ
キス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］
ボレート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム
テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェ
ニル］ボレートなど。

【０１９５】トリアリールスルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ートの例：トリフェニルスルホキソニウムテトラキス
［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレ
ート、トリス（ｐ−トリル）スルホキソニウムテトラキ
ス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボ
レート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホキ
ソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチ
ル）フェニル］ボレート、トリス（ｐ−シアノフェニ
ル）スルホキソニウムテトラキス［３，５−ビス（トリ
フルオロメチル）フェニル］ボレートなど。

【０１９６】また、下記化学式で示される各オニウムボ
レート錯体も、好ましい例としてあげられる。

【０１９７】

【化１３】

【０１９８】

【化１４】

【０１９９】本発明の感エネルギー線酸発生剤（Ａ）で
あるオニウムボレート錯体は、エネルギー線、特に光の
照射によって、容易に分解して、強い酸を発生するとい
う特徴を有する。ここで発生する酸は、従来知られてい
たＢＦ₄ ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＡｓＦ₆ ^- 、ＳｂＦ₆ ^- といっ
たアニオンをもつオニウム塩よりも、強い酸であると考
えられる。

【０２００】また、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）であるオニウムボレート錯体は、高い電子受容性
を有し、エネルギー線の照射による分解を受けやすいと
いった特徴がある。これらオニウムボレート錯体の電子
受容性は、ポーラログラフィーもしくは、サイクリック
ボルタンメトリー等の電気化学的測定法で求められる還
元電位で説明できる。なお、本明細書中で述べているオ
ニウムボレート錯体の還元電位は、ジャーナル・オブ・
ポリマー・サイエンス・パートＡ・ポリマー・ケミスト
リー（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ａ，Ｐｏｌｙｍ．Ｃ
ｈｅｍ．）、第２８巻、３１３７頁（１９９０年）や、
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ
ー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、第１０６巻、４
１２１頁（１９８４年）記載の方法で、容易に測定が可
能である。

【０２０１】さらに、本発明の感エネルギー線酸発生剤
（Ａ）は、従来知られていたＢＦ₄ ^- 、ＰＦ₆ ^- 、Ａｓ
Ｆ₆ ^- 、ＳｂＦ₆ ^- といったアニオンをもつオニウム塩
よりも、種々の有機溶媒やポリマー、オリゴマーに対す
る相溶性、溶解性が極めて高いことがあげられる。

【０２０２】次に、本発明で使用される酸増殖剤（Ｂ）
について説明する。本発明で用いられる酸増殖剤（Ｂ）
は、比較的強い酸の残基で置換された化合物であって、
比較的容易に脱離反応を引き起こして酸を発生する化合
物である。したがって、酸触媒反応によって、この脱離
反応を大幅に活性化することができ、酸の不在下では安
定であるが、酸の存在下では容易に熱化学反応によって
酸を生成させることが可能となる。このような性質を持
つ酸増殖剤（Ｂ）を、本発明で使用の感エネルギー線酸
発生剤（Ａ）と組み合わせることによって、飛躍的に活
性線に対する感応性が向上された感活性線酸発生剤組成
物を構築することができる。

【０２０３】本発明の酸増殖剤（Ｂ）は、酸触媒反応に
よって分解して再び酸（以下の一般式（１４）ないし一
般式（１７）でＺ’ＯＨで表される）を発生する。１回
の反応で１つ以上の酸が増えるため、反応の進行に伴っ
て加速的に反応が進むが、発生した酸自体が自己分解を
誘起するため、ここで発生する酸の強度は、酸解離定
数、ｐＫａとして３以下であり、特に２以下であればさ
らに望ましい。これより弱い酸であれば、自己分解を引
き起こすことが難しい。このような酸としてはジクロロ
酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、トリフェニルホスホン酸な
どをあげることができる。具体的には以下の化合物を例
示することができる。 第一に、一般式（１４）で表さ
れる有機酸エステル化合物を挙げることができる。

【０２０４】一般式（１４）

【０２０５】

【化１５】

【０２０６】（式中、Ａ¹ は炭素原子数１〜６までのア
ルキル基または芳香環炭素原子数６〜２０のアリール基
を示し、Ａ² は炭素原子数１〜６までのアルキル基を示
し、Ａ ³ はビス（ｐ−アルコキシフェニル）メチル基、
２−アルキル−２−プロピル基、２−アリール−２−プ
ロピル基、シクロヘキシル基またはテトラヒドロピラニ
ル基から選択される基を示し、Ｚ’は酸解離定数（ｐＫ
ａ）が３以下であるＺ’ＯＨで示される酸の残基を示
す。） この化合物に酸が作用すると、エステル基が分解してカ
ルボン酸となり、これがさらに脱カルボン酸を起こして
から（Ｚ’ＯＨ）が容易に脱離する。具体的な例を以下
に示す。

【０２０７】

【化１６】

【０２０８】第二に、一般式（１５）で表されるアセタ
ールまたはケタール基を持つ有機酸エステルを挙げるこ
とができる。

【０２０９】一般式（１５）

【０２１０】

【化１７】

【０２１１】（式中、Ｚ’は前記と同じ意味を持ち、Ｂ
¹ は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基または芳
香環炭素原子数６〜２０のアリール基であり、Ｂ² 、Ｂ
³ はメチルあるいはエチル基または両者でエチレンまた
はプロピレン基を形成し、Ｂ⁴は水素原子またはメチル
基を示す。） この化合物は酸の作用でアセタールあるいはケタールが
分解してβ−アルデヒドあるいはケトンとなり、これか
らＺ’ＯＨが容易に脱離する。具体的な例を以下に示
す。

【０２１２】

【化１８】

【０２１３】第三に、一般式（１６）で表される有機酸
エステルを挙げることができる。

【０２１４】一般式（１６）

【０２１５】

【化１９】

【０２１６】（式中、Ｚ’は前記と同じ意味を持ち、Ｄ
¹ 、Ｄ² は水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基ま
たは芳香環炭素原子数６〜２０のアリール基を示し、Ｄ
² 、Ｄ ³ は炭素原子数１〜６のアルキル基または双方で
脂環状構造を形成するアルキレンあるいは置換アルキレ
ン残基を示す。） この化合物は、酸触媒によって水酸基が脱離してカルボ
カチオンを形成し、水素移動してからＺ’ＯＨが発生す
るものと推定される。具体的な例を以下に示す。

【０２１７】

【化２０】

【０２１８】第四に、一般式（１７）で表されるエポキ
シ基を有する有機酸エステルを挙げることができる。

【０２１９】一般式（１７）

【０２２０】

【化２１】

【０２２１】（式中、Ｚ’は前記と同じ意味を持ち、Ｅ
は炭素原子数１〜６までのアルキル基またはフェニル基
を示す。） この化合物に酸が作用すると、エポキシ環の開環の生成
に伴ってβ−炭素にカチオンが形成され、水素移動の結
果として有機酸が発生するものと推定される。具体的な
例を以下に示す。

【０２２２】

【化２２】

【０２２３】これらの化合物は酸が作用しない限り室温
で安定に存在する。これらの化合物の酸触媒分解が引き
起こされるためには一定以上の酸強度が必要とされる
が、酸解離定数ｐＫａで約３以下であることが望まし
い。これ以上の酸解離定数、すなわち、これ以上に弱い
酸であれば、酸増殖剤の反応を引き起こすことができな
い。

【０２２４】次に、本発明における感エネルギー線酸発
生剤（Ａ）は、以下に示す増感剤（Ｃ）と組み合わせる
ことによって、エネルギー線に対する活性をさらに高
め、あるいはその感光波長領域を長波長化せしめること
が可能となる。ここでいう増感剤（Ｃ）とは、エネルギ
ー線の作用によって、感エネルギー線酸発生剤（Ａ）と
の間でエネルギーもしくは電子の授受をし、該感エネル
ギー線酸発生剤（Ａ）の分解を促進をするものである。

【０２２５】このような増感剤（Ｃ）の具体例として
は、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナン
トレン誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペリ
レン誘導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘導
体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、カル
コン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和
ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される
１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレ
ン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導
体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサン
トン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、
ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘
導体、オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリ
ジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジ
ン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレ
ニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘
導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリー
ルメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テ
トラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘
導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキ
サリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導
体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チ
オピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン
誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導
体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機
ルテニウム錯体等があげられ、その他さらに具体的には
大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講
談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８
１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、「特殊機能材
料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の色素および
増感剤があげられるがこれらに限定されるものではな
く、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸
収を示す色素や増感剤があげられ、これらは必要に応じ
て任意の比率で二種以上用いてもかまわない。

【０２２６】これら、増感剤（Ｃ）の好ましいものとし
ては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナ
ントレン誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペ
リレン誘導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘
導体およびアクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体
があげられ、中でも特に好ましいものとして、アントラ
セン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導
体があげられる。

