JPH10147863A - 成膜装置とそのターゲット交換方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反応室用真空槽内に大気を流入させることな
くターゲットを交換する成膜装置とそのターゲット交換
方法とを提供する。 【解決手段】 反応室用真空槽６及びターゲット交換室
１を真空排気した状態で、ターゲット交換手段４により
交換用ターゲット３を保持する電極板３ａと開口部１５
上の使用済みターゲット２を保持する電極板２ａを上昇
させ、ターゲット交換手段４の回動により使用済みター
ゲット２と交換用ターゲット３とを入れ換え交換する。
交換されたターゲット３を保持する電極板３ａを電流導
入プレート１３の押圧により開口部１５に圧接させるこ
とにより反応室６は閉じられ、成膜を再開することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空排気機構を備
える成膜装置とそのターゲット交換方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】図９に従来の成膜装置の構造を示してい
る。図９において２はターゲット、２ａは下面にターゲ
ット２を保持し蓋体を兼ねる電極板、５は被成膜物であ
る基板、６は反応室用真空槽、９はマスフローコントロ
ーラ、１０は真空ポンプ、１２は電源である。マスフロ
ーコントローラ９より反応ガス、例えばアルゴンを導入
しながら真空ポンプ１０で排気し反応室用真空槽６の内
部を所定の圧力に調整して（この状態を真空状態と称
す）ターゲット２に前記電極板２ａを通じて電源１２よ
り電流を印加し基板５を成膜処理する。ターゲット２を
ある期間使用すると、ターゲット２の交換が必要にな
る。ターゲット２の交換を行うためターゲット２を保持
した電極板２ａを取り外すと反応室用真空槽６に大気が
流入する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】一般に成膜装置におい
てはターゲット交換後の再生産までの時間の短縮や膜質
の向上が要求されている。しかしターゲット交換時に反
応室用真空槽内へ大気が流入するため、ターゲット交換
後の再生産までの時間の長期化や槽内汚染による膜質の
劣化という問題を引き起こしていた。

【０００４】また、図９に示した構成においては採用さ
れていないが、反応室６内に防着筒を設けてスパッタリ
ングにより飛散する粒子が反応室の内壁に付着しないよ
うにする場合に、この防着筒もスパッタリング粒子の付
着量が増えたときには交換する必要がある。

【０００５】本発明は、反応室用真空槽内に大気が流入
することなくターゲットを交換することができ、これに
よってターゲット交換後の再生産までの時間を短縮し、
膜質を向上させることができ、防着筒の交換も容易にし
た成膜装置とそのターゲット交換方法を提供することを
目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願の第１発明の成膜装置は、反応室用真空槽と、
この反応室用真空槽のターゲット出入用開閉部を包囲す
るターゲット交換室と、ターゲット交換室内を真空排気
する真空排気手段と、ターゲット交換室内に配置され、
ターゲット出入用開閉部の開口時に、反応室用真空槽で
使用されたターゲットとターゲット交換室内に予め配置
した交換用ターゲットとを交換するターゲット交換手段
とを備えたことを特徴とする。

【０００７】また、第１発明の成膜装置におけるターゲ
ット交換方法は、反応室用真空槽及びターゲット交換室
を真空にした状態でターゲット出入用開閉部を開口し、
次いでターゲット交換手段によって、反応室用真空槽で
使用されたターゲットと交換用ターゲットとを交換し、
次いで前記ターゲット出入用開閉部を閉じることを特徴
とする。

【０００８】また、本願の第２発明の成膜装置は、反応
室用真空槽と、反応室用真空槽のターゲット出入用開閉
部を包囲して反応室用真空槽と同圧力に維持されるター
ゲット交換室と、ターゲット交換室内に配置されてター
ゲット出入用開閉部の開口時に反応室用真空槽で使用さ
れたターゲットとターゲット交換室内に予め配置された
交換用ターゲットとを回動体上に保持し、この回動体の
回動により使用済みターゲットと交換用ターゲットとを
交換するターゲット交換手段とを備えたことを特徴とす
る。

