JPH10130275A - ヒドラジン化合物およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ヒドラジン化合物およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料Info
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ハロゲン化銀写真感光材料の造核剤またはカブ
リ剤として有用なヒドラジン化合物及びそれを用いたハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供する。 【解決手段】下記一般式(II)で表される基を有するヒ
ドラジン化合物およびそれを用いたハロゲン化銀写真感
光材料。 一般式(II) 【化1】 式中*はヒドラジン残基と結合する結合手を表し、Zは
共役した正電荷を有する不飽和ヘテロ環を形成しうる非
金属原子団を表し、X- は−O- 、−S- または−N-
−R2 を表す。R2 はアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。)
リ剤として有用なヒドラジン化合物及びそれを用いたハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供する。 【解決手段】下記一般式(II)で表される基を有するヒ
ドラジン化合物およびそれを用いたハロゲン化銀写真感
光材料。 一般式(II) 【化1】 式中*はヒドラジン残基と結合する結合手を表し、Zは
共役した正電荷を有する不飽和ヘテロ環を形成しうる非
金属原子団を表し、X- は−O- 、−S- または−N-
−R2 を表す。R2 はアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定構造のヒドラ
ジン化合物を含んだネガ型または直接ポジハロゲン化銀
写真感光材料に関するものである。
ジン化合物を含んだネガ型または直接ポジハロゲン化銀
写真感光材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】グラフィックアーツの分野においては網
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真特性を示す画像形成システムが必要である。
良好な保存安定性を有する処理液で現像し、超硬調な写
真特性が得られる画像形成システムが要望され、その一
つとして米国特許4,166,742号、同4,16
8,977号、同4,221,857号、同4,22
4,401号、同4,243,739号、同4,27
2,606号、同4,311,781号にみられるよう
に、特定のアシルヒドラジン化合物を添加した表面潜像
型ハロゲン化銀写真感光材料を、亜硫酸保恒剤を0.1
5モル/リットル以上含むpH11.0〜12.3の現
像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像を
形成するシステムが提案された。この新しい画像形成シ
ステムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の
高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化
銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。ま
た、従来のリス現像液が極く微量の亜硫酸保恒剤しか含
有できなかったのに対して、多量の亜硫酸保恒剤を含有
できるので、比較的保存安定性がよいという点も特徴で
ある。しかし、pHが11以上の現像液は、空気酸化さ
れ易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。ヒド
ラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より低い
pHの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫が試
みられている。特開平1−179939号、および特開
平1−179940号には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対
する吸着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を
有する造核剤とを含む感材を用いて、pH11.0以下
で現像液で現像する処理方法が記載されている。しかか
ながら、これらの発明において使用されている乳剤は、
臭化銀、沃臭化銀乳剤であり、現像進行性あるいは処理
液の組成変動に対する写真性能の変化が大きく、安定性
の点で十分とはいえない。
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真特性を示す画像形成システムが必要である。
良好な保存安定性を有する処理液で現像し、超硬調な写
真特性が得られる画像形成システムが要望され、その一
つとして米国特許4,166,742号、同4,16
8,977号、同4,221,857号、同4,22
4,401号、同4,243,739号、同4,27
2,606号、同4,311,781号にみられるよう
に、特定のアシルヒドラジン化合物を添加した表面潜像
型ハロゲン化銀写真感光材料を、亜硫酸保恒剤を0.1
5モル/リットル以上含むpH11.0〜12.3の現
像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像を
形成するシステムが提案された。この新しい画像形成シ
ステムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の
高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化
銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。ま
た、従来のリス現像液が極く微量の亜硫酸保恒剤しか含
有できなかったのに対して、多量の亜硫酸保恒剤を含有
できるので、比較的保存安定性がよいという点も特徴で
ある。しかし、pHが11以上の現像液は、空気酸化さ
れ易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。ヒド
ラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より低い
pHの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫が試
みられている。特開平1−179939号、および特開
平1−179940号には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対
する吸着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を
有する造核剤とを含む感材を用いて、pH11.0以下
で現像液で現像する処理方法が記載されている。しかか
ながら、これらの発明において使用されている乳剤は、
臭化銀、沃臭化銀乳剤であり、現像進行性あるいは処理
液の組成変動に対する写真性能の変化が大きく、安定性
の点で十分とはいえない。
【0003】米国特許第4,998,604号、同4,
994,365号、同4,975,354号には、エチ
レンオキシドの繰り返し単位を有するヒドラジン化合
物、およびピリジニウム基を有するヒドラジン化合物が
開示されている。しかしながら、実施例の記載からみる
と、これらの発明では、硬調性が充分でなく、実用的な
現像処理条件で硬調性と必要なDmax を得ることは困難
である。また、ヒドラジン誘導体を用いた造核硬調感材
は、現像液のpHの変化に伴う写真性の変化幅が大き
い。現像液のpHは、現像液の空気酸化、および水の蒸
発による濃厚化による上昇、または空気中の二酸化炭素
の吸収による低下などにより、大きく変動する。従っ
て、写真性能の現像液pH依存性を小さくする工夫が試
みられている。
994,365号、同4,975,354号には、エチ
レンオキシドの繰り返し単位を有するヒドラジン化合
物、およびピリジニウム基を有するヒドラジン化合物が
開示されている。しかしながら、実施例の記載からみる
と、これらの発明では、硬調性が充分でなく、実用的な
現像処理条件で硬調性と必要なDmax を得ることは困難
である。また、ヒドラジン誘導体を用いた造核硬調感材
は、現像液のpHの変化に伴う写真性の変化幅が大き
い。現像液のpHは、現像液の空気酸化、および水の蒸
発による濃厚化による上昇、または空気中の二酸化炭素
の吸収による低下などにより、大きく変動する。従っ
て、写真性能の現像液pH依存性を小さくする工夫が試
みられている。
【0004】ところで一般に明室で取り扱われる返し感
材は製版用感材の一つとして、大きな分野をしめてい
て、この分野においては、細い明朝文字をも再現する高
い抜き文字品質が要望されている。そのために、より活
性の高い造核剤の開発が望まれてきた。特に、明室でも
取り扱える低感度の明室感材においては、造核剤による
硬調化が起こりにくく、さらに高活性の造核剤の開発が
望まれている。
材は製版用感材の一つとして、大きな分野をしめてい
て、この分野においては、細い明朝文字をも再現する高
い抜き文字品質が要望されている。そのために、より活
性の高い造核剤の開発が望まれてきた。特に、明室でも
取り扱える低感度の明室感材においては、造核剤による
硬調化が起こりにくく、さらに高活性の造核剤の開発が
望まれている。
【0005】このような目的を達成するために、例えば
特開平6−148828号、特開平6−180477
号、特開平6−194774号等開示されている高活性
なヒドラジン系造核剤が開発されている。とくに少なく
とも1つの電子吸引性基で置換された置換アルキル基を
アシル基として有する造核剤は、pH11以下の現像液
でも極めて硬調な写真性を得ることができ、また現像液
の疲労による写真性能の変動が小さく優れたものであっ
たが、しかしながら中には造核剤自体が酸化されやす
く、保存性の点で改善が必要とされるものがあった。
特開平6−148828号、特開平6−180477
号、特開平6−194774号等開示されている高活性
なヒドラジン系造核剤が開発されている。とくに少なく
とも1つの電子吸引性基で置換された置換アルキル基を
アシル基として有する造核剤は、pH11以下の現像液
でも極めて硬調な写真性を得ることができ、また現像液
の疲労による写真性能の変動が小さく優れたものであっ
たが、しかしながら中には造核剤自体が酸化されやす
く、保存性の点で改善が必要とされるものがあった。
【0006】吸着促進基を有する造核剤としては、特開
昭63−234244号、特開昭63−234245
号、あるいは先に挙げた特開平6−148828号、特
開平6−180477号、特開平6−194774号等
に開示されている高活性なヒドラジン系造核剤が、既に
知られているが、しかしながら造核剤自体が酸化され易
く、保存性の点で改善が必要とされるものが多く、また
望ましい網点品質を得る上でも、さらなる高活性化が必
要であった。
昭63−234244号、特開昭63−234245
号、あるいは先に挙げた特開平6−148828号、特
開平6−180477号、特開平6−194774号等
に開示されている高活性なヒドラジン系造核剤が、既に
知られているが、しかしながら造核剤自体が酸化され易
く、保存性の点で改善が必要とされるものが多く、また
望ましい網点品質を得る上でも、さらなる高活性化が必
要であった。
【0007】一方、内部潜像型ハロゲン化銀写真乳剤を
造核剤の存在下で表面現像することによって直接ポジ像
を得る方法及びそのような方法に用いられる写真乳剤又
は感光材料は例えば米国特許2,456,953号、同
2,497,875号、同2,497,876号、同
2,588,982号、同2,592,250号、同
2,675,318号、同3,227,552号、同
3,317,322号、英国特許1,011,062
号、同1,151,363号、同1,269,640
号、同2,011,391号、特公昭43−29405
号、同49−38164号、特開昭53−16623
号、同53−137133号、同54−37732号、
同54−40629号、同54−74536号、同54
−74729号、同55−52055号、同55−90
940号などで知られている。上記の直接ポジ像を得る
方法において造核剤は現像液中に添加してもよいが、感
光材料の写真乳剤層またはその他の適当な層に添加する
方法がより一般的である。
造核剤の存在下で表面現像することによって直接ポジ像
を得る方法及びそのような方法に用いられる写真乳剤又
は感光材料は例えば米国特許2,456,953号、同
2,497,875号、同2,497,876号、同
2,588,982号、同2,592,250号、同
2,675,318号、同3,227,552号、同
3,317,322号、英国特許1,011,062
号、同1,151,363号、同1,269,640
号、同2,011,391号、特公昭43−29405
号、同49−38164号、特開昭53−16623
号、同53−137133号、同54−37732号、
同54−40629号、同54−74536号、同54
−74729号、同55−52055号、同55−90
940号などで知られている。上記の直接ポジ像を得る
方法において造核剤は現像液中に添加してもよいが、感
光材料の写真乳剤層またはその他の適当な層に添加する
方法がより一般的である。
【0008】直接ポジ型ハロゲン化銀感光材料中に添加
する造核剤としては、ヒドラジン化合物が最も良く知ら
れており、具体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌
第23510(1953年11月)、同15162(1
976年11月、第151巻)および同17626(1
978年12月、第176巻)に示されたものがあげら
れる。一般にヒドラジン系造核剤は最大濃度(Dmax)と
最小濃度(Dmin)との差が大きく、ディスクリミネーシ
ョンの点では最も優れているが、処理に高pH(pH1
1以上)を必要とする欠点を有しており、その改善が望
まれていた。
する造核剤としては、ヒドラジン化合物が最も良く知ら
れており、具体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌
第23510(1953年11月)、同15162(1
976年11月、第151巻)および同17626(1
978年12月、第176巻)に示されたものがあげら
れる。一般にヒドラジン系造核剤は最大濃度(Dmax)と
最小濃度(Dmin)との差が大きく、ディスクリミネーシ
ョンの点では最も優れているが、処理に高pH(pH1
1以上)を必要とする欠点を有しており、その改善が望
まれていた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、第1に新規なヒドラジン化合物を提供することにあ
る。第2に安定な現像液を用いてガンマが10を越える
極めて硬調な写真性を得ることができるハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。本発明の第3の目的
は、高い処理安定性をもち、かつ保存性に優れた製版用
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。本発
明の第4の目的は、少量の添加で低pH処理液でも十分
な反転性を示す、直接ポジ感光材料を提供することにあ
る。
は、第1に新規なヒドラジン化合物を提供することにあ
る。第2に安定な現像液を用いてガンマが10を越える
極めて硬調な写真性を得ることができるハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。本発明の第3の目的
は、高い処理安定性をもち、かつ保存性に優れた製版用
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。本発
明の第4の目的は、少量の添加で低pH処理液でも十分
な反転性を示す、直接ポジ感光材料を提供することにあ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記一
般式(I)で表されるヒドラジン化合物またはこれを含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
って達成された。 一般式(I) Ar1 −NH−NH−G1 −R1 (式中Ar1 は芳香族基を表し、G1 はカルボニル基、
スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基、オキサリ
ル基、イミノメチレン基を表し、R1 は水素原子または
ブロック基を表す。Ar1 もしくはR1 の少なくとも一
つは、下記一般式(II)で表される基を有する。 一般式(II)
般式(I)で表されるヒドラジン化合物またはこれを含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
って達成された。 一般式(I) Ar1 −NH−NH−G1 −R1 (式中Ar1 は芳香族基を表し、G1 はカルボニル基、
スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基、オキサリ
ル基、イミノメチレン基を表し、R1 は水素原子または
ブロック基を表す。Ar1 もしくはR1 の少なくとも一
つは、下記一般式(II)で表される基を有する。 一般式(II)
【0011】
【化2】
【0012】式中*はAr1 もしくはR1 と直接又は連
結基を介して結合する結合手を表し、Zは共役した正電
荷を有する5員もしくは6員の不飽和ヘテロ環を形成し
うる、非金属原子団を表し、X- は−O- 、−S- また
は−N- −R2 を表す。R2はアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基またはヘテロ環基を表
す。)
結基を介して結合する結合手を表し、Zは共役した正電
荷を有する5員もしくは6員の不飽和ヘテロ環を形成し
うる、非金属原子団を表し、X- は−O- 、−S- また
は−N- −R2 を表す。R2はアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基またはヘテロ環基を表
す。)
【0013】次に一般式(I)で表される化合物につい
て、詳しく説明する。一般式(I)で表される本発明の
化合物において、Ar1 は芳香族基を表し、具体的には
置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル基、不飽和
ヘテロ環基を表す。一般式(I)においてAr1 で表さ
れる基は、好ましくは置換されたフェニル基であり、そ
の置換基としては、以下に挙げた基が含まれる。
て、詳しく説明する。一般式(I)で表される本発明の
化合物において、Ar1 は芳香族基を表し、具体的には
置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル基、不飽和
ヘテロ環基を表す。一般式(I)においてAr1 で表さ
れる基は、好ましくは置換されたフェニル基であり、そ
の置換基としては、以下に挙げた基が含まれる。
【0014】Ar1 が有する置換基としては、ハロゲン
原子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子
でAr1 に結合する置換基を表す。炭素原子で結合する
ものとしては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、カルバモイル基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、カルボ
キシ基、シアノ基、ヘテロ環基が、酸素原子で結合する
ものとしてはヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモ
イルオキシ基、スルホニルオキシ基が、窒素原子で結合
するものとしてはアシルアミノ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スル
ホンアミド基、イミド基、ヘテロ環基が、硫黄原子で結
合するものとしてはメルカプト基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、ア
ルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、
スルホニル基、スルホ基、スルフィニル基が挙げられ
る。これらはこれら置換基でさらに置換されていてもよ
い。
原子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子
でAr1 に結合する置換基を表す。炭素原子で結合する
ものとしては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、カルバモイル基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、カルボ
キシ基、シアノ基、ヘテロ環基が、酸素原子で結合する
ものとしてはヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモ
イルオキシ基、スルホニルオキシ基が、窒素原子で結合
するものとしてはアシルアミノ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スル
ホンアミド基、イミド基、ヘテロ環基が、硫黄原子で結
合するものとしてはメルカプト基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、ア
ルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、
スルホニル基、スルホ基、スルフィニル基が挙げられ
る。これらはこれら置換基でさらに置換されていてもよ
い。
【0015】更に詳しく置換基について説明する。ハロ
ゲン原子としては例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原
子である。アルキル基としては炭素数1〜16、好まし
くは炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖または環状のアルキ
ル基であり、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t
−ブチル、ベンジル、シクロペンチルである。アルケニ
ル基としては炭素数2〜16のもので、例えばビニル、
1−プロペニル、1−ヘキセニル、スチリル等が挙げら
れる。アルキニル基としては炭素数2〜16のもので、
例えばエチニル、1−ブチニル、1−ドデセニル、フェ
ニルエチニル等が挙げられる。アリール基としては炭素
数6〜24のアリール基で例えば、フェニル、ナフチ
ル、p−メトキシフェニルである。
ゲン原子としては例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原
子である。アルキル基としては炭素数1〜16、好まし
くは炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖または環状のアルキ
ル基であり、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t
−ブチル、ベンジル、シクロペンチルである。アルケニ
ル基としては炭素数2〜16のもので、例えばビニル、
1−プロペニル、1−ヘキセニル、スチリル等が挙げら
れる。アルキニル基としては炭素数2〜16のもので、
例えばエチニル、1−ブチニル、1−ドデセニル、フェ
ニルエチニル等が挙げられる。アリール基としては炭素
数6〜24のアリール基で例えば、フェニル、ナフチ
ル、p−メトキシフェニルである。
【0016】カルバモイル基としては炭素数1〜18の
もので、例えばカルバモイル、N−エチルカルバモイ
ル、N−オクチルカルバモイル、N−フェニルカルバモ
イルである。アルコキシカルボニル基としては炭素数2
〜18のもので、例えばメトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニルである。アリールオキシカルボニル基
としては炭素数7〜18のもので、例えばフェノキシカ
ルボニルである。アシル基としては炭素数1〜18のも
ので、例えばアセチル、ベンゾイルである。環上の炭素
原子で連結するヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員
または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つでも複
数であっても良く、例えば2−フリル、2−チエニル、
2−ピリジル、2−イミダゾリルである。
もので、例えばカルバモイル、N−エチルカルバモイ
ル、N−オクチルカルバモイル、N−フェニルカルバモ
イルである。アルコキシカルボニル基としては炭素数2
〜18のもので、例えばメトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニルである。アリールオキシカルボニル基
としては炭素数7〜18のもので、例えばフェノキシカ
ルボニルである。アシル基としては炭素数1〜18のも
ので、例えばアセチル、ベンゾイルである。環上の炭素
原子で連結するヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員
または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つでも複
数であっても良く、例えば2−フリル、2−チエニル、
2−ピリジル、2−イミダゾリルである。
【0017】アルコキシ基としては炭素数1〜16、好
ましくは炭素数1〜10のもので例えば、メトキシ、2
−メトキシエトキシ、2−メタンスルホニルエトキシで
ある。アリールオキシ基としては炭素数6〜24のもの
で例えば、フェノキシ、p−メトキシフェノキシ、m−
(3−ヒドロキシプロピオンアミド)フェノキシであ
る。ヘテロ環オキシ基としては炭素数1〜5の酸素原
子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員ま
たは6員環の飽和または不飽和のヘテロ環オキシ基であ
って環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つ
でも複数であっても良く例えば、1−フェニルテトラゾ
リル−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ、
2−ピリジルオキシである。アシルオキシ基としては炭
素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例え
ば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、4−ヒドロキシブ
タノイルオキシである。カルバモイルオキシ基としては
炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例
えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−ヘキ
シルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオ
キシである。スルホニルオキシ基としては炭素数1〜1
6のもので、例えばメタンスルホニルオキシ、ベンゼン
スルホニルオキシである。
ましくは炭素数1〜10のもので例えば、メトキシ、2
−メトキシエトキシ、2−メタンスルホニルエトキシで
ある。アリールオキシ基としては炭素数6〜24のもの
で例えば、フェノキシ、p−メトキシフェノキシ、m−
(3−ヒドロキシプロピオンアミド)フェノキシであ
る。ヘテロ環オキシ基としては炭素数1〜5の酸素原
子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員ま
たは6員環の飽和または不飽和のヘテロ環オキシ基であ
って環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つ
でも複数であっても良く例えば、1−フェニルテトラゾ
リル−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ、
2−ピリジルオキシである。アシルオキシ基としては炭
素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例え
ば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、4−ヒドロキシブ
タノイルオキシである。カルバモイルオキシ基としては
炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例
えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−ヘキ
シルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオ
キシである。スルホニルオキシ基としては炭素数1〜1
6のもので、例えばメタンスルホニルオキシ、ベンゼン
スルホニルオキシである。
【0018】アシルアミノ基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばアセトアミ
ド、p−クロロベンゾイルアミドである。アルキルアミ
ノ基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜0
のもので例えば、N,N−ジメチルアミノ、N−(2−
ヒドロキシエチル)アミノである。アリールアミノ基と
しては炭素数6〜24のもので例えばアニリノ、N−メ
チルアニリノである。ヘテロ環アミノ基としては炭素数
1〜5の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個
以上含む5員または6員環の飽和または不飽和のヘテロ
環アミノ基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元
素の種類は1つでも複数であっても良く例えば、2−オ
キサゾリルアミノ、2−テトラヒドロピラニルアミノ、
4−ピリジルアミノである。ウレイド基としては炭素数
1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例えば、
ウレイド、メチルウレイド、N,N−ジエチルウレイ
ド、2−メタンスルホンアミドエチルウレイドである。
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばアセトアミ
ド、p−クロロベンゾイルアミドである。アルキルアミ
ノ基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜0
のもので例えば、N,N−ジメチルアミノ、N−(2−
ヒドロキシエチル)アミノである。アリールアミノ基と
しては炭素数6〜24のもので例えばアニリノ、N−メ
チルアニリノである。ヘテロ環アミノ基としては炭素数
1〜5の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個
以上含む5員または6員環の飽和または不飽和のヘテロ
環アミノ基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元
素の種類は1つでも複数であっても良く例えば、2−オ
キサゾリルアミノ、2−テトラヒドロピラニルアミノ、
4−ピリジルアミノである。ウレイド基としては炭素数
