JPH10130602A - 接着剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法 - Google Patents
接着剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法Info
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- JPH10130602A JPH10130602A JP8299299A JP29929996A JPH10130602A JP H10130602 A JPH10130602 A JP H10130602A JP 8299299 A JP8299299 A JP 8299299A JP 29929996 A JP29929996 A JP 29929996A JP H10130602 A JPH10130602 A JP H10130602A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】接着性、耐久性に優れた硬化物を与える光ディ
スク用、特にＤＶＤ用に適した接着剤寝性物を提供す
る。 【解決手段】不飽和基含有化合物の混合物（Ａ）、有機
過酸化物（Ｂ）、硬化促進剤（Ｃ）及び任意成分として
光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする光ディ
スク用接着剤組成物。
スク用、特にＤＶＤ用に適した接着剤寝性物を提供す
る。 【解決手段】不飽和基含有化合物の混合物（Ａ）、有機
過酸化物（Ｂ）、硬化促進剤（Ｃ）及び任意成分として
光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする光ディ
スク用接着剤組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用接着
剤組成物に関し、特に波長が２８０ｎｍ以上、３８０ｎ
ｍ以下のエネルギー線が透過しない光ディスク基材どう
しを接着することができる、エネルギー線が透過する部
分は紫外線による硬化が可能な光ディスク用嫌気性接着
剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法に関する。
剤組成物に関し、特に波長が２８０ｎｍ以上、３８０ｎ
ｍ以下のエネルギー線が透過しない光ディスク基材どう
しを接着することができる、エネルギー線が透過する部
分は紫外線による硬化が可能な光ディスク用嫌気性接着
剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、不透明な基材どうしの接着方法
は、熱による接着方法が採用されている。熱による接着
法には、エポキシ系、メラミン系、ウレタン系及びアク
リル系の樹脂と熱硬化剤によるものが多く、ホットメル
ト系樹脂等も知られている。
は、熱による接着方法が採用されている。熱による接着
法には、エポキシ系、メラミン系、ウレタン系及びアク
リル系の樹脂と熱硬化剤によるものが多く、ホットメル
ト系樹脂等も知られている。
【０００３】しかしながら、熱による接着方法では基材
が熱により反る、あるいは変形するなどの問題があっ
た。またホットメルト系樹脂では、熱安定性や耐候性が
悪く高温の環境下で使用することは困難であった。
が熱により反る、あるいは変形するなどの問題があっ
た。またホットメルト系樹脂では、熱安定性や耐候性が
悪く高温の環境下で使用することは困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記、従来の熱による
接着法では、基材の反り、変形を生じ、生産性に問題が
あり、その解決が望まれている。更に高記録密度化が要
求される光ディスク分野における接着においては接着
性、ディスクの反り、記録膜の保護及び変形に対して、
より特性的に優れた接着剤を使用しなければならないと
いう課題が残っている。
接着法では、基材の反り、変形を生じ、生産性に問題が
あり、その解決が望まれている。更に高記録密度化が要
求される光ディスク分野における接着においては接着
性、ディスクの反り、記録膜の保護及び変形に対して、
より特性的に優れた接着剤を使用しなければならないと
いう課題が残っている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは，前記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、不透明な基材でも常
温での硬化ができ、かつ接着性、ディスクの反り、記録
膜の腐食の防止性及び変形等に優れた光ディスク用嫌気
性接着剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法を提
供することに成功した。すなわち、本発明は、（１）不
飽和基含有化合物の混合物（Ａ）、有機過酸化物
（Ｂ）、硬化促進剤（Ｃ）及び任意成分として光重合開
始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする光ディスク用接
着剤組成物、（２）（１）記載の不飽和基含有化合物の
混合物（Ａ）がポリウレタン（メタ）アクリレート及び
／又はビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート
（ａ）と単官能性（メタ）アクリレート（ｂ）と任意成
分として（ａ）及び（ｂ）成分以外の（メタ）アクリレ
ート化合物（ｃ）とを含有してなる混合物であることを
特徴とする（１）記載の光ディスク用接着剤組成物、
（３）（１）及び（２）記載の光ディスク用接着剤組成
物の硬化物を接着層として有する光ディスク、（４）光
ディスクがＤＶＤである（３）記載の光ディスク、
（５）（１）及び（２）記載の光ディスク用接着剤組成
物を２８０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長におけるエネルギー