【０００９】上記構成によれば、反応室用真空槽とター
ゲット交換室とは同圧に維持されているので、ターゲッ
ト出入用開閉部を開口したときにも反応室用真空槽は大
気に曝されず、この状態でターゲット交換手段の回動体
上に反応室用真空槽で使用されたターゲットとターゲッ
ト交換室内に予め配置された交換用ターゲットとを保持
し、回動体を回動させることにより使用済みのターゲッ
トと交換用のターゲットとは交換される。反応室用真空
槽内に交換用のターゲットが装着された後、ターゲット
出入用開閉部を閉じることにより交換されたターゲット
を用いた成膜の動作を再開することができる。このター
ゲット交換を反応室用真空槽内とターゲット交換室内と
が同圧の真空状態で実施することにより、ターゲットや
反応室用真空槽を大気に曝すことなくターゲットの交換
を行うことができる。

【００１０】また、本願の第３発明の成膜装置は、反応
室用真空槽と、反応室用真空槽のターゲット出入用開閉
部を包囲して反応室用真空槽と同圧力に維持されるター
ゲット交換室と、反応室用真空槽内に配設されてターゲ
ットからの飛散粒子が反応室用真空槽の内壁に付着しな
いようにする防着筒と、ターゲット交換室内に配置され
てターゲット出入用開閉部の開口時に反応室用真空槽で
使用されたターゲットとターゲット交換室内に予め配置
された交換用ターゲットとを回動体上に保持し、この回
動体の回動により使用済みターゲットと交換用ターゲッ
トとを交換すると共に、ターゲット出入用開閉部の開口
時に回動体に形成された防着筒通過用空間をターゲット
出入用開閉部上に回動させ、反応室用真空槽から取り出
される使用済みの防着筒と反応室用真空槽に装着される
交換用防着筒とを防着筒通過用空間を通して交換させる
ターゲット交換手段とを備えたことを特徴とする。

【００１１】上記構成によれば、反応室用真空槽内に防
着筒が設けられている場合には、ターゲットの交換だけ
でなく、防着筒も飛散粒子の付着度に応じて交換する必
要があるので、ターゲット交換手段の回動体に防着筒の
交換時の防着筒通過用空間が形成されている。回動体は
ターゲットの交換のためにターゲットを保持してターゲ
ット出入用開閉部上に回動移動するので、回動体がター
ゲット出入用開閉部上を覆っていると防着筒の出入りが
できない。そこで、使用済みの防着筒を反応室用真空槽
内からターゲット出入用開閉部を通して取り出し、交換
用の防着筒をターゲット出入用開閉部を通して反応室用
真空槽内に装着するときには、前記防着筒通過用空間を
ターゲット出入用開閉部上に回動させると、この空間を
通じて交換される防着筒を通過させることができる。

【００１２】上記構成におけるターゲット交換手段は、
その回動体上にヒータを備え、防着筒が交換された後、
回動体を回動させてヒータをターゲット出入用開閉部上
に回動させるように構成することにより、交換された防
着筒に付着する大気成分をヒータによって加熱し、防着
筒からの離脱を促進させることができる。

【００１３】また、ターゲット交換手段は、ターゲット
交換室内に予め配置された複数個の交換用のターゲット
を使用済みのターゲットと共に保持した回動体の順送り
の回動により使用済みターゲットと交換用ターゲットと
を順次交換させるように構成することができ、使用済み
のターゲットをターゲット交換室から外部に取り出し、
交換用のターゲットに入れ換える作業を行う回数を少な
くすることができるので、外部開放により流入した大気
を排気して大気成分により汚染された状態から成膜でき
る環境に戻すまでの無駄時間の発生を抑えることができ
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明し、本発明の理解に供する。まず、本発明の第１の
実施形態を図１、図２を参照して説明する。