1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例えば、
ウレイド、メチルウレイド、N,N−ジエチルウレイ
ド、2−メタンスルホンアミドエチルウレイドである。
【0019】スルファモイルアミノ基としては炭素数0
〜16、好ましくは炭素数0〜10のもので、例えばメ
チルスルファモイルアミノ、2−メトキシエチルスルフ
ァモイルアミノである。アルコキシカルボニルアミノ基
としては炭素数2〜16、好ましくは炭素数2〜10の
もので、例えばメトキシカルボニルアミノである。アリ
ールオキシカルボニルアミノ基としては炭素数7〜24
のもので、例えばフェノキシカルボニルアミノ、2,6
−ジメトキシフェノキシカルボニルアミノである。スル
ホンアミド基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素
数1〜10のもので、例えばメタンスルホンアミド、p
−トルエンスルホンアミドである。イミド基としては炭
素数4〜16のもので、例えばN−スクシンイミド、N
−フタルイミドである。環の窒素原子で連結するヘテロ
環基としては、炭素原子、酸素原子または硫黄原子の少
なくとも1種と窒素原子からなる5〜6員のヘテロ環
で、例えばピロリジノ、モルホリノ、イミダゾリノであ
る。
〜16、好ましくは炭素数0〜10のもので、例えばメ
チルスルファモイルアミノ、2−メトキシエチルスルフ
ァモイルアミノである。アルコキシカルボニルアミノ基
としては炭素数2〜16、好ましくは炭素数2〜10の
もので、例えばメトキシカルボニルアミノである。アリ
ールオキシカルボニルアミノ基としては炭素数7〜24
のもので、例えばフェノキシカルボニルアミノ、2,6
−ジメトキシフェノキシカルボニルアミノである。スル
ホンアミド基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素
数1〜10のもので、例えばメタンスルホンアミド、p
−トルエンスルホンアミドである。イミド基としては炭
素数4〜16のもので、例えばN−スクシンイミド、N
−フタルイミドである。環の窒素原子で連結するヘテロ
環基としては、炭素原子、酸素原子または硫黄原子の少
なくとも1種と窒素原子からなる5〜6員のヘテロ環
で、例えばピロリジノ、モルホリノ、イミダゾリノであ
る。
【0020】アルキルチオ基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメチルチ
オ、2−フェノキシエチルチオである。アリールチオ基
としては炭素数6〜24のもので、例えばフェニルチ
オ、2−カルボキシフェニルチオである。ヘテロ環チオ
基としては炭素数1〜5の酸素原子、窒素原子、もしく
は硫黄原子を1個以上含む5員または6員環の飽和また
は不飽和のヘテロ環チオ基であって環を構成するヘテロ
原子の数及び元素の種類は1つでも複数であっても良
く、例えば2−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチ
オである。
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメチルチ
オ、2−フェノキシエチルチオである。アリールチオ基
としては炭素数6〜24のもので、例えばフェニルチ
オ、2−カルボキシフェニルチオである。ヘテロ環チオ
基としては炭素数1〜5の酸素原子、窒素原子、もしく
は硫黄原子を1個以上含む5員または6員環の飽和また
は不飽和のヘテロ環チオ基であって環を構成するヘテロ
原子の数及び元素の種類は1つでも複数であっても良
く、例えば2−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチ
オである。
【0021】スルファモイル基としては炭素数0〜1
6、好ましくは炭素数0〜10のもので、例えばスルフ
ァモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモ
イルである。アルコキシスルホニル基としては炭素数1
〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメ
トキシスルホニルである。アリールオキシスルホニル基
としては炭素数6〜24、好ましくは炭素数6〜12の
もので、例えばフェノキシスルホニルである。スルホニ
ル基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜1
0のもので、例えばメタンスルホニル、ベンゼンスルホ
ニルである。スルフィニル基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメタンスル
フィニル、ベンゼンスルフィニルである。
6、好ましくは炭素数0〜10のもので、例えばスルフ
ァモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモ
イルである。アルコキシスルホニル基としては炭素数1
〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメ
トキシスルホニルである。アリールオキシスルホニル基
としては炭素数6〜24、好ましくは炭素数6〜12の
もので、例えばフェノキシスルホニルである。スルホニ
ル基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜1
0のもので、例えばメタンスルホニル、ベンゼンスルホ
ニルである。スルフィニル基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメタンスル
フィニル、ベンゼンスルフィニルである。
【0022】Ar1 が有する置換基として好ましくは、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、カルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ス
ルホニル基であり、さらに好ましくはアルキル基、アリ
ール基、カルバモイル基、アルコキシ基、アシルアミノ
基、ウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイル基
である。最も好ましくはアシルアミノ基、ウレイド基、
スルホンアミド基である。
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、カルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ス
ルホニル基であり、さらに好ましくはアルキル基、アリ
ール基、カルバモイル基、アルコキシ基、アシルアミノ
基、ウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイル基
である。最も好ましくはアシルアミノ基、ウレイド基、
スルホンアミド基である。
【0023】一般式(I)に於いてG1 はカルボニル
基、オキサリル基、スルホニル基、ホスホリル基、スル
ホキシ基、イミノメチレン基を表すが、好ましくはこれ
らがカルボニル基、オキサリル基を表す時であり、さら
に好ましくはカルボニル基を表す時である。
基、オキサリル基、スルホニル基、ホスホリル基、スル
ホキシ基、イミノメチレン基を表すが、好ましくはこれ
らがカルボニル基、オキサリル基を表す時であり、さら
に好ましくはカルボニル基を表す時である。
【0024】一般式(I)に於いてR1 は水素原子また
はブロック基を表す。ブロック基とは、具体的にアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基、またはヒドラジノ基を表し、これら各基
は置換されていてもよい。アルキル基とは例えばメチル
基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、2−
カルボキシテトラフルオロエチル基、メトキシエチル
基、フェノキシメチル基、ピリジニオメチル基、3−ヒ
ドロキシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピ
ル基、フェニルスルホニルメチル基等であり、アラルキ
ル基とは例えば、o−ヒドロキシベンジル基、o−アミ
ノベンジル基等であり、アルケニル基とは例えば、ビニ
ル基、2−エトキシカルボニルビニル基等であり、アル
キニル基とは例えば、エチニル基、2−メトキシカルボ
ニルエチニル基等であり、アリール基とは例えば、3,
5−ジクロロフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニ
ル基、2−カルバモイルフェニル基、3,5−ジクロロ
−2−ヒドロキシメチルフェニル基、2−メタンスルホ
ンアミドフェニル基、4−シアノフェニル基、3,4−
ジニトロフェニル基等であり、ヘテロ環基とは例えば、
4−ニトロインダゾリル基、4−ピリジル基、ベンゾト
リアゾール−5−イル基、3−(2−メルカプトテトラ
ゾリル)フェニル基、N−メチル−4−ピリジニオ基、
モルホリ基、ピペリジノ基等であり、アルコキシ基とは
例えば、メトキシ基、プロポキシ基、2−ヒドロキシエ
トキシ基等であり、アリールオキシ基とは例えば、フェ
ノキシ基、1−ナフチルオキシ基等であり、アミノ基と
は例えば、アミノ基、プロピルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
イル基、アニリノ基、2−ヒドロキシアニリノ基、5−
ベンゾトリアゾリルアミノ基、1−ベンジル−3−ピリ
ジニオアミノ基等であり、ヒドラジノ基とは例えば、ヒ
ドラジノ基、2−フェニルヒドラジノ基、4−ベンゼン
スルホンアミドフェニルヒドラジノ基等である。これら
の基が置換基を有する時、置換基としては一般式(I)
に於けるAr1が有していてもよい置換基と同じものが
挙げられるが、置換基の総炭素数は0から12が好まし
く、さらに好ましくは0から8である。
はブロック基を表す。ブロック基とは、具体的にアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基、またはヒドラジノ基を表し、これら各基
は置換されていてもよい。アルキル基とは例えばメチル
基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、2−
カルボキシテトラフルオロエチル基、メトキシエチル
基、フェノキシメチル基、ピリジニオメチル基、3−ヒ
ドロキシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピ
ル基、フェニルスルホニルメチル基等であり、アラルキ
ル基とは例えば、o−ヒドロキシベンジル基、o−アミ
ノベンジル基等であり、アルケニル基とは例えば、ビニ
ル基、2−エトキシカルボニルビニル基等であり、アル
キニル基とは例えば、エチニル基、2−メトキシカルボ
ニルエチニル基等であり、アリール基とは例えば、3,
5−ジクロロフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニ
ル基、2−カルバモイルフェニル基、3,5−ジクロロ
−2−ヒドロキシメチルフェニル基、2−メタンスルホ
ンアミドフェニル基、4−シアノフェニル基、3,4−
ジニトロフェニル基等であり、ヘテロ環基とは例えば、
4−ニトロインダゾリル基、4−ピリジル基、ベンゾト
リアゾール−5−イル基、3−(2−メルカプトテトラ
ゾリル)フェニル基、N−メチル−4−ピリジニオ基、
モルホリ基、ピペリジノ基等であり、アルコキシ基とは
例えば、メトキシ基、プロポキシ基、2−ヒドロキシエ
トキシ基等であり、アリールオキシ基とは例えば、フェ
ノキシ基、1−ナフチルオキシ基等であり、アミノ基と
は例えば、アミノ基、プロピルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
イル基、アニリノ基、2−ヒドロキシアニリノ基、5−
ベンゾトリアゾリルアミノ基、1−ベンジル−3−ピリ
ジニオアミノ基等であり、ヒドラジノ基とは例えば、ヒ
ドラジノ基、2−フェニルヒドラジノ基、4−ベンゼン
スルホンアミドフェニルヒドラジノ基等である。これら
の基が置換基を有する時、置換基としては一般式(I)
に於けるAr1が有していてもよい置換基と同じものが
挙げられるが、置換基の総炭素数は0から12が好まし
く、さらに好ましくは0から8である。
【0025】一般式(I)に於いてG1 がカルボニル基
を表す時、R1 は好ましくは水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、飽和もしくは
不飽和のヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原
子、アルキル基、アリール基であり、最も好ましくはア
ルキル基である。一般式(I)に於いてG1 がオキサリ
ル基を表す時、R1 は好ましくはアルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基であり、さらに好ましくは置換ア
ミノ基である。
を表す時、R1 は好ましくは水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、アリール基、飽和もしくは
不飽和のヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原
子、アルキル基、アリール基であり、最も好ましくはア
ルキル基である。一般式(I)に於いてG1 がオキサリ
ル基を表す時、R1 は好ましくはアルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基であり、さらに好ましくは置換ア
ミノ基である。
【0026】一般式(I)に於いて一般式(II)で表さ
れる基が結合する際に介する連結基とは、−O−、−S
−、−N(RN ) −(RN は水素原子、アルキル基、ま
たはアリール基を表す。)、−CO−、−C(=S)
−、−SO2 −、−SO−、−P(=O)−、アルキレ
ン基、アリーレン基の単独、またはこれらの基の組み合
わせからなる基である。ここで組み合わせからなる基を
具体的に示せば、−CON(RN ) −、−SO 2 N(R
N ) −、−COO−、−N(RN ) CON(RN ) −、
−N(RN ) CSN(RN ) −、−N(RN ) SO2 N
(RN ) −、−SO2 N(RN )CO−、−SO2 N
(RN ) CON(RN ) −、−N(RN ) COCON
(RN ) −、−CON(RN ) CO−、−S−アルキレ
ン基−CONH−、−O−アルキレン基−CONH−、
−O−アルキレン基−NHCO−、−N(RN ) N(R
N ) CONH−、(−O−)2 P(=O)O−、−NH
CO−アリーレン基−SO2 NH−等の基が挙げられ
る。なおこれらの基は左右どちらから連結されていても
よい。
れる基が結合する際に介する連結基とは、−O−、−S
−、−N(RN ) −(RN は水素原子、アルキル基、ま
たはアリール基を表す。)、−CO−、−C(=S)
−、−SO2 −、−SO−、−P(=O)−、アルキレ
ン基、アリーレン基の単独、またはこれらの基の組み合
わせからなる基である。ここで組み合わせからなる基を
具体的に示せば、−CON(RN ) −、−SO 2 N(R
N ) −、−COO−、−N(RN ) CON(RN ) −、
−N(RN ) CSN(RN ) −、−N(RN ) SO2 N
(RN ) −、−SO2 N(RN )CO−、−SO2 N
(RN ) CON(RN ) −、−N(RN ) COCON
(RN ) −、−CON(RN ) CO−、−S−アルキレ
ン基−CONH−、−O−アルキレン基−CONH−、
−O−アルキレン基−NHCO−、−N(RN ) N(R
N ) CONH−、(−O−)2 P(=O)O−、−NH
CO−アリーレン基−SO2 NH−等の基が挙げられ
る。なおこれらの基は左右どちらから連結されていても
よい。
【0027】次に一般式(II)で表される基について更
に詳しく説明する。X- が置換した炭素原子とZとが形
成しうる不飽和ヘテロ環は、共役した正電荷を有する5
員もしくは6員の不飽和ヘテロ環である。共役した正電
荷を有する不飽和ヘテロ環とは、具体的には例えば5員
のヘテロ環を例として挙げると下式に示す共鳴構造式で
表されるヘテロ環を意味する。
に詳しく説明する。X- が置換した炭素原子とZとが形
成しうる不飽和ヘテロ環は、共役した正電荷を有する5
員もしくは6員の不飽和ヘテロ環である。共役した正電
荷を有する不飽和ヘテロ環とは、具体的には例えば5員
のヘテロ環を例として挙げると下式に示す共鳴構造式で
表されるヘテロ環を意味する。
【0028】
【化3】
【0029】X- が置換した炭素原子とZとが形成しう
る不飽和ヘテロ環としては、例えばイミダゾリウム類、
ピラゾリウム類、オキサゾリウム類、チアゾリウム類、
トリアゾリウム類、テトラゾリウム類、チアジアゾリウ
ム類、オキサジアゾリウム類、チアトリアゾリウム類、
オキサトリアゾリウム類、ジチアニウム類、ピリダジニ
ウム類、ピリミジニウム類、トリアジニウム類、テトラ
ジニウム類、オキサチアニウム類、チアジニウム類、オ
キサジニウム類、オキサジアジニウム類、チアジアジニ
ウム類等が挙げられるが、好ましくは5員の不飽和ヘテ
ロ環であり、中でも好ましくはチアジアゾリウム類、オ
キサジアゾリウム類、トリアゾリウム類である。また、
X- が置換した炭素原子とZとが形成しうる不飽和ヘテ
ロ環は一般式(I)に於けるAr1 が有していても良い
置換基で置換されていても良いが、中でもアルキル基、
アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環
基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基が好ましい。
る不飽和ヘテロ環としては、例えばイミダゾリウム類、
ピラゾリウム類、オキサゾリウム類、チアゾリウム類、
トリアゾリウム類、テトラゾリウム類、チアジアゾリウ
ム類、オキサジアゾリウム類、チアトリアゾリウム類、
オキサトリアゾリウム類、ジチアニウム類、ピリダジニ
ウム類、ピリミジニウム類、トリアジニウム類、テトラ
ジニウム類、オキサチアニウム類、チアジニウム類、オ
キサジニウム類、オキサジアジニウム類、チアジアジニ
ウム類等が挙げられるが、好ましくは5員の不飽和ヘテ
ロ環であり、中でも好ましくはチアジアゾリウム類、オ
キサジアゾリウム類、トリアゾリウム類である。また、
X- が置換した炭素原子とZとが形成しうる不飽和ヘテ
ロ環は一般式(I)に於けるAr1 が有していても良い
置換基で置換されていても良いが、中でもアルキル基、
アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環
基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基が好ましい。
【0030】X- が−N- R2 である時のR2 は、置換
もしくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、
n−オクチル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボ
ニルメチル基、ジメチルアミノエチル基など)、置換も
しくは無置換のシクロアルキル基(例えばシクロヘキシ
ル基、4−メチルシクロヘキシル基、シクロペンチル基
など)、置換もしくは無置換のアルケニル基(例えばプ
ロペニル基、2−メチルプロペニル基など)、置換もし
くは無置換のアルキニル基(例えばプロパルギル基、ブ
チニル基、1−メチルプロパルギル基など)、置換もし
くは無置換のアラルキル基(例えばベンジル基、4−メ
トキシベンジル基など)、置換もしくは無置換のアリー
ル基(例えばフェニル基、ナフチル基、4−メチルフェ
ニル基、3−メトキシフェニル基、4−エトキシカルボ
ニルフェニル基など)、置換もしくは無置換のヘテロ環
基(例えばピリジル基、イミダゾリル基、モルホリノ
基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、チエニル基な
ど)を表わす。X- としては−S- が最も好ましい。
もしくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、
n−オクチル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボ
ニルメチル基、ジメチルアミノエチル基など)、置換も
しくは無置換のシクロアルキル基(例えばシクロヘキシ
ル基、4−メチルシクロヘキシル基、シクロペンチル基
など)、置換もしくは無置換のアルケニル基(例えばプ
ロペニル基、2−メチルプロペニル基など)、置換もし
くは無置換のアルキニル基(例えばプロパルギル基、ブ
チニル基、1−メチルプロパルギル基など)、置換もし
くは無置換のアラルキル基(例えばベンジル基、4−メ
トキシベンジル基など)、置換もしくは無置換のアリー
ル基(例えばフェニル基、ナフチル基、4−メチルフェ
ニル基、3−メトキシフェニル基、4−エトキシカルボ
ニルフェニル基など)、置換もしくは無置換のヘテロ環
基(例えばピリジル基、イミダゾリル基、モルホリノ
基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、チエニル基な
ど)を表わす。X- としては−S- が最も好ましい。
【0031】一般式(II)で表される基については具体
的に以下の構造が挙げられる。但し、本発明は以下の構
造に限定されるものではない。
的に以下の構造が挙げられる。但し、本発明は以下の構
造に限定されるものではない。
【0032】
【化4】
【0033】
【化5】
【0034】
【化6】
【0035】一般式(I)で表される化合物のうち、よ
り好ましいものは下記の一般的(III−A)または(III−
B)で表される化合物である。 一般式(III −A)
り好ましいものは下記の一般的(III−A)または(III−
B)で表される化合物である。 一般式(III −A)
【0036】
【化7】
【0037】一般式(III −B)
【0038】
【化8】
【0039】式中、L1 、L2 は連結基を表し、これに
ついては先に一般式(I)において、一般式(II)で表
される基が連結基を介してAr1 、R1 に結合する場合
の連結基について説明したものと同じものを表す。G
2 、G3 はそれぞれ一般式(I)におけるG1 と同じで
あり、それぞれ好ましい範囲も同じである。またR3 、
R6 はそれぞれ一般式(I)におけるR1 と同じであ
り、それぞれ好ましい範囲も同じである。W1 、W2 は
先に一般式(I)におけるAr1 が有していてもよい置
換基について説明したものと同じであり、好ましい範囲
もまた同じである。Y1 、Y2 は置換基を表し、これは
先にAr1 が有していてもよい置換基について説明した
ものと同じものを表すが、好ましくはアルキル基、ヒド
ロキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、スルホンア
ミド基、カルボキシ基、もしくはスルホ基またはそれら
の塩、アルキルチオ基、メルカプト基、アシルオキシ
基、ハロゲン原子である。n1 、n2 、m1 、およびm
2 は0から4の整数を表すが、好ましくは0または1で
あり、m1 、m2 は特に好ましくは0である。R4 およ
びR7 は置換基を表し、これは一般式(II)におけるZ
が有していてもよい置換基について説明したものと同じ
であり、好ましい範囲もまた同じである。R5 、R8 は
水素原子または置換基を表すが、これらが置換基を表す
とき、一般式(II)におけるZが有していてもよい置換
基と同じものを表し、その好ましい範囲もまた同じであ
る。一般式(I)で表される化合物の具体例を以下に示
す。但し、本発明は以下の化合物に限定されるものでは
ない。
ついては先に一般式(I)において、一般式(II)で表
される基が連結基を介してAr1 、R1 に結合する場合
の連結基について説明したものと同じものを表す。G
2 、G3 はそれぞれ一般式(I)におけるG1 と同じで
あり、それぞれ好ましい範囲も同じである。またR3 、
R6 はそれぞれ一般式(I)におけるR1 と同じであ
り、それぞれ好ましい範囲も同じである。W1 、W2 は
先に一般式(I)におけるAr1 が有していてもよい置
換基について説明したものと同じであり、好ましい範囲
もまた同じである。Y1 、Y2 は置換基を表し、これは
先にAr1 が有していてもよい置換基について説明した
ものと同じものを表すが、好ましくはアルキル基、ヒド
ロキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、スルホンア
ミド基、カルボキシ基、もしくはスルホ基またはそれら
の塩、アルキルチオ基、メルカプト基、アシルオキシ
基、ハロゲン原子である。n1 、n2 、m1 、およびm
2 は0から4の整数を表すが、好ましくは0または1で
あり、m1 、m2 は特に好ましくは0である。R4 およ
びR7 は置換基を表し、これは一般式(II)におけるZ
が有していてもよい置換基について説明したものと同じ
であり、好ましい範囲もまた同じである。R5 、R8 は
水素原子または置換基を表すが、これらが置換基を表す
とき、一般式(II)におけるZが有していてもよい置換
基と同じものを表し、その好ましい範囲もまた同じであ
る。一般式(I)で表される化合物の具体例を以下に示
す。但し、本発明は以下の化合物に限定されるものでは
ない。
【0040】
【表1】
【0041】
【表2】
【0042】
【表3】
【0043】
【表4】
【0044】
【表5】
【0045】
【表6】
【0046】
【表7】
【0047】
【表8】
【0048】
【表9】
【0049】
【表10】
【0050】
【表11】
【0051】
【表12】
【0052】
【表13】
【0053】本発明の一般式(I)で表される化合物
は、公知の種々の方法により合成することができる。個
々の化合物によってその合成法は最適なものが選ばれる
ため、特に一般的となりうる合成法を挙げることができ
ないが、その中でも有用な合成ルートの例を幾つか以下
に示す。
は、公知の種々の方法により合成することができる。個
々の化合物によってその合成法は最適なものが選ばれる
ため、特に一般的となりうる合成法を挙げることができ
ないが、その中でも有用な合成ルートの例を幾つか以下
に示す。
【0054】(合成例) (例示化合物4aの合成)例示化合物4aはスキーム1
に従って合成した。
に従って合成した。
【0055】
【化9】
【0056】(合成中間体1の合成)N−p−アミノフ
ェニル−N′−ホルミルヒドラジンとm−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロリドとを反応させた後、得られたN−
m−ニトロベンゼンスルホンアミドフェニル−N′−ホ
ルミルヒドラジンを鉄還元することにより、合成中間体
1を調製した。 (合成中間体2の合成)中間体1、18.4gのアセト
ニトリル100ml溶液にトリエチルアミン8.4mlを加
えた後、二硫化炭素5.4mlを滴下し、50℃にて5時
間攪拌した。反応溶液を10℃以下に冷却しクロロギ酸
エチル5.7mlを加え、室温で2時間攪拌した。希塩酸
および酢酸エチルを加えて生成物を抽出し、乾燥、濃縮
後、カラムクロマトグラフィーにより、合成中間体2、
2.3gを得た。 (例示化合物4aの合成)中間体2、1.9gのアセト
ニトリル10ml溶液に窒素雰囲気下N−ベンゾイル−N
−メチルヒドラジン1gを加え、室温で2時間攪拌し
た。溶媒を留去した後、メタノール10ml、トリエチル
アミン0.1mlを加え、窒素雰囲気下50℃に加熱しな
がらSM−28、0.1gを滴下した。そのまま2時間
攪拌した後、濃塩酸0.1mlを加え、次いで飽和塩化ナ
トリウム水溶液、酢酸エチルを加えて生成物を抽出し、
乾燥、濃縮後カラムクロマトグラフィーにより例示化合
物4a、1.1gを得た。 (例示化合物4bの合成)例示化合物4aの合成におい
て、N−p−アミノフェニル−N′−ホルミルヒドラジ
ンの代わりにN−p−アミノフェニル−N′−トリフル
オロアセチルヒドラジンを用いる以外は全く同様にして
例示化合物4bを合成した。 (例示化合物4dの合成)例示化合物4dはスキーム2
に従って合成した。
ェニル−N′−ホルミルヒドラジンとm−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロリドとを反応させた後、得られたN−
m−ニトロベンゼンスルホンアミドフェニル−N′−ホ
ルミルヒドラジンを鉄還元することにより、合成中間体
1を調製した。 (合成中間体2の合成)中間体1、18.4gのアセト
ニトリル100ml溶液にトリエチルアミン8.4mlを加
えた後、二硫化炭素5.4mlを滴下し、50℃にて5時
間攪拌した。反応溶液を10℃以下に冷却しクロロギ酸
エチル5.7mlを加え、室温で2時間攪拌した。希塩酸
および酢酸エチルを加えて生成物を抽出し、乾燥、濃縮
後、カラムクロマトグラフィーにより、合成中間体2、
2.3gを得た。 (例示化合物4aの合成)中間体2、1.9gのアセト
ニトリル10ml溶液に窒素雰囲気下N−ベンゾイル−N
−メチルヒドラジン1gを加え、室温で2時間攪拌し
た。溶媒を留去した後、メタノール10ml、トリエチル
アミン0.1mlを加え、窒素雰囲気下50℃に加熱しな
がらSM−28、0.1gを滴下した。そのまま2時間
攪拌した後、濃塩酸0.1mlを加え、次いで飽和塩化ナ
トリウム水溶液、酢酸エチルを加えて生成物を抽出し、
乾燥、濃縮後カラムクロマトグラフィーにより例示化合
物4a、1.1gを得た。 (例示化合物4bの合成)例示化合物4aの合成におい
て、N−p−アミノフェニル−N′−ホルミルヒドラジ
ンの代わりにN−p−アミノフェニル−N′−トリフル
オロアセチルヒドラジンを用いる以外は全く同様にして
例示化合物4bを合成した。 (例示化合物4dの合成)例示化合物4dはスキーム2
に従って合成した。
【0057】
【化10】
【0058】(合成中間体3の合成)例示化合物4a、
7.5gおよび1,5−ナフタレンジスルホン酸3gの
メタノール懸濁液300mlを窒素雰囲気下加熱し、50
℃にて3時間攪拌した。酢酸エチルおよび炭酸水素ナト
リウム水溶液を加えて生成物を抽出し、乾燥、濃縮する
ことで中間体3、4.2gを得た。 (例示化合物4dの合成)中間体3、4.2gをジメチ
ルイミダゾリジノンとアセトニトリルの混合溶液(10
0ml)とし、冷却下テトラフルオロコハク酸無水物1.
3mlのアセトニトリル溶液20mlを滴下した。通常の後
処理操作を行った後、カラムクロマトグラフィーによっ
て精製し、例示化合物4d、3.8gを得た。(mp19
5〜200℃) (例示化合物4hの合成)イミダゾール4.4gのアセ
トニトリル溶液100mlを氷冷した後、オキザリルクロ
リド2.1gを滴下した。室温で1時間攪拌した後、不
溶分をろ別し、ろ液に対し室温で4−アミノ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン1gを滴下した。この
溶液に中間体3、8.1gのアセトニトリル溶液50ml
を滴下し、1時間攪拌した。酢酸エチルおよび希塩酸を
加えて生成物を抽出し、乾燥、濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより、例示化合物4h、5.5
gを得た。 (例示化合物21aの合成)例示化合物21aはスキー
ム3に従って合成した。
7.5gおよび1,5−ナフタレンジスルホン酸3gの
メタノール懸濁液300mlを窒素雰囲気下加熱し、50
℃にて3時間攪拌した。酢酸エチルおよび炭酸水素ナト
リウム水溶液を加えて生成物を抽出し、乾燥、濃縮する
ことで中間体3、4.2gを得た。 (例示化合物4dの合成)中間体3、4.2gをジメチ
ルイミダゾリジノンとアセトニトリルの混合溶液(10
0ml)とし、冷却下テトラフルオロコハク酸無水物1.