【０２２７】これらの具体例としては、アントラセン、
１−アントラセンカルボン酸、２−アントラセンカルボ
ン酸、９−アントラセンカルボン酸、９−アントラアル
デヒド、９，１０−ビス（クロロメチル）アントラセ
ン、９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラセ
ン、９−ブロモアントラセン、１−クロロ−９，１０−
ビス（フェニルエチニル）アントラセン、９−クロロメ
チルアントラセン、９−シアノアントラセン、９，１０
−ジブロモアントラセン、９，１０−ジクロロアントラ
セン、９，１０−ジシアノアントラセン、９，１０−ジ
メチルアントラセン、９，１０−ジブチルアントラセ
ン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９，１０−ジ
−ｐ−トリルアントラセン、９，１０−ビス（ｐ−メト
キシフェニル）アントラセン、２−ヒドロキシメチルア
ントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、９−
メチルアントラセン、９−フェニルアントラセン、９，
１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシ
アントラセン、９，１０−ジフェノキシアントラセン、
９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホン酸ナ
トリウム、１，４，９，１０−テトラヒドロキシアント
ラセン、２，２，２−トリフルオロー１−（９−アンス
リル）エタノール、１，８，９−トリヒドロキシアント
ラセン、１，８−ジメトキシ−９，１０−ビス（フェニ
ルエチニル）アントラセン、さらには、特開平３−２３
７１０６号公報記載の９−ビニルアントラセン、９−ア
ントラセンメタノール、９−アントラセンメタノールの
トリメチルシロキシエーテル等のアントラセン誘導体、
アクリジンオレンジ、ベンゾフラビン、アクリジンイエ
ロー、ホスフィンＲ等のアクリジン誘導体、セトフラビ
ンＴ等のベンゾチアゾール誘導体があげられる。

【０２２８】つぎに、本発明で使用される酸硬化性化合
物（Ｄ）について説明する。ここで、酸硬化性化合物
（Ｄ）とは、本明細書中における感活性線酸発生剤組成
物との共存下、活性線の作用によって、重合もしくは架
橋反応によって高分子量物質に変換可能な化合物を意味
し、以下に示す化合物またはそれらの混合物がこれに含
まれる。

【０２２９】まず、酸触媒のもとで、あるいは加熱との
併用で、架橋または重合反応により高分子量化する化合
物が酸硬化性化合物（Ｄ）としてあげられる。典型的な
例として、ホルムアルデヒドプレカーサーとしてのメチ
ロール基、あるいは置換されたメチロール基を有する化
合物として、下記一般式（１８）で表される構造の化合
物があげられる。 一般式（１８） （ＱＯＣＨ₂ ）_r −Ａ−（ＣＨ₂ ＯＱ’）_s 〔上記一般式（１８）中、Ａは、ＧまたはＧ−Ｈ−Ｇで
示される基であり、Ｇは置換もしくは非置換の単核もし
くは縮合多核芳香族炭化水素基、または酸素、硫黄、窒
素含有の複素環基を意味する。Ｈは単結合、または炭素
数１〜４の置換基を有してもよいアルキレン基、置換を
有しても良いアリーレン基、アリールアルキレン基、も
しくは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＯ−、−ＣＯ
Ｏ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、及びこれらの結合
を一部に有するような置換基を有しても良いアルキレン
基を意味する。またＺ’はフェノール樹脂のような重合
体であってもよい〕 Ｑ、及びＱ’は、互いに独立して、水素、炭素数１〜４
のアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有しても良
いアリール基、アリールアルキル基、またはアシル基を
意味する。ｒは１〜３の整数、ｓは０〜３の整数であ
る。

【０２３０】ここで、一般式（１８）のＧないしＨで表
される、置換もしくは非置換の単核もしくは縮合多核芳
香族炭化水素基としては、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェ
ニレン基、ｐ−フェニレン基、４−メチル−１，２−フ
ェニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン基、４−
ヒドロキシ−１，２−フェニレン基、２−メチル−１，
４−フェニレン基、ｐ，ｐ’−ビフェニリレン基、１，
２−ナフチレン基、９，１０−アンスリレン基、２，７
−フェナンスリレン基等が、酸素、硫黄、窒素含有の複
素環基としては、２，５−フリレン基、２，５−チエニ
レン基、２，４−オキサゾリレン基、２，４−チアゾリ
レン基、２，５−ベンゾフリレン基、２，５−ベンゾチ
エニレン基、２，６−ピリジレン基、５，８−キノリレ
ン基等が、炭素数１〜４の置換基を有してもよいアルキ
レン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレ
ン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルメチレ
ン基、クロロメチレン基、ジメチルメチレン基、ビス
（トリフルオロメチル）メチレン基等が、置換基を有し
ても良いアリーレン基としては、ｏ−フェニレン基、ｍ
−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、４−メチル−１，
２−フェニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン
基、４−ヒドロキシ−１，２−フェニレン基、２−メチ
ル−１，４−フェニレン基、ｐ，ｐ’−ビフェニリレン
基、１，２−ナフチレン基、９，１０−アンスリレン
基、２，７−フェナンスリレン基等が、アリールアルキ
レン基としては、ベンジリデン基、ｐ−トリルメチレン
基、２−ナフチルメチレン基等が、さらに、もしくは−
Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−結合を一部に有するような置
換基を有しても良いアルキレン基としては、メチレンジ
オキシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ
基、ジエチレンジオキシ基、トリエチレンジオキシ基、
メチレンジチオ基、エチレンジチオ基、プロピレンジチ
オ基、ジエチレンジチオ基、トリエチレンジチオ基、メ
チレンジスルホニル基、エチレンジスルホニル基、マロ
ニル基、スクシニル基、グルタリル基、アジポイル基、
−ＯＯＣ−ＣＨ₂ −ＣＯＯ−基、−ＯＯＣ−（ＣＨ₂ ）
₂ −ＣＯＯ−基、−ＣＨ₂ −ＯＣＯＯ−ＣＨ ₂ −基、−
ＣＨ₂ −（ＯＣＯＯ−ＣＨ₂ ）₂ −基等があげられる。

【０２３１】また、一般式（１８）のＱおよびＱ’で表
される炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等
が、シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等が、置換基を有しても良いアリール基
としては、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ビフ
ェニリル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリ
ル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、ｐ−
フルオロフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−ジメ
チルアミノフェニル基、ｐ−フェニルチオフェニル基等
が、アリールアルキル基としては、ベンジル基、２−ナ
フチルメチル基、９−アンスリルメチル基、フェニチル
基、スチリル基、シンナミル基等が、アシル基として
は、アセチル基、ヘキサノイル基、ベンゾイル基、シク
ロヘキサノイル基、メトキサリル基、サリチロイル基等
があげられる。

【０２３２】このような酸硬化性化合物（Ｄ）の具体例
としては、様々なアミノプラスト類またはフェノプラス
ト類、即ち尿素−ホルムアルデヒド、メラミン−ホルム
アルデヒド、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド、グ
リコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂やそれらの単量
体、もしくはオリゴマーがある。これらは、塗料用のベ
ヒクル等の用途に多くのものが市販されている。例え
ば、アメリカンサイアナミッド社が製造するＣｙｍｅｌ
（登録商標）３００、３０１、３０３、３５０、３７
０、３８０、１１１６、１１３０、１１２３、１１２
５、１１７０等、あるいは三和ケミカル社製ニカラック
（登録商標）Ｍｗ３０、Ｍｗ ３０Ｍ、Ｍｗ３０ＨＭ、
Ｍｘ４５、Ｂｘ４０００等のシリーズをその典型例とし
てあげることができる。これらは１種類でも２種以上を
組み合わせて用いてもよい。

【０２３３】また、別の酸硬化性化合物（Ｄ）の具体例
としては、ホルムアルデヒドプレカーサーとなり得るよ
うなメチロール化またはアルコキシジメチル化されたフ
エノール誘導体がある。これらは単量体として用いて
も、レゾール樹脂、ベンジルエーテル樹脂のように樹脂
化されたものを用いてもよい。

【０２３４】さらに、酸硬化性化合物（Ｄ）の別な系統
として、シラノール基を有する化合物、例えば特開平２
−１５４２６６号、特開平２−１７３６４７号に開示さ
れている化合物をあげることができる。

【０２３５】また、ポリエンとポリチオールの混合物、
例えばポリエンとして、ジアリルフタレート、ジアリル
イソフタレート、ジアリルマレエート、ジアリルカーボ
ネート、トリアリルイソシアヌレート、ポリイソシアネ
ートとアリルアルコールから製造されるウレタン系ポリ
エン（例えばヘキサメチレンジイソシアネートとアリル
アルコールの重縮合反応によって得られるウレタン化合
物など）などから選択される化合物と、例えばポリチオ
ールとして、トリメチロールプロパントリチオールグリ
コレート、ペンタエリスリトール−テトラ−３−メルカ
プトプロピオネートなどから選択される化合物との混合
物も、酸硬化性化合物（Ｄ）として例示することができ
る。