【００１５】反応室用真空槽６は、内部に被成膜物であ
る基板５を収容すると共に、反応ガスを槽内に導入する
ためのマスフローコントローラ９及び槽内を真空状態に
排気するための真空ポンプ１０が接続され、その上部の
開口部（ターゲット出入用開閉部）１５は、ターゲット
２を下面に保持し蓋体を兼ねる電極板２ａによって開閉
可能に閉蓋されている。１３は上下動可能に構成された
電流導入用プレートであって、閉蓋時に下動して前記電
極板２ａを前記開口部１５に押し付け、反応室用真空槽
６を密閉状態とする。また、ターゲット２には電源１２
からの電流が前記電流導入用プレート１３及び前記電極
板２ａを通じて印加される。

【００１６】反応室用真空槽６の前記開口部１５は、タ
ーゲット交換室１によって包囲されている。このターゲ
ット交換室１は、内部に前記電流導入用プレート１３を
収容すると共に、ターゲット交換手段４を収容してい
る。また、このターゲット交換室１には、室内を真空状
態に排気するための真空ポンプ７及びパージ用の窒素ガ
スを導入するためのバルブ８が接続されている。

【００１７】前記ターゲット交換手段４は、回転軸１７
と一対のターゲット保持孔１８、１８を有するテーブル
１９とから構成され、一方のターゲット保持孔１８に成
膜に供されるターゲット２を保持した電極板２ａが、他
方のターゲット保持孔１８に交換用のターゲット３を保
持した電極板３ａが夫々保持されうるようになってい
る。このターゲット交換手段４は回転可能かつ上下動可
能に構成されている。尚、ターゲット交換室１には、使
用済みのターゲット２を保持した電極板２ａを取り出
し、交換用のターゲット３を保持した電極板３ａを搬入
するための開口２０が形成され、この開口２０はターゲ
ット交換用蓋１１によって閉蓋されている。

【００１８】また、この開口の下方には、交換用のター
ゲット３を保持した電極板３ａを載置し、使用済みのタ
ーゲット２を保持した電極板２ａを一時的に載置するた
めの環状台２１が設けられている。

【００１９】次に、上記構成の成膜装置におけるターゲ
ット交換方法について説明する。

【００２０】反応室用真空槽６内のターゲット２の交換
が必要になったとき、まず、ターゲット交換室１を前記
真空ポンプ７で真空排気する。この時点で反応室用真空
槽６及びターゲット交換室１は真空状態となっている。
その後、電流導入用プレート１３を上昇させて退避さ
せ、次いでターゲット交換手段４を上昇させる。これに
より一方のターゲット保持孔１８に保持されて使用済み
のターゲット２を備えた電極板２ａが上昇し、前記開口
部１５から離脱し、反応室用真空槽６は開口状態とな
る。このときターゲット交換室１は真空状態となってい
るため、反応室用真空槽６に大気が流入することはな
い。上記ターゲット交換手段４の上昇時には、同時に他
方のターゲット保持孔１８に保持されて交換用ターゲッ
ト３を備えた電極板３ａが上昇し、環状台２１から離脱
する。次いでターゲット交換手段４のテーブル１９が１
８０度回転した後、下降する。これにより一方のターゲ
ット保持孔１８に保持された使用済みのターゲット２を
備えた電極板２ａは前記環状台２１に載置され、他方の
ターゲット保持孔１８に保持された交換用ターゲット３
を備えた電極板３ａは前記開口部１５に載置され、反応
室用真空槽６を閉蓋する。

【００２１】これに続いて電流導入用プレート１３が下
降して、前記電極板３ａを前記開口部１５に押圧し、反
応室用真空槽６を密閉状態とする。

【００２２】上記一連の動作によって、ターゲット交換
が行われるのであるが、その後、前記バルブ８が開いて
パージ用ガスをターゲット交換室１に導入し、室内の圧
力を大気圧と同圧にした後、ターゲット交換用蓋１１を
開蓋して、使用済みのターゲット２をこれを保持する電
極板２ａと共に取り出し、これに代えて新しいターゲッ
トを保持した電極板を前記環状台２１に載置する。