3mlのアセトニトリル溶液20mlを滴下した。通常の後
処理操作を行った後、カラムクロマトグラフィーによっ
て精製し、例示化合物4d、3.8gを得た。(mp19
5〜200℃) (例示化合物4hの合成)イミダゾール4.4gのアセ
トニトリル溶液100mlを氷冷した後、オキザリルクロ
リド2.1gを滴下した。室温で1時間攪拌した後、不
溶分をろ別し、ろ液に対し室温で4−アミノ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン1gを滴下した。この
溶液に中間体3、8.1gのアセトニトリル溶液50ml
を滴下し、1時間攪拌した。酢酸エチルおよび希塩酸を
加えて生成物を抽出し、乾燥、濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより、例示化合物4h、5.5
gを得た。 (例示化合物21aの合成)例示化合物21aはスキー
ム3に従って合成した。
【0059】
【化11】
【0060】(合成中間体4の合成)m−アミノニトロ
ベンゼンに無水酢酸を反応させ、次いで鉄還元して得ら
れたm−アミノアセトアニリド16.5gのメタノール
100ml溶液に対して、室温でチオカルボニルジイミダ
ゾール20gを加え、1時間攪拌した。析出する固体を
ろ別することで合成中間体4、15.1gを得た。 (合成中間体5の合成)合成中間体4、8gのアセトニ
トリル50ml溶液に対して、室温でN−アセチル−N−
メチルヒドラジン3.5gのアセトニトリル10ml溶液
を滴下した。1時間攪拌した後、析出固体をろ別し、ろ
液を濃縮することで合成中間体5、11gを得た。 (合成中間体6の合成)合成中間体5、10gのメタノ
ール50ml溶液にSM−28を1ml加え、50℃で2時
間攪拌した。生じた沈殿をろ別し、ろ液を濃縮すること
で合成中間体6、7.5gを得た。 (合成中間体7の合成)合成中間体6、5gに水70ml
と塩酸70mlを加えて90℃で2時間加熱攪拌した。溶
媒を留去した後、メタノール、酢酸エチル混合溶媒より
再結晶することで合成中間体7、4gを得た。 (例示化合物21aの合成)合成中間体7、3.5gと
化合物8、5.4g、及びイミダゾール4gにジメチル
アセトアミド20mlを加え、60℃で2時間加熱攪拌し
た。希塩酸および酢酸エチルを加えて生成物を抽出し、
乾燥、濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより、例示
化合物21a、4.4gを得た。 (例示化合物21dの合成)例示化合物4dの合成にお
いて、例示化合物4aの代わりに例示化合物21aを用
いる以外は全く同様にして例示化合物21dを合成し
た。 (例示化合物21bの合成)例示化合物21dの合成に
おいて、テトラフルオロコハク酸無水物の代わりにトリ
フルオロ酢酸無水物を用いる以外は全く同様にして例示
化合物21bを合成した。(アモルファス) (例示化合物21cの合成)例示化合物21dの合成にお
いて、テトラフルオロコハク酸無水物の代わりにジフル
オロ酢酸無水物を用いる以外は全く同様にして例示化合
物21cを合成した。
ベンゼンに無水酢酸を反応させ、次いで鉄還元して得ら
れたm−アミノアセトアニリド16.5gのメタノール
100ml溶液に対して、室温でチオカルボニルジイミダ
ゾール20gを加え、1時間攪拌した。析出する固体を
ろ別することで合成中間体4、15.1gを得た。 (合成中間体5の合成)合成中間体4、8gのアセトニ
トリル50ml溶液に対して、室温でN−アセチル−N−
メチルヒドラジン3.5gのアセトニトリル10ml溶液
を滴下した。1時間攪拌した後、析出固体をろ別し、ろ
液を濃縮することで合成中間体5、11gを得た。 (合成中間体6の合成)合成中間体5、10gのメタノ
ール50ml溶液にSM−28を1ml加え、50℃で2時
間攪拌した。生じた沈殿をろ別し、ろ液を濃縮すること
で合成中間体6、7.5gを得た。 (合成中間体7の合成)合成中間体6、5gに水70ml
と塩酸70mlを加えて90℃で2時間加熱攪拌した。溶
媒を留去した後、メタノール、酢酸エチル混合溶媒より
再結晶することで合成中間体7、4gを得た。 (例示化合物21aの合成)合成中間体7、3.5gと
化合物8、5.4g、及びイミダゾール4gにジメチル
アセトアミド20mlを加え、60℃で2時間加熱攪拌し
た。希塩酸および酢酸エチルを加えて生成物を抽出し、
乾燥、濃縮後、カラムクロマトグラフィーにより、例示
化合物21a、4.4gを得た。 (例示化合物21dの合成)例示化合物4dの合成にお
いて、例示化合物4aの代わりに例示化合物21aを用
いる以外は全く同様にして例示化合物21dを合成し
た。 (例示化合物21bの合成)例示化合物21dの合成に
おいて、テトラフルオロコハク酸無水物の代わりにトリ
フルオロ酢酸無水物を用いる以外は全く同様にして例示
化合物21bを合成した。(アモルファス) (例示化合物21cの合成)例示化合物21dの合成にお
いて、テトラフルオロコハク酸無水物の代わりにジフル
オロ酢酸無水物を用いる以外は全く同様にして例示化合
物21cを合成した。
【0061】本発明のヒドラジン化合物は、ハロゲン化
銀写真感光材料の造核剤またはカブリ剤として有用であ
る。
銀写真感光材料の造核剤またはカブリ剤として有用であ
る。
【0062】本発明のヒドラジン化合物は、適当な水混
和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタ
ノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなど
に溶解して用いることができる。また、既によく知られ
ている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリ
クレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあ
るいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルや
シクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械
的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるい
は固体分散法として知られている方法によって、ヒドラ
ジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。
和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタ
ノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなど
に溶解して用いることができる。また、既によく知られ
ている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリ
クレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあ
るいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルや
シクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械
的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるい
は固体分散法として知られている方法によって、ヒドラ
ジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。
【0063】本発明のヒドラジン化合物は、支持体に対
してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層ある
いは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。本発明のヒド
ラジン化合物の添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×
10-6〜1×10-2モルが好ましく、1×10-5〜5×
10-3モルがより好ましく、5×10-5〜5×10-3モ
ルが最も好ましい。本発明に用いられるヒドラジン化合
物としては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE I
tem 23516(1983年11月号、p.346)お
よびそこに引用された文献の他、米国特許第4,08
0,207号、同4,269,929号、同4,27
6,364号、同4,278,748号、同4,38
5,108号、同4,459,347号、同4,47
8,928号、同4,560,638号、同4,68
6,167号、同4,912,016号、同4,98
8,604号、同4,994,365号、同5,04
1,355号、同4,104,769号、英国特許第
2,011,391B号、欧州特許第217,310
号、同301,799号、同356,898号、特開昭
60−179734号、同61−170733号、同6
1−270744号、同62−178246号、同62
−270948号、同63−29751号、同63−3
2538号、同63−104047号、同63−121
838号、同63−129337号、同63−2237
44号、同63−234244号、同63−23424
5号、同63−234246号、同63−294552
号、同63−306438号、同64−10233号、
特開平1−90439号、同1−100530号、同1
−105941号、同1−105943号、同1−27
6128号、同1−280747号、同1−28354
8号、同1−283549号、同1−285940号、
同2−2541号、同2−77057号、同2−139
538号、同2−196234号、同2−196235
号、同2−198440号、同2−198441号、同
2−198442号、同2−220042号、同2−2
21953号、同2−221954号、同2−2853
42号、同2−285343号、同2−289843
号、同2−302750号、同2−304550号、同
3−37642号、同3−54549号、同3−125
134号、同3−184039号、同3−240036
号、同3−240037号、同3−259240号、同
3−280038号、同3−282536号、同4−5
1143号、同4−56842号、同4−84134
号、同2−230233号、同4−96053号、同4
−216544号、同5−45761号、同5−457
62号、同5−45763号、同5−45764号、同
5−45765号、特願平5−94925号に記載され
たものを組合せて用いることができる。
してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層ある
いは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。本発明のヒド
ラジン化合物の添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×
10-6〜1×10-2モルが好ましく、1×10-5〜5×
10-3モルがより好ましく、5×10-5〜5×10-3モ
ルが最も好ましい。本発明に用いられるヒドラジン化合
物としては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE I
tem 23516(1983年11月号、p.346)お
よびそこに引用された文献の他、米国特許第4,08
0,207号、同4,269,929号、同4,27
6,364号、同4,278,748号、同4,38
5,108号、同4,459,347号、同4,47
8,928号、同4,560,638号、同4,68
6,167号、同4,912,016号、同4,98
8,604号、同4,994,365号、同5,04
1,355号、同4,104,769号、英国特許第
2,011,391B号、欧州特許第217,310
号、同301,799号、同356,898号、特開昭
60−179734号、同61−170733号、同6
1−270744号、同62−178246号、同62
−270948号、同63−29751号、同63−3
2538号、同63−104047号、同63−121
838号、同63−129337号、同63−2237
44号、同63−234244号、同63−23424
5号、同63−234246号、同63−294552
号、同63−306438号、同64−10233号、
特開平1−90439号、同1−100530号、同1
−105941号、同1−105943号、同1−27
6128号、同1−280747号、同1−28354
8号、同1−283549号、同1−285940号、
同2−2541号、同2−77057号、同2−139
538号、同2−196234号、同2−196235
号、同2−198440号、同2−198441号、同
2−198442号、同2−220042号、同2−2
21953号、同2−221954号、同2−2853
42号、同2−285343号、同2−289843
号、同2−302750号、同2−304550号、同
3−37642号、同3−54549号、同3−125
134号、同3−184039号、同3−240036
号、同3−240037号、同3−259240号、同
3−280038号、同3−282536号、同4−5
1143号、同4−56842号、同4−84134
号、同2−230233号、同4−96053号、同4
−216544号、同5−45761号、同5−457
62号、同5−45763号、同5−45764号、同
5−45765号、特願平5−94925号に記載され
たものを組合せて用いることができる。
【0064】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は乳剤
層またはその他の親水性コロイド層の少なくとも一層に
公知の造核促進剤を併用させてもよい。
層またはその他の親水性コロイド層の少なくとも一層に
公知の造核促進剤を併用させてもよい。
【0065】本発明に用いられる造核促進剤としては、
アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体または
ヒドロキシメチル誘導体などが挙げられる。以下にその
例を列挙する。特開平7−77783号公報48頁2行
〜37行に記載の化合物で、具体的には49頁〜58頁
に記載の化合物A−1)〜A−73)。特開平7−84
331号に記載の(化21)、(化22)および(化2
3)で表される化合物で、具体的には同公報6頁〜8頁
に記載の化合物。特開平7−104426号に記載の一
般式〔Na〕および一般式〔Nb〕で表される化合物
で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載のNa−1
〜Na−22の化合物およびNb−1〜Nb−12の化
合物。特願平7−37817号に記載の一般式(1)、
一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)、一般式
(5)、一般式(6)および一般式(7)で表される化
合物で、具体的には同明細書に記載の1−1〜1−19
の化合物、2−1〜2−22の化合物、3−1〜3−3
6の化合物、4−1〜4−5の化合物、5−1〜5−4
1の化合物、6−1〜6−58の化合物および7−1〜
7−38の化合物。
アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体または
ヒドロキシメチル誘導体などが挙げられる。以下にその
例を列挙する。特開平7−77783号公報48頁2行
〜37行に記載の化合物で、具体的には49頁〜58頁
に記載の化合物A−1)〜A−73)。特開平7−84
331号に記載の(化21)、(化22)および(化2
3)で表される化合物で、具体的には同公報6頁〜8頁
に記載の化合物。特開平7−104426号に記載の一
般式〔Na〕および一般式〔Nb〕で表される化合物
で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載のNa−1
〜Na−22の化合物およびNb−1〜Nb−12の化
合物。特願平7−37817号に記載の一般式(1)、
一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)、一般式
(5)、一般式(6)および一般式(7)で表される化
合物で、具体的には同明細書に記載の1−1〜1−19
の化合物、2−1〜2−22の化合物、3−1〜3−3
6の化合物、4−1〜4−5の化合物、5−1〜5−4
1の化合物、6−1〜6−58の化合物および7−1〜
7−38の化合物。
【0066】本発明に好ましく用いられる造核促進剤は
下記の一般式(IV)、(V)、(VI)、(VII)で示され
る化合物である。 一般式(IV)
下記の一般式(IV)、(V)、(VI)、(VII)で示され
る化合物である。 一般式(IV)
【0067】
【化12】
【0068】式中、R10、R20、R30はアルキル基、シ
クロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基
を表し、Qは窒素原子またはリン原子を表す。LはQ+
とその炭素原子で結合するm価の有機基を表し、ここに
mは1から4の整数を表す。Xn-はn価の対アニオンを
表し、ここにnは1から3の整数を表す。但しR10、R
20、R30またはLが、その置換基にアニオン基を有し、
Q+ と分子内塩を形成する場合、Xn-は必要ない。 一般式(V)
クロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基
を表し、Qは窒素原子またはリン原子を表す。LはQ+
とその炭素原子で結合するm価の有機基を表し、ここに
mは1から4の整数を表す。Xn-はn価の対アニオンを
表し、ここにnは1から3の整数を表す。但しR10、R
20、R30またはLが、その置換基にアニオン基を有し、
Q+ と分子内塩を形成する場合、Xn-は必要ない。 一般式(V)
【0069】
【化13】
【0070】一般式(VI)
【0071】
【化14】
【0072】式中、A1 、A2 、A3 、A4 は4級化さ
れた窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテ
ロ環を完成させるための有機残基を表す。B、Cはそれ
ぞれ、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、アルキ
ニレン、−SO2 −、−SO−、−O−、−S−、−N
(RN )−、−C=O−、−P=O−を単独または組み
合わせて構成される2価の連結基を表す。ただし、RN
は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基を
表す。R1 、R2 は各々アルキル基、アラルキル基を表
す。Xn-はn価の対アニオンを表し、ここにnは1から
3の整数を表す。但し分子内塩を形成しうる場合、Xn-
は必要ない。 一般式(VII)
れた窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテ
ロ環を完成させるための有機残基を表す。B、Cはそれ
ぞれ、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、アルキ
ニレン、−SO2 −、−SO−、−O−、−S−、−N
(RN )−、−C=O−、−P=O−を単独または組み
合わせて構成される2価の連結基を表す。ただし、RN
は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基を
表す。R1 、R2 は各々アルキル基、アラルキル基を表
す。Xn-はn価の対アニオンを表し、ここにnは1から
3の整数を表す。但し分子内塩を形成しうる場合、Xn-
は必要ない。 一般式(VII)
【0073】
【化15】
【0074】式中Zは、4級化された窒素原子を含む、
置換もしくは無置換の不飽和ヘテロ環を完成させるため
の有機残基を表す。R3 はアルキル基、アラルキル基を
表す。Xn-はn価の対アニオンを表し、ここにnは1か
ら3の整数を表す。但し分子内塩を形成しうる場合、X
n-は必要ない。
置換もしくは無置換の不飽和ヘテロ環を完成させるため
の有機残基を表す。R3 はアルキル基、アラルキル基を
表す。Xn-はn価の対アニオンを表し、ここにnは1か
ら3の整数を表す。但し分子内塩を形成しうる場合、X
n-は必要ない。
【0075】本発明に用いられる一般式(IV)、
(V)、(VI)および(VII) で表されるオニウム塩化合
物について、以下詳細に説明する。まず一般式(IV)に
ついて、詳細に説明する。
(V)、(VI)および(VII) で表されるオニウム塩化合
物について、以下詳細に説明する。まず一般式(IV)に
ついて、詳細に説明する。
【0076】
【化16】
【0077】式中、R10、R20、R30はアルキル基、シ
クロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基
を表し、これらはさらに置換基を有していてもよい。Q
はリン原子または窒素原子を表す。LはQ+ とその炭素
原子で結合するm価の有機基を表し、ここにmは1から
4の整数を表す。Xn-はn価の対アニオンを表し、nは
1から3の整数を表す。但しR10、R20、R30またはL
が、その置換基にアニオン基を有し、Q+ と分子内塩を
形成する場合、Xn-は必要ない。
クロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基
を表し、これらはさらに置換基を有していてもよい。Q
はリン原子または窒素原子を表す。LはQ+ とその炭素
原子で結合するm価の有機基を表し、ここにmは1から
4の整数を表す。Xn-はn価の対アニオンを表し、nは
1から3の整数を表す。但しR10、R20、R30またはL
が、その置換基にアニオン基を有し、Q+ と分子内塩を
形成する場合、Xn-は必要ない。
【0078】R10、R20、R30で表される基の例として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec −ブチル基、tert−
ブチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などの直鎖又は分
枝状のアルキル基;置換もしくは無置換のベンジル基な
どのアラルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニ
ル基、ナフチル基、フエナントリル基などのアリール
基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、などのア
ルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基
などのシクロアルケニル基;フェニルエチニル基等のア
ルキニル基;ピリジル基、キノリル基、フリル基、イミ
ダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾ
トリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリル基、
ピリミジル基、ピロリジル基などのヘテロ環基が挙げら
れる。
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec −ブチル基、tert−
ブチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などの直鎖又は分
枝状のアルキル基;置換もしくは無置換のベンジル基な
どのアラルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニ
ル基、ナフチル基、フエナントリル基などのアリール
基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、などのア
ルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基
などのシクロアルケニル基;フェニルエチニル基等のア
ルキニル基;ピリジル基、キノリル基、フリル基、イミ
ダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾ
トリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリル基、
ピリミジル基、ピロリジル基などのヘテロ環基が挙げら
れる。
【0079】これらの基上に置換した置換基の例として
は、R10、R20、R30で表される基の他に、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子、ニトロ基(アルキルもしくはアリール)アミノ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキルまたはア
リール)チオ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシル
基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル基(カ
ルボキシラートを含む)、スルホン酸基(スルホナート
を含む)、シアノ基、オキシカルボニル基、アシル基等
が挙げられる。
は、R10、R20、R30で表される基の他に、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子、ニトロ基(アルキルもしくはアリール)アミノ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキルまたはア
リール)チオ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシル
基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル基(カ
ルボキシラートを含む)、スルホン酸基(スルホナート
を含む)、シアノ基、オキシカルボニル基、アシル基等
が挙げられる。
【0080】Lで表される基の例としては、mが1を表
す時、R10、R20、R30と同義の基が挙げられるが、こ
の他にmが2以上の整数を表す時、トリメチレン基、テ
トラメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン
基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基などのポリメ
チレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン
基などのアリーレン基、トリメチレンメチル基、テトラ
メチレンメチル基などの多価アルキレン基、フェニレン
−1,3,5−トルイル基、フェニレン−1,2,4,
5−テトライル基などの多価アリーレン基などが挙げら
れる。
す時、R10、R20、R30と同義の基が挙げられるが、こ
の他にmが2以上の整数を表す時、トリメチレン基、テ
トラメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン
基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基などのポリメ
チレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン
基などのアリーレン基、トリメチレンメチル基、テトラ
メチレンメチル基などの多価アルキレン基、フェニレン
−1,3,5−トルイル基、フェニレン−1,2,4,
5−テトライル基などの多価アリーレン基などが挙げら
れる。
【0081】Xn-で表される対アニオンの例としては、
塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲン
イオン、アセテートイオン、オキサレートイオン、フマ
レートイオン、ベンゾエートイオンなどのカルボキシレ
ートイオン、p−トルエンスルホネート、メタンスルホ
ネート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネートな
どのスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオ
ン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。
塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲン
イオン、アセテートイオン、オキサレートイオン、フマ
レートイオン、ベンゾエートイオンなどのカルボキシレ
ートイオン、p−トルエンスルホネート、メタンスルホ
ネート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネートな
どのスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオ
ン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。
【0082】一般式(IV)において、R10、R20、R30
は好ましくは炭素数20以下の基であり、Qがリン原子
を表す時、炭素数15以下のアリール基が特に好まし
く、Qが窒素原子を表す時、炭素数15以下のアルキル
基、アラルキル基、アリール基が特に好ましい。mは1
または2が好ましく、mが1を表す時、Lは好ましくは
炭素数20以下の基であり、総炭素数15以下のアルキ
ル基、アラルキル基、またはアリール基が特に好まし
い。mが2を表す時、Lで表される2価の有機基は、好
ましくはアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン
基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−N
(RN ' )−基(RN ’は水素原子またはR10、R20、
R30と同義の基を表し、分子内に複数のRN ’が存在す
る時、これらは同じであっても異なっていても良く、さ
らには互いに結合していても良い)、−S−基、−SO
−基、−SO2 −基を組み合わせて形成される2価の基
である。mが2を表す時、Lはその炭素原子でQ+ と結
合する総炭素数20以下の2価の基であることが好まし
い。mが2以上の整数を表す時、分子内にR10、R20、
R 30はそれぞれ複数存在するが、その複数のR10、
R20、R30はそれぞれ同じであっても異なっていても良
い。
は好ましくは炭素数20以下の基であり、Qがリン原子
を表す時、炭素数15以下のアリール基が特に好まし
く、Qが窒素原子を表す時、炭素数15以下のアルキル
基、アラルキル基、アリール基が特に好ましい。mは1
または2が好ましく、mが1を表す時、Lは好ましくは
炭素数20以下の基であり、総炭素数15以下のアルキ
ル基、アラルキル基、またはアリール基が特に好まし
い。mが2を表す時、Lで表される2価の有機基は、好
ましくはアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン
基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−N
(RN ' )−基(RN ’は水素原子またはR10、R20、
R30と同義の基を表し、分子内に複数のRN ’が存在す
る時、これらは同じであっても異なっていても良く、さ
らには互いに結合していても良い)、−S−基、−SO
−基、−SO2 −基を組み合わせて形成される2価の基
である。mが2を表す時、Lはその炭素原子でQ+ と結
合する総炭素数20以下の2価の基であることが好まし
い。mが2以上の整数を表す時、分子内にR10、R20、
R 30はそれぞれ複数存在するが、その複数のR10、
R20、R30はそれぞれ同じであっても異なっていても良
い。
【0083】Xn-で表される対アニオンとしては、ハロ
ゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネートイ
オン、硫酸イオンが好ましく、nは1または2が好まし
い。
ゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネートイ
オン、硫酸イオンが好ましく、nは1または2が好まし
い。
【0084】本発明の一般式(IV)で表される化合物の
多くのものは公知であり、試薬として市販のものであ
る。一般的合成法としては、Qがリン原子の時、ホスフ
ィン酸類をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステル
などのアルキル化剤と反応させる方法:あるいはホスホ
ニウム塩類の対陰イオンを常法により交換する方法があ
る。またQが窒素原子の時、1級、2級、もしくは3級
のアミノ化合物をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エ
ステル等のアルキル化剤と反応させる方法がある。
多くのものは公知であり、試薬として市販のものであ
る。一般的合成法としては、Qがリン原子の時、ホスフ
ィン酸類をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステル
などのアルキル化剤と反応させる方法:あるいはホスホ
ニウム塩類の対陰イオンを常法により交換する方法があ
る。またQが窒素原子の時、1級、2級、もしくは3級
のアミノ化合物をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エ
ステル等のアルキル化剤と反応させる方法がある。
【0085】一般式(IV)で表される化合物の具体例を
以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定される
ものではない。
以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定される
ものではない。
【0086】
【化17】
【0087】
【化18】
【0088】
【化19】
【0089】
【化20】
【0090】
【化21】
【0091】
【化22】
【0092】次に一般式(V)および一般式(VI)につ
いて更に詳細に説明する。
いて更に詳細に説明する。
【0093】
【化23】
【0094】式中、A1 、A2 、A3 、A4 は4級化さ
れた窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテ
ロ環を完成させるための有機残基を表し、炭素原子、水
素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよ
く、更にベンゼン環が縮環してもかまわない。A1 、A
2 、A3 、A4 が形成する不飽和ヘテロ環の例として
は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダ
ゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾト
リアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環などを挙げることができる。特に好ましく
は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環である。
れた窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテ
ロ環を完成させるための有機残基を表し、炭素原子、水
素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよ
く、更にベンゼン環が縮環してもかまわない。A1 、A
2 、A3 、A4 が形成する不飽和ヘテロ環の例として
は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダ
ゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾト
リアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環などを挙げることができる。特に好ましく
は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環である。
【0095】B、Cで表される2価の基は、アルキレ
ン、アリーレン、アルケニレン、アルキニレン、−SO
2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(RN )−、−
C=O−、−P=O−を単独または組合せて構成される
ものが好ましい。ただし、RNはアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、水素原子を表す。特に好ましい例と
して、B、Cはアルキレン、アリーレン、−C=O−、
−O−、−S−、−N(RN )−を単独または組合せて
構成されるものを挙げることができる。
ン、アリーレン、アルケニレン、アルキニレン、−SO
2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(RN )−、−
C=O−、−P=O−を単独または組合せて構成される
ものが好ましい。ただし、RNはアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、水素原子を表す。特に好ましい例と
して、B、Cはアルキレン、アリーレン、−C=O−、
−O−、−S−、−N(RN )−を単独または組合せて
構成されるものを挙げることができる。
【0096】R1 、R2 は炭素数1〜20のアルキル基
が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。アルキ
ル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、ハロ
ゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あるい
は無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒドロキシ
エチル基など)、置換あるいは無置換のアリール基(例
えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル基な
ど)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベンゾ
イル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基など)、
(アルキルもしくはアリール)オキシカルボニル基、ス
ルホ基(スルホナートを含む)、カルボキシ基(カルボ
キシラートを含む)、メルカプト基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、
アリールオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、
チオウレイド基、(アルキルもしくはアリール)アミノ
基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基等が挙げられる。特に好ましくは、R1 、R2 は各
々炭素数1〜10のアルキル基である。好ましい置換基
の例として、カルバモイル基、オキシカルボニル基、ア
シル基、アリール基、スルホ基(スルホナートを含
む)、カルボキシ基(カルボキシラートを含む)、ヒド
ロキシ基を挙げることができる。
が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。アルキ
ル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、ハロ
ゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あるい
は無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒドロキシ
エチル基など)、置換あるいは無置換のアリール基(例
えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル基な
ど)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベンゾ
イル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基など)、
(アルキルもしくはアリール)オキシカルボニル基、ス
ルホ基(スルホナートを含む)、カルボキシ基(カルボ
キシラートを含む)、メルカプト基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、
アリールオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、
チオウレイド基、(アルキルもしくはアリール)アミノ
基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基等が挙げられる。特に好ましくは、R1 、R2 は各
々炭素数1〜10のアルキル基である。好ましい置換基
の例として、カルバモイル基、オキシカルボニル基、ア
シル基、アリール基、スルホ基(スルホナートを含
む)、カルボキシ基(カルボキシラートを含む)、ヒド
ロキシ基を挙げることができる。
【0097】A1 、A2 、A3 、A4 が4級化された窒
素原子と共に形成する不飽和ヘテロ環は、置換基を有し
ていてもよい。この場合の置換基の例としては、上記に
R1、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換基か
ら選ばれる。置換基として好ましくは、炭素数0〜10
のアリール基、アルキル基、カルバモイル基、(アルキ
ルもしくはアリール)アミノ基、オキシカルボニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキルもしくは
アリール)チオ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、スルホ基(スルホナートを含む)、
カルボキシ基(カルボキシラートを含む)等が挙げられ
る。
素原子と共に形成する不飽和ヘテロ環は、置換基を有し
ていてもよい。この場合の置換基の例としては、上記に
R1、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換基か
ら選ばれる。置換基として好ましくは、炭素数0〜10
のアリール基、アルキル基、カルバモイル基、(アルキ
ルもしくはアリール)アミノ基、オキシカルボニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキルもしくは
アリール)チオ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、スルホ基(スルホナートを含む)、
カルボキシ基(カルボキシラートを含む)等が挙げられ
る。
【0098】Xn-で表される対アニオンについては、一
般式(IV)と同じものであり、その好ましい範囲もまた
同じである。
般式(IV)と同じものであり、その好ましい範囲もまた
同じである。
【0099】本発明の化合物は、一般によく知られた方
法により容易に合成することができるが、以下の文献が
参考になる。(参照、Quart.Rev., 16,163(19
62).)
法により容易に合成することができるが、以下の文献が
参考になる。(参照、Quart.Rev., 16,163(19
62).)
【0100】一般式(V)及び一般式(VI)の具体的化
合物を以下に示すが、本発明はこれに限定されるもので
はない。
合物を以下に示すが、本発明はこれに限定されるもので
はない。
【0101】
【化24】
【0102】
【化25】
【0103】
【化26】
【0104】
【化27】
【0105】
【化28】
【0106】次に一般式(VII) について更に詳細に説明
する。
する。
【0107】
【化29】
【0108】Zを含む含窒素不飽和ヘテロ環は、窒素原
子の他に炭素原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含
んでもよく、さらにベンゼン環か縮環していてもよく、
また置換基を有していてもよい。形成されるヘテロ環の
例としては、一般式(V)および一般式(VI)のA1 、
A2 、A3 、A4 が形成する含窒素不飽和ヘテロ環の例
と同じものが挙げられる。好ましい範囲もまた同じであ
り、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環が好まし
い。Zを含む含窒素不飽和ヘテロ環が置換基を有する
時、その置換基の例は一般式(V)および一般式(VI)
のA1 、A2 、A3 、A4 が形成する含窒素不飽和ヘテ
ロ環が有していてもよい置換基の例と同じものが挙げら
れ、好ましい範囲もまた同じである。
子の他に炭素原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含
んでもよく、さらにベンゼン環か縮環していてもよく、
また置換基を有していてもよい。形成されるヘテロ環の
例としては、一般式(V)および一般式(VI)のA1 、
A2 、A3 、A4 が形成する含窒素不飽和ヘテロ環の例
と同じものが挙げられる。好ましい範囲もまた同じであ
り、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環が好まし
い。Zを含む含窒素不飽和ヘテロ環が置換基を有する
時、その置換基の例は一般式(V)および一般式(VI)
のA1 、A2 、A3 、A4 が形成する含窒素不飽和ヘテ
ロ環が有していてもよい置換基の例と同じものが挙げら
れ、好ましい範囲もまた同じである。
【0109】R3 はアルキル基またはアラルキル基を表
すが、これらは炭素数1〜20で、置換もしくは無置換
で、さらに直鎖もしくは分枝、或いは環状であってもよ
い。その置換基としては、一般式(V)のR1 、R2 で
表されるアルキル基が有していてもよい置換基の例と同
じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じである。
すが、これらは炭素数1〜20で、置換もしくは無置換
で、さらに直鎖もしくは分枝、或いは環状であってもよ
い。その置換基としては、一般式(V)のR1 、R2 で
表されるアルキル基が有していてもよい置換基の例と同
じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じである。
【0110】Xn-で表される対アニオンについては、一
般式(IV)と同じものであり、その好ましい範囲もまた
同じである。
般式(IV)と同じものであり、その好ましい範囲もまた
同じである。
【0111】本発明の一般式(VII)で表される化合物
は、一般によく知られた方法により容易に合成すること
ができるが、以下の文献が参考になる。(参照、Quart.
Rev.,16,163(1962).)
は、一般によく知られた方法により容易に合成すること
ができるが、以下の文献が参考になる。(参照、Quart.
Rev.,16,163(1962).)