【０２３６】また、以下に示すアルコキシシラン類も酸
硬化性化合物（Ｄ）としてあげることができる。具体例
としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン等のテトラアルコキシシラン類や、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等のア
ルコキシシリル基を有する化合物、さらに詳しくは、東
レ・ダウコーニング社製品カタログ、５９頁もしくは、
信越シリコーンシランカップリング剤製品カタログ（昭
和６２年９月発行）記載の「シランカップリング剤」、
あるいは東レ・ダウコーニング社製品カタログ、６１頁
もしくは、東芝シリコーン社総合カタログ、２７頁（１
９８６年４月発行）記載の「シラン化合物」として業界
で知られるアルコキシシリル基を有する化合物が、アル
コキシシラン類としてあげることができる。

【０２３７】さらに、酸硬化性化合物（Ｄ）として、カ
チオン重合可能な化合物あるいはその混合物をあげるこ
とができる。ここでいうカチオン重合可能な化合物と
は、例えば、エポキシ化合物、スチレン類、ビニル化合
物、ビニルエーテル類、スピロオルソエステル類、ビシ
クロオルソエステル類、スピロオルソカーボナート類、
環状エーテル類、ラクトン類、オキサゾリン類、アジリ
ジン類、シクロシロキサン類、ケタール類、環状酸無水
物類、ラクタム類およびアリールジアルデヒド類などが
あげられる。

【０２３８】まず、エポキシ化合物としては、従来、公
知の芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂
肪族エポキシ化合物、更にはエポキシド単量体、エピサ
ルファイト単量体類があげられる。芳香族エポキシ化合
物の例としては、フェニルグリシジルエーテルなどの単
官能エポキシ化合物や、少なくとも１個の芳香族核を有
する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付
加体のポリグリシジルエーテルであって、例えばビスフ
ェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物
またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
（例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等）付加体とエピクロルヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類（例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂等）、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテ
ル等があげられる。

【０２３９】脂環式エポキシ化合物としては、４−ビニ
ルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノ
エポキサイド、リモネンモノエポキサイド、３，４−エ
ポキシシクロヘキシシルメチル−３，４−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチル）アジペート、２−（３，４−
エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エ
ポキシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−
３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、２，２−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキ
シ）シクロヘキシル］ヘキサフルオロプロパン、ＢＨＰ
Ｅ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製、脂環式エポ
キシ樹脂（軟化点７１℃）等があげられる。

【０２４０】脂肪族エポキシ化合物としては、例えば
１，４−ブタンジオールジクリシジルエーテル、１，６
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレング
リコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモ
ノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエ
ーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグルコールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグルコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジ
グリシジルエーテル、グルセロールトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、２−エ
チルヘキシルグリシジルエーテル等があげられる。

【０２４１】スチレン類としては、スチレン、α−メチ
ルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルス
チレン等があげられる。ビニル化合物としては、Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどがあげら
れる。

【０２４２】ビニルエーテル類としては、例えばｎ−
（またはｉｓｏ−、ｔ−）ブチルビニルエーテル、シク
ロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエ
ーテル、１，４ブタンジオールジビニルエーテル、エチ
レングリゴールジビニルエーテル、エチレングリコール
モノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニル
エーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテ
ル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルグリコール、ネオペンチルグリコールモノ
ビニルグリコール、グリセロールジビニルエーテル、グ
リセロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパ
ンモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテ
ル、ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトール
テトラビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジ
ビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ド
デシルビニルエーテル２，２−ビス（４−シクロヘキサ
ノール）プロパンジビニルエーテル、２，２−ビス（４
−シクロヘキサノール）トリフルオロプロパンジビニル
エーテルなどのアルキルビニルエーテル類、アリルビニ
ルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル類、エチニ
ルビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニル
エーテルなどのアルキニルビニルエーテル類、４−ビニ
ルエーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテ
ル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビ
ニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、テ
トラブロモビスフェノールＡジビニルエーテル、ビスフ
ェノールＦジビニルエーテル、フェノキシエチレンビニ
ルエーテル、ｐ−ブロモフェノキシエチレンビニルエー
テルなどのアリールビニルエーテル類、１，４−ベンゼ
ンジメタノールジビニルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェ
ニルジエタノールアミンジビニルエーテル、ｍ−フェニ
レンビス（エチレングリコール）ジビニルエーテル等の
アラルキルジビニルエ一テル類、ウレタンポリビニルエ
ーテル（例えば、ＡＬＬＩＥＤ−ＳＩＧＮＡＬ社製、Ｖ
ＥＣｔｏｍｅｒ２０１０）等をあげることができる。

【０２４３】スピロオルソエステル類としては、１，
４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、
１，４，６−トリオキサスピロ（４，５）デカンなど
が、ビシクロオルソエステル類としては、１−フェニル
−４−エチル−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，
２，２）オクタン、１−エチル−４−ヒドロキシメチル
−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，２，２）オク
タンなどが、スピロオルソカーボナート類としては、
１，５，７，１１−テトラオキサスピロ（５，５）ウン
デカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１１−テト
ラオキサスピロ（５、５）ウンデカンなどのような環状
エ一テル類があげられる。

【０２４４】環状エーテル類としては、オキセタン、フ
ェニルオキセタンなどのオキセタン類、テトラヒドロフ
ラン、２−メチルテトラヒドロフランなどのテトラヒド
ロフラン類、テトラヒドロピラン、３−プロピルテトラ
ヒドロピランなどのテトラヒドロピラン類およびトリメ
チレンオキサイド、ｓ−トリオキサンなどがあげられ
る。ラクトン類としては、β−プロピオラクトン、γ−
ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バレロラク
トンなどがあげられる。オキサゾリン類としては、オキ
サゾリン、２−フェニルオキサゾリン、２−デシルオキ
サゾリンなどがあげられる。

【０２４５】アジリジン類としては、アジリジン、Ｎ−
エチルアジリジンなどがあげられる。シクロシロキサン
類としては、ヘキサメチルトリシロキサン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、トリフェニルトリメチルシ
クロトリシロキサンなどがあげられる。ケタール類とし
ては、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、
２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン、２−フェニル
−１，３−ジオキサン、２，２−ジオクチル−１，３−
ジオキソランなどがあげられる。環状酸無水物類として
は、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸など
が、ラクタム類としてはβ−プロピオラクタム、γ−ブ
チロラクタム、δ−カプロラクタムなどがあげられる。
またアリールジアルデヒド類としては１，２−ベンゼン
ジカルボキシアルデヒド、１，２−ナフタレンジアルデ
ヒドなどがあげられる。

【０２４６】以上の様な本発明の硬化型の感応性組成物
は、液状性または流動性であればそのままの形態で粘着
剤、接着剤、封止剤、塗料、表面コート剤、光造形樹
脂、光形成シートなどに、また染・顔料などを添加する
ことによりプルーフ材料、印刷インキ、インキジェット
などに、水酸化アパタイトなどのフィラーを添加するこ
とにより歯科用レジンなどに使用することができる。

【０２４７】顔料としては、無機顔料および有機顔料の
どちらもを使用することができる。無機顔料としてはカ
ーボンブラック、酸化チタンなど、有機顔料としては、
例えば、アゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、
ペリレン系、ペリノン系、イソインドリノン系、キノフ
タロン系、ジオキサジン系、アントラキノン系、インジ
ゴ系、メチン系など従来より使用されているものが使用
可能である。これらの顔料は、色相を最適化するため
に、複数組み合わせて使用することも可能である。特
に、液晶用カラーフィルターを製造する際に使用される
顔料分散レジストを、この様な硬化型の感応性組成物を
用いて製造するに当たっては、分散後の該顔料の最大粒
径が０．８μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下の
大きさまでに分散されることが望まれる。

【０２４８】また各種高分子重合体をバインダーとして
使用し、溶剤に混合溶解し、ガラス板、アルミニウム
板、金属板、ポリマーフィルム（板）に塗布して各種感
材として使用することも可能である。本発明の感応性組
成物と混合して使用可能なバインダーとしては、ポリア
クリレート類、ポリ−α−アルキルアクリレート類、ポ
リアミド類、ポリビニルアセタール類、ポリホルムアル
デヒド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリ
スチレン類、ポリビニルエステル類等の重合体、共重合
体があげられ、さらに具体的には、ポリメタクリレー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレ
ート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、ノ
ボラック樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アルキ
ッド樹脂その他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際
技術」、（シーエムシー、１９８７年）や「１０１８８
の化学商品」、６５７〜７６７頁（化学工業日報社、１
９８８年）記載の業界公知の有機高分子重合体があげら
れる。これら、高分子重合体に、例えばアルカリ現像性
などの機能が付与されている場合には、アルカリ現像型
の各種感光性樹脂、例えば、感光性印刷版、フォトレジ
ストなどに応用が可能となる。