線が透過しない光ディスク基材に塗布後、他の光ディス
ク基材をこの塗布面に密着させて硬化させることを特徴
とする光ディスクの基材同志の接着方法に関する。
題を解決すべく鋭意検討した結果、不透明な基材でも常
温での硬化ができ、かつ接着性、ディスクの反り、記録
膜の腐食の防止性及び変形等に優れた光ディスク用嫌気
性接着剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法を提
供することに成功した。すなわち、本発明は、（１）不
飽和基含有化合物の混合物（Ａ）、有機過酸化物
（Ｂ）、硬化促進剤（Ｃ）及び任意成分として光重合開
始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする光ディスク用接
着剤組成物、（２）（１）記載の不飽和基含有化合物の
混合物（Ａ）がポリウレタン（メタ）アクリレート及び
／又はビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート
（ａ）と単官能性（メタ）アクリレート（ｂ）と任意成
分として（ａ）及び（ｂ）成分以外の（メタ）アクリレ
ート化合物（ｃ）とを含有してなる混合物であることを
特徴とする（１）記載の光ディスク用接着剤組成物、
（３）（１）及び（２）記載の光ディスク用接着剤組成
物の硬化物を接着層として有する光ディスク、（４）光
ディスクがＤＶＤである（３）記載の光ディスク、
（５）（１）及び（２）記載の光ディスク用接着剤組成
物を２８０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長におけるエネルギー
線が透過しない光ディスク基材に塗布後、他の光ディス
ク基材をこの塗布面に密着させて硬化させることを特徴
とする光ディスクの基材同志の接着方法に関する。
【０００６】本発明では、不飽和基含有化合物の混合物
（Ａ）を使用する。（Ａ）成分の具体例としては、ポリ
ウレタン（メタ）アクリレート及び／又はビスフェノー
ル型エポキシ（メタ）アクリレート（ａ）と単官能性
（メタ）アクリレート（ｂ）と（ａ）及び（ｂ）成分以
外の（メタ）アクリレート化合物（ｃ）とを含有する混
合物等を好ましく使用することができる。ポリウレタン
（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ポリ
オール化合物（イ）と有機ポリイソシアネート（ロ）を
反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレート
（ハ）を反応させることにより得ることができる。ポリ
オール化合物（イ）と有機ポリイソシアネート（ロ）と
の反応は、ポリオール化合物（イ）の水酸基１当量に対
して有機ポリイソシアネート（ロ）のイソシアネート基
１，１〜２．５当量を反応させるのが好まし、特に好ま
しくは、１．３〜２．０当量である。反応温度は、７０
〜１００℃が好ましく、反応時間は、５〜２０時間が好
ましい。次にポリオール化合物（イ）と有機ポリイソシ
アネート（ロ）との反応物（Ｉ）と水酸基含有（メタ）
アクリレート（ハ）を反応させる。前記反応物（Ｉ）の
イソシアネート基１当量に対して、水酸基含有（メタ）
アクリレート（ハ）の水酸基０．９５〜１．５当量を反
応させるのが好ましく、特に好ましくは１．０〜１．１
当量である。反応温度は、６０〜１００℃が好ましく、
反応時間は５〜２０時間程度である。反応中、重合を防
止するために重合禁止剤（例えば、ｐ−メトキシフェノ
ール、メチルハイドロキノン等）や反応を促進するため
の反応触媒（例えば、ジ−ｎ−ブチルスズ等）を使用す
ることができる。
（Ａ）を使用する。（Ａ）成分の具体例としては、ポリ
ウレタン（メタ）アクリレート及び／又はビスフェノー
ル型エポキシ（メタ）アクリレート（ａ）と単官能性
（メタ）アクリレート（ｂ）と（ａ）及び（ｂ）成分以
外の（メタ）アクリレート化合物（ｃ）とを含有する混
合物等を好ましく使用することができる。ポリウレタン
（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ポリ
オール化合物（イ）と有機ポリイソシアネート（ロ）を
反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレート
（ハ）を反応させることにより得ることができる。ポリ
オール化合物（イ）と有機ポリイソシアネート（ロ）と
の反応は、ポリオール化合物（イ）の水酸基１当量に対
して有機ポリイソシアネート（ロ）のイソシアネート基
１，１〜２．５当量を反応させるのが好まし、特に好ま
しくは、１．３〜２．０当量である。反応温度は、７０
〜１００℃が好ましく、反応時間は、５〜２０時間が好
ましい。次にポリオール化合物（イ）と有機ポリイソシ
アネート（ロ）との反応物（Ｉ）と水酸基含有（メタ）
アクリレート（ハ）を反応させる。前記反応物（Ｉ）の
イソシアネート基１当量に対して、水酸基含有（メタ）
アクリレート（ハ）の水酸基０．９５〜１．５当量を反
応させるのが好ましく、特に好ましくは１．０〜１．１
当量である。反応温度は、６０〜１００℃が好ましく、
反応時間は５〜２０時間程度である。反応中、重合を防
止するために重合禁止剤（例えば、ｐ−メトキシフェノ
ール、メチルハイドロキノン等）や反応を促進するため
の反応触媒（例えば、ジ−ｎ−ブチルスズ等）を使用す
ることができる。
【０００７】ポリオール化合物（イ）としては、例え
ば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−
メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジ
オール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジ
オール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノ
ールＡポリエトキシジオール、ポリテトチメチレングリ