【0112】次に本発明の一般式(VII)で表される化合
物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
【0113】
【化30】
【0114】
【化31】
【0115】造核促進剤として、本発明に好ましく用い
られるアミノ化合物としては、以下に示す化合物が用い
られる。
られるアミノ化合物としては、以下に示す化合物が用い
られる。
【0116】特開平7−84331号に記載の(化2
1)、(化22)および(化23)で表される化合物
で、具体的には同公報6頁〜8頁に記載の化合物。特開
平7−104426号に記載の一般式〔Na〕で表され
る化合物で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載の
Na−1〜Na−22の化合物。特願平7−37817
号に記載の一般式(1)、一般式(2)、一般式
(3)、一般式(4)、一般式(5)、一般式(6)お
よび一般式(7)で表される化合物で、具体的には同明
細書に記載の1−1〜1−19の化合物、2−1〜2−
22の化合物、3−1〜3−36の化合物、4−1〜4
−5の化合物、5−1〜5−41の化合物、6−1〜6
−58の化合物および7−1〜7−38の化合物。
1)、(化22)および(化23)で表される化合物
で、具体的には同公報6頁〜8頁に記載の化合物。特開
平7−104426号に記載の一般式〔Na〕で表され
る化合物で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載の
Na−1〜Na−22の化合物。特願平7−37817
号に記載の一般式(1)、一般式(2)、一般式
(3)、一般式(4)、一般式(5)、一般式(6)お
よび一般式(7)で表される化合物で、具体的には同明
細書に記載の1−1〜1−19の化合物、2−1〜2−
22の化合物、3−1〜3−36の化合物、4−1〜4
−5の化合物、5−1〜5−41の化合物、6−1〜6
−58の化合物および7−1〜7−38の化合物。
【0117】本発明の造核促進剤は、適当な水混和性有
機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既によく知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、造核促進
剤の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散し用いることができる。
機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既によく知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、造核促進
剤の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散し用いることができる。
【0118】本発明の造核促進剤は、支持体に対してハ
ロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あるいは他
の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハ
ロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイ
ド層に添加することが好ましい。本発明の造核促進剤の
添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜2×1
0-2モルが好ましく、1×10-5〜2×10-2モルがよ
り好ましく、2×10-5〜1×10-2モルが最も好まし
い。
ロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あるいは他
の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハ
ロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイ
ド層に添加することが好ましい。本発明の造核促進剤の
添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜2×1
0-2モルが好ましく、1×10-5〜2×10-2モルがよ
り好ましく、2×10-5〜1×10-2モルが最も好まし
い。
【0119】本発明に係わるハロゲン化銀乳剤はハロゲ
ン化銀として、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、塩沃臭化
銀、沃臭化銀のいずれでもよいが、塩化銀含有率30モ
ル%以上が好ましく、50モル%以上が更に好ましい。
また、沃化銀の含有率は5モル%以下が好ましく、2モ
ル%以下が更に好ましい。
ン化銀として、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、塩沃臭化
銀、沃臭化銀のいずれでもよいが、塩化銀含有率30モ
ル%以上が好ましく、50モル%以上が更に好ましい。
また、沃化銀の含有率は5モル%以下が好ましく、2モ
ル%以下が更に好ましい。
【0120】ハロゲン化銀粒子の形状は、立方体、十四
面体、八面体、不定型、板状のいずれでも良いが、立方
体もしくは板状が好ましい。
面体、八面体、不定型、板状のいずれでも良いが、立方
体もしくは板状が好ましい。
【0121】本発明に用いられる写真乳剤はP.Glafkide
s 著 Chimie et Physique Photographique(Paul Monte
l 社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Photographic Em
ulsion Chemistry (The Focal Press 刊、1966
年)、V.L. Zelikman et al 著 Making and Coating Ph
otographic Emulsion (The Focal Press社、1964
年)などに記載された方法を用いて調製することができ
る。
s 著 Chimie et Physique Photographique(Paul Monte
l 社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Photographic Em
ulsion Chemistry (The Focal Press 刊、1966
年)、V.L. Zelikman et al 著 Making and Coating Ph
otographic Emulsion (The Focal Press社、1964
年)などに記載された方法を用いて調製することができ
る。
【0122】すなわち、酸性法、中性法等のいずれでも
よいが、酸性条件下で行うことが好ましい。又、可溶性
銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片
側混合法、同時混合法、それらの組み合わせなどのいず
れを用いても良い。粒子を銀イオン過剰の下において形
成させる方法(いわゆる逆混合法)を用いることもでき
る。同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成
される液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわち、い
わゆるコントロールド・ダブルジェット法を用いること
もできる。またアンモニア、チオエーテル、四置換チオ
尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して粒子形成
させることが好ましい。より好ましくは四置換チオ尿素
化合物であり、特開昭53−82408号、同55−7
7737号に記載されている。好ましいチオ尿素化合物
はテトラメチルチオ尿素、1,3−ジメチル−2−イミ
ダゾリジンチオンである。ハロゲン化銀溶剤の添加量は
用いる化合物の種類および目的とする粒子サイズ、ハロ
ゲン組成により異なるが、ハロゲン化銀1モルあたり1
0-5〜10-2モルが好ましい。
よいが、酸性条件下で行うことが好ましい。又、可溶性
銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片
側混合法、同時混合法、それらの組み合わせなどのいず
れを用いても良い。粒子を銀イオン過剰の下において形
成させる方法(いわゆる逆混合法)を用いることもでき
る。同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成
される液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわち、い
わゆるコントロールド・ダブルジェット法を用いること
もできる。またアンモニア、チオエーテル、四置換チオ
尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して粒子形成
させることが好ましい。より好ましくは四置換チオ尿素
化合物であり、特開昭53−82408号、同55−7
7737号に記載されている。好ましいチオ尿素化合物
はテトラメチルチオ尿素、1,3−ジメチル−2−イミ
ダゾリジンチオンである。ハロゲン化銀溶剤の添加量は
用いる化合物の種類および目的とする粒子サイズ、ハロ
ゲン組成により異なるが、ハロゲン化銀1モルあたり1
0-5〜10-2モルが好ましい。
【0123】コントロールド・ダブルジェット法および
ハロゲン化銀溶剤を使用した粒子形成方法では、結晶型
が規則的で粒子サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作
るのが容易であり、本発明に用いられるハロゲン化銀乳
剤を作るのに有用な手段である。また、粒子サイズを均
一にするためには、英国特許第1,535,016号、
特公昭48−36890号、同52−16364号に記
載されているように、硝酸銀やハロゲン化アルカリの添
加速度を粒子成長速度に応じて変化させる方法や、英国
特許第4,242,445号、特開昭55−15812
4号に記載されているように水溶液の濃度を変化させる
方法を用いて、臨界飽和度を越えない範囲において早く
成長させることが好ましい。本発明の乳剤は単分散乳剤
が好ましく、{(粒径の標準偏差)/(平均粒径)}×
100で表される変動係数が20%以下、より好ましく
は15%以下である。ハロゲン化銀乳剤粒子の平均粒子
サイズは0.5μm 以下が好ましく、より好ましくは
0.08μm 〜0.4μm である。
ハロゲン化銀溶剤を使用した粒子形成方法では、結晶型
が規則的で粒子サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作
るのが容易であり、本発明に用いられるハロゲン化銀乳
剤を作るのに有用な手段である。また、粒子サイズを均
一にするためには、英国特許第1,535,016号、
特公昭48−36890号、同52−16364号に記
載されているように、硝酸銀やハロゲン化アルカリの添
加速度を粒子成長速度に応じて変化させる方法や、英国
特許第4,242,445号、特開昭55−15812
4号に記載されているように水溶液の濃度を変化させる
方法を用いて、臨界飽和度を越えない範囲において早く
成長させることが好ましい。本発明の乳剤は単分散乳剤
が好ましく、{(粒径の標準偏差)/(平均粒径)}×
100で表される変動係数が20%以下、より好ましく
は15%以下である。ハロゲン化銀乳剤粒子の平均粒子
サイズは0.5μm 以下が好ましく、より好ましくは
0.08μm 〜0.4μm である。
【0124】本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、
VIII族に属する金属を含有してもよい。高コントラスト
及び低カブリを達成するために、ロジウム化合物、イリ
ジウム化合物、ルテニウム化合物、レニウム化合物、ク
ロム化合物などを含有することが好ましい。これらの重
金属として好ましいものは、金属配位錯体であり、下の
一般式で表される六配位錯体である。 〔M(NY)m L6-m 〕n (式中、MはIr、Ru、Rh、Re、Crから選ばれ
る重金属である。Lは架橋配位子である。Yは酸素又は
硫黄である。m=0、1、2であり、n=0、−1、−
2、−3である。) Lの好ましい具体例としてはハロゲン化物配位子(フッ
化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物)、シアン化物配位
子、シアネート配位子、チオシアネート配位子、セレノ
シアネート配位子、テルロシアネート配位子、アシド配
位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配位子が存在す
る場合には、配位子の1つ又は2つを占めることが好ま
しい。また、高感度化のためには鉄化合物を含有するこ
とが好ましく、特に好ましいのは配位子としてシアンリ
ガンドを持つ金属配位錯体である。これら化合物は、水
あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、化合物の
溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、す
なわち、ハロゲン化水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フ
ッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(例えばKC
l、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方法を
用いることができる。また、あらかじめこれらの化合物
をドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解
させることも可能である。以下に金属配位錯体の具体例
を示す。 1.〔Rh(H2 O)Cl5 〕-2 2.〔RuCl6 〕-3 3.〔Ru(NO)Cl5 〕-2 4.〔RhCl6 〕-3 5.〔Ru(H2 O)Cl5 〕-2 6.〔Ru(NO)(H2 O)Cl4 〕-1 7.〔Ru2 Cl10O〕-2 8.〔Re(NO)Cl5 〕-2 9.〔Ir(NO)Cl5 〕-2 10.〔Ir(H2 O)Cl5 〕-2 11.〔Re(H2 O)Cl5 〕-2 12.〔RhBr6 〕-3 13.〔ReCl6 〕-3 14.〔IrCl6 〕-3 15.〔Re(NS)Cl4 (SeCN)〕-2 16.〔Cr(CN)6 〕-3 17.〔Fe(CN)6 〕-3
VIII族に属する金属を含有してもよい。高コントラスト
及び低カブリを達成するために、ロジウム化合物、イリ
ジウム化合物、ルテニウム化合物、レニウム化合物、ク
ロム化合物などを含有することが好ましい。これらの重
金属として好ましいものは、金属配位錯体であり、下の
一般式で表される六配位錯体である。 〔M(NY)m L6-m 〕n (式中、MはIr、Ru、Rh、Re、Crから選ばれ
る重金属である。Lは架橋配位子である。Yは酸素又は
硫黄である。m=0、1、2であり、n=0、−1、−
2、−3である。) Lの好ましい具体例としてはハロゲン化物配位子(フッ
化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物)、シアン化物配位
子、シアネート配位子、チオシアネート配位子、セレノ
シアネート配位子、テルロシアネート配位子、アシド配
位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配位子が存在す
る場合には、配位子の1つ又は2つを占めることが好ま
しい。また、高感度化のためには鉄化合物を含有するこ
とが好ましく、特に好ましいのは配位子としてシアンリ
ガンドを持つ金属配位錯体である。これら化合物は、水
あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、化合物の
溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、す
なわち、ハロゲン化水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フ
ッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(例えばKC
l、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方法を
用いることができる。また、あらかじめこれらの化合物
をドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解
させることも可能である。以下に金属配位錯体の具体例
を示す。 1.〔Rh(H2 O)Cl5 〕-2 2.〔RuCl6 〕-3 3.〔Ru(NO)Cl5 〕-2 4.〔RhCl6 〕-3 5.〔Ru(H2 O)Cl5 〕-2 6.〔Ru(NO)(H2 O)Cl4 〕-1 7.〔Ru2 Cl10O〕-2 8.〔Re(NO)Cl5 〕-2 9.〔Ir(NO)Cl5 〕-2 10.〔Ir(H2 O)Cl5 〕-2 11.〔Re(H2 O)Cl5 〕-2 12.〔RhBr6 〕-3 13.〔ReCl6 〕-3 14.〔IrCl6 〕-3 15.〔Re(NS)Cl4 (SeCN)〕-2 16.〔Cr(CN)6 〕-3 17.〔Fe(CN)6 〕-3
【0125】これらの化合物の添加量は、ハロゲン化銀
乳剤の銀1モル当たり1×10-8〜1×10-2モル、好
ましくは5×10-8〜2×10-4モルである。これらの
化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳
剤を塗布する前の各段階において適宜行うことができる
が、特に乳剤形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組
み込まれることが好ましい。
乳剤の銀1モル当たり1×10-8〜1×10-2モル、好
ましくは5×10-8〜2×10-4モルである。これらの
化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳
剤を塗布する前の各段階において適宜行うことができる
が、特に乳剤形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組
み込まれることが好ましい。
【0126】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法
などが好ましい。
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法
などが好ましい。
【0127】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン
類等を用いることができる。その他米国特許第1,57
4,944号、同第2,410,689号、同第2,2
78,947号、同第2,728,668号、同第3,
501,313号、同第3,656,955号各明細
書、ドイツ特許1,422,869号、特公昭56−2
4937号、特開昭55−45016号公報等に記載さ
れている硫黄増感剤も用いることができる。好ましい硫
黄化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄
増感剤の添加量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン
化銀粒子の大きさなどの種々の条件の下で変化するが、
ハロゲン化銀1モル当り10-7〜10-2モルであり、よ
り好ましくは10-5〜5×10-4モルである。
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン
類等を用いることができる。その他米国特許第1,57
4,944号、同第2,410,689号、同第2,2
78,947号、同第2,728,668号、同第3,
501,313号、同第3,656,955号各明細
書、ドイツ特許1,422,869号、特公昭56−2
4937号、特開昭55−45016号公報等に記載さ
れている硫黄増感剤も用いることができる。好ましい硫
黄化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄
増感剤の添加量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン
化銀粒子の大きさなどの種々の条件の下で変化するが、
ハロゲン化銀1モル当り10-7〜10-2モルであり、よ
り好ましくは10-5〜5×10-4モルである。
【0128】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44−15748号、同43−13489号、
特願平2−13097号、同2−229300号、同3
−121798号等に記載の化合物を用いることができ
る。特に特願平3−121798号中の一般式(VIII)お
よび(IX) で示される化合物を用いることが好ましい。
また、低分解活性セレン化合物も好ましく用いることが
できる。低分解活性セレン化合物とは、AgNO3 10
ミリモル、セレン化合物0.5ミリモル、2−(N−モ
ルホリノ)エタンスルホン酸バッファー40ミリモルの
水/1、4−ジオキサン体積比1/1の混合溶液(pH
=6.3)を40℃にて反応させた時の該セレン化合物
の半減期が6時間以上であるセレン化合物である。この
低分解活性セレン化合物については、特願平7−288
104号の化合物例SE−1からSE−10の化合物を
用いることが好ましい。
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44−15748号、同43−13489号、
特願平2−13097号、同2−229300号、同3
−121798号等に記載の化合物を用いることができ
る。特に特願平3−121798号中の一般式(VIII)お
よび(IX) で示される化合物を用いることが好ましい。
また、低分解活性セレン化合物も好ましく用いることが
できる。低分解活性セレン化合物とは、AgNO3 10
ミリモル、セレン化合物0.5ミリモル、2−(N−モ
ルホリノ)エタンスルホン酸バッファー40ミリモルの
水/1、4−ジオキサン体積比1/1の混合溶液(pH
=6.3)を40℃にて反応させた時の該セレン化合物
の半減期が6時間以上であるセレン化合物である。この
低分解活性セレン化合物については、特願平7−288
104号の化合物例SE−1からSE−10の化合物を
用いることが好ましい。
【0129】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平4−
146739号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−33
3819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635(1980)、ibid
1102(1979)、ibid 645(1979)、
ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキ
ン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.)
1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai)編、ザ
・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・ア
ンド・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of O
rganic Serenium and Tellunium Compounds), Vol 1
(1986)、同Vol 2(1987)に記載の化合物を
用いることができる。特に特願平4−146739号中
の一般式(II)(III)(IV)で示される化合物が好ましい。
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平4−
146739号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−33
3819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635(1980)、ibid
1102(1979)、ibid 645(1979)、
ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキ
ン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.)
1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai)編、ザ
・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・ア
ンド・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of O
rganic Serenium and Tellunium Compounds), Vol 1
(1986)、同Vol 2(1987)に記載の化合物を
用いることができる。特に特願平4−146739号中
の一般式(II)(III)(IV)で示される化合物が好ましい。
【0130】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜5×10
-4モル程度を用いる。本発明における化学増感の条件と
しては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAg
としては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度と
しては40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
本発明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、
パラジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感
が好ましい。本発明に用いられる金増感剤は金の酸化数
が+1価でも+3価でもよく、具体的には、塩化金酸、
カリウムクロロオーレート、オーリックトリクロライ
ド、カリウムオーリックチオシアネート、カリウムヨー
ドオーレート、テトラシアノオーリックアシド、アンモ
ニウムオーロチオシアネート、ピリジルトリクロロゴー
ルド、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀1モル当た
り10-7〜10-2モル程度を用いることができる。本発
明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子の形
成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜硫酸
塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよい。本発明
においては、還元増感を用いることができる。還元増感
剤しとては第一スズ塩、アミン類、ホルムアミジンスル
フィン酸、シラン化合物などを用いることができる。本
発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許(EP)−2
93,917に示される方法により、チオスルフォン酸
化合物を添加してもよい。チオスルフォン酸化合物の添
加量としては、pH、温度、ハロゲン化銀粒子の大きさ
などの種々の条件の下で相当の範囲にわたって変化する
が、ハロゲン化銀1モル当たり1×10-7モル以上、5
×10-2モル以下が好ましい。本発明に用いられる感光
材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二
種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲ
ン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条
件の異なるもの)併用してもよい。
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜5×10
-4モル程度を用いる。本発明における化学増感の条件と
しては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAg
としては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度と
しては40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
本発明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、
パラジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感
が好ましい。本発明に用いられる金増感剤は金の酸化数
が+1価でも+3価でもよく、具体的には、塩化金酸、
カリウムクロロオーレート、オーリックトリクロライ
ド、カリウムオーリックチオシアネート、カリウムヨー
ドオーレート、テトラシアノオーリックアシド、アンモ
ニウムオーロチオシアネート、ピリジルトリクロロゴー
ルド、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀1モル当た
り10-7〜10-2モル程度を用いることができる。本発
明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子の形
成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜硫酸
塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよい。本発明
においては、還元増感を用いることができる。還元増感
剤しとては第一スズ塩、アミン類、ホルムアミジンスル
フィン酸、シラン化合物などを用いることができる。本
発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許(EP)−2
93,917に示される方法により、チオスルフォン酸
化合物を添加してもよい。チオスルフォン酸化合物の添
加量としては、pH、温度、ハロゲン化銀粒子の大きさ
などの種々の条件の下で相当の範囲にわたって変化する
が、ハロゲン化銀1モル当たり1×10-7モル以上、5
×10-2モル以下が好ましい。本発明に用いられる感光
材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二
種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲ
ン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条
件の異なるもの)併用してもよい。
【0131】本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤は、増感
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。増感色素として
は、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックス
シアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロ
ホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色
素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用い
ることができる。本発明に使用される有用な増感色素は
例えば RESEARCH DISCLOSURE Item 17643 IV −A
項(1978年12月、p.23)、同 Item 1831
X項(1979年8月、p.437)に記載もしくは引
用された文献に記載されている。特に各種スキャナー、
イメージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適し
た分光感度を有する増感色素を有利に選択することがで
きる。例えば、A)アルゴンレーザー光源に対しては、
特開昭60−162247号に記載の (1)−1から (1)
−8の化合物、特開平2−48653号に記載のI−1
からI−28の化合物、特開平4−330434号に記
載のI−1からI−13の化合物、米国特許第2,16
1,331号に記載のExample 1からExample14の化
合物、西独特許936,071号記載の1から7の化合
物、B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特
開昭54−18726号に記載のI−1からI−38の
化合物、特開平6−75322号に記載のI−1からI
−35の化合物および特開平7−287338号に記載
のI−1からI−34の化合物、C)LED光源に対し
ては特公昭55−39818号に記載の色素1から2
0、特開昭62−284343号に記載のI−1からI
−37の化合物および特開平7−287338号に記載
のI−1からI−34の化合物、D)半導体レーザー光
源に対しては特開昭59−191032号に記載のI−
1からI−12の化合物、特開昭60−80841号に
記載のI−1から1−22の化合物、特開平4−335
342号に記載のI−1からI−29の化合物および特
開昭59−192242号に記載のI−1からI−18
の化合物、E)製版カメラのタングステンおよびキセノ
ン光源に対しては特開昭55−45015号に記載の一
般式〔I〕で表される(1)から(19) の化合物、特願
平7−346193号に記載のI−1からI−97の化
合物および特開平6−242547号に記載の4−Aか
ら4−Sの化合物、5−Aから5−Qの化合物、6−A
から6−Tの化合物などが有利に選択される。
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。増感色素として
は、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックス
シアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロ
ホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色
素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用い
ることができる。本発明に使用される有用な増感色素は
例えば RESEARCH DISCLOSURE Item 17643 IV −A
項(1978年12月、p.23)、同 Item 1831
X項(1979年8月、p.437)に記載もしくは引
用された文献に記載されている。特に各種スキャナー、
イメージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適し
た分光感度を有する増感色素を有利に選択することがで
きる。例えば、A)アルゴンレーザー光源に対しては、
特開昭60−162247号に記載の (1)−1から (1)
−8の化合物、特開平2−48653号に記載のI−1
からI−28の化合物、特開平4−330434号に記
載のI−1からI−13の化合物、米国特許第2,16
1,331号に記載のExample 1からExample14の化
合物、西独特許936,071号記載の1から7の化合
物、B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特
開昭54−18726号に記載のI−1からI−38の
化合物、特開平6−75322号に記載のI−1からI
−35の化合物および特開平7−287338号に記載
のI−1からI−34の化合物、C)LED光源に対し
ては特公昭55−39818号に記載の色素1から2
0、特開昭62−284343号に記載のI−1からI
−37の化合物および特開平7−287338号に記載
のI−1からI−34の化合物、D)半導体レーザー光
源に対しては特開昭59−191032号に記載のI−
1からI−12の化合物、特開昭60−80841号に
記載のI−1から1−22の化合物、特開平4−335
342号に記載のI−1からI−29の化合物および特
開昭59−192242号に記載のI−1からI−18
の化合物、E)製版カメラのタングステンおよびキセノ
ン光源に対しては特開昭55−45015号に記載の一
般式〔I〕で表される(1)から(19) の化合物、特願
平7−346193号に記載のI−1からI−97の化
合物および特開平6−242547号に記載の4−Aか
ら4−Sの化合物、5−Aから5−Qの化合物、6−A
から6−Tの化合物などが有利に選択される。
【0132】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色
素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物
質はリサーチ・ディスクロージャー(Research Disclosu
re) 176巻17643(1978年12月発行)第2
3頁IVのJ項、あるいは前述の特公昭49−25500
号、同43−4933号、特開昭59−19032号、