【０２４９】以上の様な硬化型の感応性組成物におけ
る、各成分配合比に特別な限定はないが、酸硬化性化合
物（Ｄ）１００重量部に対して、感エネルギー線酸発生
剤（Ａ）を０．０１〜３０重量部、好ましくは０．１〜
２０重量部、酸増殖剤（Ｂ）を０．０１〜３０重量部、
好ましくは０．１〜２０重量部、増感剤（Ｃ）を添加す
るに当たっては、０．０１〜３０重量部、好ましくは
０．１〜２０重量部の範囲で使用することが望ましい。

【０２５０】次に、本発明で使用の、酸を触媒とする反
応により現像液に対する親和性あるいは溶解性が増加す
る性質を有する化合物（Ｅ）について説明する。本明細
書で言う、酸を触媒とする反応により現像液に対する親
和性あるいは溶解性が増加する性質を有する化合物
（Ｅ）とは、例えば、カルボン酸のエステル、炭酸のエ
ステル、アルコキシシラン等があげられ、これらはいず
れも、そのエステル結合や、シロキシ結合が、酸を触媒
とする反応により、カルボキシル基や水酸基、シラノー
ル基へと変化し、いずれも、アルカリ溶液等の現像液に
対する親和性あるいは溶解性が増加する化合物を指す。
また、「化学増幅型レジスト」として、業界公知のもの
も、これに含まれる。

【０２５１】したがって、酸を触媒とする反応により現
像液に対する親和性あるいは溶解性が増加する性質を有
する化合物（Ｅ）の具体例としては、ポリ（ｐ−ｔ−プ
トキシカルボニルオキシスチレン〔Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎ
ｇ．Ｓｃｉ．，第２３巻，１０１２頁（１９８３
年）〕、ポリ（ｐ−ビニル安息香酸エステル）類、ポリ
メタクリル酸エステル類〔Ｐｒｏｃ．ｏｆ ＳＰＩＥ，
第７７１巻，２４頁（１９８７年）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，第２１巻，１４７５頁（１９８８
年）〕、メタクリル酸α，α’−ジメチルベンジルとα
−メチルスチレンの共重合体〔ＡＣＳ，５７頁（１９８
９年）〕、ｔ−ブトキシカルボニルマレイミドースチレ
ン共重合体、ｔ−プトキシカルポニルフェニルマレイミ
ド−スチレン共重合体〔Ｐｒｏｃ．ＳＰＩＥ，第６３１
巻，６８頁（１９８１年）〕、ポリ（Ｐ−ヒドロキシス
チレン）などのアルカリ可溶性フェノール樹脂をトリア
ルキルシリル基、テトラヒドロピラニル基、フラニル基
等で保護した高分子化合物〔Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎｇ．Ｓｃ
ｉ．，第２９巻、８５６頁（１９８９年）、ＡＣＳ Ｄ
ｉｖｉｓｉｏｎ ＰＭＳＥ，第６１巻，４１７頁（１９
８９年）〕、ポリ（α−アセトキシスチレン）〔Ｊ．Ｐ
ｈｏｔｏｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，第３
巻，３３５頁（１９９０年）〕、ポリ（４−メチレン−
４Ｈ−１，３−ベンゾジオキシ−２−オン）〔Ｍａｃｒ
ｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，第２３巻，２８８５頁（１９９
０年）〕等の高分子化合物、ポリフタルアルデヒド〔Ａ
ＣＳ，１１頁（１９８４年）〕、ポリ（４−クロルフタ
ルアルデヒド）〔Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，第１３６巻，２４１頁（１９８９年）〕、ポリカ
ーボネート〔ＡＣＳ，１００頁（１９８９年）〕、ポリ
（４−トリメチルシリルフタルアルデヒド）〔Ｊ．Ｅｌ
ｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，第１３６巻，２４５頁
（１９８８年）〕等の酸により解重合を起こす高分子化
合物を挙げることができる。

【０２５２】これらの高分子化合物は単独で使用するこ
とができるが、他のアルカリ可溶性樹脂、例えばフェノ
ール性ノボラック樹脂と混合して使用することもでき
る。この場合、例示した高分子化合物類は、アルカリ可
溶性樹脂のアルカリヘの溶解抑制剤として作用する。ま
た、本発明では、芳香族化合物類のｔ−ブチルエステ
ル、ｔ−ブチルカーボネート、ｔ−ブチルエーテル類
〔Ｐｒｏｃ．ＳＰＩＥ，９２０，ｐ６０（１９８８
年）、Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，第２９巻，８４
６頁（１９８９年）〕、テトラヒドロピラニル基で保護
したポリヒドロキシ化合物類〔特開平１−６７５００
号〕、その他アセタール化合物類〔Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎ
ｇ．Ｓｃｉ．，第２９巻，８７４頁（１９８９年）〕等
の低分子の溶解性抑制剤も使用することができる。

【０２５３】この様な高分子化合物には特に制限はない
が、化合物の分子量が５０より低いと膜形成性が悪くな
り、また５００，００より高いと塗布溶媒に対する溶解
性が悪くなる傾向があるため、分子量の範囲としては、
重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィーのポリスチレン換算値における）で２，０００〜２
００，０００の範囲の高分子化合物が好適に用いられ
る。該高分子化合物は、全感応性組成物（塗布溶媒は含
まず）の重量を基準として、５〜９８重量％、好ましく
は１０〜９５重量％の量で使用される。これら例示した
化合物は、アルカリ可溶性樹脂と併用することにより本
発明の効果はさらに顕著になる。本発明に用いることの
できるアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂、
アセトン−ピロガロール樹脂やポリヒドロキシスチレン
及びその誘導体を挙げることができる。これらの中で、
特にノボラック樹脂が好ましく、所定のモノマーを主成
分として、酸性触媒の存在下、アルデヒド類と付加縮合
させることにより得られる。

【０２５４】ここでいう所定のモノマーとしては、フェ
ノール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−クレゾ
ール等のクレゾール類、２，５−キシレノール、３，５
−キシレノール、３，４−キシレノール、２，３−キシ
レノール等のキシレノール類、ｍ−エチルフェノール、
ｐ−エチルフェノール、ｏ−エチルフェノール、ｐ−ｔ
−ブチルフェノール等のアルキルフェノール類、ｐ−メ
トキシフェノール、ｍ−メトキシフエノール、３，５−
ジメトキシフェノール、２−メトキシ−４−メチルフェ
ノール、ｍ−エトキシフェノール、ｐ−エトキシフェノ
ール、ｍ−プロポキシフェノール、ｍ−プトキシフェノ
ール等のアルコキシフェノール類、２−メチル−４−イ
ソプロピルフェノール等のビスアルキルフェノール類、
ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−ク
ロロフェノール、ジヒドロキシビフェニル、ビスフェノ
ールＡ、フェニルフェノール、レゾルシノール、ナフト
ール等のヒドロキシ芳香族化合物を単独もしくは２種以
上混合して使用することができるが、これらに限定され
るものではない。アルデヒド類としては、例えばホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピルアルデヒド、ベンズアルデヒド、フェニル
アセトアルデヒド、α−フェニルプロピルアルデヒド、
β−フェニルプロピルアルデヒド、ｏ−ヒドロキシベン
ズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−
ヒドロキシベンズアルデヒド、ｏ−クロロベンズアルデ
ヒド、ｍ−クロロベンズアルデヒド、ｐ−クロロベンズ
アルデヒド、ｏ−ニトロベンズアルデヒド、ｍ−ニトロ
ベンズアルデヒド、ｐ−ニトロベンズアルデヒド、ｏ−
メチルベンズアルデヒド、ｍ−メチルベンズアルデヒ
ド、ｐ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−エチルベンズア
ルデヒド、ｐ−ｎ−ブチルベンズアルデヒド、フルフラ
ール、クロロアセトアルデヒド及びこれちのアセタール
体、例えばクロロアセトアルデヒドジエチルアセタール
等を使用することができるが、これらの中で、ホルムア
ルデヒドを使用するのが好ましい。これらのアルデヒド
類は、単独でもしくは２種以上組合わせて用いられる。
酸性触媒としては塩酸、硫酸、ギ酸、酢酸及びシュウ酸
等を使用することができる。こうして得られたノボラッ
ク樹脂の重量平均分子量は、２，０００〜３０，０００
の範囲であることが好ましい。２，０００未満では未露
光部の現像後の膜減りが大きく、３０，０００を越える
と現像速度が小さくなってしまう。特に好適なのは６，
０００〜２０，０００の範囲である。これらのアルカリ
可溶性樹脂の含有量は、感応性組成物の全重量（塗布溶
媒は含まず）を基準として０〜８０重量％、好ましくは
２０〜６０重量％が適当である。また、感エネルギー線
酸発生剤（Ａ）は０．０１〜３０重量％、好ましくは
０．１〜２０重量％、酸増殖剤（Ｂ）は０．０１〜３０
重量％、好ましくは０．１〜２０重量％、増感剤（Ｃ）
は０．０１〜３０重量％、好ましくは０．１〜２０重量
％の範囲で使用することが望ましい。