【００２３】上記実施形態においては、交換用ターゲッ
トが１個の場合について説明したが、複数個の交換用タ
ーゲットを予備ターゲットとしてターゲット交換室１に
配置する構成とすることができる。また、上記実施形態
においては、ターゲットを保持する電極板が反応室用真
空槽６の蓋体を兼ねるものについて説明したが、図３及
び図４に示す本発明の第２の実施形態のように、独立し
た蓋体３１を有する構成のものとすることができる。

【００２４】図３及び図４に示す第２の実施形態は、上
下動可能に構成された蓋体３１が反応室用真空槽６の開
口部１５に直接接触して、これを閉蓋する。この蓋体３
１はクランプ機構を下面に備えて、ターゲット２を保持
する電極板２ａを保持すると共に、電流導入用プレート
としての機能も営むものである。また、使用済みのター
ゲット２を保持した電極板２ａと交換用のターゲット３
を保持した電極板３ａとを交換するためのターゲット交
換手段４ａは、先端部に夫々ターゲット保持リング１８
ａを備えた一対のアーム１９ａ、１９ａを一体に備え、
その結合部が回転軸１７ａに固着されたものとなってい
る。このターゲット交換手段４ａは、回転可能かつ上下
動可能に構成され、一対のアーム１９ａ、１９ａは９０
度の角度で交差するように形成されている。他の構成は
第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略す
る。

【００２５】次に、上記第２の実施形態の成膜装置にお
けるターゲット交換方法について説明する。

【００２６】反応室用真空槽６内のターゲット２の交換
が必要になったとき、まず、ターゲット交換室１を真空
ポンプ７で真空排気する。この時点で反応室用真空槽６
及びターゲット交換室１は真空状態となっている。その
後、蓋体３１をターゲット２及び電極板２ａを保持した
状態で上昇させて退避させる。これにより反応室用真空
槽６は開口状態となる。このときターゲット交換室１は
真空状態となっているため、反応室用真空槽６に大気が
流入することはない。

【００２７】次いで、ターゲット交換手段４ａを上昇さ
せ、一方のターゲット保持リング１８ａに交換用ターゲ
ット３が取り付けられた電極板３ａを保持して、これを
上昇させる。このターゲット交換手段４ａを図４に示す
矢印方向に９０度回転させ、他方のターゲット保持リン
グ１８ａを蓋体３１に保持されているターゲット２の真
下に位置させる。次に、ターゲット交換手段４ａを更に
一段上昇させてターゲット保持リング１８ａにターゲッ
ト２が取り付けられた電極板２ａを保持させると同時
に、蓋体３１による電極板２ａのクランプを解除する。

【００２８】この操作によりターゲット交換手段４ａの
各ターゲット保持リング１８ａ、１８ａに交換用ターゲ
ット３及び使用済みターゲット２が保持されるので、タ
ーゲット交換手段４ａを一段下降させ、更に矢印方向に
９０度回転させることにより、交換用ターゲット３が取
り付けられた電極板３ａが蓋体３１の真下に位置するよ
うになる。再びターゲット交換手段４ａを一段上昇さ
せ、交換用ターゲット３が取り付けられた電極板３ａを
蓋体３１に接触させ、蓋体３１が備えるクランプ機構に
よって電極板３ａを蓋体３１に保持させる。この後、タ
ーゲット交換手段４ａを一段下降させた後、矢印方向に
９０度回転させることにより、使用済みターゲット２は
環状台２１の真上に位置するようになるので、ターゲッ
ト交換手段４ａを下降させ、使用済みターゲット２が取
り付けられた電極板２ａを環状台２１上に載置する。こ
の動作と相前後して蓋体３１を下降させ、反応室６の開
口部１５を閉蓋することにより、交換用ターゲット３及
びその電極板３ａは反応室６の開口部位置に収容され
る。