コール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク
酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、アジピン酸、ダイマー酸、水添ダイ
マー酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物
であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類と
ε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクト
ンポリーオル類、前記ポリオール類と前記多塩基酸又は
これらの酸無水物類とε−カプロラクトンとの反応物、
ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等を
挙げることができる。
ば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオ
ペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−
メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジ
オール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジ
オール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノ
ールＡポリエトキシジオール、ポリテトチメチレングリ
コール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク
酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、アジピン酸、ダイマー酸、水添ダイ
マー酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物
であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類と
ε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクト
ンポリーオル類、前記ポリオール類と前記多塩基酸又は
これらの酸無水物類とε−カプロラクトンとの反応物、
ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等を
挙げることができる。
【０００８】有機ポリイソシアネート（ロ）としては、
例えばトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメ
タン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニ
ルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート、２，２′４−トリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアネート等を挙げることができる。水酸基含有（メ
タ）アクリレート（ハ）としては、例えば、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオ
ールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレートとε−カプロラクトンとの反応
物、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロ
ールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アク
リレート等を挙げることができる。
例えばトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメ
タン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニ
ルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート、２，２′４−トリメチルヘキサメチレンジイ
ソシアネート等を挙げることができる。水酸基含有（メ
タ）アクリレート（ハ）としては、例えば、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオ
ールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレートとε−カプロラクトンとの反応
物、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロ
ールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アク
リレート等を挙げることができる。
【０００９】ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリ
レートとしては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノー
ル型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させるこ
とにより得ることができる。ビスフェノール型エポキシ
樹脂のエポキシ基１当量に対して、（メタ）アクリル酸
０．９〜１．５モル反応させるのが好ましく、より好ま
しくは０．９５〜１．１モルである。反応温度は８０〜
１２０℃が好ましく、反応時間は１０〜３５時間程度で
ある。反応を促進させるために、例えば、トリフェニル
ホスフィン、トリエタノールアミン、テトラエチルアン
モニウムクロライド等の触媒を使用するのが好ましい。
又、反応中、重合を防止するために重合禁止剤（例え
ば、ｐ−メトキシフェノール、メチルハイドロキノン
等）を使用することもできる。