【０２５５】この様なポジ型の感応性組成物には、着色
などの目的で、必要に応じて更に染料などを含有させる
ことができる。好適な染料としては油溶性染料及び塩基
性染料がある。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルプラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業株式
会社製）、クリスタルバイオレット（ＣＩ−４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ−４２５３５）、ロー
ダミンＢ（ＣＩ−４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン
（ＣＩ−４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ−５２０
１５）などを挙げることができる。

【０２５６】以上の様な、本発明の硬化型およびポジ型
感応性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かして
支持体上に塗布して用いることができる。ここで使用す
る溶媒としては、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、γ−プチロラクトン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルア
セテート、エチレングリコールモノエチルエ一テルアセ
テート、プロピレングリコールモノメチルエ一テル、ト
ルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ
一ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ一ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシドなどが好ましく、これらの溶
媒を単独あるいは混合して使用する。

【０２５７】またさらに、上記溶媒に界面活性剤、ハレ
ーション防止剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤な
どの添加剤を適宜混合して使用することも可能である。

【０２５８】したがって、上記の様な硬化型あるいはポ
ジ型の感応性組成物を用いて画像形成を行うに当たって
は、精密集積回路素子の製造に使用されるような基板
（例：シリコン／二酸化シリコン被覆）、プリント回路
用に使用されるような基板（例：銅張り積層板）、カラ
ーフィルターに用いられるようなガラス板（またはプラ
スチック板）、あるいは平版印刷版に使用されるような
基板（例：陽極酸化されたＡｌ板）上に、スピナー、コ
ーター等の適当な塗布方法により塗布した後、制御され
た条件のもとでプリベークし、所定のマスクを通して光
（あるいは電子線）照射したり、あるいはレーザー（あ
るいは電子線）による直接描画をした後、制御された条
件のもとで、照射領域を現像処理して選択的に除去する
ことにより、良好なパターン画像を形成することができ
る。エネルギー線源としては、低圧水銀灯、中圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カー
ボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タング
ステンランプ、エキシマーランプ、エキシマーレーザ、
窒素レーザ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウ
ムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレ
ーザ、各種半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、発光ダイオー
ド、ＣＲＴ光源、プラズマ光源等の各種光源に代表され
る光エネルギー源や、ＥＢ発生装置による電子線源があ
げられる。また、発生した酸を系中に拡散せしめる目的
のため、あるいは発生した酸による化学反応を促進せし
める目的のために、エネルギー線による照射を行った後
に、加熱することも可能である。加熱方法としては、加
熱オーブンの使用やサーマルヘッドなどの使用が可能で
ある。該方法により、いわゆる化学増幅が可能となる。
加熱温度は、酸発生剤の種類、使用する高分子化合物の
種類によって適宜選択することが望ましいが、一般的に
は４０℃〜１５０℃の範囲で行う。

【０２５９】また、本明細書で言う現像液とは、以下に
示す無機もしくは有機塩基の溶液があげられ、これは、
先に説明した、酸を触媒とする反応により現像液に対す
る親和性あるいは溶解性が増加する性質を有する化合物
（Ｅ）が、酸を触媒とする反応により、カルボキシル基
や水酸基、シラノール基等へと変化したものを、溶解さ
せるために用いられる。

【０２６０】したがって、それに相応しい現像液として
は、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミ
ン、ｎ−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルア
ミン、ジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエ
チルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、
ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等の
アルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第
四扱アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状ア
ミン類、等のアルカリ類の水溶液を使用することが望ま
しい。更に、上記アルカリ類の水溶液にアルコール類、
界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。

【０２６１】次に、本発明で使用の、発生した酸との反
応により発色する性質を有する色素前駆体（Ｆ）につい
て説明する。その様な化合物としては、既に公知の色素
前駆体、例えば、トリフェニルメタン系色素、トリメタ
ンフタリド系色素、フェノチアジン色素、フェノキサジ
ン色素、フルオラン色素、インドリルフタリド色素、ア
ザフタリド色素、ジフェニルメタン系色素、クロメノピ
ラゾール系色素、ロイコオーラミン色素、ローダミンラ
クタム系色素、アゾメチン系色素およびロイコキサンテ
ン系色素など挙げられる。

【０２６２】これら色素前駆体（Ｆ）の具体的な例は、
特開昭５９−１９０８９１号、特開昭６０−２０２１５
５号、特開昭６２−１６７０８６号、特開昭６１−５１
３８１号、特開昭６０−１８４８７８号、特開昭５０−
１９５１７３号、特開昭６２−２７１７１号、特開昭６
２−１０６９６４号、特開昭６２−４７５２号、特開昭
６１−２３０９８１号、特開昭６１−１０１５５６号、
特開昭６２−８４１５７号、特開昭５６−５２７５９
号、特開昭６０−１９６１７７号、特開昭５８−７４５
３号、特開昭５８−７６４５８号、特開昭５９−１３５
２５４号、特開昭５５−２６５号、特開昭５２−８２２
４３号、特開昭５７−１９５１５５号、特開昭６２−７
４９６１号、特開昭６３−２３６６７９号、特開昭号、
特開昭５８−２０９５８９号、特開昭６２−１７９９８
３号、特開昭６３−３１７５５８号、特開昭４９−１０
３７１０号、特開昭６３−２５１２７８号、特開昭６３
−２５１２７９号、特開昭６３−２５１２８０号、特開
昭５１−８０１２号、特開昭５８−１９２８８７号、特
開昭５８−１９２８８５号、特開昭６２−７７１３２
号、特開昭５４−１２６１１４号、特開昭６４−２５１
１４８号、特開昭４７−４６０１１０号、特開昭６１−
１９５１６４号、特開昭６１−２３０９８１号、特開昭
６３−２７０６６２号、特開昭５３−９０２５５号、特
開昭６３−１９９２６８号、特開昭５１−１２１０３５
号、特開昭５５−１１５４４８号、特開昭５８−１５７
７７９号、特開昭６１−８７７５８号、特開昭６２−２
４３６５２号、特開昭６１−１１３５８９号、特開昭６
２−１７６８８１号、特開昭６０−２３０８９０号、特
開昭４８−９５４２０号、特開昭５９−１６２０８６
号、特開昭６２−１９８４９５号、特開昭５９−１９９
７５７号、特開昭６４−５１９７８号、特開昭６２−１
２７３５３号、特開昭６２−２９２８５９号、特開昭５
０−１２４９３０号、特開昭５４−１１１５２８号、特
開昭４９−５９１２７号、特開昭５２−９２６１８号、
特開昭５０−１３７５４９号、特開昭５４−６１６３７
号、特開昭５９−２５３９３号、特開昭５３−９７５１
２号、特開昭６２−９４８４１号、特開昭６２−１９８
４９４号、特開昭６４−３１７６特公昭４６−１６０５
２号、特公昭５１−９２２０７号、特公昭４８−４３２
９６号、特公昭５１−２３２０４号、特公昭５２−１０
８７１号、特公昭５８−４０９９１号、特公昭５１−１
５４４５号、特公昭６０−２７６９２号、特公昭５４−
２６９２９号、特公昭５５−４９０８６号、特公昭５６
−１６２６９０号、特公昭４６−４６１４号、特公昭
号、４７−２０４７９特公昭４７−４２３６４号、特公
昭６０−１３４１号、特公昭５９−３０７４８号、特公
昭４７−１１７９号、特公昭４５−４６９８号、特公昭
４６−１６０５３号、特公昭４９−３０４７号、特公昭
４５−８５５７号、特公昭６１−１２９５２号、特公昭
５６−１２５１５号、特公昭６４−２５８９号、特公昭
４６−２２６４９号、特公昭５４−２５４４５号、特公
昭４７−１９７９９号、特公昭５１−２３２０２号、特
公昭５５−７４７３号、特公昭５６−１１５９６号、特
公昭５７−２４２３３号、特公昭６０−２５２７５号、
特公昭６０−２３９９１号、特公昭５１−９２２０７
号、特公昭４８−１８７２５号、特公昭６１−２５７４
５号、特公昭５１−１６８０７号、特公昭６３−４３３
９８号、特公昭４２−２５６５４号、特公昭５９−３２
７９号、特公昭６０−６７９４号、特公昭５０−１４５
３２号、特公昭３７−４０４１号、特公昭４６−１２２
４８号、特開平４−２２４９９０号、特開平４−２２５
９８２号、特開平４−１８０６０号、特開平２−２６７
８９号、特開平３−１４３６８０号、特開平３−２９４
２８０号、特開平２−５８５７４号、特開平３−１２７
７９４号、特開平１−１９０４８４号、特開平２−２６
７８３号、特開平４−２２３４６７号、特開平１−２１
３６３６号、特開平１−１６０９７９号、特開平１−２
６４８８９号、特開平２−１３５２６４号、特開平２−
３９９８７号、特開平２−２６７８２号、特公平４−６
００３５号、米国特許第４４４４５９１号、米国特許第
４５１５９７１号、米国特許第４３４１４０３号、米国
特許第３５６０２２９号、米国特許第４４３６９２０
号、米国特許第４３９０６１６号、米国特許第４７７５
６５６号、米国特許第３５１４３１０号、米国特許第２
４１７８９７号、米国特許第２５４８３６６号、米国特
許第２５０５４７２号、米国特許第４２２０３５６号、
米国特許第４０５７５６２号、米国特許第４３１６０３
６号、米国特許第４５０５０９３号、米国特許第４５６
２４４９号、米国特許第３８７３５７３号、米国特許第
４１１９７７７号、米国特許第４７９５７３６号、米国
特許第４７９４０６９号、米国特許第３７８７４１２
号、米国特許第４８２０８４１号、米国特許第４５９８
１５０号、米国特許第４４４６３２１号、英国特許第１
３３９３１６号、英国特許第１１６０９４０号、欧州特
許第４３３０２４等の公知文献にて開示されている材料
を用いることができる。具体的な化合物を以下に示す。