【００２９】上記一連の動作によってターゲット交換が
実施されるので、バルブ８を開いてターゲット交換室１
内にパージ用ガスを導入して室内圧力を大気圧と同圧に
した後、ターゲット交換用蓋１１を開蓋して使用済みタ
ーゲット２が取り付けられた電極板２ａを取り出し、こ
れに代えて新しいターゲットが取り付けられた電極板を
環状台２１上に載置する。

【００３０】次に、本発明の第３の実施形態について説
明する。図５は、第３の実施形態に係る成膜装置の構成
を示している。

【００３１】図５において、反応室６内には、スパッタ
リング粒子が反応室６の壁面に付着することを防止する
防着筒２４が配設されている。この防着筒２４にはスパ
ッタリングによる飛散粒子が付着堆積していくので、そ
の堆積量が増えたときには交換の必要があり、本装置に
おいては先に説明したターゲット交換に併せて防着筒２
４を交換するための構成が設けられている。図５に示す
ように、反応室６の開口部１５の直上に位置するターゲ
ット交換室１の上部には、防着筒交換用開口部２２と、
これを開閉可能に閉蓋する蓋体２３とが設けられてい
る。前記防着筒交換用開口部２２の開口径は、防着筒２
４が通過できると同時に、防着筒２４より大きな直径の
放電電力導入プレート１３も出入りできるように形成さ
れている。

【００３２】また、ターゲット交換手段４ｂには、図７
に平面図として示すように、テーブル（回動体）１９ｂ
に使用済みターゲット２が取り付けられた電極板２ａ及
び交換用ターゲット３が取り付けられた電極板３ａの保
持穴１８、１８と、防着筒２４の交換時に防着筒２６を
通すための防着筒通過穴（防着筒通過用空間）２６と、
交換した防着筒２４を加熱するためのヒータ２５とが設
けられている。

【００３３】上記構成において、開口部１５を開蓋した
状態で反応室用真空槽６が真空ポンプ１０により排気さ
れることにより、ターゲット交換室１内も真空排気され
るので、真空排気後に開口部１５をターゲット２を保持
した電極板２ａにより閉蓋することにより、反応室用真
空槽６は密閉され、マスフローコントローラ９からの反
応ガスの導入と、ターゲット２への電圧印加によりスパ
ッタリングによる成膜を行うことができる。このスパッ
タリングによりターゲットが消耗したときには、真空ポ
ンプ１０により反応室用真空槽６内を真空排気し、電流
導入プレート１３を上昇させ、ターゲット交換手段４ｂ
がテーブル１９ｂを上昇させることにより、開口部１５
が開蓋されるので、テーブル１９ｂの回動により使用済
みのターゲット２を保持した電極板２ａと、交換用のタ
ーゲット３を保持した電極板３ａとを交換することがで
きる。

【００３４】このターゲットの交換方法は第１の実施形
態の構成と同様であるので、その詳しい説明は省略し、
次に防着筒２４の交換方法について以下に説明する。

【００３５】まず、反応室用真空槽６内にマスフローコ
ントローラ９により窒素ガスを導入すると共に、電流導
入プレート１３を上昇させ、更にターゲット交換手段４
ｂの上昇により、テーブル１９上に保持されたターゲッ
ト２を保持する電極板２ａを上昇させて開口部１５を開
蓋して、ターゲット交換室１にも窒素ガスを流入させて
反応室用真空槽６と同圧とする。次に、蓋体２３を開蓋
して防着筒交換用開口部２２を開放状態にし、電流導入
プレート１３を上昇させて防着筒交換用開口部２２から
ターゲット交換室１の外に退避させ、続いてターゲット
交換手段４ｂを回動させてテーブル１９ｂに設けられた
防着筒通過穴２６が開口部１５の直上に位置するように
する。この動作によって開口部１５の上方に開放空間が
形成されるので、反応室用真空槽６内から防着筒２４を
開口部１５、防着筒通過穴２６、防着筒交換用開口部２
２を通して取り出し、新たな防着筒２４を搬入して反応
室用真空槽６内に取り付ける。次に、電流導入プレート
１３をターゲット交換室１内に戻し、防着筒交換用開口
部２２を閉蓋した後、ターゲット交換手段４ｂを回動さ
せてテーブル１９ｂ上のヒータ２５を開口部１５の位置
に移動させ、回動テーブル４ｂを下降させて開口部１５
に当接させる。このヒータ２５により交換した防着筒２
４を加熱すると同時に、真空ポンプ１０により反応室６
内を排気して、交換した防着筒２４の表面から大気成分
の水分の蒸散を促し、防着筒２４に付着した大気成分を
離脱させる。