レートとしては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノー
ル型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させるこ
とにより得ることができる。ビスフェノール型エポキシ
樹脂のエポキシ基１当量に対して、（メタ）アクリル酸
０．９〜１．５モル反応させるのが好ましく、より好ま
しくは０．９５〜１．１モルである。反応温度は８０〜
１２０℃が好ましく、反応時間は１０〜３５時間程度で
ある。反応を促進させるために、例えば、トリフェニル
ホスフィン、トリエタノールアミン、テトラエチルアン
モニウムクロライド等の触媒を使用するのが好ましい。
又、反応中、重合を防止するために重合禁止剤（例え
ば、ｐ−メトキシフェノール、メチルハイドロキノン
等）を使用することもできる。
【００１０】単官能性（メタ）アクリレート（ｂ）の具
体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、
２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエ
チル（メタ）アクリレート、フェニルポリエトキシ（メ
タ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アク
リレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシクロペン
テニルオキシエチル（メタ）アクリレート、アクリロイ
ルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロ
キシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリ
レート等を挙げることができる。好ましいものとして
は、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル
オキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカン
モノ（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アク
リレート、テトラシドロフルフリル（メタ）アクリレー
ト、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシ−３−フ
ェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート等を挙げる
ことができる。これら単官能性（メタ）アクリレートは
１種又は２種以上混合して使用することができる。
体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、
２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエ
チル（メタ）アクリレート、フェニルポリエトキシ（メ
タ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アク
リレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシクロペン
テニルオキシエチル（メタ）アクリレート、アクリロイ
ルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロ
キシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリ
レート等を挙げることができる。好ましいものとして
は、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル
オキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカン
モノ（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アク
リレート、テトラシドロフルフリル（メタ）アクリレー
ト、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシ−３−フ
ェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート等を挙げる
ことができる。これら単官能性（メタ）アクリレートは
１種又は２種以上混合して使用することができる。
【００１１】（ａ）及び（ｂ）成分以外の（メタ）アク
リレート化合物（ｃ）の具体例としては、例えば、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペン
チルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノ
ナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカ
ンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス〔（メ
タ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、カプロラ
クトン変性トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソ
シアヌレート等の多官能性（メタ）アクリレート化合物
等を挙げることができる。
リレート化合物（ｃ）の具体例としては、例えば、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペン
チルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノ
ナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカ
ンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス〔（メ
タ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、カプロラ
クトン変性トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソ
シアヌレート等の多官能性（メタ）アクリレート化合物
等を挙げることができる。
【００１２】本発明では、有機過酸化物（Ｂ）を使用す
る。（Ｂ）成分の具体例としては、例えば、ジアシルパ
ーオキシド類、ジアルキルパーオキシド類、ケトンパー
オキシド類、パーオキシエステル類等がある。特に有用
な有機過酸化物としては、例えば、クメンハイドロパー
オキシド、ｔ−ブチルハイドロパーオキシドのような有
機ハイドロパートキシド類がある。
る。（Ｂ）成分の具体例としては、例えば、ジアシルパ
ーオキシド類、ジアルキルパーオキシド類、ケトンパー
オキシド類、パーオキシエステル類等がある。特に有用
な有機過酸化物としては、例えば、クメンハイドロパー
オキシド、ｔ−ブチルハイドロパーオキシドのような有
機ハイドロパートキシド類がある。
【００１３】次に硬化促進剤（Ｃ）の具体例としては、
例えば１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、ピロリ
ジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルイジン、ピペリジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−
２，４−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，５
−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸等の第３級アミン類、
ｏ−ベンゾイックスルフィミド（サッカリン）、コハク
酸イミド等のイミド類、メチルヒドラジン、フェニルヒ
ドラジン、１，１−ジメチルヒドラジン、ヒドロキシエ
チルヒドラジン、１，１−ジフェニルヒドラジン、１−
メチル−１−フェニルヒドラジン、カルボジヒドラジ
ン、アジピン酸ヒドラジン、セバシン酸ジヒドラジド、
イソフタル酸ジヒドラジド、ベンゾフェノンヒドラジ
ン、１−（２−カルボキシアクリロイル）−２−フェニ
ルヒドラジン等の有機ヒドラジン類、（メタ）アクリル
酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、無水トリメット酸、ヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、スチレン−無水マレイン酸の共重合
物等の有機カルボン酸あるいは無水物類、ナフテン酸
銅、ナフテン酸コバルト等の金属石ケン類、金属タンパ
ク質類、ジシクロペンタジエニル鉄、ジシクロペンタジ
エニルニッケル等の金属錯体類、ｎ−ドデシルメルカプ
タン等のメルカプタン類、フェニルイソシアネート、メ
チルイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、２−イソシアネートエ
チルメタクリレート等の有機イソシアネート類等を挙げ
ることができる。これら硬化促進剤は１種又は２種以上
を混合して使用することかできる。
例えば１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、ピロリ
ジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルイジン、ピペリジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−
２，４−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，５
−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸等の第３級アミン類、
ｏ−ベンゾイックスルフィミド（サッカリン）、コハク
酸イミド等のイミド類、メチルヒドラジン、フェニルヒ
ドラジン、１，１−ジメチルヒドラジン、ヒドロキシエ
チルヒドラジン、１，１−ジフェニルヒドラジン、１−
メチル−１−フェニルヒドラジン、カルボジヒドラジ
ン、アジピン酸ヒドラジン、セバシン酸ジヒドラジド、
イソフタル酸ジヒドラジド、ベンゾフェノンヒドラジ
ン、１−（２−カルボキシアクリロイル）−２−フェニ
ルヒドラジン等の有機ヒドラジン類、（メタ）アクリル
酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、無水トリメット酸、ヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、スチレン−無水マレイン酸の共重合
物等の有機カルボン酸あるいは無水物類、ナフテン酸
銅、ナフテン酸コバルト等の金属石ケン類、金属タンパ
ク質類、ジシクロペンタジエニル鉄、ジシクロペンタジ
エニルニッケル等の金属錯体類、ｎ−ドデシルメルカプ
タン等のメルカプタン類、フェニルイソシアネート、メ
チルイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、２−イソシアネートエ
チルメタクリレート等の有機イソシアネート類等を挙げ
ることができる。これら硬化促進剤は１種又は２種以上
を混合して使用することかできる。
【００１４】光重合開始剤（Ｄ）の具体例としては、例
えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−フェニルプロパン
−１−オン、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジルジメチ
ルケタール、ミヒラーズケトン、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタ
ノン−１、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４，
６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサ
イド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４− トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等
を挙げることができる。
えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−フェニルプロパン
−１−オン、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジルジメチ
ルケタール、ミヒラーズケトン、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタ
ノン−１、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４，
６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサ
イド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，
４，４− トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等
を挙げることができる。
【００１５】本発明の組成物を構成する（Ａ）〜（Ｄ）
成分の使用割合としては、（Ａ）成分の使用量は、好ま
しくは、８０〜９９．９重量％、より好ましくは８５〜
９９．７重量％である。（Ｂ）成分の使用量は、好まし
くは、０．０１〜１０重量％より好ましくは０．１〜５
重量％である。（Ｃ）成分の使用量は、０．００１〜５
重量％、より好ましくは０．００５〜５重量％である。
（Ｄ）成分の使用量は、好ましくは０〜１５重量％、よ
り好ましくは０〜１０重量％である。（Ａ）成分を構成
する（ａ）〜（ｃ）成分の使用割合としては、（Ａ）成
分の量を１００部とした場合に、（ａ）成分は、好まし
くは１０〜８０部、より好ましくは２０〜７０部であ
り、（ｂ）成分は、好ましくは２０〜９０部、より好ま
しくは、３０〜８０部であり、（ｃ）成分は、好ましく
は０〜５０部、より好ましくは０〜４０部である。
成分の使用割合としては、（Ａ）成分の使用量は、好ま
しくは、８０〜９９．９重量％、より好ましくは８５〜
９９．７重量％である。（Ｂ）成分の使用量は、好まし
くは、０．０１〜１０重量％より好ましくは０．１〜５
重量％である。（Ｃ）成分の使用量は、０．００１〜５
重量％、より好ましくは０．００５〜５重量％である。
（Ｄ）成分の使用量は、好ましくは０〜１５重量％、よ
り好ましくは０〜１０重量％である。（Ａ）成分を構成
する（ａ）〜（ｃ）成分の使用割合としては、（Ａ）成
分の量を１００部とした場合に、（ａ）成分は、好まし
くは１０〜８０部、より好ましくは２０〜７０部であ
り、（ｂ）成分は、好ましくは２０〜９０部、より好ま
しくは、３０〜８０部であり、（ｃ）成分は、好ましく
は０〜５０部、より好ましくは０〜４０部である。
【００１６】本発明の接着剤組成物は、更に必要に応じ
て、有機イソシアネート化合物、シランカップリンク
剤、重合禁止剤、（２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキ
ノン等のベンゾキノン類等）レベリング剤、消泡剤、光
安定剤、酸化防止剤、無機充填剤等を併用することもで
きる。
て、有機イソシアネート化合物、シランカップリンク
剤、重合禁止剤、（２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキ
ノン等のベンゾキノン類等）レベリング剤、消泡剤、光
安定剤、酸化防止剤、無機充填剤等を併用することもで
きる。
【００１７】本発明の接着剤組成物は、上記の各成分を
溶解、混合し、又は分散等を行なうことにより調製する
ことができる。
溶解、混合し、又は分散等を行なうことにより調製する
ことができる。
【００１８】本発明の接着剤組成物の硬化物は、常温で
放置することにより０．５〜２４時間の間の硬化し得る
ことができる。又、紫外線等のエネルギー線が透過する
部分がある場合には、その部分に紫外線等のエネルギー
線を照射することにより硬化物を得ることもできる。
放置することにより０．５〜２４時間の間の硬化し得る
ことができる。又、紫外線等のエネルギー線が透過する
部分がある場合には、その部分に紫外線等のエネルギー
線を照射することにより硬化物を得ることもできる。
【００１９】本発明の接着剤組成物は、波長が２８０〜
３５０ｎｍにおける光の透過性が０％である不透明な光
ディスク基材どうしの接着剤として有用である。具体的
な光ディスク基材としては、例えば、ポリカーボネート
樹脂やアモルファスポリオレフィン系樹脂等からなる光
ディスク基板であって、これに記録膜として無機スパッ
タ膜、特に金属スパッタ膜を形成された基材、さらに、
その無機スパッタ膜、特に金属スパッタ膜上に紫外線硬
化型保護膜が形成された基材等が挙げられる。
３５０ｎｍにおける光の透過性が０％である不透明な光
ディスク基材どうしの接着剤として有用である。具体的
な光ディスク基材としては、例えば、ポリカーボネート
樹脂やアモルファスポリオレフィン系樹脂等からなる光
ディスク基板であって、これに記録膜として無機スパッ
タ膜、特に金属スパッタ膜を形成された基材、さらに、
その無機スパッタ膜、特に金属スパッタ膜上に紫外線硬
化型保護膜が形成された基材等が挙げられる。
【００２０】本発明の接着剤組成物は、不透明な光ディ
スク基材上に、ロールコーター、スピンコーター、スク
リーン印刷機等の塗工装置を用いて膜厚１〜１００μ
ｍ、より好ましくは５〜５０μｍとなるように塗布し基
材どうしを接着させ、常温（約２５℃）で０．５〜２４
時間放置（必要に応じて紫外線を照射することもでき
る。）することにより硬化物を得ることができる。