【０２６３】

【化２３】

【０２６４】

【化２４】

【０２６５】

【化２５】

【０２６６】

【化２６】

【０２６７】

【化２７】

【０２６８】

【化２８】

【０２６９】

【化２９】

【０２７０】

【化３０】

【０２７１】

【化３１】

【０２７２】

【化３２】

【０２７３】以上の様な、本発明の画像記録用組成物に
は、高分子バインダーをさらに添加して用いることが好
ましい。その様な高分子バインダーには特に制限はな
く、本発明で使用の感エネルギー線酸発生剤（Ａ）、酸
増殖剤（Ｂ）、色素前駆体（Ｆ）、あるいは増感剤
（Ｃ）との相溶性を有し、かつ適当な溶媒によって溶解
され塗布可能であり、また望ましくは熱可塑性の高分子
化合物であれば特に問題はないが、色素前駆体（Ｆ）の
発色を誘起しうるカルボキシル基、スルホン酸基、フェ
ノール性水酸基、シラノール基などの残基を有しない高
分子化合物が好ましい。これら官能基の最低含有量につ
いては、適宜選択することが望まれる。

【０２７４】具体的な高分子バインダーの例としては、
ポリスチレン、スチレン／アクリル酸エステル共重合
体、スチレン／メタクリル酸エステル共重合体、ポリア
クリル酸メチル、ポリアクリル酸エチルなどのポリアク
リル酸エステル類、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタ
クリル酸エチルなどのポリメタクリル酸エステル類、ポ
リ酢酸ビニル、エチレン／酢酸ビニル共重合体、ポリウ
レタン、ビスフェノールＡ（または、テトラブロモビス
フェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳな
ど）型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、セル
ロースアセテート、セルロースアセテートサクシネー
ト、メチルセルロース、エチルセルロースなどのセルロ
ース誘導体、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド
樹脂などを挙げることができる。

【０２７５】この様にして得られた画像記録用組成物
を、シート状基材の上に膜形成された画像記録媒体とす
るに当たっては、該組成物を溶媒に溶解して基材上に塗
布する方法をとることができる。ここで使用する溶媒と
しては、特に限定はないが、例えばＭＥＫ、ＭＩＢＫ、
シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのケトン系溶
媒、酢酸エチル、酢酸アミル（またはイソアミル）、酢
酸ブチルなどの酢酸エステル系溶媒、乳酸メチル、乳酸
エチルなどの乳酸エステル類、、１，１，２，２−テト
ラクロロエタン、エチレンジクロライドなどのハロゲン
系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチ
ルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ一テル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエ一テル
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエ一テル
などのグリコール誘導体系溶媒、トルエン、キシレンな
どの芳香族系溶媒、Ｎ，Ｎ一ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ一ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド
などが好ましく、これらの溶媒を単独あるいは混合して
使用する。また、一旦基材上に形成した画像記録媒体
を、熱転写方式などにより他の基材に転写して画像記録
媒体を作成する方法も選択できる。

【０２７６】またさらに、上記溶媒に界面活性剤、ハレ
ーション防止剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤な
どの添加剤を適宜混合して使用することも可能である。

【０２７７】以上の画像記録用組成物の配合比に特に制
限はないが、好ましくは、該組成物中、感エネルギー線
酸発生剤（Ａ）の含有率は０．１〜４０重量％の範囲、
酸増殖剤（Ｂ）の含有率は０．１〜４０重量％の範囲、
色素前駆体（Ｆ）の含有率は０．１〜４０重量％の範
囲、増感剤（Ｃ）の含有率は０．１〜４０重量％の範囲
で用いられる。また高分子バインダーを使用するに当た
っては、その含有率を１０〜９５重量％の範囲で配合す
ることができる。特に色素前駆体（Ｆ）の含有率は、最
大発色濃度が、光学濃度（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉ
ｔｙ）で少なくとも１．０以上、より好ましくは１．５
以上になるように調整することが望ましい。

【０２７８】この様にして調整した、本発明の画像記録
用組成物を含む溶液は、ロールコーター、スピンコータ
ー、グラビアコーター、バーコーターなどを用いてシー
ト状基材上に塗布され、これを乾燥することによって皮
膜を形成することができる。シート状基材として、本発
明で用いられるものに制限はないが、紙、不織布、布
地、多孔質ガラスシートなどの多孔質性基材、あるいは
合成紙、コート紙、高分子フィルム、金属箔などの基材
等を使用することが可能である。これらの基材は単独で
も良いし、積層された複合基材の形態でも使用できる。
また、この様にして形成された画像記録媒体の皮膜を保
護する目的で、さらに高分子フィルムなどの保護膜を設
けることも可能である。

【０２７９】以上の様にして作成された本発明の画像記
録媒体を用いて画像形成するには、次の２つの方法が好
ましく使用されるが、これに限定されるものではない。
先ず第１の方法として、本発明の画像記録媒体に、所定
のマスク（ネガマスク）を通して光（あるいは電子線）
照射したり、あるいはレーザー光（あるいは電子線ビー
ム）を用いて直接描画することにより良好なパターン画
像を得ることができる。第２の方法としては、ネガ画像
部に当たる部位を先ず選択的に加熱し、感エネルギー線
酸発生剤（Ａ）を熱分解せしめた後、媒体全面に活性線
（光、電子線など）を照射し、所望の画像パターンを形
成する方法である。

【０２８０】活性線源としては、低圧水銀灯、中圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カー
ボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タング
ステンランプ、エキシマーランプ、エキシマーレーザ、
窒素レーザ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウ
ムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレ
ーザ、各種半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、発光ダイオー
ド、ＣＲＴ光源、プラズマ光源等の各種光源に代表され
る光エネルギー源や、ＥＢ発生装置による電子線源があ
げられる。

【０２８１】また、加熱方法としては、集光されたレー
ザー光を走査露光する方法、感熱プリンター用のサーマ
ルヘッド、あるいは超音波発生用マイクロプローブなど
を用いることができる。特に高解像度化の目的のために
は、レーザー光またはサーマルヘッドが好ましい。レー
ザー光源としては、前記したものが使用できるが、特に
半導体レーザーは、自己変調性、集光性、小型化などの
観点で好ましい。加熱温度としては、感エネルギー線酸
発生剤（Ａ）が分解するに要する温度であり、且つ使用
される基体が熱変形を生じない温度範囲であることが必
要であり、１００℃から１８０℃の範囲、好ましくは１
２０℃から１６０℃の範囲に加熱されることが望まれ
る。この様にして加熱された部位は、感エネルギー線酸
発生剤（Ａ）が分解によって失活しているため、画像の
定着が可能となる。

【０２８２】

【作用】感エネルギー線酸発生剤（Ａ）は、活性線の照
射によって、分子内でエネルギー移動または電子移動反
応を起こし分解することにより酸を発生し、酸増殖剤
（Ｂ）の分解を開始する。この時、酸増殖剤（Ｂ）の分
解により発生した酸は、他の酸増殖剤（Ｂ）分子を分解
し、すなわち増殖的にこの反応が繰り返される。したが
って、従来のオニウム塩では不可能であった酸発生の量
子収率を１以上にあげることができ、飛躍的な感度の向
上が図れる。