【００３６】防着筒２４からの大気成分の離脱が完了す
る所定時間の後、ターゲット交換手段４ｂを上昇させて
開口部１５から離し、次に回動させて使用するターゲッ
ト２が取り付けられた電極板２ａを開口部１５上に移動
させ、ターゲット交換手段４ｂを下降させてターゲット
２が取り付けられた電極板２ａを開口部１５上に載置し
た後、電流導入プレート１３を下降させて電極板２ａを
開口部１５に押圧して反応室用真空槽６内を密閉する。
この後、反応室用真空槽６内への反応ガスの導入により
スパッタリングによる成膜を開始することができる。

【００３７】図７に示したターゲット交換手段４ｂと同
様の機能は、図８に示すようなターゲット交換手段４ｃ
として構成することもできる。ターゲット交換手段４ｃ
は、中心で回転軸１７に支持され、中心から３方に延長
形成された各アーム２８、２８、２８の先端側に、それ
ぞれターゲット保持孔１８、１８と、ヒータ２５とを設
け、アーム１８が形成されていない側は、防着筒通過用
空間となる。防着筒２４の交換時には、この防着筒通過
用空間の部分を開口部１５上に回動させ、交換後にヒー
タ２５を開口部１５上に回動させる。また、ターゲット
交換時には、２つのターゲット保持孔１８、１８にそれ
ぞれ使用済みのターゲット２と交換用のターゲット３と
を保持して回動させることにより、各実施形態と同様に
ターゲット交換を行うことができる。

【００３８】また、ターゲット交換手段４、４ａ、４
ｂ、４ｃの直径を大きくしたときには、複数の交換用タ
ーゲットを保持して、使用済みのターゲットと順次交換
し、複数の交換用ターゲットが使用済みとなったとき
に、ターゲット交換室１の開口２０を開蓋して新たな交
換用ターゲットに入れ換えることができる。これにより
ターゲット交換室１を大気開放する回数が削減されるの
で、大気開放した後に真空状態に戻し、大気汚染された
室内の復旧に費やす無駄時間が抑えられ、再生産への稼
働を速やかに行うことができる。

【００３９】

【発明の効果】以上の説明の通り本発明によれば、成膜
装置の反応室用真空槽内を大気に曝すことなくターゲッ
トを交換できるので、反応室用真空槽内が大気で汚染さ
れることがなく、ターゲット交換後の再生産までの時間
が短縮され、成膜される膜質も向上する。

【００４０】また、反応室用真空槽内に配設された防着
筒をターゲット交換用の開口部を通して交換することが
でき、この防着筒の交換とターゲットの交換とは、ター
ゲット交換手段の回動により切り換えることができる。
更に、ターゲット交換手段のテーブルにヒータを設けて
交換された防着筒を加熱して大気成分の離脱を促すこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係る成膜装置の構成
を示す断面図。