スク基材上に、ロールコーター、スピンコーター、スク
リーン印刷機等の塗工装置を用いて膜厚１〜１００μ
ｍ、より好ましくは５〜５０μｍとなるように塗布し基
材どうしを接着させ、常温（約２５℃）で０．５〜２４
時間放置（必要に応じて紫外線を照射することもでき
る。）することにより硬化物を得ることができる。
【００２１】本発明の光ディスクとしては、例えはＣＤ
（コンパクトディスク），ＬＤ（レーザーディスク）、
ＭＯ（光磁気ディスク）ＤＶＤ（デジタルバーサイタイ
ル又はビデオディスク）等が挙げられる。これらのう
ち、両面式又は片面二層式のＤＶＤは不透明基材どうし
を接着する必要があり、本発明の接着剤組成物の性能を
十分に利用する点で好ましい。
（コンパクトディスク），ＬＤ（レーザーディスク）、
ＭＯ（光磁気ディスク）ＤＶＤ（デジタルバーサイタイ
ル又はビデオディスク）等が挙げられる。これらのう
ち、両面式又は片面二層式のＤＶＤは不透明基材どうし
を接着する必要があり、本発明の接着剤組成物の性能を
十分に利用する点で好ましい。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。 実施例１〜３ 表１の配合組成にしたがって本発明の接着剤組成物を調
製し（表１において、数値は重量部である。）得られた
各組成物を用いて光ディスク基材（アルミ蒸着されたポ
リカーボネート基材で波長２８０〜３８０ｎｍで透過率
が０％のもの）に塗布し、次いで塗布面に他の光ディス
ク基材を膜厚が約１０μｍになるように接着し、２５℃
で２４時間放置し硬化した試験片を得た。その後、接着
した基材を剥離し、その表面の状態を観察した。観察し
た結果を硬化性として表１に示した。 ○・・・・タックが認められない △・・・・少しタックが認められる ×・・・・全く硬化していない 前記で得た試験片を用いてピール試験を行ないピール値
（ｇ／ｃｍ）を測定し、結果を表１に示した。（数値が
大きいほど接着性に優れている。）前記で得た試験片を
用いて、８０℃、８５％ＲＨの条件下に１００Ｈｒ、放
置後、試験片を観察した結果を耐久性として表１に示し
た。 ○・・・・ピンホール、反り等の異常はみられない ×・・・・ピンホール、反り等の異常がみられる。
明する。 実施例１〜３ 表１の配合組成にしたがって本発明の接着剤組成物を調
製し（表１において、数値は重量部である。）得られた
各組成物を用いて光ディスク基材（アルミ蒸着されたポ
リカーボネート基材で波長２８０〜３８０ｎｍで透過率
が０％のもの）に塗布し、次いで塗布面に他の光ディス
ク基材を膜厚が約１０μｍになるように接着し、２５℃
で２４時間放置し硬化した試験片を得た。その後、接着
した基材を剥離し、その表面の状態を観察した。観察し
た結果を硬化性として表１に示した。 ○・・・・タックが認められない △・・・・少しタックが認められる ×・・・・全く硬化していない 前記で得た試験片を用いてピール試験を行ないピール値
（ｇ／ｃｍ）を測定し、結果を表１に示した。（数値が
大きいほど接着性に優れている。）前記で得た試験片を
用いて、８０℃、８５％ＲＨの条件下に１００Ｈｒ、放
置後、試験片を観察した結果を耐久性として表１に示し
た。 ○・・・・ピンホール、反り等の異常はみられない ×・・・・ピンホール、反り等の異常がみられる。
【００２３】
【表１】 表１ 実施例 １ ２ ３ ＫＡＹＡＲＡＤ ＶＸ４１０１ ＊１ １０ １０ ３０ ＫＡＹＡＲＡＤ ＶＸ−６１０１ ＊２ １０ ２０ ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１１４ ＊３ ４０ ２５ テトラヒドロフルフリルメタクリレート ５０ ４０ ３０ フェニルオキシエチルメタクリレート １５ ２０ ｏ−ベンゾイックスルフィミド ３ ３ ３ クメンハイドロパーオキシド １ １ １ アジピン酸ジヒドラジド 0.5 0.5 0.5 ２−イソシアネートエチルメタクリレート 0.5 0.5 0.5 （重合禁止剤） 0.02 0.02 0.02 硬化性 ○ ○ ○ ピール値（ｇ／ｃｍ） ３５ ３０ ４０ 耐久性 ○ ○ ○
【００２４】注） ＊１ ＫＡＹＡＲＡＤ ＶＸ−４
１０１：日本化薬（株）製、ポリカプロラクトンポリウ
レタンアクリレート。 ＊２ ＫＡＹＡＲＡＤ ＶＸ−６１０１：日本化薬株
（株）製、ポリエーテルポリウレタンアクリレート。 ＊３ ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１１４：日本化薬（株）
製、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート。
１０１：日本化薬（株）製、ポリカプロラクトンポリウ
レタンアクリレート。 ＊２ ＫＡＹＡＲＡＤ ＶＸ−６１０１：日本化薬株
（株）製、ポリエーテルポリウレタンアクリレート。 ＊３ ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−１１４：日本化薬（株）
製、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート。
【００２５】表１から明らかなように、本発明の接着剤
組成物は、常温で硬化し、接着性、耐久性に優れてい
る。
組成物は、常温で硬化し、接着性、耐久性に優れてい
る。
【００２６】
【発明の効果】本発明の光ディスク用接着剤組成物は、
常温で硬化し、接着性、耐久性に優れた硬化物を与え
る。
常温で硬化し、接着性、耐久性に優れた硬化物を与え
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５３１ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５３１
Claims (5)
- 【請求項１】不飽和基含有化合物の混合物（Ａ）、有機
過酸化物（Ｂ）、硬化促進剤（Ｃ）及び任意成分として
光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする光ディ