同59−192242号等に記載されている。
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色
素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物
質はリサーチ・ディスクロージャー(Research Disclosu
re) 176巻17643(1978年12月発行)第2
3頁IVのJ項、あるいは前述の特公昭49−25500
号、同43−4933号、特開昭59−19032号、
同59−192242号等に記載されている。
【0133】本発明に用いられる増感色素は2種以上を
併用してもよい。増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加
せしめるには、それらを直接乳剤中に分散してもよい
し、あるいは水、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、アセトン、メチルセルソルブ、2,2,3,3−テ
トラフルオロプロパノール、2,2,2−トリフルオロ
エタノール、3−メトキシ−1−プロパノール、3−メ
トキシ−1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独も
しくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。ま
た、米国特許第3,469,978号明細書等に開示さ
れているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解し、該
溶液を水または親水性コロイド中に分散し、この分散物
を乳剤中へ添加する方法、特公昭44−23389号、
同44−27555号、同57−22091号等に開示
されているように、色素を酸に溶解し、該溶液を乳剤中
に添加したり、酸または塩基を共存させて水溶液として
乳剤中へ添加する方法、米国特許第3,822,135
号、同第4,006,025号明細書等に開示されてい
るように界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイ
ド分散物としたものを乳剤中に添加する方法、特開昭5
3−102733号、同58−105141号に開示さ
れているように親水性コロイド中に色素を直接分散さ
せ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51−
74624号に開示されているように、レッドシフトさ
せる化合物を用いて色素を溶解し、該溶液を乳剤中へ添
加する方法を用いることもできる。また、溶液に超音波
を用いることもできる。
併用してもよい。増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加
せしめるには、それらを直接乳剤中に分散してもよい
し、あるいは水、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、アセトン、メチルセルソルブ、2,2,3,3−テ
トラフルオロプロパノール、2,2,2−トリフルオロ
エタノール、3−メトキシ−1−プロパノール、3−メ
トキシ−1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独も
しくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。ま
た、米国特許第3,469,978号明細書等に開示さ
れているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解し、該
溶液を水または親水性コロイド中に分散し、この分散物
を乳剤中へ添加する方法、特公昭44−23389号、
同44−27555号、同57−22091号等に開示
されているように、色素を酸に溶解し、該溶液を乳剤中
に添加したり、酸または塩基を共存させて水溶液として
乳剤中へ添加する方法、米国特許第3,822,135
号、同第4,006,025号明細書等に開示されてい
るように界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイ
ド分散物としたものを乳剤中に添加する方法、特開昭5
3−102733号、同58−105141号に開示さ
れているように親水性コロイド中に色素を直接分散さ
せ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51−
74624号に開示されているように、レッドシフトさ
せる化合物を用いて色素を溶解し、該溶液を乳剤中へ添
加する方法を用いることもできる。また、溶液に超音波
を用いることもできる。
【0134】本発明に用いる増感色素を本発明のハロゲ
ン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であるこ
とが認められている乳剤調製のいかなる工程中であって
もよい。例えば米国特許第2,735,766号、同第
3,628,960号、同第4,183,756号、同
第4,225,666号、特開昭58−184142
号、同60−196749号等の明細書に開示されてい
るように、ハロゲン化銀の粒子形成工程または/および
脱塩前の時期、脱銀工程中および/または脱塩後から化
学熟成の開始前までの時期、特開昭58−113920
号等の明細書に開示されているように、化学熟成の直前
または工程中の時期、化学熟成後、塗布までの時期の乳
剤が塗布される前ならばいかなる時期、工程において添
加されてもよい。また、米国特許第4,225,666
号、特開昭58−7629号等の明細書に開示されてい
るように、同一化合物を単独で、または異種構造の化合
物と組み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学熟成工
程中または化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成の前
または工程中と完了後とに分けるなどして分割して添加
してもよく、分割して添加する化合物および化合物の組
み合わせの種類を変えて添加してもよい。
ン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であるこ
とが認められている乳剤調製のいかなる工程中であって
もよい。例えば米国特許第2,735,766号、同第
3,628,960号、同第4,183,756号、同
第4,225,666号、特開昭58−184142
号、同60−196749号等の明細書に開示されてい
るように、ハロゲン化銀の粒子形成工程または/および
脱塩前の時期、脱銀工程中および/または脱塩後から化
学熟成の開始前までの時期、特開昭58−113920
号等の明細書に開示されているように、化学熟成の直前
または工程中の時期、化学熟成後、塗布までの時期の乳
剤が塗布される前ならばいかなる時期、工程において添
加されてもよい。また、米国特許第4,225,666
号、特開昭58−7629号等の明細書に開示されてい
るように、同一化合物を単独で、または異種構造の化合
物と組み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学熟成工
程中または化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成の前
または工程中と完了後とに分けるなどして分割して添加
してもよく、分割して添加する化合物および化合物の組
み合わせの種類を変えて添加してもよい。
【0135】本発明の増感色素の添加量は、ハロゲン化
銀粒子の形状、サイズ、ハロゲン組成、化学増感の方法
と程度、カブリ防止剤の種類等により異なるが、ハロゲ
ン化銀1モルあたり、4×10-6〜8×10-3モルで用
いることができる。例えばハロゲン化銀粒子サイズが
0.2〜1.3μm の場合には、ハロゲン化銀粒子の表
面積1m2あたり、2×10-7〜3.5×10-6モルの添
加量が好ましく、6.5×10-7〜2.0×10-6モル
の添加量がより好ましい。
銀粒子の形状、サイズ、ハロゲン組成、化学増感の方法
と程度、カブリ防止剤の種類等により異なるが、ハロゲ
ン化銀1モルあたり、4×10-6〜8×10-3モルで用
いることができる。例えばハロゲン化銀粒子サイズが
0.2〜1.3μm の場合には、ハロゲン化銀粒子の表
面積1m2あたり、2×10-7〜3.5×10-6モルの添
加量が好ましく、6.5×10-7〜2.0×10-6モル
の添加量がより好ましい。
【0136】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
に関しては、特に制限はなく、例えば下記箇所に記載さ
れたものを好ましく用いることができる。
に関しては、特に制限はなく、例えば下記箇所に記載さ
れたものを好ましく用いることができる。
【0137】特開平3−39948号公報第10頁右下
11行目から同公報第12頁左下5行目に記載のポリヒ
ドロキシベンゼン化合物。具体的には、同公報に記載の
化合物(III) −1〜25の化合物。
11行目から同公報第12頁左下5行目に記載のポリヒ
ドロキシベンゼン化合物。具体的には、同公報に記載の
化合物(III) −1〜25の化合物。
【0138】特開平1−118832号公報に記載の一
般式(I)で表される実質的には可視域に吸収極大を持
たない化合物。具体的には、同公報に記載の化合物I−
1〜1−26の化合物。
般式(I)で表される実質的には可視域に吸収極大を持
たない化合物。具体的には、同公報に記載の化合物I−
1〜1−26の化合物。
【0139】特開平2−103536号公報第17頁右
下19行目から同公報18頁右上4行目に記載のかぶり
防止剤。
下19行目から同公報18頁右上4行目に記載のかぶり
防止剤。
【0140】特開平2−103536号公報第18頁左
下12行目から同頁左下20行目に記載のポリマーラテ
ックス。特願平8−13592号に記載の一般式(I)
で表される活性メチレン基を有するポリマーラテックス
で、具体的には同明細書に記載の化合物I−1〜I−1
6。特願平8−13592号に記載のコア/シェル構造
を有するポリマーラテックスで、具体的には同明細書に
記載の化合物P−1〜P−55。
下12行目から同頁左下20行目に記載のポリマーラテ
ックス。特願平8−13592号に記載の一般式(I)
で表される活性メチレン基を有するポリマーラテックス
で、具体的には同明細書に記載の化合物I−1〜I−1
6。特願平8−13592号に記載のコア/シェル構造
を有するポリマーラテックスで、具体的には同明細書に
記載の化合物P−1〜P−55。
【0141】特開平2−103536号公報第19頁左
上15行目から同公報19頁右上15行目に記載のマッ
ト剤、滑り剤、可塑剤。
上15行目から同公報19頁右上15行目に記載のマッ
ト剤、滑り剤、可塑剤。
【0142】特開平2−103536号公報第18頁右
上5行目から同頁右上17行目に記載の硬膜剤。
上5行目から同頁右上17行目に記載の硬膜剤。
【0143】特開平2−103536号公報第18頁右
下6行目から同公報19頁左上1行目に記載の酸基を有
する化合物。
下6行目から同公報19頁左上1行目に記載の酸基を有
する化合物。
【0144】特開平2−18542号公報第2頁左下1
3行目から同公報第3頁右上7行目に記載の導電性物
質。具体的には、同公報第2頁右下2行目から同頁右下
10行目に記載の金属酸化物、および同公報に記載の化
合物P−1〜P−7の導電性高分子化合物。
3行目から同公報第3頁右上7行目に記載の導電性物
質。具体的には、同公報第2頁右下2行目から同頁右下
10行目に記載の金属酸化物、および同公報に記載の化
合物P−1〜P−7の導電性高分子化合物。
【0145】特開平2−103536号公報第17頁右
下1行目から同頁右上18行目に記載の水溶性染料。
下1行目から同頁右上18行目に記載の水溶性染料。
【0146】特願平7−350753号記載の一般式
(FA)、一般式(FA1)、一般式(FA2)、一般
式(FA3)で表される固体分散染料。具体的には同公
報記載の化合物F1〜F34、特開平7−152112
号記載の(II−2)〜(II−24)、特開平7−152
112号記載の(III−5)〜(III−18)、特開平7−
152112号記載の(IV−2)〜(IV−7)。
(FA)、一般式(FA1)、一般式(FA2)、一般
式(FA3)で表される固体分散染料。具体的には同公
報記載の化合物F1〜F34、特開平7−152112
号記載の(II−2)〜(II−24)、特開平7−152
112号記載の(III−5)〜(III−18)、特開平7−
152112号記載の(IV−2)〜(IV−7)。
【0147】特開平2−294638号公報及び特願平
3−185773号に記載の固体分散染料。
3−185773号に記載の固体分散染料。
【0148】特開平2−12236号公報第9頁右上7
行目から同頁右下3行目に記載の界面活性剤。特開平2
−103536号公報第18頁左下4行目から同頁左下
7行目に記載のPEG系界面活性剤。特開平3−399
48号公報第12頁左下6行目から同公報第13頁右下
5行目に記載の含弗素界面活性剤。具体的には、同公報
に記載の化合物VI−1〜VI−15の化合物。
行目から同頁右下3行目に記載の界面活性剤。特開平2
−103536号公報第18頁左下4行目から同頁左下
7行目に記載のPEG系界面活性剤。特開平3−399
48号公報第12頁左下6行目から同公報第13頁右下
5行目に記載の含弗素界面活性剤。具体的には、同公報
に記載の化合物VI−1〜VI−15の化合物。
【0149】以下に示すヒドラジン誘導体を併用しても
よい。特願平6−47961号に記載の一般式(I)で
表される化合物で、具体的には同明細書に記載のI−1
〜I−53で表される化合物。特公平6−77138号
に記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公
報3頁、4頁に記載の化合物。特公平6−93082号
に記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には
同公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物。特開平
6−230497号に記載の一般式(4)、一般式
(5)および一般式(6)で表される化合物で、具体的
には同公報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜化合
物4−10、28頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5
−42、および39頁、40頁に記載の化合物6−1〜
化合物6−7。特開平6−289520号に記載の一般
式(1)および一般式(2)で表される化合物で、具体
的には同公報5頁〜7頁に記載の化合物1−1)〜1−
17)および2−1)。特開平6−313936号に記
載の(化2)および(化3)で表される化合物で、具体
的には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。特開平6−
313951号に記載の(化1)で表される化合物で、
具体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7
−5610号に記載の一般式(1)で表される化合物
で、具体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I−
1〜I−38。特開平7−77783号に記載の一般式
(II)で表される化合物で、具体的には同公報10頁〜
27頁に記載の化合物II−1〜II−102。特開平7−
104426号に記載の一般式(H)および一般式(H
a)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜15
頁に記載の化合物H−1〜H−44。特願平7−191
007号に記載の、ヒドラジン基の近傍にアニオン性基
またはヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成す
るノニオン性基を有することを特徴とする化合物で、特
に一般式(A)、一般式(B)、一般式(C)、一般式
(D)、一般式(E)、一般式(F)で表される化合物
で、具体的には同公報に記載の化合物N−1〜N−3
0。特願平7−191007号に記載の一般式(1)で
表される化合物で、具体的には同公報に記載の化合物D
−1〜D−55。
よい。特願平6−47961号に記載の一般式(I)で
表される化合物で、具体的には同明細書に記載のI−1
〜I−53で表される化合物。特公平6−77138号
に記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公
報3頁、4頁に記載の化合物。特公平6−93082号
に記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には
同公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物。特開平
6−230497号に記載の一般式(4)、一般式
(5)および一般式(6)で表される化合物で、具体的
には同公報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜化合
物4−10、28頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5
−42、および39頁、40頁に記載の化合物6−1〜
化合物6−7。特開平6−289520号に記載の一般
式(1)および一般式(2)で表される化合物で、具体
的には同公報5頁〜7頁に記載の化合物1−1)〜1−
17)および2−1)。特開平6−313936号に記
載の(化2)および(化3)で表される化合物で、具体
的には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。特開平6−
313951号に記載の(化1)で表される化合物で、
具体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7
−5610号に記載の一般式(1)で表される化合物
で、具体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I−
1〜I−38。特開平7−77783号に記載の一般式
(II)で表される化合物で、具体的には同公報10頁〜
27頁に記載の化合物II−1〜II−102。特開平7−
104426号に記載の一般式(H)および一般式(H
a)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜15
頁に記載の化合物H−1〜H−44。特願平7−191
007号に記載の、ヒドラジン基の近傍にアニオン性基
またはヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成す
るノニオン性基を有することを特徴とする化合物で、特
に一般式(A)、一般式(B)、一般式(C)、一般式
(D)、一般式(E)、一般式(F)で表される化合物
で、具体的には同公報に記載の化合物N−1〜N−3
0。特願平7−191007号に記載の一般式(1)で
表される化合物で、具体的には同公報に記載の化合物D
−1〜D−55。
【0150】特開平5−274816号公報に記載の酸
化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス
化合物。好ましくは同公報に記載の一般式(R−1)、
一般式(R−2)、一般式(R−3)で表されるレドッ
クス化合物。具体的には、同公報に記載の化合物R−1
〜R−68の化合物。
化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス
化合物。好ましくは同公報に記載の一般式(R−1)、
一般式(R−2)、一般式(R−3)で表されるレドッ
クス化合物。具体的には、同公報に記載の化合物R−1
〜R−68の化合物。
【0151】特開平2−18542号公報第3頁右下1
行目から20行目に記載のバインダー。
行目から20行目に記載のバインダー。
【0152】以下に本発明における現像液、定着液など
の処理剤および処理方法等について述べるが、言うまで
もなく本発明は以下の記述および具体例に限定されるも
のではない。
の処理剤および処理方法等について述べるが、言うまで
もなく本発明は以下の記述および具体例に限定されるも
のではない。
【0153】本発明の現像処理には、公知の方法のいず
れを用いることもできるし、現像処理液には公知のもの
を用いることができる。
れを用いることもできるし、現像処理液には公知のもの
を用いることができる。
【0154】本発明に使用する現像液(以下、現像開始
液および現像補充液の双方をまとめて現像液という。)
に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキ
シベンゼン類や、アスコルビン酸誘導体、ハイドロキノ
ンモノスルホン酸塩を含むことが好ましく、単独使用で
も併用でも良い。さらに現像能力の点でジヒドロキシベ
ンゼン類やアスコルビン酸誘導体と1−フェニル−3−
ピラゾリドン類の組み合わせ、またはジヒドロキシベン
ゼン類やアスコルビン酸誘導体とp−アミノフェノール
類の組み合わせが好ましい。本発明に用いるジヒドロキ
シベンゼン現像主薬としてはハイドロキノン、クロロハ
イドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハ
イドロキノンなどがあるが、特にハイドロキノンが好ま
しい。またアスコルビン酸誘導体現像主薬としては、ア
スコルビン酸およびイソアスコルビン酸とそれらの塩が
あるが、特にエリソルビン酸ナトリウムが素材のコスト
の点から好ましい。
液および現像補充液の双方をまとめて現像液という。)
に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキ
シベンゼン類や、アスコルビン酸誘導体、ハイドロキノ
ンモノスルホン酸塩を含むことが好ましく、単独使用で
も併用でも良い。さらに現像能力の点でジヒドロキシベ
ンゼン類やアスコルビン酸誘導体と1−フェニル−3−
ピラゾリドン類の組み合わせ、またはジヒドロキシベン
ゼン類やアスコルビン酸誘導体とp−アミノフェノール
類の組み合わせが好ましい。本発明に用いるジヒドロキ
シベンゼン現像主薬としてはハイドロキノン、クロロハ
イドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハ
イドロキノンなどがあるが、特にハイドロキノンが好ま
しい。またアスコルビン酸誘導体現像主薬としては、ア
スコルビン酸およびイソアスコルビン酸とそれらの塩が
あるが、特にエリソルビン酸ナトリウムが素材のコスト
の点から好ましい。
【0155】本発明に用いる1−フェニル−3−ピラゾ
リドンまたはその誘導体の現像主薬としては、1−フェ
ニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬として
N−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフェノ
ール、N−(β−ヒドロキシフェニル)−p−アミノフ
ェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシンな
どがあるが、なかでもN−メチル−p−アミノフェノー
ルが好ましい。
リドンまたはその誘導体の現像主薬としては、1−フェ
ニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬として
N−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフェノ
ール、N−(β−ヒドロキシフェニル)−p−アミノフ
ェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシンな
どがあるが、なかでもN−メチル−p−アミノフェノー
ルが好ましい。
【0156】ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は通常
0.05モル/リットル〜0.8モル/リットルの量で用いられ
るのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノフェノ
ール類の組み合わせを用いる場合には前者を0.05モ
ル/リットル〜0.6モル/リットル、好ましくは0.23モル
/リットル〜0.5モル/リットル、後者を0.06モル/リットル
以下、好ましくは0.03モル/リットル〜0.003モル
/リットルの量で用いるのが好ましい。
0.05モル/リットル〜0.8モル/リットルの量で用いられ
るのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノフェノ
ール類の組み合わせを用いる場合には前者を0.05モ
ル/リットル〜0.6モル/リットル、好ましくは0.23モル
/リットル〜0.5モル/リットル、後者を0.06モル/リットル
以下、好ましくは0.03モル/リットル〜0.003モル
/リットルの量で用いるのが好ましい。
【0157】アスコルビン酸誘導体現像主薬は、通常
0.01モル/リットル〜0.5モル/リットルの量で用いられ
るのが好ましく、0.05モル/リットル〜0.3モル/リッ
トルがより好ましい。またアスコルビン酸誘導体と1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノフェノ
ール類の組み合わせを用いる場合にはアスコルビン酸誘
導体を0.01モル/リットル〜0.5モル/リットル、1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノフェノ
ール類を0.005モル/リットル〜0.2モル/リットルの量
で用いるのが好ましい。
0.01モル/リットル〜0.5モル/リットルの量で用いられ
るのが好ましく、0.05モル/リットル〜0.3モル/リッ
トルがより好ましい。またアスコルビン酸誘導体と1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノフェノ
ール類の組み合わせを用いる場合にはアスコルビン酸誘
導体を0.01モル/リットル〜0.5モル/リットル、1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノフェノ
ール類を0.005モル/リットル〜0.2モル/リットルの量
で用いるのが好ましい。
【0158】本発明で感光材料を処理する際の現像液に
は、通常用いられる添加剤(例えば現像主薬、アルカリ
剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤等)を含有する事
ができる。以下にこれらの具体例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。本発明で感光材料を現
像処理する際の現像液に用いられる緩衝剤としては、炭
酸塩、特開昭62−186259号に記載のほう酸、特
開昭60−93433号に記載の糖類(例えばサッカロ
ース)、オキシム類(例えばアセトオキシム)、フェノ
ール類(例えば5−スルホサリチル酸)、第3リン酸塩
(例えばナトリウム塩、カリウム塩)などが用いられ、
好ましくは炭酸塩、ほう酸が用いられる。緩衝剤、特に
炭酸塩の使用量は、好ましくは0.1モル/リットル以上、
特に0.2〜1.5モル/リットル以上である。
は、通常用いられる添加剤(例えば現像主薬、アルカリ
剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤等)を含有する事
ができる。以下にこれらの具体例を示すが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。本発明で感光材料を現
像処理する際の現像液に用いられる緩衝剤としては、炭
酸塩、特開昭62−186259号に記載のほう酸、特
開昭60−93433号に記載の糖類(例えばサッカロ
ース)、オキシム類(例えばアセトオキシム)、フェノ
ール類(例えば5−スルホサリチル酸)、第3リン酸塩
(例えばナトリウム塩、カリウム塩)などが用いられ、
好ましくは炭酸塩、ほう酸が用いられる。緩衝剤、特に
炭酸塩の使用量は、好ましくは0.1モル/リットル以上、
特に0.2〜1.5モル/リットル以上である。
【0159】本発明に用いられる保恒剤としては亜硫酸
ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸
アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリ
ウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがあ
る。亜硫酸塩は0.2モル/リントル以上、特に0.3モル
/リットル以上用いられるが、あまりに多量添加すると現像
液中の銀汚れの原因になるので、上限は1.2モル/リッ
トルとするのが望ましい。特に好ましくは、0.35〜
0.7モル/リットルである。ジヒドロキシベンゼン系現像
主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用して前記のアスコ
ルビン酸誘導体を少量使用しても良い。なかでも素材コ
ストの点からエリソルビン酸ナトリウムを用いることが
好ましい。添加量はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に
対して、モル比で0.03〜0.12の範囲が好まし
く、特に好ましくは0.05〜0.10の範囲である。
保恒剤としてアスコルビン酸誘導体を使用する場合には
現像液中にホウ素化合物を含まないことが好ましい。
ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸
アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリ
ウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがあ
る。亜硫酸塩は0.2モル/リントル以上、特に0.3モル
/リットル以上用いられるが、あまりに多量添加すると現像
液中の銀汚れの原因になるので、上限は1.2モル/リッ
トルとするのが望ましい。特に好ましくは、0.35〜
0.7モル/リットルである。ジヒドロキシベンゼン系現像
主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用して前記のアスコ
ルビン酸誘導体を少量使用しても良い。なかでも素材コ
ストの点からエリソルビン酸ナトリウムを用いることが
好ましい。添加量はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に
対して、モル比で0.03〜0.12の範囲が好まし
く、特に好ましくは0.05〜0.10の範囲である。
保恒剤としてアスコルビン酸誘導体を使用する場合には
現像液中にホウ素化合物を含まないことが好ましい。
【0160】上記以外に用いられる添加剤としては、臭
化ナトリウム、臭化カリウムのような現像抑制剤、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミドのような有機溶剤、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアル
カノールアミン、イミダゾールまたはその誘導体等の現
像促進剤、ヘテロ環メルカプト化合物(例えば3−(5
−メルカプトテトラゾール−1−イル)ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールなど)、特開昭62−212651号に記載の化
合物を物理現像ムラ防止剤として添加することもでき
る。また、メルカプト系化合物、インダゾール系化合
物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール
系化合物をカブリ防止剤または黒ポツ(black pepper)
防止剤として含んでも良い。具体的には、5−ニトロイ
ンダゾール、5−p−ニトロベンゾイルアミノインダゾ
ール、1−メチル−5−ニトロインダゾール、6−ニト
ロインダゾール、3−メチル−5−ニトロインダゾー
ル、5−ニトロベンゾイミダゾール、2−イソプロピル
−5−ニトロベンゾイミダゾール、5−ニトロベンゾト
リアゾール、4−((2−メルカプト−1,3,4−チ
アジアゾール−2−イル)チオ)ブタンスルホン酸ナト
リウム、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2
−チオール、メチルベンゾトリアゾール、5−メチルベ
ンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾール
などを挙げることができる。これらの添加剤の量は、通
常現像液1リットルあたり0.01〜10ミリモルであ
り、より好ましくは0.1〜2ミリモルである。
化ナトリウム、臭化カリウムのような現像抑制剤、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミドのような有機溶剤、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアル
カノールアミン、イミダゾールまたはその誘導体等の現
像促進剤、ヘテロ環メルカプト化合物(例えば3−(5
−メルカプトテトラゾール−1−イル)ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールなど)、特開昭62−212651号に記載の化
合物を物理現像ムラ防止剤として添加することもでき
る。また、メルカプト系化合物、インダゾール系化合
物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール
系化合物をカブリ防止剤または黒ポツ(black pepper)
防止剤として含んでも良い。具体的には、5−ニトロイ
ンダゾール、5−p−ニトロベンゾイルアミノインダゾ
ール、1−メチル−5−ニトロインダゾール、6−ニト
ロインダゾール、3−メチル−5−ニトロインダゾー
ル、5−ニトロベンゾイミダゾール、2−イソプロピル
−5−ニトロベンゾイミダゾール、5−ニトロベンゾト
リアゾール、4−((2−メルカプト−1,3,4−チ
アジアゾール−2−イル)チオ)ブタンスルホン酸ナト
リウム、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2
−チオール、メチルベンゾトリアゾール、5−メチルベ
ンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾール
などを挙げることができる。これらの添加剤の量は、通
常現像液1リットルあたり0.01〜10ミリモルであ
り、より好ましくは0.1〜2ミリモルである。
【0161】さらに本発明の現像液中には各種の有機、
無機のキレート剤を単独または併用で用いることができ
る。無機キレート剤としては例えば、テトラポリリン酸
ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどを用いる
ことができる。一方、有機キレート剤としては、主に有
機カルボン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホスホン
酸、アミノホスホン酸および有機ホスホノカルボン酸を
用いることができる。有機カルボン酸としては例えば、
アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、グルコン酸、アジピン酸、ピメリン酸、アシエライ
ン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジカル
ボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、イタコ
ン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸などを挙げることが
できる。
無機のキレート剤を単独または併用で用いることができ
る。無機キレート剤としては例えば、テトラポリリン酸
ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどを用いる
ことができる。一方、有機キレート剤としては、主に有
機カルボン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホスホン
酸、アミノホスホン酸および有機ホスホノカルボン酸を
用いることができる。有機カルボン酸としては例えば、
アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、グルコン酸、アジピン酸、ピメリン酸、アシエライ
ン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジカル
ボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、イタコ
ン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸などを挙げることが
できる。
【0162】アミノポリカルボン酸としては例えば、イ
ミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン
酸、エチレンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エ
チレンジアミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、
1,2−ジアミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミ
ン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジ
アミノ−2−プロパノール四酢酸、グリコールエーテル
アミン四酢酸、その他特開昭52−25632号、同5
5−67747号、同57−102624号、および特
公昭53−40900号に記載の化合物を挙げることが
できる。
ミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン
酸、エチレンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エ
チレンジアミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、
1,2−ジアミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミ
ン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジ
アミノ−2−プロパノール四酢酸、グリコールエーテル
アミン四酢酸、その他特開昭52−25632号、同5
5−67747号、同57−102624号、および特
公昭53−40900号に記載の化合物を挙げることが
できる。
【0163】有機ホスホン酸としては、例えば米国特許
第3,214,454号、同3,794,591号およ
び西独特許公開2,227,369号等に記載のヒドロ
キシアルキリデン−ジホスホン酸やリサーチ・ディスク
ロージャー第181巻、Item18170(1979年5
月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホスホン
酸としては、例えばアミノトリス(メチレンホスホン
酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー18170、特開昭
57−208554号、同54−61125号、同55
−29883号、同56−97347号等に記載の化合
物を挙げることができる。
第3,214,454号、同3,794,591号およ
び西独特許公開2,227,369号等に記載のヒドロ
キシアルキリデン−ジホスホン酸やリサーチ・ディスク
ロージャー第181巻、Item18170(1979年5
月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホスホン
酸としては、例えばアミノトリス(メチレンホスホン
酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー18170、特開昭
57−208554号、同54−61125号、同55
−29883号、同56−97347号等に記載の化合
物を挙げることができる。
【0164】有機ホスホノカルボン酸としては、例えば
特開昭52−102726号、同53−42730号、
同54−121127号、同55−4024号、同55
−4025号、同55−126241号、同55−65
955号、同55−65956号および前述のリサーチ
・ディスクロージャー18170等に記載の化合物を挙
げることができる。
特開昭52−102726号、同53−42730号、
同54−121127号、同55−4024号、同55
−4025号、同55−126241号、同55−65
955号、同55−65956号および前述のリサーチ
・ディスクロージャー18170等に記載の化合物を挙
げることができる。
【0165】これらの有機および/または無機のキレー
ト剤は、前述のものに限定されるものではない。また、
アルカリ金属塩やアンモニウム塩の形で使用しても良
い。これらのキレート剤の添加量としては、現像液1リ
ットルあたり好ましくは、1×10-4〜1×10-1モ
ル、より好ましくは1×10-3〜1×10-2モルであ
る。
ト剤は、前述のものに限定されるものではない。また、
アルカリ金属塩やアンモニウム塩の形で使用しても良
い。これらのキレート剤の添加量としては、現像液1リ
ットルあたり好ましくは、1×10-4〜1×10-1モ
ル、より好ましくは1×10-3〜1×10-2モルであ
る。
【0166】さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として、
例えば特開昭56−24347号、特公昭56−465
85号、特公昭62−2849号、特開平4−3629
72号、特開平8−6215号に記載の化合物の他、メ
ルカプト基を1つ以上有するトリアジン(例えば特公平
6−23830号、特開平3−282457号、特開平
7−175178号に記載の化合物)、同ピリミジン
(例えば2−メルカプトピリミジン、2,6−ジメルカ
プトピリミジン、2,4−ジメルカプトピリミジン、
5,6−ジアミノ−2,4−ジメルカプトピリミジン、
2,4,6−トリメルカプトピリミジンなど)、同ピリ
ジン(例えば2−メルカプトシピリジン、2,6−ジメ
ルカプトピリジン、3,5−ジメルカプトピリジン、
2,4,6−トリメルカプトピリジン、特開平7−24
8587号に記載の化合物など)、同ピラジン(例えば
2−メルカプトピラジン、2,6−ジメルカプトピラジ
ン、2,3−ジメルカプトピラジン、2,3,5−トリ
メルカプトピラジンなど)、同ピリダジン(例えば3−
メルカプトピリダジン、3,4−ジメルカプトシピリダ
ジン、3,5−ジメルカプトピリダジン、3,4,6−
トリメルカプトピリダジンなど)、特開平7−1751
77号に記載の化合物、米国特許第5,457,011
号に記載のポリオキシアルキルホスホン酸エステルなど
を用いることができる。これらの銀汚れ防止剤は単独ま
たは複数の併用で用いることができ、添加量は現像液1
リットルあたり0.05〜10ミリモルが好ましく、
0.1〜5ミリモルがより好ましい。また、溶解助剤と
して特開昭61−267759号記載の化合物を用いる
ことができる。さらに必要に応じて色調剤、界面活性
剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでも良い。
例えば特開昭56−24347号、特公昭56−465
85号、特公昭62−2849号、特開平4−3629
72号、特開平8−6215号に記載の化合物の他、メ
ルカプト基を1つ以上有するトリアジン(例えば特公平
6−23830号、特開平3−282457号、特開平
7−175178号に記載の化合物)、同ピリミジン
(例えば2−メルカプトピリミジン、2,6−ジメルカ
プトピリミジン、2,4−ジメルカプトピリミジン、
5,6−ジアミノ−2,4−ジメルカプトピリミジン、
2,4,6−トリメルカプトピリミジンなど)、同ピリ
ジン(例えば2−メルカプトシピリジン、2,6−ジメ
ルカプトピリジン、3,5−ジメルカプトピリジン、
2,4,6−トリメルカプトピリジン、特開平7−24
8587号に記載の化合物など)、同ピラジン(例えば
2−メルカプトピラジン、2,6−ジメルカプトピラジ
ン、2,3−ジメルカプトピラジン、2,3,5−トリ
メルカプトピラジンなど)、同ピリダジン(例えば3−
メルカプトピリダジン、3,4−ジメルカプトシピリダ
ジン、3,5−ジメルカプトピリダジン、3,4,6−
トリメルカプトピリダジンなど)、特開平7−1751
77号に記載の化合物、米国特許第5,457,011
号に記載のポリオキシアルキルホスホン酸エステルなど
を用いることができる。これらの銀汚れ防止剤は単独ま
たは複数の併用で用いることができ、添加量は現像液1
リットルあたり0.05〜10ミリモルが好ましく、
0.1〜5ミリモルがより好ましい。また、溶解助剤と
して特開昭61−267759号記載の化合物を用いる
ことができる。さらに必要に応じて色調剤、界面活性
剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでも良い。
【0167】現像液の好ましいpHは9.0〜12.0
であり、特に好ましくは9.5〜11.0の範囲であ
る。pH調整に用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機
アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)を用いること
ができる。
であり、特に好ましくは9.5〜11.0の範囲であ
る。pH調整に用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機
アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)を用いること
ができる。
【0168】現像液のカチオンとしては、ナトリウムイ
オンに比べてカリウムイオンの方が現像抑制をせず、ま
たフリンジと呼ばれる黒化部のまわりのギザギザが少な
い。さらに、濃縮液として保存する場合には一般にカリ
ウム塩のほうが溶解度が高く好ましい。しかしながら、
定着液においてはカリウムイオンは銀イオンと同程度に
定着阻害をすることから、現像液のカリウムイオン濃度
が高いと、感材により現像液がも持ちまれることにより
定着液中のカリウムイオン濃度が高くなり、好ましくな
い。以上のことから現像液におけるカリウムイオンとナ
トリウムイオンのモル比率は20:80〜80:20の
間であることが好ましい。カリウムイオンとナトリウム
イオンの比率は、pH緩衝剤、pH調整剤、保恒剤、キ
レート剤などの対カチオンで、上記の範囲で任意に調整
できる。
オンに比べてカリウムイオンの方が現像抑制をせず、ま
たフリンジと呼ばれる黒化部のまわりのギザギザが少な
い。さらに、濃縮液として保存する場合には一般にカリ
ウム塩のほうが溶解度が高く好ましい。しかしながら、
定着液においてはカリウムイオンは銀イオンと同程度に
定着阻害をすることから、現像液のカリウムイオン濃度
が高いと、感材により現像液がも持ちまれることにより
定着液中のカリウムイオン濃度が高くなり、好ましくな
い。以上のことから現像液におけるカリウムイオンとナ
トリウムイオンのモル比率は20:80〜80:20の
間であることが好ましい。カリウムイオンとナトリウム
イオンの比率は、pH緩衝剤、pH調整剤、保恒剤、キ
レート剤などの対カチオンで、上記の範囲で任意に調整
できる。
【0169】現像液の補充量は、感光材料1m2につき3
90ml以下であり、325〜30mlが好ましく、180
〜50mlが最も好ましい。現像補充液は、現像開始液と
同一の組成および/または濃度を有していても良いし、
開始液と異なる組成および/または濃度を有していても
良い。
90ml以下であり、325〜30mlが好ましく、180
〜50mlが最も好ましい。現像補充液は、現像開始液と
同一の組成および/または濃度を有していても良いし、
開始液と異なる組成および/または濃度を有していても
良い。
【0170】本発明における定着処理剤の定着剤として
は、チオ硫酸アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ
硫酸ナトリウムアンモニウムが使用できる。定着剤の使
用量は適宜かえることができるが、一般には約0.7〜
約3.0モル/リットルである。
は、チオ硫酸アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ
硫酸ナトリウムアンモニウムが使用できる。定着剤の使
用量は適宜かえることができるが、一般には約0.7〜
約3.0モル/リットルである。
【0171】本発明における定着液は、硬膜剤として作
用する水溶性アルミニウム塩、水溶性クロム塩を含んで
も良く、水溶性アルミニウム塩が好ましい。それには例
えば塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬、
硫酸アルミニウムアンモニウム、硝酸アルミニウム、乳
酸アルミニウムなどがある。これらは使用液におけるア
ルミニウムイオン濃度として、0.01〜0.15モル
/リットルで含まれることが好ましい。なお、定着液を濃度
液または固形剤として保存する場合、硬膜剤などを別パ
ートとした複数のパーツで構成しても良いし、すべての
成分を含む一剤型の構成としても良い。
用する水溶性アルミニウム塩、水溶性クロム塩を含んで
も良く、水溶性アルミニウム塩が好ましい。それには例
えば塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬、
硫酸アルミニウムアンモニウム、硝酸アルミニウム、乳
酸アルミニウムなどがある。これらは使用液におけるア
ルミニウムイオン濃度として、0.01〜0.15モル
/リットルで含まれることが好ましい。なお、定着液を濃度
液または固形剤として保存する場合、硬膜剤などを別パ
ートとした複数のパーツで構成しても良いし、すべての
成分を含む一剤型の構成としても良い。
【0172】定着処理剤には所望により保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩などを0.01
5モル/リットル以上、好ましくは0.02モル/リットル〜
0.3モル/リットル)、pH緩衝剤(例えば酢酸、酢酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン
酸、コハク酸、アジピン酸などを0.1モル/リットル〜1
モル/リットル、好ましくは0.2モル/リットル〜0.7モル
/リットル)、アルミニウム安定化能や硬水軟化能のある化
合物(例えばグルコン酸、イミノジ酢酸、5−スルホサ
リチル酸、グルコヘプタン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエ
ン酸、シュウ酸、マレイン酸、グリコール酸、安息香
酸、サリチル酸、タイロン、アスコルビン酸、グルタル
酸、アスパラギン酸、グリシン、システイン、エチレン
ジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸やこれらの誘導体およ
びこれらの塩、糖類、ほう酸などを0.001モル/リッ
トル〜0.5モル/リットル、好ましくは0.005モル/リッ
トル〜0.3モル/リットル)を含むことができる。
亜硫酸塩、重亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩などを0.01
5モル/リットル以上、好ましくは0.02モル/リットル〜
0.3モル/リットル)、pH緩衝剤(例えば酢酸、酢酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン
酸、コハク酸、アジピン酸などを0.1モル/リットル〜1
モル/リットル、好ましくは0.2モル/リットル〜0.7モル
/リットル)、アルミニウム安定化能や硬水軟化能のある化
合物(例えばグルコン酸、イミノジ酢酸、5−スルホサ
リチル酸、グルコヘプタン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエ
ン酸、シュウ酸、マレイン酸、グリコール酸、安息香
酸、サリチル酸、タイロン、アスコルビン酸、グルタル
酸、アスパラギン酸、グリシン、システイン、エチレン
ジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸やこれらの誘導体およ
びこれらの塩、糖類、ほう酸などを0.001モル/リッ
トル〜0.5モル/リットル、好ましくは0.005モル/リッ
トル〜0.3モル/リットル)を含むことができる。
【0173】このほか、特開昭62−78551号に記
載の化合物、pH調整剤(例えば水酸化ナトリウム、ア
ンモニア、硫酸など)、界面活性剤、湿潤剤、定着促進
剤等も含むことができる。界面活性剤としては、例えば
硫酸化物スルフォン酸化物などのアニオン界面活性剤、
ポリエチレン系界面活性剤、特開昭57−6840号記
載の両性界面活性剤が挙げられ、公知の消泡剤を使用す
ることもできる。湿潤剤としては、アルカノールアミ
ン、アルキレングリコール等がある。定着促進剤として
は、特開平6−308681号に記載のアルキルおよび
アリル置換されたチオスルホン酸およびその塩や、特公
昭45−35754号、同58−122535号、同5
8−122536号記載のチオ尿素誘導体、分子内に3
重結合を有するアルコール、米国特許第4,126,4
59号記載のチオエーテル化合物、特開昭64−473
9号、特開平1−4739号、同1−159645号お
よび同3−101728号に記載のメルカプト化合物、
同4−170539号に記載のメソイオン化合物、チオ
シアン酸塩を含むことができる。
載の化合物、pH調整剤(例えば水酸化ナトリウム、ア
ンモニア、硫酸など)、界面活性剤、湿潤剤、定着促進
剤等も含むことができる。界面活性剤としては、例えば
硫酸化物スルフォン酸化物などのアニオン界面活性剤、
ポリエチレン系界面活性剤、特開昭57−6840号記
載の両性界面活性剤が挙げられ、公知の消泡剤を使用す
ることもできる。湿潤剤としては、アルカノールアミ
ン、アルキレングリコール等がある。定着促進剤として
は、特開平6−308681号に記載のアルキルおよび
アリル置換されたチオスルホン酸およびその塩や、特公
昭45−35754号、同58−122535号、同5
8−122536号記載のチオ尿素誘導体、分子内に3
重結合を有するアルコール、米国特許第4,126,4
59号記載のチオエーテル化合物、特開昭64−473
9号、特開平1−4739号、同1−159645号お
よび同3−101728号に記載のメルカプト化合物、
同4−170539号に記載のメソイオン化合物、チオ
シアン酸塩を含むことができる。
【0174】本発明における定着液のpHは4.0以
上、好ましくは4.5〜6.0を有する。定着液は処理
により現像液が混入してpHが上昇するが、この場合、
硬膜定着液では6.0以下、好ましくは5.7以下であ
り、無硬膜定着液においては7.0以下、好ましくは
6.7以下である。
上、好ましくは4.5〜6.0を有する。定着液は処理
により現像液が混入してpHが上昇するが、この場合、
硬膜定着液では6.0以下、好ましくは5.7以下であ
り、無硬膜定着液においては7.0以下、好ましくは
6.7以下である。
【0175】定着液の補充量は、感光材料1m2につき5
00ml以下であり、390ml以下が好ましく、320〜
80mlがより好ましい。補充液は、開始液と同一の組成
および/または濃度を有していても良いし、開始液と異
なる組成および/または濃度を有していても良い。
00ml以下であり、390ml以下が好ましく、320〜
80mlがより好ましい。補充液は、開始液と同一の組成
および/または濃度を有していても良いし、開始液と異
なる組成および/または濃度を有していても良い。
【0176】定着液は電解銀回収などの公知の定着液再
生方法により再生使用することができる。再生装置とし
ては、例えばフジハント社製 Reclaim R-60 などがあ
る。また、活性炭などの吸着フィルターを使用して、色
素などを除去することも好ましい。
生方法により再生使用することができる。再生装置とし
ては、例えばフジハント社製 Reclaim R-60 などがあ
る。また、活性炭などの吸着フィルターを使用して、色
素などを除去することも好ましい。
【0177】現像、定着処理が済んだ感光材料は、つい
で水洗または安定化処理される(以下特に断らない限
り、安定化処理を含めて水洗といい、これらに使用する
液を、水または水洗水という。)。水洗に使用される水
は、水道水でもイオン交換水でも蒸留水でも安定化液で
もよい。これらの補充量は、一般的には感光材料1m2あ
たり約17リットル〜約8リットルであるが、それ以下の補充量
で行うこともできる。特に3リットル以下の補充量(0も含
む。すなわち、ため水水洗)では、節水処理が可能とな
るのみならず、自動現像機設置の配管を不要とすること
もできる。水洗を低補充量で行う場合は、特開昭63−
18350号、同62−287252号等に記載のスク
イズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設け
ることがより好ましい。また、少量水洗時に問題となる
公害負荷低減や、水垢防止のために種々の酸化剤(例え
ばオゾン、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム、活性ハ
ロゲン、二酸化塩素、炭酸ナトリウム過酸化水素塩な
ど)添加やフィルター濾過を組み合わせても良い。
で水洗または安定化処理される(以下特に断らない限
り、安定化処理を含めて水洗といい、これらに使用する
液を、水または水洗水という。)。水洗に使用される水
は、水道水でもイオン交換水でも蒸留水でも安定化液で
もよい。これらの補充量は、一般的には感光材料1m2あ
たり約17リットル〜約8リットルであるが、それ以下の補充量
で行うこともできる。特に3リットル以下の補充量(0も含
む。すなわち、ため水水洗)では、節水処理が可能とな
るのみならず、自動現像機設置の配管を不要とすること
もできる。水洗を低補充量で行う場合は、特開昭63−
18350号、同62−287252号等に記載のスク
イズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設け
ることがより好ましい。また、少量水洗時に問題となる
公害負荷低減や、水垢防止のために種々の酸化剤(例え
ばオゾン、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム、活性ハ
ロゲン、二酸化塩素、炭酸ナトリウム過酸化水素塩な
ど)添加やフィルター濾過を組み合わせても良い。
【0178】水洗の補充量を少なくする方法として、古
くより多段向流方式(例えば2段、3段等)が知られて
おり、水洗補充量は感光材料1m2あたり200〜50ml
が好ましい。この効果は、独立多段方式(向流にせず、
多段の水洗槽に個別に新液を補充する方法)でも同様に
得られる。
くより多段向流方式(例えば2段、3段等)が知られて
おり、水洗補充量は感光材料1m2あたり200〜50ml
が好ましい。この効果は、独立多段方式(向流にせず、
多段の水洗槽に個別に新液を補充する方法)でも同様に
得られる。
【0179】さらに、本発明の方法で水洗工程に水垢防
止手段を施しても良い。水垢防止手段としては公知のも
の使用することができ、特に制限はしないが、防ばい剤
(いわゆる水垢防止剤)を添加する方法、通電する方
法、紫外線または赤外線や遠赤外線を照射する方法、磁
場をかける方法、超音波処理する方法、熱をかける方
法、未使用時にタンクを空にする方法などがある。これ
らの水垢防止手段は、感光材料の処理に応じてなされて
も良いし、使用状況に関係なく一定間隔で行われても良
いし、夜間など処理の行われない期間のみ施しても良
い。またあらかじめ水洗水に施しておいて、これを補充
しても良い。さらには、一定期間ごとに異なる水垢防止
手段を行うことも、耐性菌の発生を抑える上では好まし
い。防ばい剤としては特に限定はなく公知のものが使用
できる。前述の酸化剤の他例えばグルタルアルデヒド、
アミノポリカルボン酸等のキレート剤、カチオン製界面
活性剤、メルカプトピリジンオキシド(例えば2−メル
カプトピリジン−N−オキシドなど)などがあり、単独
使用でも複数の併用でも良い。通電する方法としては、
特開平3−224685号、同3−224687号、同
4−16280号、同4−18980号などに記載の方
法が使用できる。
止手段を施しても良い。水垢防止手段としては公知のも
の使用することができ、特に制限はしないが、防ばい剤
(いわゆる水垢防止剤)を添加する方法、通電する方
法、紫外線または赤外線や遠赤外線を照射する方法、磁
場をかける方法、超音波処理する方法、熱をかける方
法、未使用時にタンクを空にする方法などがある。これ
らの水垢防止手段は、感光材料の処理に応じてなされて
も良いし、使用状況に関係なく一定間隔で行われても良
いし、夜間など処理の行われない期間のみ施しても良
い。またあらかじめ水洗水に施しておいて、これを補充
しても良い。さらには、一定期間ごとに異なる水垢防止
手段を行うことも、耐性菌の発生を抑える上では好まし
い。防ばい剤としては特に限定はなく公知のものが使用
できる。前述の酸化剤の他例えばグルタルアルデヒド、
アミノポリカルボン酸等のキレート剤、カチオン製界面
活性剤、メルカプトピリジンオキシド(例えば2−メル
カプトピリジン−N−オキシドなど)などがあり、単独
使用でも複数の併用でも良い。通電する方法としては、
特開平3−224685号、同3−224687号、同
4−16280号、同4−18980号などに記載の方
法が使用できる。
【0180】このほか、水泡ムラ防止や汚れ転写防止の
ために、公知の水溶性界面活性剤や消泡剤を添加しても
良い。また、感光材料から溶出した染料による汚染防止
に、特開昭63−163456号に記載の色素吸着剤を
水洗系に設置しても良い。
ために、公知の水溶性界面活性剤や消泡剤を添加しても
良い。また、感光材料から溶出した染料による汚染防止
に、特開昭63−163456号に記載の色素吸着剤を
水洗系に設置しても良い。
【0181】水洗工程からオーバーフロー液の一部また
は全部は、特開昭60−235133号に記載されてい
るように、定着能を有する処理液に混合利用することも
できる。また微生物処理(例えば硫黄酸化菌、活性汚泥
処理や微生物を活性炭やセラミック等の多孔質担体に担
持させたフィルターによる処理等)や、通電や酸化剤に
よる酸化処理をして、生物化学的酸素要求量(BO
D)、化学的酸素要求量(COD)、沃素消費量等を低
減してから排出したり、銀と親和性のあるポリマーを用
いたフィルターやトリメルカプトトリアジン等の難溶性
銀錯体を形成する化合物を添加して銀を沈降させてフィ
ルター濾過するなどし、排水中の銀濃度を低下させるこ
とも、自然環境保全の観点から好ましい。
は全部は、特開昭60−235133号に記載されてい
るように、定着能を有する処理液に混合利用することも
できる。また微生物処理(例えば硫黄酸化菌、活性汚泥
処理や微生物を活性炭やセラミック等の多孔質担体に担
持させたフィルターによる処理等)や、通電や酸化剤に
よる酸化処理をして、生物化学的酸素要求量(BO
D)、化学的酸素要求量(COD)、沃素消費量等を低
減してから排出したり、銀と親和性のあるポリマーを用
いたフィルターやトリメルカプトトリアジン等の難溶性
銀錯体を形成する化合物を添加して銀を沈降させてフィ
ルター濾過するなどし、排水中の銀濃度を低下させるこ
とも、自然環境保全の観点から好ましい。
【0182】また、水洗処理に続いて安定化処理する場
合もあり、その例として特開平2−201357号、同
2−132435号、同1−102553号、特開昭4
6−44446号に記載の化合物を含有した浴を感光材
料の最終浴として使用しても良い。この安定浴にも必要
に応じてアンモニウム化合物、Bi、Al等の金属化合
物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜
剤、殺菌剤、防ばい剤、アルカノールアミンや界面活性
剤を加えることもできる。
合もあり、その例として特開平2−201357号、同
2−132435号、同1−102553号、特開昭4
6−44446号に記載の化合物を含有した浴を感光材
料の最終浴として使用しても良い。この安定浴にも必要
に応じてアンモニウム化合物、Bi、Al等の金属化合
物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜
剤、殺菌剤、防ばい剤、アルカノールアミンや界面活性
剤を加えることもできる。
【0183】水洗、安定化浴に添加する防ばい剤等の添
加剤および安定化剤は、前述の現像、定着処理剤同様に
固形剤とすることもできる。
加剤および安定化剤は、前述の現像、定着処理剤同様に
固形剤とすることもできる。
【0184】本発明に使用する現像液、定着液、水洗
水、安定化液の廃液は焼却処分することが好ましい。ま
た、これらの廃液は例えば特公平7−83867号、U
S5,439,560号等に記載されているような濃縮
装置で濃縮液化または固化させてから処分することも可
能である。
水、安定化液の廃液は焼却処分することが好ましい。ま
た、これらの廃液は例えば特公平7−83867号、U
S5,439,560号等に記載されているような濃縮
装置で濃縮液化または固化させてから処分することも可
能である。
【0185】処理剤の補充量を低減する場合には、処理
槽の開口面積を小さくして液の蒸発、空気酸化を防止す
ることが好ましい。ローラー搬送型の自動現像機につい
ては米国特許第3,025,779号、同3,545,
971号などに記載されており、本明細書においては単
にローラー搬送型自動現像機として言及する。この自現
機は現像、定着、水洗および乾燥の四工程からなってお
り、本発明の方法も、他の工程(例えば停止工程)を除
外しないが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。
さらに、現像定着間および/または定着水洗間にリンス
浴を設けても良い。
槽の開口面積を小さくして液の蒸発、空気酸化を防止す
ることが好ましい。ローラー搬送型の自動現像機につい
ては米国特許第3,025,779号、同3,545,
971号などに記載されており、本明細書においては単
にローラー搬送型自動現像機として言及する。この自現
機は現像、定着、水洗および乾燥の四工程からなってお
り、本発明の方法も、他の工程(例えば停止工程)を除
外しないが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。
さらに、現像定着間および/または定着水洗間にリンス
浴を設けても良い。
【0186】本発明の現像処理では、dry to dryで25
〜160秒が好ましく、現像および定着時間が40秒以
下、好ましくは6〜35秒、各液の温度は25〜50℃
が好ましく、30〜40℃が好ましい。水洗の温度およ
び時間は0〜50℃で40秒以下が好ましい。本発明の
方法によれば、現像、定着および水洗された感光材料は
水洗水を絞りきる、すなわちスクイズローラーを経て乾
燥しても良い。乾燥は約40〜約100℃で行われ、乾
燥時間は周囲の状態によって適宜変えられる。乾燥方法
は公知きいずれの方法も用いることができ、特に限定は
ないが、温風乾燥や、特開平4−15534号、同5−
2256号、同5−289294号に開示されているよ
うなヒートローラー乾燥、遠赤外線による乾燥などがあ
り、複数の方法を併用しても良い。
〜160秒が好ましく、現像および定着時間が40秒以
下、好ましくは6〜35秒、各液の温度は25〜50℃
が好ましく、30〜40℃が好ましい。水洗の温度およ
び時間は0〜50℃で40秒以下が好ましい。本発明の
方法によれば、現像、定着および水洗された感光材料は
水洗水を絞りきる、すなわちスクイズローラーを経て乾
燥しても良い。乾燥は約40〜約100℃で行われ、乾
燥時間は周囲の状態によって適宜変えられる。乾燥方法
は公知きいずれの方法も用いることができ、特に限定は
ないが、温風乾燥や、特開平4−15534号、同5−
2256号、同5−289294号に開示されているよ
うなヒートローラー乾燥、遠赤外線による乾燥などがあ
り、複数の方法を併用しても良い。
【0187】本発明における現像および定着処理剤が液
剤の場合、例えば特開昭61−73147号に記載され
たような、酸素透過性の低い包材で保管する事が好まし
い。さらにこれらの液が濃縮液の場合、所定の濃度にな
るように、濃縮液1部に対して水0.2〜3部の割合で
希釈して使用される。
剤の場合、例えば特開昭61−73147号に記載され
たような、酸素透過性の低い包材で保管する事が好まし
い。さらにこれらの液が濃縮液の場合、所定の濃度にな
るように、濃縮液1部に対して水0.2〜3部の割合で
希釈して使用される。
【0188】本発明における現像処理剤及び定着処理剤
は固定にしても液剤同様の結果が得られるが、以下に固
形処理剤に関する記述を行う。本発明における固形剤
は、公知の形態(粉状、粒状、顆粒状、塊状、錠剤、コ
ンパクター、ブリケット、板状、棒状、ペースト状な
ど)が使用できる。これらの固形剤は、接触して互いに
反応する成分を分離するために、水溶性のコーティング
剤やフィルムで被覆しても良いし、複数の層構成にして
互いに反応する成分を分離しても良く、これらを併用し
ても良い。
は固定にしても液剤同様の結果が得られるが、以下に固
形処理剤に関する記述を行う。本発明における固形剤
は、公知の形態(粉状、粒状、顆粒状、塊状、錠剤、コ
ンパクター、ブリケット、板状、棒状、ペースト状な
ど)が使用できる。これらの固形剤は、接触して互いに
反応する成分を分離するために、水溶性のコーティング
剤やフィルムで被覆しても良いし、複数の層構成にして
互いに反応する成分を分離しても良く、これらを併用し
ても良い。
【0189】被覆剤、造粒助剤には公知のものが使用で
きるが、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコー
ル、ポリスチレンスルホン酸、ビニル系化合物が好まし
い。この他、特開平5−45805号、カラム2の48
行〜カラム3の13行目が参考にできる。
きるが、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコー
ル、ポリスチレンスルホン酸、ビニル系化合物が好まし
い。この他、特開平5−45805号、カラム2の48
行〜カラム3の13行目が参考にできる。
【0190】複数の層構成にする場合は、接触しても反
応しない成分を互いに反応する成分の間にはさんだ構成
にして錠剤やブリケット等に加工しても良いし、公知の
形態の成分を同様の層構成にして包装しても良い。これ
らの方法は、例えば特開昭61−259921号、特開
平4−16841号、同4−78848号、同5−93
991号等に示される。
応しない成分を互いに反応する成分の間にはさんだ構成
にして錠剤やブリケット等に加工しても良いし、公知の
形態の成分を同様の層構成にして包装しても良い。これ
らの方法は、例えば特開昭61−259921号、特開
平4−16841号、同4−78848号、同5−93
991号等に示される。
【0191】固形処理剤の嵩密度は、0.5〜6.0g
/cm3 が好ましく、特に錠剤は1.0〜5.0g/cm3
が好ましく、顆粒は0.5〜1.5g/cm3 が好まし
い。
/cm3 が好ましく、特に錠剤は1.0〜5.0g/cm3
が好ましく、顆粒は0.5〜1.5g/cm3 が好まし
い。
【0192】本発明における固形処理剤の製法は、公知
のいずれの方法を用いることができる。例えば、特開昭
61−259921号、特開平4−15641号、特開
平4−16841号、同4−32837号、同4−78
848号、同5−93991号、特開平4−85533
号、同4−85534号、同4−85535号、同5−
134362号、同5−197070号、同5−204
098号、同5−224361号、同6−138604
号、同6−138605号、特願平7−89123号等
を参考にすることができる。
のいずれの方法を用いることができる。例えば、特開昭
61−259921号、特開平4−15641号、特開
平4−16841号、同4−32837号、同4−78
848号、同5−93991号、特開平4−85533
号、同4−85534号、同4−85535号、同5−
134362号、同5−197070号、同5−204
098号、同5−224361号、同6−138604
号、同6−138605号、特願平7−89123号等
を参考にすることができる。
【0193】より具体的には転動造粒法、押し出し造粒
法、圧縮造粒法、解砕造粒法、攪拌造粒法、スプレード
ライ法、溶解凝固法、ブリケッティング法、ローラーコ
ンパクティング法等を用いることができる。
法、圧縮造粒法、解砕造粒法、攪拌造粒法、スプレード
ライ法、溶解凝固法、ブリケッティング法、ローラーコ
ンパクティング法等を用いることができる。
【0194】本発明における固形剤は、表面状態(平
滑、多孔質等)や部分的に厚みを変えたり、中空状のド
ーナツ型にしたりして溶解性を調節することもできる。
さらに、複数の造粒物に異なった溶解性を与えたり、溶
解性の異なる素材の溶解度を合わせるために、複数の形
状をとることも可能である。また、表面と内部で組成の
異なる多層の造粒物でも良い。
滑、多孔質等)や部分的に厚みを変えたり、中空状のド
ーナツ型にしたりして溶解性を調節することもできる。
さらに、複数の造粒物に異なった溶解性を与えたり、溶
解性の異なる素材の溶解度を合わせるために、複数の形
状をとることも可能である。また、表面と内部で組成の
異なる多層の造粒物でも良い。
【0195】固形剤の包材は、酸素および水分透過性の
低い材質が好ましく、包材の形状は袋状、筒状、箱状な
どの公知のものが使用できる。また、特開平6−242
585号〜同6−242588号、同6−247432
号、同6−247448号、特願平5−30664号、
特開平7−5664号、同7−5666号〜同7−56
69号に開示されているような折り畳み可能な形状にす
ることも、廃包材の保管スペース削減のためには好まし
い。これらの包材は、処理剤の取り出し口にスクリュー
キャップや、プルトップ、アルミシールをつけたり、包
材をヒートシールしてもよいが、このほかの公知のもの
を使用しても良く、特に限定はしない。さらに環境保全
上、廃包材をリサイクルまたはリユースすることが好ま
しい。
低い材質が好ましく、包材の形状は袋状、筒状、箱状な
どの公知のものが使用できる。また、特開平6−242
585号〜同6−242588号、同6−247432
号、同6−247448号、特願平5−30664号、
特開平7−5664号、同7−5666号〜同7−56
69号に開示されているような折り畳み可能な形状にす
ることも、廃包材の保管スペース削減のためには好まし
い。これらの包材は、処理剤の取り出し口にスクリュー