【図２】第１の実施形態に係るターゲット交換手段の構
成を示す斜視図。

【図３】本発明の第２の実施形態に係る成膜装置の構成
を示す断面図。

【図４】第２の実施形態に係るターゲット交換手段の構
成を示す平面図。

【図５】本発明の第３の実施形態に係る成膜装置の構成
を示す断面図。

【図６】第３の実施形態に係るターゲット交換手段の構
成を示す斜視図。

【図７】第３の実施形態に係るテーブルの構成を示す平
面図。

【図８】ターゲット交換手段の変形例を示す平面図。

【図９】従来構成に係る成膜装置の断面図。

【符号の説明】

１ ターゲット交換室 ２、３ ターゲット ２ａ、３ａ 電極板 ４、４ａ、４ｂ、４ｃ ターゲット交換手段 ６ 反応室用真空槽 １０ 真空ポンプ ９ マスフローコントローラ １５ 開口部（ターゲット出入用開閉部） ２４ 防着筒 ２５ ヒータ ２６ 防着筒通過穴（防着筒通過空間）

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反応室用真空槽と、この反応室用真空槽
   のターゲット出入用開閉部を包囲するターゲット交換室
   と、ターゲット交換室内を真空排気する真空排気手段
   と、ターゲット交換室内に配置され、ターゲット出入用
   開閉部の開口時に、反応室用真空槽で使用されたターゲ
   ットとターゲット交換室内に予め配置した交換用ターゲ
   ットとを交換するターゲット交換手段とを備えたことを
   特徴とする成膜装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の成膜装置において、反応
   室用真空槽及びターゲット交換室を真空にした状態でタ
   ーゲット出入用開閉部を開口し、次いでターゲット交換
   手段によって、反応室用真空槽で使用されたターゲット
   と交換用ターゲットとを交換し、次いで前記ターゲット
   出入用開閉部を閉じることを特徴とする成膜装置におけ
   るターゲット交換方法。
3. 【請求項３】 反応室用真空槽と、反応室用真空槽のタ
   ーゲット出入用開閉部を包囲して反応室用真空槽と同圧
   力に維持されるターゲット交換室と、ターゲット交換室
   内に配置されてターゲット出入用開閉部の開口時に反応
   室用真空槽で使用されたターゲットとターゲット交換室
   内に予め配置された交換用ターゲットとを回動体上に保
   持し、この回動体の回動により使用済みターゲットと交
   換用ターゲットとを交換するターゲット交換手段とを備
   えたことを特徴とする成膜装置。
4. 【請求項４】 反応室用真空槽と、反応室用真空槽のタ
   ーゲット出入用開閉部を包囲して反応室用真空槽と同圧
   力に維持されるターゲット交換室と、反応室用真空槽内
   に配設されてターゲットからの飛散粒子が反応室用真空
   槽の内壁に付着しないようにする防着筒と、ターゲット
   交換室内に配置されてターゲット出入用開閉部の開口時
   に反応室用真空槽で使用されたターゲットとターゲット
   交換室内に予め配置された交換用ターゲットとを回動体
   上に保持し、この回動体の回動により使用済みターゲッ
   トと交換用ターゲットとを交換すると共に、ターゲット
   出入用開閉部の開口時に回動体に形成された防着筒通過
   用空間をターゲット出入用開閉部上に回動させ、反応室
   用真空槽から取り出される使用済みの防着筒と反応室用
   真空槽に装着される交換用防着筒とを防着筒通過用空間
   を通して交換させるターゲット交換手段とを備えたこと
   を特徴とする成膜装置。
5. 【請求項５】 ターゲット交換手段が、その回動体上に
   ヒータを備え、防着筒が交換された後、回動体を回動さ
   せてヒータをターゲット出入用開閉部上に回動させる請
   求項４記載の成膜装置。
6. 【請求項６】 ターゲット交換手段が、ターゲット交換
   室内に予め配置された複数個の交換用のターゲットを使
   用済みのターゲットと共に保持した回転テーブルの順送
   りの回動により使用済みターゲットと交換用ターゲット
   とを順次交換させるように構成されてなる請求項１、３
   または４記載の成膜装置。