【０２８３】また、増感剤（Ｃ）をさらに添加した場合
は、活性線の照射によって、増感剤（Ｃ）と感エネルギ
ー線酸発生剤（Ａ）の間で、エネルギー移動もしくは電
子移動が起こり、該感エネルギー線酸発生剤（Ａ）が、
より効果的に分解して酸を発生せしめることが可能とな
る。そして、その分解によって生じた酸は、酸増殖剤
（Ｂ）の分解を促進し、より高い酸発生の量子収率を１
以上にあげることができ、飛躍的な感度の向上が図れ
る。

【０２８４】したがって、本発明の感活性線酸発生剤組
成物を用いることにより、低エネルギーの活性線で感応
可能な酸硬化性化合物（Ｄ）の感応性組成物や、酸を触
媒とする反応により現像液に対する親和性あるいは溶解
性が増加する性質を有する化合物（Ｅ）の感応性組成
物、さらには、発生した酸との反応により発色する性質
を有する色素前駆体（Ｆ）を用いた画像記録用組成物を
提供することが可能となる。

【０２８５】

【実施例】以下、実施例にて本発明を詳細にするが、本
発明は下記のみに限定されるものではない。尚、例中、
部は重量部を示す。

【０２８６】実施例１ 感エネルギー線酸発生剤（Ａ）としてジメチルフェナシ
ルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレートを３部、酸増殖剤（Ｂ）としてＡＢ−１を３
部、酸硬化性化合物（Ｄ）として３，４−エポキシシク
ロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート（ユニオンカーバイド社製、製品名ＥＲ
Ｌ−４２２１）１００部からなる感応性組成物を、バー
コーターを用いて約１０μｍの厚みにアルミ板上に塗布
し、東芝（株）製紫外線照射装置（メタルハライドラン
プ３ＫＷ２灯、１２０Ｗ／ｃｍ、照射距離１８０ｍｍ）
にて２０ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードで照射したとこ
ろタックフリーの硬化膜が得られた。

【０２８７】

【化３３】

【０２８８】実施例２ 実施例１における感応性組成物に、増感剤（Ｃ）として
９，１０−ジメチルアントラセンを０．５部をさらに添
加して得た感応性組成物を、バーコーターを用いて約１
０μｍの厚みにアルミ板上に塗布し、東芝（株）製紫外
線照射装置（メタルハライドランプ３ＫＷ２灯、１２０
Ｗ／ｃｍ、照射距離１８０ｍｍ）にて２５ｍ／ｍｉｎの
コンベアスピードで照射したところタックフリーの硬化
膜が得られた。

【０２８９】実施例３〜実施例５６ 実施例１におけるジメチルフェナシルスルホニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート３部のかわ
りに、第１表に示した感エネルギー線酸発生剤（Ａ）に
替えた他は、実施例１と全く同様の操作で、実験をそれ
ぞれ行ったところ、いずれの場合も、タックフリーの硬
化膜が得られた。

【０２９０】 第１表 ────────────────────────────────── 実施例 感エネルギー線酸発生剤（Ａ） ────────────────────────────────── 3 テトラメチレンフェナシルスルホニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 4 シ ゛メチルヘ゛ンシ゛ルスルホニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 5 シ ゛フェニルヘ ゛ンシ゛ルスルホニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 6 シ ゛メチル(p-シアノヘ゛ンシ゛ル)スルホニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 7 シ ゛フェニルフェナシルスルホニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 8 シ ゛メチル(p-シアノフェナシル)スルホニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 9 シ ゛メチルアリルスルホニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 10 シ ゛フェニルメトキシスルホニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 11 シ ゛フェニルフェノキシスルホニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 12 シ ゛メチルヘ゛ンシ゛ルスルホキソニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 13 シ ゛フェニルヘ ゛ンシ゛ルスルホキソニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 14 メチルフェニルヘ゛ンシ゛ルスルホキソニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 15 シ ゛メチル(p-シアノヘ゛ンシ゛ル)スルホキソニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 16 シ ゛フェニルフェナシルスルホキソニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 17 シ ゛メチル(p-シアノフェナシル)スルホキソニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 18 トリフェニルヘ ゛ンシ゛ルホスホニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 19 トリメチルヘ゛ンシ゛ルホスホニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 20 メチルシ゛フェニルヘ ゛ンシ゛ルホスホニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 21 トリフェニル(p-シアノヘ ゛ンシ゛ル)ホスホニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 22 トリメチルフェナシルホスホニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 23 トリフェニル(p-シアノフェナシル)ホスホニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 24 N-ヘ ゛ンシ゛ルヒ゜リシ゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 25 N-(p-シアノヘ ゛ンシ゛ル)ヒ ゜リシ゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 26 4-シアノ-1-フェナシルヒ゜リシ゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 27 2-メチル-1-エトキシヒ ゜リシ゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 28 N-ヘ ゛ンシ゛ルキノリニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 29 N-(p-シアノヘ ゛ンシ゛ル)キノリニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 30 4-シアノ-1-フェナシルキノリニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 31 2-メチル-1-エトキシキノリニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 32 N-ヘ ゛ンシ゛ルイソキノリニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 33 N-(p-シアノヘ ゛ンシ゛ル)イソキノリニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 34 6-クロロ-1-フェナシルイソキノリニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 35 2-メチル-1-エトキシイソキノリニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 36 N-ヘ ゛ンシ゛ルチアソ゛リウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 37 N-(p-シアノヘ ゛ンシ゛ル)チアソ ゛リウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 38 2-メルカフ゜ト-3-フェナシルチアソ゛リウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 39 6-ヒト゛ロキシ-3-フェナシルチアソ゛リウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 40 N-ヘ ゛ンシ゛ルオキサソ ゛リウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 41 N-(p-シアノヘ ゛ンシ゛ル)オキサソ゛リウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 42 2-クロロ-3-ヘ ゛ンス゛ヒト゛リルオキサソ゛リウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 43 6-ヒト゛ロキシ-3-フェナシルオキサソ ゛リウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 44 シ ゛(2-フリル)ヨート゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 45 シ ゛(2-チエニル)ヨート ゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 46 ヒ ゛ス(2-(3-メチル)フリル)ヨート゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 47 ヒ ゛ス(2-(3-メチル)チエニル)ヨート ゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 48 シ ゛フェニルヨート ゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 49 ヒ ゛ス(p-t-フ ゛チルフェニル)ヨート゛ニウム テトラキス(ヘ ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 50 トリフェニルスルホニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 51 トリフェニルスルホキソニウム テトラキス(ヘ゜ンタフルオロフェニル)ホ゛レート 52 シ ゛メチルヘ゛ンシ゛ルスルホニウム テトラキス[3,5-ヒ゛ス(トリフルオロメチル)フェニル] ホ ゛レート 53 シ ゛メチルヘ゛ンシ゛ルスルホキソニウム テトラキス[3,5-ヒ゛ス(トリフルオロメチル)フェニル] ホ ゛レート 54 2-メチル-1-エトキシヒ ゜リシ゛ニウム テトラキス[3,5-ヒ゛ス(トリフルオロメチル)フェニル] ホ ゛レート 55 シ ゛(2-チエニル)ヨート ゛ニウム テトラキス[3,5-ヒ゛ス(トリフルオロメチル)フェニル] ホ ゛レート 56 ( η５-2,4-シクロヘ ゜ンタシ ゛エニル-1-イル) [(1,2,3,4,5,6-η)-(1-メチルエチル)ヘ ゛ンセ゛ン ] 鉄 テトラキス[3,5-ヒ゛ス(トリフルオロメチル)フェニル] ホ ゛レート ──────────────────────────────────

【０２９１】実施例５７〜実施例５９ 実施例１におけるＡＢ−１（３部）のかわりに、ＡＢ−
２〜ＡＢ−４をそれぞれ３部用いて、実施例１と同様の
操作で実験をそれぞれ行ったところ、いずれの場合も、
タックフリーの硬化膜が得られた。

【０２９２】

【化３４】

【０２９３】実施例６０〜〜実施例６８ 実施例２における９，１０−ジメチルアントラセン０．
５部のかわりに、第２表に示した増感剤（Ｃ）を０．５
部、それぞれ添加して得た感応性組成物を、実施例２と
全く同様の操作をそれぞれ行ったところ、実施例２と同
様、２５ｍ／ｍｉｎのコンベアスピードでタックフリー
の硬化膜が得られた。