キャップや、プルトップ、アルミシールをつけたり、包
材をヒートシールしてもよいが、このほかの公知のもの
を使用しても良く、特に限定はしない。さらに環境保全
上、廃包材をリサイクルまたはリユースすることが好ま
しい。
【0196】本発明の固形処理剤の溶解および補充の方
法としては特に限定はなく、公知の方法を使用すること
ができる。これらの方法としては例えば、攪拌機能を有
する溶解装置で一定量を溶解し補充する方法、特願平7
−235499号に記載されているような溶解部分と完
成液をストックする部分とを有する溶解装置で溶解し、
ストック部から補充する方法、特開平5−119454
号、同6−19102号、同7−261357号に記載
されているような自動現像機の循環系に処理剤を投入し
て溶解・補充する方法、溶解槽を内蔵する自動現像機で
感光材料の処理に応じて処理剤を投入し溶解する方法な
どがあるが、このほかの公知のいずれの方法を用いるこ
ともできる。また処理剤の投入は、入手で行っても良い
し、特願平7−235498号に記載されているような
開封機構を有する溶解装置や自動現像機で自動開封、自
動投入してもよく、作業環境の点からは後者が好まし
い。具体的には取り出し口を突き破る方法、はがす方
法、切り取る方法、押し切る方法や、特開平6−191
02号、同6−95331号に記載の方法などがある。
法としては特に限定はなく、公知の方法を使用すること
ができる。これらの方法としては例えば、攪拌機能を有
する溶解装置で一定量を溶解し補充する方法、特願平7
−235499号に記載されているような溶解部分と完
成液をストックする部分とを有する溶解装置で溶解し、
ストック部から補充する方法、特開平5−119454
号、同6−19102号、同7−261357号に記載
されているような自動現像機の循環系に処理剤を投入し
て溶解・補充する方法、溶解槽を内蔵する自動現像機で
感光材料の処理に応じて処理剤を投入し溶解する方法な
どがあるが、このほかの公知のいずれの方法を用いるこ
ともできる。また処理剤の投入は、入手で行っても良い
し、特願平7−235498号に記載されているような
開封機構を有する溶解装置や自動現像機で自動開封、自
動投入してもよく、作業環境の点からは後者が好まし
い。具体的には取り出し口を突き破る方法、はがす方
法、切り取る方法、押し切る方法や、特開平6−191
02号、同6−95331号に記載の方法などがある。
【0197】次に本発明の感光材料を直接ポジ型のハロ
ゲン化銀写真感光材料として使用する場合の好ましい形
態について説明する。
ゲン化銀写真感光材料として使用する場合の好ましい形
態について説明する。
【0198】この場合、一般式〔I〕で表される化合物
は、カブリ剤として機能させることができる。以下一般
式〔I〕で表される化合物をカブリ剤として用いる場
合、これを「本発明のカブリ剤」と称する。
は、カブリ剤として機能させることができる。以下一般
式〔I〕で表される化合物をカブリ剤として用いる場
合、これを「本発明のカブリ剤」と称する。
【0199】本発明のカブリ剤は、それらの少なくとも
1種を、画像露光後、現像処理の際に、直接ポジ型の画
像を与える乳剤である内部潜像型ハロゲン化銀乳剤をカ
ブラせるように存在せしめればよい。即ち、内部潜像型
ハロゲン化銀乳剤を有する写真感光材料を露光後、本発
明のカブリ剤の存在下に現像処理できるような形で感光
材料中に含有させればよい。
1種を、画像露光後、現像処理の際に、直接ポジ型の画
像を与える乳剤である内部潜像型ハロゲン化銀乳剤をカ
ブラせるように存在せしめればよい。即ち、内部潜像型
ハロゲン化銀乳剤を有する写真感光材料を露光後、本発
明のカブリ剤の存在下に現像処理できるような形で感光
材料中に含有させればよい。
【0200】好ましい実施態様としては、本発明のカブ
リ剤の少なくとも1種をハロゲン化銀乳剤層又はそれに
隣接する層(例えばハロゲン化銀感光層、中間層、フィ
ルター層、保護層、ハレーション防止層など)中に含有
せしめるものである。
リ剤の少なくとも1種をハロゲン化銀乳剤層又はそれに
隣接する層(例えばハロゲン化銀感光層、中間層、フィ
ルター層、保護層、ハレーション防止層など)中に含有
せしめるものである。
【0201】本発明のカブリ剤の使用量は、用いられる
ハロゲン化銀乳剤の特性、カブリ剤の種類、現像条件に
よって広い範囲に変化し得るが、内部潜像型ハロゲン化
銀乳剤を有する写真材料を画像露光後、表面現像液で現
像処理してポジ画像が得られるだけの被らせ作用を与え
る量であればよい。現像処理後、充分な最大濃度(例え
ば2.0以上)を与える量であることが望ましい。
ハロゲン化銀乳剤の特性、カブリ剤の種類、現像条件に
よって広い範囲に変化し得るが、内部潜像型ハロゲン化
銀乳剤を有する写真材料を画像露光後、表面現像液で現
像処理してポジ画像が得られるだけの被らせ作用を与え
る量であればよい。現像処理後、充分な最大濃度(例え
ば2.0以上)を与える量であることが望ましい。
【0202】本発明のカブリ剤をハロゲン化銀乳剤に含
有せしめるには、熟成終了後の適当な時期に、ハロゲン
化銀1モルに対し該カブリ剤を10-5〜10-1モル程
度、含有せしめるようにするのが好ましい。
有せしめるには、熟成終了後の適当な時期に、ハロゲン
化銀1モルに対し該カブリ剤を10-5〜10-1モル程
度、含有せしめるようにするのが好ましい。
【0203】本発明の内部潜像型ハロゲン化銀乳剤を有
する写真材料の現像処理において使用することのできる
ハロゲン化銀現像剤には、ハイドロキノン類、カテコー
ル類、アミノフェノール類、3−ピラゾリドン類、アス
コルビン酸とその誘導体、レダクトン類、フェニレンジ
アミン類等或いはその混合物が含まれる。これらの現像
剤は予め乳剤中に含ませておき、高pH水溶液浸漬中に
ハロゲン化銀に作用させるようにすることもできる。
する写真材料の現像処理において使用することのできる
ハロゲン化銀現像剤には、ハイドロキノン類、カテコー
ル類、アミノフェノール類、3−ピラゾリドン類、アス
コルビン酸とその誘導体、レダクトン類、フェニレンジ
アミン類等或いはその混合物が含まれる。これらの現像
剤は予め乳剤中に含ませておき、高pH水溶液浸漬中に
ハロゲン化銀に作用させるようにすることもできる。
【0204】本発明の実施に際し、直接ポジ型のハロゲ
ン化銀写真感光材料の現像処理に使用される現像組成物
は、更にカブリ防止層剤及び現像抑制剤を含有すること
ができる。あるいはそれらをハロゲン化銀写真感光材料
の層膜中に任意に組み入れることも可能である。
ン化銀写真感光材料の現像処理に使用される現像組成物
は、更にカブリ防止層剤及び現像抑制剤を含有すること
ができる。あるいはそれらをハロゲン化銀写真感光材料
の層膜中に任意に組み入れることも可能である。
【0205】本発明を直接ポジ型のハロゲン化銀写真感
光材料に適用した場合のハロゲン化銀乳剤は、内部潜像
型ハロゲン化銀乳剤、即ちハロゲン化銀粒子の内部に主
として潜像を形成し、感光核の大部分を粒子の内部に有
するハロゲン化銀粒子を有する乳剤である。この乳剤を
形成するためのハロゲン化銀には、先に述べたと同様に
任意の組成を採用できる。
光材料に適用した場合のハロゲン化銀乳剤は、内部潜像
型ハロゲン化銀乳剤、即ちハロゲン化銀粒子の内部に主
として潜像を形成し、感光核の大部分を粒子の内部に有
するハロゲン化銀粒子を有する乳剤である。この乳剤を
形成するためのハロゲン化銀には、先に述べたと同様に
任意の組成を採用できる。
【0206】特に好ましくは、この場合に用いる乳剤
は、透明な支持体に該乳剤を塗布した試料の一部を約1
秒までのある定められた時間にわたって光強度スケール
に露光し、実質的にハロゲン化銀溶剤を含有しない、粒
子の表面像のみを現像する下記の表面現像液Aを用いて
20℃で4分間現像した場合に、同一の乳剤試料の別の
一部を同じく露光し粒子の内部の像を現像する下記の内
部現像液Bで20℃で4分間現像した場合に得られる最
大濃度の1/5より大きくない最大濃度を示すものであ
る。好ましくは、表面現像液Aを用いて得られた最大濃
度は内部現像液で得られる最大濃度の1/10より大き
くないものである。
は、透明な支持体に該乳剤を塗布した試料の一部を約1
秒までのある定められた時間にわたって光強度スケール
に露光し、実質的にハロゲン化銀溶剤を含有しない、粒
子の表面像のみを現像する下記の表面現像液Aを用いて
20℃で4分間現像した場合に、同一の乳剤試料の別の
一部を同じく露光し粒子の内部の像を現像する下記の内
部現像液Bで20℃で4分間現像した場合に得られる最
大濃度の1/5より大きくない最大濃度を示すものであ
る。好ましくは、表面現像液Aを用いて得られた最大濃
度は内部現像液で得られる最大濃度の1/10より大き
くないものである。
【0207】表面現像液A メトール 2.5g L−アスコルビン酸 10g NaBO2 ・4H2 O 20g KBr 1g 水を加えて 1リットル 内部現像液B メトール 2.0g 亜硫酸ソーダ 90.0g ハイドロキノン 8.0g 炭酸ソーダ水塩 52.5g KBr 5.0g KI 0.5g 水を加えて 1リットル 又、内部潜像型ハロゲン化銀乳剤には、種々の方法で調
製されるものが含まれる。例えば、米国特許第2,59
2,250号明細書に記載されているコンバージョン型
ハロゲン化銀乳剤、米国特許第3,206,316号明
細書、同3,317,322号明細書、同3,367,
778号、特公昭43−29405号公報に記載されて
いる内部化学増感されたハロゲン化銀粒子を有するハロ
ゲン化銀乳剤、米国特許第3,271,157号明細
書、同第3,447,927号明細書、同第3,53
1,291号明細書に記載されている多価金属イオンを
内蔵しているハロゲン化銀粒子を有するハロゲン化銀乳
剤、特開昭50−8524号公報に記載されている積層
構造を有する粒子からなるハロゲン化銀乳剤、又は、特
願昭51−74062号公報に記載されているアンモニ
ア法により調製された沃化銀を含有するハロゲン化銀乳
剤などである。
製されるものが含まれる。例えば、米国特許第2,59
2,250号明細書に記載されているコンバージョン型
ハロゲン化銀乳剤、米国特許第3,206,316号明
細書、同3,317,322号明細書、同3,367,
778号、特公昭43−29405号公報に記載されて
いる内部化学増感されたハロゲン化銀粒子を有するハロ
ゲン化銀乳剤、米国特許第3,271,157号明細
書、同第3,447,927号明細書、同第3,53
1,291号明細書に記載されている多価金属イオンを
内蔵しているハロゲン化銀粒子を有するハロゲン化銀乳
剤、特開昭50−8524号公報に記載されている積層
構造を有する粒子からなるハロゲン化銀乳剤、又は、特
願昭51−74062号公報に記載されているアンモニ
ア法により調製された沃化銀を含有するハロゲン化銀乳
剤などである。
【0208】更に、用いられる内部潜像型ハロゲン化銀
乳剤には、アザインデン環を持つ化合物及びメルカプト
基を有する含窒素ヘテロ環化合物等をハロゲン化銀1モ
ルに対し好ましくは1mg〜10g含有させることによ
り、より低い最小濃度を持ったより安定な結果を与える
事ができる。
乳剤には、アザインデン環を持つ化合物及びメルカプト
基を有する含窒素ヘテロ環化合物等をハロゲン化銀1モ
ルに対し好ましくは1mg〜10g含有させることによ
り、より低い最小濃度を持ったより安定な結果を与える
事ができる。
【0209】アザインデン環を持った化合物としては、
4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テト
ラザインデンが好ましい。メルカプト基を有する含窒素
ヘテロ環化合物としてはピラゾール環、1,2,4−ト
リアゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,
4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール
環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チア
ジアゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリ
ダジン環、1,2,3−トリアジン環、1,2,4−ト
リアジン環、1,3,5−トリアジン環、これらの環が
2〜3個縮合した環、例えばトリアゾロトリアゾール
環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、テトラザ
インデン環、ペンタザインデン環等、又、フタラジノン
環、インダゾール環などがあるが、1−フェニル−5−
メルカプトテトラゾールが好ましい。
4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テト
ラザインデンが好ましい。メルカプト基を有する含窒素
ヘテロ環化合物としてはピラゾール環、1,2,4−ト
リアゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,
4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール
環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チア
ジアゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリ
ダジン環、1,2,3−トリアジン環、1,2,4−ト
リアジン環、1,3,5−トリアジン環、これらの環が
2〜3個縮合した環、例えばトリアゾロトリアゾール
環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、テトラザ
インデン環、ペンタザインデン環等、又、フタラジノン
環、インダゾール環などがあるが、1−フェニル−5−
メルカプトテトラゾールが好ましい。
【0210】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、特
にポジ型の感光材料に適用したものは、黒白写真感光材
料でも、単色カラー又は多色カラー写真感光材料でもよ
い。フルカラー感光材料とする場合、青感光性層、緑感
光性層及び赤感光性層を有するように構成することが好
ましい。この場合、通常イエローカプラーを含有する青
感光性ハロゲン化銀乳剤層、マゼンタカプラーを含有す
る緑感光性ハロゲン化銀乳剤層及びシアンカプラーを含
有する赤感光性ハロゲン化銀乳剤層から、写真感光材料
が形成される。
にポジ型の感光材料に適用したものは、黒白写真感光材
料でも、単色カラー又は多色カラー写真感光材料でもよ
い。フルカラー感光材料とする場合、青感光性層、緑感
光性層及び赤感光性層を有するように構成することが好
ましい。この場合、通常イエローカプラーを含有する青
感光性ハロゲン化銀乳剤層、マゼンタカプラーを含有す
る緑感光性ハロゲン化銀乳剤層及びシアンカプラーを含
有する赤感光性ハロゲン化銀乳剤層から、写真感光材料
が形成される。
【0211】1つの好ましい態様にあっては、支持体か
ら遠い側から順に青感光性層、緑感光性層、赤感光性層
の層構成とし、青感光性層と緑感光性層との間に非感光
性層(イエローフィルター層)を設ける。
ら遠い側から順に青感光性層、緑感光性層、赤感光性層
の層構成とし、青感光性層と緑感光性層との間に非感光
性層(イエローフィルター層)を設ける。
【0212】上記イエローカプラーとしては、公知のア
シルアセトアニリド系カプラーを好ましく用いることが
でき、これらのうちベンゾイルアセトアニリド系及びピ
バロイルアセトアニリド系化合物が好適である。
シルアセトアニリド系カプラーを好ましく用いることが
でき、これらのうちベンゾイルアセトアニリド系及びピ
バロイルアセトアニリド系化合物が好適である。
【0213】上記マゼンタカプラーとしては、5−ピラ
ゾロン系カプラー、ピラゾロアゾール系カプラー、開鎖
アシルアセトニトリル系カプラーを使用することができ
る。
ゾロン系カプラー、ピラゾロアゾール系カプラー、開鎖
アシルアセトニトリル系カプラーを使用することができ
る。
【0214】上記シアンカプラーとしては、ナフトール
系カプラー及びフェノール系カプラーも好ましく用いる
ことができる。
系カプラー及びフェノール系カプラーも好ましく用いる
ことができる。
【0215】又、支持体上に上記の如き感光性ハロゲン
化銀乳剤層やイエローフィルター層となる非感光性層を
有することができるほか、中間層、保護層、下引層、裏
引層、ハレーション防止層等の種々の写真構成層を多数
設けることが可能である。これらの塗布方法としては、
ディップ塗布法、エアドクター塗布法、エクストルージ
ョン塗布法、スライドホッパー塗布法、カーテンフロー
塗布法などを適用することができる。
化銀乳剤層やイエローフィルター層となる非感光性層を
有することができるほか、中間層、保護層、下引層、裏
引層、ハレーション防止層等の種々の写真構成層を多数
設けることが可能である。これらの塗布方法としては、
ディップ塗布法、エアドクター塗布法、エクストルージ
ョン塗布法、スライドホッパー塗布法、カーテンフロー
塗布法などを適用することができる。
【0216】直接ポジハロゲン化銀写真感光材料とする
場合、その支持体としては、例えば必要に応じて下引加
工したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピ
レンフィルム、セルロースアセテートフィルム、ガラ
ス、バライタ紙、ポリエチレンラミネート紙等が挙げら
れる。
場合、その支持体としては、例えば必要に応じて下引加
工したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピ
レンフィルム、セルロースアセテートフィルム、ガラ
ス、バライタ紙、ポリエチレンラミネート紙等が挙げら
れる。
【0217】上記支持体は不透明であっても、透明であ
ってもよく、目的とする感光材料によって選択できる。
ってもよく、目的とする感光材料によって選択できる。
【0218】感光材料のハロゲン化銀乳剤には、目的に
応じて潤滑剤、膜物性改良剤、塗布助剤を加えることも
できる。更にその他の写真用添加剤として、ゼラチン可
塑剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、pH調整剤、酸化防
止剤、帯電防止剤、増粘剤、粒状性向上剤、染料、モル
ダント、増白剤、現像速度調節剤、マット剤等を使用す
ることもできる。
応じて潤滑剤、膜物性改良剤、塗布助剤を加えることも
できる。更にその他の写真用添加剤として、ゼラチン可
塑剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、pH調整剤、酸化防
止剤、帯電防止剤、増粘剤、粒状性向上剤、染料、モル
ダント、増白剤、現像速度調節剤、マット剤等を使用す
ることもできる。
【0219】又、色素画像の短波長の活性光線による退
色を防止するための紫外線吸収剤、例えばチアゾリド
ン、ベンゾトリアゾール、アクリロニトリル、ベンゾフ
ェノン系化合物を用いることは有用である。
色を防止するための紫外線吸収剤、例えばチアゾリド
ン、ベンゾトリアゾール、アクリロニトリル、ベンゾフ
ェノン系化合物を用いることは有用である。
【0220】ハロゲン化銀乳剤層には、保護コロイド或
いは結合剤(バインダー)として、ゼラチンやその他に
目的に応じて適当なゼラチン誘導体を用いる事ができ、
又、目的に応じて他の親水性結合剤(バインダー)を含
ませることができる。上記写真感光材料として乳剤層或
いは中間層、保護層、フィルター層、裏引層等の写真構
成層に目的に応じて添加することができ、更に上記親水
性バインダーには目的に応じて適当な可塑剤、潤滑剤等
を含有せしめることができる。
いは結合剤(バインダー)として、ゼラチンやその他に
目的に応じて適当なゼラチン誘導体を用いる事ができ、
又、目的に応じて他の親水性結合剤(バインダー)を含
ませることができる。上記写真感光材料として乳剤層或
いは中間層、保護層、フィルター層、裏引層等の写真構
成層に目的に応じて添加することができ、更に上記親水
性バインダーには目的に応じて適当な可塑剤、潤滑剤等
を含有せしめることができる。
【0221】又、各構成層は任意の適当な硬膜剤で硬化
せしめられることができる。更に、感光材料は、アンチ
ステイン剤を用いる事ができる。
せしめられることができる。更に、感光材料は、アンチ
ステイン剤を用いる事ができる。
【0222】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【0223】実施例1 <ヒドラジド化合物の固体分散の調整>デモールSNB
(花王(株)製)の25%水溶液を調整した。次に、表
11に示すヒドラジド化合物0.5gに対し、上記デモ
ールSNB水溶液0.6gと水59gを加えて混合し、
スラリーとした。このスラリーを、分散機(1/16ガ
ロン、サンドグラインダーミル(アイメックス(株)
製)に入れ、メディアとして直径0.8〜1.2mmのガ
ラスビーズ170gを用い、15時間分散した。次にヒ
ドラジド化合物濃度0.5%、ゼラチン濃度5%になる
ようにゼラチン水溶液を加えて混合し、防腐剤としてプ
ロキセルをゼラチンに対して2000ppm 添加した。最
後にアスコルビン酸を加えpHを5.0に調整した。ヒ
ドラジン化合物の固体分散物の平均粒子サイズを表14
に示す。本発明のヒドラジン化合物の比較例として、下
記のヒドラジン化合物を使用した。
(花王(株)製)の25%水溶液を調整した。次に、表
11に示すヒドラジド化合物0.5gに対し、上記デモ
ールSNB水溶液0.6gと水59gを加えて混合し、
スラリーとした。このスラリーを、分散機(1/16ガ
ロン、サンドグラインダーミル(アイメックス(株)
製)に入れ、メディアとして直径0.8〜1.2mmのガ
ラスビーズ170gを用い、15時間分散した。次にヒ
ドラジド化合物濃度0.5%、ゼラチン濃度5%になる
ようにゼラチン水溶液を加えて混合し、防腐剤としてプ
ロキセルをゼラチンに対して2000ppm 添加した。最
後にアスコルビン酸を加えpHを5.0に調整した。ヒ
ドラジン化合物の固体分散物の平均粒子サイズを表14
に示す。本発明のヒドラジン化合物の比較例として、下
記のヒドラジン化合物を使用した。
【0224】
【化32】
【0225】
【化33】
【0226】
【表14】
【0227】実施例2 <ハロゲン化銀写真感光材料の作成> 乳剤Aの調整 硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリウムと銀1
モルあたり3.5×10-7モルに相当する K3IrCl6と
2.0×10-7モルに相当する K2Rh(H2O)Cl5 を含むハ
ロゲン塩水溶液、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル
−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液
に、攪拌しながらダブルジェット法により添加し、平均
粒子サイズ0.25μm 、塩化銀含有率70モル%の塩
臭化銀粒子を調製した。その後、常法に従ってフロキュ
レーション法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン4
0gを加え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホ
ン酸ナトリウム7mgとベンゼンチオスルフィン酸ナトリ
ウム2mgを加えた後、pH6.0、pAg7.5に調整
し、銀1モル当たり2mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4
mgの塩化金酸を加えて60℃で最適感度になるように化
学増感した。この後、安定剤として4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン150
mgを加え、さらに防腐剤としてプロキセル100mgを加
えた。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.25
μm 、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子で
あった。(変動係数10%)
モルあたり3.5×10-7モルに相当する K3IrCl6と
2.0×10-7モルに相当する K2Rh(H2O)Cl5 を含むハ
ロゲン塩水溶液、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル
−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液
に、攪拌しながらダブルジェット法により添加し、平均
粒子サイズ0.25μm 、塩化銀含有率70モル%の塩
臭化銀粒子を調製した。その後、常法に従ってフロキュ
レーション法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン4
0gを加え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホ
ン酸ナトリウム7mgとベンゼンチオスルフィン酸ナトリ
ウム2mgを加えた後、pH6.0、pAg7.5に調整
し、銀1モル当たり2mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4
mgの塩化金酸を加えて60℃で最適感度になるように化
学増感した。この後、安定剤として4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン150
mgを加え、さらに防腐剤としてプロキセル100mgを加
えた。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.25
μm 、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子で
あった。(変動係数10%)
【0228】塗布試料の作成 塩化ビニリデンを含む防湿層下塗りを有するポリエチレ
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、UL層、EM層、PC層、OC層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、UL層、EM層、PC層、OC層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。
【0229】(UL層)ゼラチン水溶液に、ゼラチンに
対し30wt%のポリエチルアクリレートの分散物を添
加し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布した。
対し30wt%のポリエチルアクリレートの分散物を添
加し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布した。
【0230】(EM層)上記乳剤Aに、増感色素として
下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4モ
ル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モル
あたり3×10-4モルの下記(a)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(b)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるトリアジ
ン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキ
シキノリン、5×10-4モルの(A)で示される造核促
進剤、5×10-4モルの(p)で示される界面活性剤を
添加した。さらに、ハイドロキノンを100mg/m2、N
−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg
/m2塗布されるように添加した。次に造核剤として実施
例1で調整したヒドラジン化合物の固体分散物を、ヒド
ラジン化合物として1×10-3mol/Agmol 、表15に示
すように添加した。さらに、(d)で示される水溶性ラ
テックスを200mg/m2、ポリエチルアクリレートの分
散物を200mg/m2、メチルアクリレートと2−アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩
と2−アセトアセトキシエチルメタクリレートのラテッ
クス共重合体(重量比88:5:7)を200mg/m2、
平均粒径0.02μm のコロイダルシリカを200mg/
m2、さらに硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル−
2−プロパノールを200mg/m2、増粘剤としてポリス
チレンスルホン酸ナトリウムを30mg/m2加えた。溶液
のpHは酢酸を用いて5.5に調製した。それらを塗布
銀量2.5g/m2になるように塗布した。
下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4モ
ル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モル
あたり3×10-4モルの下記(a)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(b)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるトリアジ
ン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキ
シキノリン、5×10-4モルの(A)で示される造核促
進剤、5×10-4モルの(p)で示される界面活性剤を
添加した。さらに、ハイドロキノンを100mg/m2、N
−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg
/m2塗布されるように添加した。次に造核剤として実施
例1で調整したヒドラジン化合物の固体分散物を、ヒド
ラジン化合物として1×10-3mol/Agmol 、表15に示
すように添加した。さらに、(d)で示される水溶性ラ
テックスを200mg/m2、ポリエチルアクリレートの分
散物を200mg/m2、メチルアクリレートと2−アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩
と2−アセトアセトキシエチルメタクリレートのラテッ
クス共重合体(重量比88:5:7)を200mg/m2、
平均粒径0.02μm のコロイダルシリカを200mg/
m2、さらに硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル−
2−プロパノールを200mg/m2、増粘剤としてポリス
チレンスルホン酸ナトリウムを30mg/m2加えた。溶液
のpHは酢酸を用いて5.5に調製した。それらを塗布
銀量2.5g/m2になるように塗布した。
【0231】(PC層)ゼラチン水溶液にゼラチンに対
して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、
下記界面活性剤(w)を5mg/m2、1,5−ジヒドロキ
シ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2塗布されるよ
うに添加し、ゼラチン0.5g/m2になるよう塗布し
た。
して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、
下記界面活性剤(w)を5mg/m2、1,5−ジヒドロキ
シ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2塗布されるよ
うに添加し、ゼラチン0.5g/m2になるよう塗布し
た。
【0232】(OC層)ゼラチン0.5g/m2、平均粒
子サイズ約3.5μm の不定形なSiO2 マット剤40
mg/m2、メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリル
アミド100mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2およ
び塗布助剤として下記構造式(e)で示されるフッ素界
面活性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム100mg/m2を塗布した。
子サイズ約3.5μm の不定形なSiO2 マット剤40
mg/m2、メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリル
アミド100mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2およ
び塗布助剤として下記構造式(e)で示されるフッ素界
面活性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム100mg/m2を塗布した。
【0233】
【化34】
【0234】これらの塗布試料は下記組成のバック層お
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2
【0235】
【化35】
【0236】 SnO2 /Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μm)200mg/m2 染料 染料〔a〕、染料〔b〕、染料〔c〕の混合物 染料〔a〕 70mg/m2 染料〔b〕 70mg/m2 染料〔c〕 90mg/m2
【0237】
【化36】
【0238】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2
【0239】以上の様にして表15に示す試料を作成し
た。
た。
【0240】
【表15】
【0241】<現像液の調整>下記組成の現像液Aを調
整した。
整した。
【0242】 <現像液A> 水酸化ナトリウム 1.71g ジエチレントリアミン−五酢酸 4g 炭酸カリウム 33g 炭酸ソーダ 30g エリソルビン酸ナトリウム 45g N−メチル−p−アミノフェノール 7.5g KBr 2g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.1g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g 亜硫酸ナトリウム 2g 氷酢酸 9g 水を加えて1リットルとし、pHを9.7に合わせる。
【0243】また、現像液Aに酢酸を添加してpHを
9.2に合わせた現像液B、現像液Aに水酸化ナトリウ
ムを添加してpHを10.2に合わせた現像液Cを調整
した。
9.2に合わせた現像液B、現像液Aに水酸化ナトリウ
ムを添加してpHを10.2に合わせた現像液Cを調整
した。
【0244】<評価> (1)露光、現像処理 上記の試料を488nmにピークを持つ干渉フィルターを
介し、ステップウェッジを通して発光時間10-5sec の
キセノンフラッシュ光で露光し、現像液A、B、Cを用
いて富士写真フイルム社製AP−560自動現像機で、
35℃、15秒間現像した後、定着、水洗、乾燥処理を
行った。なお処理時の現像液、定着液の補充液量は試料
1m2あたり、それぞれ100ml、150mlとした。
介し、ステップウェッジを通して発光時間10-5sec の
キセノンフラッシュ光で露光し、現像液A、B、Cを用
いて富士写真フイルム社製AP−560自動現像機で、
35℃、15秒間現像した後、定着、水洗、乾燥処理を
行った。なお処理時の現像液、定着液の補充液量は試料
1m2あたり、それぞれ100ml、150mlとした。
【0245】定着液は、下記処方の定着液Aを用いた。 <定着液A> チオ硫酸アンモニウム 119.7g エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 0.03g チオ硫酸ナトリウム 5水塩 10.9g 亜硫酸ナトリウム 25.0g NaOH(純分で) 12.4g 氷酢酸 29.1g 酒石酸 2.92g グルコン酸ナトリウム 1.74g 硫酸アルミニウム 8.4g pH(硫酸または水酸化ナトリウムで調整) 4.8 水を加えて 1リットル
【0246】(2)硬調性 現像液Aで現像した時の硬調性を次のようにして表し
た。画像のコントラストを示す指標(ガンマ)として
は、特性曲線のfog+濃度0.1の点からfog+濃
度3.0の点を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値
として表した。すなわち、ガンマ=(3.0−0.1)/〔log
(濃度3.0を与える露光量)−(濃度0.1を与える
露光量)〕であり、ガンマ値は大きいほど硬調な写真特
性であることを示している。 (3)写真感度 感度は濃度1.5を与える露光量の対数値を用いた。値
が小さいほど高感度である。 (4)写真性の現像液pH依存性 現像液B、Cで現像した時の感度値を用いて、次式で感
度の現像液pH依存性を算出した。 感度のpH依存性(△S1.5)=S1.5 (現像液B)−S
1.5 (現像液C) 値が0に近いほど、現像液pH依存性が小さい、すなわ
ち処理安定性か高いことを示す。 (5)感材の経時安定性 温度60℃、湿度65%で3日間保存した試料を、上記
の方法に従い現像液Aで現像処理を行い、感度を測定し
た。常温常湿で3日間保存した試料との写真性の変動を
次式で表した。 経時による感度変動(△S1.5)=S1.5(温度60℃、湿
度65%で3日間保存した試料)−S1.5 (常温常湿で
3日間保存した試料) 値が0に近いほど、感材の経時安定性が高いことを示
す。
た。画像のコントラストを示す指標(ガンマ)として
は、特性曲線のfog+濃度0.1の点からfog+濃