スク用接着剤組成物。 - 【請求項２】請求項１記載の不飽和基含有化合物の混合
物（Ａ）が、ポリウレタン（メタ）アクリレート及び／
又はビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート
（ａ）と単官能性（メタ）アクリレート（ｂ）と任意成
分として（ａ）及び（ｂ）成分以外の（メタ）アクリレ
ート化合物（ｃ）とを含有する混合物であることを特徴
とする請求項１記載の光ディスク用接着剤組成物。 - 【請求項３】請求項１及び２記載の光ディスク用接着剤
組成物の硬化物を接着層として有する光ディスク。 - 【請求項４】光ディスクがＤＶＤである請求項３及び４
の光ディスク。 - 【請求項５】請求項１及び２に記載の光ディスク用接着
剤組成物を２８０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長におけるエネ
ルギー線が透過しない光ディスク基材に塗布後、他の光
ディスク基材をこの塗布面に密着させて硬化させること
を特徴とする光ディスク基材同志の接着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8299299A JPH10130602A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 接着剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8299299A JPH10130602A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 接着剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10130602A true JPH10130602A (ja) | 1998-05-19 |
Family
ID=17870741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8299299A Pending JPH10130602A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | 接着剤組成物、硬化物、光ディスク及び接着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10130602A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002044295A2 (en) * | 2000-11-29 | 2002-06-06 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive composition and optical disk using the composition |
| US6503960B1 (en) | 2000-11-21 | 2003-01-07 | Loctite Corporation | Dispersion stable curable compositions and method for making hollow shells using same |
| JP2005002147A (ja) * | 2003-06-09 | 2005-01-06 | Yazaki Corp | 嫌気性接着剤組成物および嫌気性接着剤を使った電線の止水方法 |
| WO2006051872A1 (ja) * | 2004-11-11 | 2006-05-18 | Daido Chemical Corporation | ピペリジン化合物を含有する嫌気性接着剤組成物又は光硬化型嫌気性接着剤組成物 |
-
1996
- 1996-10-24 JP JP8299299A patent/JPH10130602A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6503960B1 (en) | 2000-11-21 | 2003-01-07 | Loctite Corporation | Dispersion stable curable compositions and method for making hollow shells using same |
| WO2002044295A2 (en) * | 2000-11-29 | 2002-06-06 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive composition and optical disk using the composition |
| WO2002044295A3 (en) * | 2000-11-29 | 2002-11-21 | 3M Innovative Properties Co | Adhesive composition and optical disk using the composition |
| US6500513B2 (en) | 2000-11-29 | 2002-12-31 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive composition and optical disk using the composition |
| JP2005002147A (ja) * | 2003-06-09 | 2005-01-06 | Yazaki Corp | 嫌気性接着剤組成物および嫌気性接着剤を使った電線の止水方法 |
| WO2006051872A1 (ja) * | 2004-11-11 | 2006-05-18 | Daido Chemical Corporation | ピペリジン化合物を含有する嫌気性接着剤組成物又は光硬化型嫌気性接着剤組成物 |
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