【０２９４】第２表 ──────────────────────── 実施例 増感剤（Ｃ） ──────────────────────── 60 アントラセン 61 9,10-ヒ ゛ス(フェニルエチニル)アントラセン 62 9-フ゛ロモアントラセン 63 9,10-シ ゛メチルアントラセン 64 9,10-シ ゛フェニルアントラセン 65 1,8-シ゛メトキシ-9,10-ヒ ゛ス(フェニルエチニル)アントラセン 66 アクリシ ゛ンオレンシ ゛ 67 ヘ゛ンソ゛フラヒ ゛ン 68 セトフラヒ゛ン T ────────────────────────

【０２９５】比較例１ 実施例１におけるＡＢ−１を使用しない他は、実施例１
と同様の操作を行ったところ、コンベアースピード１０
ｍ／ｍｉｎでは硬化膜が得られたが、２０ｍ／ｍｉｎで
はタックフリーの硬化物は得られなかった。

【０２９６】比較例２ 実施例１におけるジメチルフェナシルスルホニウムテト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのかわり
に、公知の光酸発生剤であるジメチルフェナシルスルホ
キソニムヘキサフルオロホスフェートを３部使用した他
は実施例１と同様の操作を行ったところ、コンベアース
ピード１０ｍ／ｍｉｎにおいてはタックフリーの硬化物
は得られたが、コンベアースピード１５ｍ／ｍｉｎにお
いてはタックフリーの硬化物は得られなかった。

【０２９７】実施例６９ 酸を触媒とする反応により現像液に対する親和性あるい
は溶解性が増加する性質を有する化合物（Ｅ）としてポ
リ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレ
ン）（重量平均分子量：３０，０００）を３部、感エネ
ルギー線酸発生剤（Ａ）としてジメチルフェナシルスル
ホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
トを０．３部、酸増殖剤（Ｂ）としてＡＢ−１を０．３
部、溶剤としてシクロヘキサノンを２７部からなる感応
性組成物をスピナーを用いて、陽極酸化処理したアルミ
板上に、２．０μｍの厚みにて塗布した後、オーブン中
で６０℃／１０分間プリベークして平版印刷用ＰＳ版を
作成した。該ＰＳ版に、超高圧水銀灯（５００Ｗ、ウシ
オ電機社製）を用いて、マスクを通して露光した後、１
００℃で３分間ポストベークした。ついで、現像液とし
て１．２％炭酸ナトリウム水溶液にて現像（２５℃／１
分間）し、水洗後乾燥して、ポジマスクパターンと同一
パターンの平版用印刷版を作成した。パターン形成に要
した露光エネルギー量は８ｍＪ／ｃｍ² （残膜率：９９
％）であった。

【０２９８】比較例３ 実施例６９において、ＡＢ−１を使用しない他は全く同
様の組成物および操作で平版印刷用ＰＳ版を作成を試み
たところ、パターン形成に要した露光エネルギー量は２
０ｍＪ／ｃｍ² （残膜率：９９％）であり、明らかに実
施例６９の結果よりも多くのエネルギーを要した。

【０２９９】比較例４ 実施例６９におけるジメチルフェナシルスルホニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートのかわり
に、公知の光酸発生剤であるジメチルフェナシルスルホ
キソニウムヘキサフルオロホスフェートを０．３部使用
した他は、実施例６９と全く同様の操作で平版用印刷版
の作成を試みたところ、パターン形成に要した露光エネ
ルギー量は７０ｍＪ／ｃｍ² （残膜率：９９％）であ
り、明らかに実施例６９の結果よりも多くのエネルギー
を要した。

【０３００】実施例７０ 高分子バインダー（Ｅ）としてポリビニルブチラール３
部、感エネルギー線酸発生剤（Ａ）としてジメチルフェ
ナシルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート０．３部、酸増殖剤（Ｂ）としてＡＢ−１
を０．３部、色素前駆体（Ｆ）としてクリスタルバイオ
レットラクトン（ＣＶＬ）０．５部を、溶剤としてシク
ロヘキサノン２７部に溶解して得た画像記録用組成物の
溶液をロールコータを用いて、ポリエステルフィルム
（厚み５０μｍ）に塗工した後、オーブン中で６０℃／
１０分間プリベークして、記録層の厚みが３μｍの画像
記録媒体を作成した。該媒体に、超高圧水銀灯（５００
Ｗ、ウシオ電機社製）を用い、ネガマスクを通して露光
したところ、極大波長で光学密度（以下ＯＤ）１．２の
ＣＶＬの青色発色画像（解像度１０００ｄｐｉ）を得
た。次いで、該記録媒体を加圧式加熱ローラー（表面温
度１００℃）を用いて加熱したところ、ＯＤが１．６に
増加した。

【０３０１】実施例７１ 実施例７０で使用の画像記録媒体を用い、感熱プリンタ
ー（８００ｄｐｉ）を用いてネガパターンの加熱与えた
後、超高圧水銀灯（５００Ｗ、ウシオ電機社製）を用い
て全面露光したところ、ポジ画像部位にあたる部位のみ
に、ＣＶＬの発色（青色、ＯＤ＝１．２）が生じ、良好
なポジ画像（８００ｄｐｉ）が得られた。次いで、該記
録媒体を加圧式加熱ローラー（表面温度１００℃）を用
いて加熱したところ、ＯＤが１．６に増加した。

【０３０２】比較例５ 実施例７０において、ＡＢ−１を使用しない他は全く同
様の組成物および操作で画像記録媒体を作成し、ＣＶＬ
の発色画像形成を試みたところ、同一露光量におけるＯ
Ｄは１．０であった。また、実施例７０と同様の操作で
加熱を行ったが、ＯＤの変化は１．１のままであった。

【０３０３】

【発明の効果】以上説明したように、感エネルギー線酸
発生剤（Ａ）と酸増殖剤（Ｂ）とからなる活性線の照射
によって酸を発生する感活性線酸発生剤組成物が提供さ
れ、該感活性線酸発生剤組成物に、酸硬化性化合物
（Ｄ）を混合してなる硬化性の感応性組成物が提供さ
れ、あるいは、該感活性線酸発生剤組成物に、酸を触媒
とする反応により現像液に対する親和性あるいは溶解性
が増加する性質を有する化合物（Ｅ）を混合することに
より、ポジ型の感応性組成物が提供され、さらには、該
感活性線酸発生剤組成物に、酸によって発色する性質を
有する色素前駆体（Ｆ）を混合することにより画像記録
用組成物が提供される。したがって、本発明の組成物
は、成型樹脂、注型樹脂、封止剤、歯科用重合レジン、
光造形樹脂、プリント基板用レジスト、カラーフィルタ
ー用レジスト、マイクロエレクトロニクス用レジスト、
印刷版用感光性樹脂、感光性インキジェット、印刷（オ
フセット、グラビア、シルクスクリーン）用インキ、印
刷校正用カラープルーフ、塗料、表面コート剤、接着
剤、粘着剤、離型剤、ホログラム記録材料等の各種材料
に好適に用いられることになる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｇ 65/00 ＮＱＥ Ｃ０８Ｇ 65/00 ＮＱＥ 69/20 ＮＲＴ 69/20 ＮＲＴ 73/00 ＮＴＢ 73/00 ＮＴＢ 75/00 ＮＴＶ 75/00 ＮＴＶ 77/08 ＮＵＤ 77/08 ＮＵＤ 85/00 ＮＵＸ 85/00 ＮＵＸ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０３ 7/029 7/029

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】オニウムカチオンと、一般式（１）のボレ
   ートアニオンとから構成されるオニウムボレート錯体で
   ある感エネルギー線酸発生剤（Ａ）と、該感エネルギー
   線酸発生剤（Ａ）より発生した酸によって新たに酸を発
   生する酸増殖剤（Ｂ）からなることを特徴とする感活性
   線酸発生剤組成物。 一般式（１） ［ＢＹ_m Ｚ_n ］^- （ただし、Ｙはフッ素または塩素、Ｚはフッ素、シアノ
   基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる
   少なくとも２つの電子吸引性基で置換されたフェニル
   基、ｍは０〜３の整数、ｎは１〜４の整数を表し、ｍ＋
   ｎ＝４である。）
2. 【請求項２】さらに増感剤（Ｃ）を添加してなる請求項
   １記載の感活性線酸発生剤組成物。
3. 【請求項３】請求項１または請求項２記載の感活性線酸
   発生剤組成物と、酸硬化性化合物（Ｄ）とからなる感応
   性組成物。
4. 【請求項４】請求項１または請求項２記載の感活性線酸
   発生剤組成物と、酸を触媒とする反応により現像液に対
   する親和性あるいは溶解性が増加する性質を有する化合
   物（Ｅ）からなることを特徴とする感応性組成物。
5. 【請求項５】請求項１または請求項２記載の感活性線酸
   発生剤組成物と、発生した酸との反応により発色する性
   質を有する色素前駆体（Ｆ）とからなることを特徴とす
   る画像記録用組成物。