度3.0の点を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値
として表した。すなわち、ガンマ=(3.0−0.1)/〔log
(濃度3.0を与える露光量)−(濃度0.1を与える
露光量)〕であり、ガンマ値は大きいほど硬調な写真特
性であることを示している。 (3)写真感度 感度は濃度1.5を与える露光量の対数値を用いた。値
が小さいほど高感度である。 (4)写真性の現像液pH依存性 現像液B、Cで現像した時の感度値を用いて、次式で感
度の現像液pH依存性を算出した。 感度のpH依存性(△S1.5)=S1.5 (現像液B)−S
1.5 (現像液C) 値が0に近いほど、現像液pH依存性が小さい、すなわ
ち処理安定性か高いことを示す。 (5)感材の経時安定性 温度60℃、湿度65%で3日間保存した試料を、上記
の方法に従い現像液Aで現像処理を行い、感度を測定し
た。常温常湿で3日間保存した試料との写真性の変動を
次式で表した。 経時による感度変動(△S1.5)=S1.5(温度60℃、湿
度65%で3日間保存した試料)−S1.5 (常温常湿で
3日間保存した試料) 値が0に近いほど、感材の経時安定性が高いことを示
す。
【0247】結果を表16に示す。
【0248】
【表16】
【0249】<結果>本発明のヒドラジン化合物を造核
剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超硬調で処
理安定性が高く、かつ感材の保存安定性に優れたアルゴ
ンレーザー用スキャナー感材を得ることができた。
剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超硬調で処
理安定性が高く、かつ感材の保存安定性に優れたアルゴ
ンレーザー用スキャナー感材を得ることができた。
【0250】実施例3 <ハロゲン化銀写真感光材料の作成> 乳剤調整 以下の方法で乳剤Bを調整した。銀1モルあたり1mgの
下記構造式のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウム
および4mgの塩化金酸を加えて60℃で最適感度になる
ように化学増感すること以外は乳剤Aと同様に調整し
た。
下記構造式のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウム
および4mgの塩化金酸を加えて60℃で最適感度になる
ように化学増感すること以外は乳剤Aと同様に調整し
た。
【0251】
【化37】
【0252】塗布試料の作成 実施例2のEM層の増感色素の代わりに下記の化合物
(S−3)を銀1モルあたり2.1×10-4モル添加す
ること、EM層の乳剤として乳剤Bを使用したこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
(S−3)を銀1モルあたり2.1×10-4モル添加す
ること、EM層の乳剤として乳剤Bを使用したこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
【0253】
【化38】
【0254】<評価> (1)露光、現像処理 上記の試料を633nmにピークを持つ干渉フィルターを
介し、ステップウェッジを通して発光時間10-6sec の
キセノンフラッシュ光で露光した。実施例2に記載の現
像液Aを用いて富士写真フイルム社製AP−560自動
現像機で35℃、15秒間現像をした後、定着(実施例
と同じ)、水洗、乾燥処理を行った。なお処理時の現像
液、定着液の補充液量は試料1m2あたり、それぞれ10
0mlとした。
介し、ステップウェッジを通して発光時間10-6sec の
キセノンフラッシュ光で露光した。実施例2に記載の現
像液Aを用いて富士写真フイルム社製AP−560自動
現像機で35℃、15秒間現像をした後、定着(実施例
と同じ)、水洗、乾燥処理を行った。なお処理時の現像
液、定着液の補充液量は試料1m2あたり、それぞれ10
0mlとした。
【0255】硬調性、感度の現像液pH依存性、感材の
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
【0256】<結果>実施例2と同様に、本発明のヒド
ラジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの
現像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ感材の保存安
定性に優れたヘリウムネオンレーザースキャナー用感材
を得ることができた。
ラジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの
現像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ感材の保存安
定性に優れたヘリウムネオンレーザースキャナー用感材
を得ることができた。
【0257】実施例4 <ハロゲン化銀写真感光材料の作成>実施例2のEM層
の増感色素を下記の化合物(S−4)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
の増感色素を下記の化合物(S−4)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
【0258】
【化39】
【0259】<評価>上記の試料を780nmにピークを
持つ干渉フィルターを介し、ステップウェッジを通して
発光時間10-6sec のキセノンフラッシュ光で露光し
た。実施例2に記載の現像液Aを用いて富士写真フイル
ム社製AP−560自動現像機で35℃、15秒間現像
をした後、定着(実施例と同じ)、水洗、乾燥処理を行
った。なお処理時の現像液、定着液の補充液量は試料1
m2あたり、それぞれ100mlとした。
持つ干渉フィルターを介し、ステップウェッジを通して
発光時間10-6sec のキセノンフラッシュ光で露光し
た。実施例2に記載の現像液Aを用いて富士写真フイル
ム社製AP−560自動現像機で35℃、15秒間現像
をした後、定着(実施例と同じ)、水洗、乾燥処理を行
った。なお処理時の現像液、定着液の補充液量は試料1
m2あたり、それぞれ100mlとした。
【0260】硬調性、感度の現像液pH依存性、感材の
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
【0261】<結果>実施例2と同様に本発明のヒドラ
ジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの現
像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ感材の保存安定
性に優れた半導体レーザースキャナー用感材を得ること
ができた。
ジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの現
像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ感材の保存安定
性に優れた半導体レーザースキャナー用感材を得ること
ができた。
【0262】実施例5 <ハロゲン化銀写真感光材料の作成>実施例2のEM層
の増感色素を下記の化合物(S−5)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
の増感色素を下記の化合物(S−5)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
【0263】
【化40】
【0264】<評価>上記の試料をステップウェッジを
通して3200°Kのタングステン光で露光した。実施
例2に記載の現像液Aを用いて富士写真フイルム社製A
P−560自動現像機で35℃、15秒間現像をした
後、定着(実施例と同じ)、水洗、乾燥処理を行った。
なお処理時の現像液、定着液の補充液量は試料1m2あた
り、それぞれ100mlとした。
通して3200°Kのタングステン光で露光した。実施
例2に記載の現像液Aを用いて富士写真フイルム社製A
P−560自動現像機で35℃、15秒間現像をした
後、定着(実施例と同じ)、水洗、乾燥処理を行った。
なお処理時の現像液、定着液の補充液量は試料1m2あた
り、それぞれ100mlとした。
【0265】硬調性、感度の現像液pH依存性、感材の
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
【0266】<結果>実施例2と同様に、本発明のヒド
ラジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの
現像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ感材の保存安
定性に優れた撮影感材を得ることができた。
ラジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの
現像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ感材の保存安
定性に優れた撮影感材を得ることができた。
【0267】実施例6 <ハロゲン化銀写真感光材料の作成> 乳剤Cの調整 38℃に保った塩化ナトリウム及び銀1モルあたり3×
10-5モルの下記化合物−Z、5×10-3モルの4−ヒ
ドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデンを含むpH=2.0の1.5%ゼラチン水溶液中
に、硝酸銀と銀1モル当り5×10-5モルのK2Ru(NO)Cl
5 を含む塩化ナトリウム水溶液をダブルジェット法によ
り電位95mVにおいて3分30秒間で最終粒子の銀量の
半分を同時添加し、芯部の粒子0.12μm を調製し
た。その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当り5×10-5モ
ルのK2Ru(NO)Cl5 を含む塩化ナトリウム水溶液を前述と
同様に7分間で添加し、平均粒子サイズ0.13μm の
塩化銀立方体粒子を調製した。(変動係数12%) その後、当業界でよく知られたフロキュレーション法に
より水洗し、可溶性塩を除去したのちゼラチンを加え、
防腐剤として化合物−Zとフェノキシエタノールを銀1
モル当たり各60mg加えた後、pH5.5、pAg=
7.5に調整し、さらに銀1モル当たり、4×10-5モ
ルの塩化金酸、1×10-5モルの前記のセレン増感剤及
び1×10-5モルのチオ硫酸ナトリウムを加え、60℃
で60分間加熱し、化学増感を施した後、安定剤として
4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テト
ラザインデンを銀1モル当たり1×10-3モル添加した
(最終粒子として、pH=5.7、pAg=7.5、R
u=5×10-5モル/Agモルを含有する塩化銀となっ
た)。
10-5モルの下記化合物−Z、5×10-3モルの4−ヒ
ドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデンを含むpH=2.0の1.5%ゼラチン水溶液中
に、硝酸銀と銀1モル当り5×10-5モルのK2Ru(NO)Cl
5 を含む塩化ナトリウム水溶液をダブルジェット法によ
り電位95mVにおいて3分30秒間で最終粒子の銀量の
半分を同時添加し、芯部の粒子0.12μm を調製し
た。その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当り5×10-5モ
ルのK2Ru(NO)Cl5 を含む塩化ナトリウム水溶液を前述と
同様に7分間で添加し、平均粒子サイズ0.13μm の
塩化銀立方体粒子を調製した。(変動係数12%) その後、当業界でよく知られたフロキュレーション法に
より水洗し、可溶性塩を除去したのちゼラチンを加え、
防腐剤として化合物−Zとフェノキシエタノールを銀1
モル当たり各60mg加えた後、pH5.5、pAg=
7.5に調整し、さらに銀1モル当たり、4×10-5モ
ルの塩化金酸、1×10-5モルの前記のセレン増感剤及
び1×10-5モルのチオ硫酸ナトリウムを加え、60℃
で60分間加熱し、化学増感を施した後、安定剤として
4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テト
ラザインデンを銀1モル当たり1×10-3モル添加した
(最終粒子として、pH=5.7、pAg=7.5、R
u=5×10-5モル/Agモルを含有する塩化銀となっ
た)。
【0268】
【化41】
【0269】塗布試料の作成 (ハロゲン化銀乳剤層)乳剤Cに下記化合物を添加し下
塗層を含む後述の支持体上にゼラチン塗布量が0.9g
/m2、塗布銀量が2.75g/m2となる様にハロゲン化
銀乳剤層を塗布した。 N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩 19mg/m2 表14に示す、実施例1で調整したヒドラジン化合物 の固体分散物 30mg/m2(ヒドラジド化合物として) 造核促進剤Z 20mg/m2 3−(5−メルカプトテトラゾール)−ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 11mg/m2 化合物A 13mg/m2 アスコルビン酸 1mg/m2 化合物B 15mg/m2 化合物C 70mg/m2 酢酸 膜面pHが5.2〜6.0になる量 化合物D 950mg/m2 化合物E(硬膜剤) 水での膨潤率が80%になる量
塗層を含む後述の支持体上にゼラチン塗布量が0.9g
/m2、塗布銀量が2.75g/m2となる様にハロゲン化
銀乳剤層を塗布した。 N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩 19mg/m2 表14に示す、実施例1で調整したヒドラジン化合物 の固体分散物 30mg/m2(ヒドラジド化合物として) 造核促進剤Z 20mg/m2 3−(5−メルカプトテトラゾール)−ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 11mg/m2 化合物A 13mg/m2 アスコルビン酸 1mg/m2 化合物B 15mg/m2 化合物C 70mg/m2 酢酸 膜面pHが5.2〜6.0になる量 化合物D 950mg/m2 化合物E(硬膜剤) 水での膨潤率が80%になる量
【0270】上記乳剤層の上層に、乳剤保護下層及び上
層を塗布した。
層を塗布した。
【0271】(乳剤保護下層)ゼラチン水溶液に下記化
合物を添加し、ゼラチン塗布量が0.8g/m2となる様
に塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.8g/m2 化合物F 1mg/m2 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 14mg/m2 C2 H5 SO2 SNa 3mg/m2 化合物C 3mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 7mg/m2 水溶性染料Y 25mg/m2
合物を添加し、ゼラチン塗布量が0.8g/m2となる様
に塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.8g/m2 化合物F 1mg/m2 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 14mg/m2 C2 H5 SO2 SNa 3mg/m2 化合物C 3mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 7mg/m2 水溶性染料Y 25mg/m2
【0272】(乳剤保護上層塗布液の調製とその塗布)
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.45g/m2となる様に塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.45g/m2 不定形シリカマット剤(平均粒径4.4μm ) 40mg/g 不定形シリカマット剤(平均粒径3.6μm ) 10mg/g 化合物F 1mg/m2 化合物C 8mg/m2 固体分散染料−G1 68mg/m2 流動パラフィン 21mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリシン ポタジウム 5mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 29mg/m2
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.45g/m2となる様に塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.45g/m2 不定形シリカマット剤(平均粒径4.4μm ) 40mg/g 不定形シリカマット剤(平均粒径3.6μm ) 10mg/g 化合物F 1mg/m2 化合物C 8mg/m2 固体分散染料−G1 68mg/m2 流動パラフィン 21mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリシン ポタジウム 5mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 29mg/m2
【0273】ついで、支持体の反対側の面に、下記に示
す導電層及びバック層を同時塗布した。
す導電層及びバック層を同時塗布した。
【0274】(導電層)ゼラチン水溶液に下記化合物を
添加し、ゼラチン塗布量が0.06g/m2となる様に塗
布した。 SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μm ) 186mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.06g/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 13mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 12mg/m2 化合物C 12mg/m2 化合物F 1mg/m2
添加し、ゼラチン塗布量が0.06g/m2となる様に塗
布した。 SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μm ) 186mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.06g/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 13mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 12mg/m2 化合物C 12mg/m2 化合物F 1mg/m2
【0275】(バック層)ゼラチン水溶液に下記化合物
を添加し、ゼラチン塗布量が1.94g/m2となる用に
塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量30ppm) 1.94g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.7μ) 7mg/m2 化合物−H 233mg/m2 化合物−I 21mg/m2 化合物−G 146mg/m2 化合物−F 3mg/m2 p-ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 68mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサク シナートナトリウム 21mg/m2 C8 F17SO3 Li 4mg/m2 N−パーフルオロオクタンス ルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 6mg/m2 硫酸ナトリウム 177mg/m2 化合物−E(硬膜剤) 水での膨潤率が90%になる量
を添加し、ゼラチン塗布量が1.94g/m2となる用に
塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量30ppm) 1.94g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.7μ) 7mg/m2 化合物−H 233mg/m2 化合物−I 21mg/m2 化合物−G 146mg/m2 化合物−F 3mg/m2 p-ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 68mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサク シナートナトリウム 21mg/m2 C8 F17SO3 Li 4mg/m2 N−パーフルオロオクタンス ルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 6mg/m2 硫酸ナトリウム 177mg/m2 化合物−E(硬膜剤) 水での膨潤率が90%になる量
【0276】(支持体、下塗層)二軸延伸したポリエチ
レンテレフタレート支持体(厚味100μm )の両面の
下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布した。 (下塗層1層) コア−シェル型塩化ビニリデン共重合体 15g 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μ) 0.05g コロイダルシリカ(スノーテックスZL:粒径70〜100μm 日産化学(株)製) 0.12g 水を加えて 100g さらに、10重量%のKOHを加え、pH=6に調整し
た塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.
9μになる様に塗布した。
レンテレフタレート支持体(厚味100μm )の両面の
下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布した。 (下塗層1層) コア−シェル型塩化ビニリデン共重合体 15g 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μ) 0.05g コロイダルシリカ(スノーテックスZL:粒径70〜100μm 日産化学(株)製) 0.12g 水を加えて 100g さらに、10重量%のKOHを加え、pH=6に調整し
た塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.
9μになる様に塗布した。
【0277】 (下塗層第2層) ゼラチン 1g メチルセルロース 0.05g 化合物−J 0.02g C12H25O(CH2 CH2 O)10H 0.03g 化合物−F 3.5×10-3g 酢酸 0.2g 水を加えて 100g この塗布液を乾燥温度170℃2分間で、乾燥膜厚が
0.1μになる様に塗布し、下塗層付の支持体を調製し
た。
0.1μになる様に塗布し、下塗層付の支持体を調製し
た。
【0278】
【化42】
【0279】
【化43】
【0280】
【化44】
【0281】なお、塗布方法、乾燥条件等は以下の様に
行った。 <塗布方法>上記下塗層を施した支持体上に、まず乳剤
面側として支持体に近い側より乳剤層、乳剤保護層下
層、乳剤保護上層の順に、35℃に保ちながらスライド
ホッパー方式により硬膜剤液を加えながら同時重層塗布
し、冷風セットゾーン(5℃)を通過させた後、乳剤面
とは反対側に支持体に近い側より導電層、バック層の順
に、同様にスライドホッパー方式により硬膜剤液を加え
ながら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)し
た。各々のセットゾーンを通過した時点では、塗布液は
充分なセット性を示した。引き続き乾燥ゾーンにて両面
を同時に下記乾燥条件にて乾燥した。なお、バック面側
を塗布した後、巻き取りまではローラー、その他には一
切無接触の状態で搬送した。この時の塗布速度は120
m/min であった。
行った。 <塗布方法>上記下塗層を施した支持体上に、まず乳剤
面側として支持体に近い側より乳剤層、乳剤保護層下
層、乳剤保護上層の順に、35℃に保ちながらスライド
ホッパー方式により硬膜剤液を加えながら同時重層塗布
し、冷風セットゾーン(5℃)を通過させた後、乳剤面
とは反対側に支持体に近い側より導電層、バック層の順
に、同様にスライドホッパー方式により硬膜剤液を加え
ながら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)し
た。各々のセットゾーンを通過した時点では、塗布液は
充分なセット性を示した。引き続き乾燥ゾーンにて両面
を同時に下記乾燥条件にて乾燥した。なお、バック面側
を塗布した後、巻き取りまではローラー、その他には一
切無接触の状態で搬送した。この時の塗布速度は120
m/min であった。
【0282】<乾燥条件>セット後、水/ゼラチンの重
量比が800%となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、8
00〜200%を35℃30%の乾燥風で乾燥させ、そ
のまま風を当て、表面温度34℃となった時点(乾燥終
了と見なす)より30秒後に、48℃2%の空気で1分
乾燥した。この時、乾燥時間は乾燥開始〜水/ゼラチン
比800%までが50秒、800〜200%までが35
秒、200%〜乾燥終了までが5秒である。
量比が800%となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、8
00〜200%を35℃30%の乾燥風で乾燥させ、そ
のまま風を当て、表面温度34℃となった時点(乾燥終
了と見なす)より30秒後に、48℃2%の空気で1分
乾燥した。この時、乾燥時間は乾燥開始〜水/ゼラチン
比800%までが50秒、800〜200%までが35
秒、200%〜乾燥終了までが5秒である。
【0283】この感材を23℃40%で巻き取り、次い
で同環境下で裁断し、6時間調湿したバリアー袋に、4
0℃10%で8時間調湿した後、23℃40%で2時間
調湿してある厚紙と共に密閉し、試料を作成した。バリ
アー袋内の湿度を測定したところ40%であった。
で同環境下で裁断し、6時間調湿したバリアー袋に、4
0℃10%で8時間調湿した後、23℃40%で2時間
調湿してある厚紙と共に密閉し、試料を作成した。バリ
アー袋内の湿度を測定したところ40%であった。
【0284】以上のようにして、表17に示す試料を作
製した。
製した。
【0285】
【表17】
【0286】<評価>上記の試料をステップウェッジを
通して大日本スクリーン社製P−627FMプリンター
で露光した。実施例2に記載の現像液Aを用いて富士写
真フイルム社製FG−680AG自動現像機で38℃、
15秒間現像をした後、定着(実施例2と同じ)、水
洗、乾燥処理を行った。なお処理時の現像液、定着液の
補充液量は試料1m2あたり、それぞれ100mlとした。
通して大日本スクリーン社製P−627FMプリンター
で露光した。実施例2に記載の現像液Aを用いて富士写
真フイルム社製FG−680AG自動現像機で38℃、
15秒間現像をした後、定着(実施例2と同じ)、水
洗、乾燥処理を行った。なお処理時の現像液、定着液の
補充液量は試料1m2あたり、それぞれ100mlとした。
【0287】硬調製、感度の現像液pH依存性、感材の
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
【0288】結果を表18に示す。
【0289】
【表18】
【0290】<結果>本発明のヒドラジン化合物を造核
剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超硬調で処
理安定性が高く、かつ感材の保存安定性に優れた明室返
し感材を得ることができた。
剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超硬調で処
理安定性が高く、かつ感材の保存安定性に優れた明室返
し感材を得ることができた。
【0291】実施例7 実施例2、3、4、5、6において、現像液Aにかえて
下記組成の現像液Dあるいは現像液Eを用い、また定着
液Aにかえて下記組成の定着液Bを用いても、実施例
2、3、4、5、6と同様に、本発明のヒドラジン化合
物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超
硬調で処理安定性が高く、かつ感材の保存安定性に優れ
た感材を得ることができた。尚、写真性の現像液pH依
存性を調べるためには、各現像液について、酢酸でpH
を0.5下げた液、水酸化ナトリウムでpHを0.5上
げた液を用いた。
下記組成の現像液Dあるいは現像液Eを用い、また定着
液Aにかえて下記組成の定着液Bを用いても、実施例
2、3、4、5、6と同様に、本発明のヒドラジン化合
物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超
硬調で処理安定性が高く、かつ感材の保存安定性に優れ
た感材を得ることができた。尚、写真性の現像液pH依
存性を調べるためには、各現像液について、酢酸でpH
を0.5下げた液、水酸化ナトリウムでpHを0.5上
げた液を用いた。
【0292】 <現像液D> 水酸化カリウム 40.0g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g 炭酸カリウム 60.0g メタ重亜硫酸ナトリウム 70.0g 臭化カリウム 7.0g ハイドロキノン 40.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル−3− ピラゾリドン 1.50g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 0.30g 3−(5−メルカプトテトラゾール−1−イル)ベンゼン スルホン酸ナトリウム 0.10g エリソルビン酸ナトリウム 6.0g ジエチレングリコール 5.0g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとし pHを10.65に合わせる。 1リットル
【0293】<現像液E>以下の保存形態が固形現像剤
のものを水に加えて10リットルになる様にして、使用液と
した。固形現像剤の製造方法は、材質が高密度ポリエチ
レンである(平均肉厚=500μm 、部分的には200
〜1000μm )容器に使用液として10リットル分に相当
する現像成分を固体で詰めた。このときに各成分は混合
してから容器に充填した。現像液の使用液10リットルの組
成と原料の形態を表19に示した。
のものを水に加えて10リットルになる様にして、使用液と
した。固形現像剤の製造方法は、材質が高密度ポリエチ
レンである(平均肉厚=500μm 、部分的には200
〜1000μm )容器に使用液として10リットル分に相当
する現像成分を固体で詰めた。このときに各成分は混合
してから容器に充填した。現像液の使用液10リットルの組
成と原料の形態を表19に示した。
【0294】
【表19】
【0295】ここで原料形態については、原末は一般的
な工業製品のままで使用し、アルカリ金属塩のビーズ、
ペレット共に市販品を用いた。原料形態がブリケットで
あるものは、ブリケッティングマシンを用いて加圧圧縮
し、不定形の長さ4〜6mm程度のラグビーボール型の形
状を作成し、破砕して用いた。少量成分に関しては、各
成分をブレンドしてからブリケットにした。
な工業製品のままで使用し、アルカリ金属塩のビーズ、
ペレット共に市販品を用いた。原料形態がブリケットで
あるものは、ブリケッティングマシンを用いて加圧圧縮
し、不定形の長さ4〜6mm程度のラグビーボール型の形
状を作成し、破砕して用いた。少量成分に関しては、各
成分をブレンドしてからブリケットにした。
【0296】<定着液B>下記の固形剤と液剤を水を加
えて10リットルしとなる様にして使用液とした。定着液
は、下記処方を固形剤部分と液剤部分共に高密度ポリエ
チレン製(肉厚平均=500μm 、巾としては200〜
1000μm )の容器に充填したものを用いた。溶解後
の液量が10リットルとし、pH=4.85であった。
えて10リットルしとなる様にして使用液とした。定着液
は、下記処方を固形剤部分と液剤部分共に高密度ポリエ
チレン製(肉厚平均=500μm 、巾としては200〜
1000μm )の容器に充填したものを用いた。溶解後
の液量が10リットルとし、pH=4.85であった。
【0297】 <固形剤パート> チオ硫酸アンモニウム 1200g チオ硫酸ナトリウム 150g 酢酸ナトリウム 400g メタ重亜硫酸ナトリウム 200g <液状パート> 硫酸アルミニウム(27%) 300g 硫酸(75%) 30g グルコン酸ナトリウム 20g EDTA 0.3g クエン酸 40g 固形剤パートは混合して充填されている。
【0298】実施例8 表20に示すヒドラジン化合物を粉末をメタノールに溶
解して塗布液に添加すること以外は実施例6と同様にし
て感材を作成し、実施例6と同様の方法で現像処理を行
い、硬調性と感度の現像液pH依存性を評価した。
解して塗布液に添加すること以外は実施例6と同様にし
て感材を作成し、実施例6と同様の方法で現像処理を行
い、硬調性と感度の現像液pH依存性を評価した。
【0299】結果を表20に示す。
【0300】
【表20】
【0301】<結果>実施例6と同様に、本発明のヒド
ラジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの
現像液で超硬調で処理安定性の高い感材を得ることがで
きた。
ラジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの
現像液で超硬調で処理安定性の高い感材を得ることがで
きた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07D 271/04 C07D 271/04 271/10 271/10 273/00 273/00 285/06 285/06 285/08 285/08 285/125 401/04 249 285/13 401/12 233 285/135 249 401/04 249 401/14 249 401/12 233 403/04 233 249 409/04 249 401/14 249 413/12 211 403/04 233 239 409/04 249 249 413/12 211 417/04 213 239 417/12 211 249 249 417/04 213 487/04 136 417/12 211 139 249 491/048 487/04 136 G03C 1/06 501 139 C07D 285/12 D 491/048 C G03C 1/06 501 E (72)発明者 江副 利秀 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 星宮 隆 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表されるヒドラジン
化合物。 一般式(I) Ar1 −NH−NH−G1 −R1 (式中Ar1 は芳香族基を表し、G1 はカルボニル基、
スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基、オキサリ
ル基、イミノメチレン基を表し、R1 は水素原子または
ブロック基を表す。Ar1 もしくはR1 の少なくとも一
つは、下記一般式(II)で表される基を有する。 一般式(II) 【化1】 式中*はAr1 もしくはR1 と直接又は連結基を介して
結合する結合手を表し、Zは共役した正電荷を有する5
員もしくは6員の不飽和ヘテロ環を形成しうる、非金属
原子団を表し、X- は−O- 、−S- または−N- −R
2 を表す。R2はアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。) - 【請求項2】 請求項1の一般式(I)で表されるヒド
ラジン化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9160283A JPH10130275A (ja) | 1996-09-04 | 1997-06-17 | ヒドラジン化合物およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8-234544 | 1996-09-04 | ||
JP23454496 | 1996-09-04 | ||
JP9160283A JPH10130275A (ja) | 1996-09-04 | 1997-06-17 | ヒドラジン化合物およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10130275A true JPH10130275A (ja) | 1998-05-19 |
Family
ID=26486836
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9160283A Pending JPH10130275A (ja) | 1996-09-04 | 1997-06-17 | ヒドラジン化合物およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10130275A (ja) |
-
1997
- 1997-06-17 JP JP9160283A patent/JPH10130275A/ja active Pending
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