JP3418648B2 - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JP3418648B2 JP3418648B2 JP03586195A JP3586195A JP3418648B2 JP 3418648 B2 JP3418648 B2 JP 3418648B2 JP 03586195 A JP03586195 A JP 03586195A JP 3586195 A JP3586195 A JP 3586195A JP 3418648 B2 JP3418648 B2 JP 3418648B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特定構造のヒドラジン
化合物を含んだネガ型または直接ポジハロゲン化銀写真
感光材料に関するものである。
化合物を含んだネガ型または直接ポジハロゲン化銀写真
感光材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】グラフィックアーツの分野においては網
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真特性を示す画像形成システムが必要である。
良好な保存安定性を有する処理液で現像し、超硬調な写
真特性が得られる画像形成システムが要望され、その一
つとして米国特許4,166,742号、同4,16
8,977号、同4,221,857号、同4,22
4,401号、同4,243,739号、同4,27
2,606号、同4,311,781号にみられるよう
に、特定のアシルヒドラジン化合物を添加した表面潜像
型ハロゲン化銀写真感光材料を、亜硫酸保恒剤を0.1
5モル/リットル以上含むpH11.0〜12.3の現
像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像を
形成するシステムが提案された。この新しい画像形成シ
ステムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の
高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化
銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。ま
た、従来のリス現像液が極く微量の亜硫酸保恒剤しか含
有できなかったのに対して、多量の亜硫酸保恒剤を含有
できるので、比較的保存安定性がよいという点も特徴で
ある。しかし、pHが11以上の現像液は、空気酸化さ
れ易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。ヒド
ラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より低い
pHの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫が試
みられている。特開平1−179939、および特開平
1−179940には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対する
吸着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を有す
る造核剤とを含む感材を用いて、pH11.0以下の現
像液で現像する処理方法が記載されている。しかしなが
ら、これらの発明において使用されている乳剤は、臭化
銀、沃臭化銀乳剤であり、現像進行性あるいは処理液の
組成変動に対する写真性能の変化が大きく、安定性の点
で十分とはいえない。
点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再
生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以
上)の写真特性を示す画像形成システムが必要である。
良好な保存安定性を有する処理液で現像し、超硬調な写
真特性が得られる画像形成システムが要望され、その一
つとして米国特許4,166,742号、同4,16
8,977号、同4,221,857号、同4,22
4,401号、同4,243,739号、同4,27
2,606号、同4,311,781号にみられるよう
に、特定のアシルヒドラジン化合物を添加した表面潜像
型ハロゲン化銀写真感光材料を、亜硫酸保恒剤を0.1
5モル/リットル以上含むpH11.0〜12.3の現
像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像を
形成するシステムが提案された。この新しい画像形成シ
ステムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の
高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化
銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。ま
た、従来のリス現像液が極く微量の亜硫酸保恒剤しか含
有できなかったのに対して、多量の亜硫酸保恒剤を含有
できるので、比較的保存安定性がよいという点も特徴で
ある。しかし、pHが11以上の現像液は、空気酸化さ
れ易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。ヒド
ラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より低い
pHの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫が試
みられている。特開平1−179939、および特開平
1−179940には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対する
吸着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を有す
る造核剤とを含む感材を用いて、pH11.0以下の現
像液で現像する処理方法が記載されている。しかしなが
ら、これらの発明において使用されている乳剤は、臭化
銀、沃臭化銀乳剤であり、現像進行性あるいは処理液の
組成変動に対する写真性能の変化が大きく、安定性の点
で十分とはいえない。
【0003】米国特許第4,998,604号、同4,
994,365号、同4,975,354号には、エチ
レンオキシドの繰り返し単位を有するヒドラジン化合
物、およびピリジニウム基を有するヒドラジン化合物が
開示されている。しかしながら、実施例の記載からみる
と、これらの発明では、硬調性が充分でなく、実用的な
現像処理条件で硬調性と必要なDmax を得ることは困難
である。また、ヒドラジン誘導体を用いた造核硬調感材
は、現像液のpHの変化に伴う写真性の変化幅が大き
い。現像液のpHは、現像液の空気酸化、および水の蒸
発による濃厚化による上昇、または空気中の二酸化炭素
の吸収による低下などにより、大きく変動する。従っ
て、写真性能の現像液pH依存性を小さくする工夫が試
みられている。
994,365号、同4,975,354号には、エチ
レンオキシドの繰り返し単位を有するヒドラジン化合
物、およびピリジニウム基を有するヒドラジン化合物が
開示されている。しかしながら、実施例の記載からみる
と、これらの発明では、硬調性が充分でなく、実用的な
現像処理条件で硬調性と必要なDmax を得ることは困難
である。また、ヒドラジン誘導体を用いた造核硬調感材
は、現像液のpHの変化に伴う写真性の変化幅が大き
い。現像液のpHは、現像液の空気酸化、および水の蒸
発による濃厚化による上昇、または空気中の二酸化炭素
の吸収による低下などにより、大きく変動する。従っ
て、写真性能の現像液pH依存性を小さくする工夫が試
みられている。
【0004】ところで一般に明室で取り扱われる返し感
材は製版用感材の一つとして、大きな分野をしめてい
て、この分野においては、細い明朝文字をも再現する高
い抜き文字品質が要望されている。そのために、より活
性の高い造核剤の開発が望まれてきた。特に、明室でも
取り扱える低感度の明室感材においては、造核剤による
硬調化が起こりにくく、さらに高活性の造核剤の開発が
望まれている。
材は製版用感材の一つとして、大きな分野をしめてい
て、この分野においては、細い明朝文字をも再現する高
い抜き文字品質が要望されている。そのために、より活
性の高い造核剤の開発が望まれてきた。特に、明室でも
取り扱える低感度の明室感材においては、造核剤による
硬調化が起こりにくく、さらに高活性の造核剤の開発が
望まれている。
【0005】このような目的を達成するために、例えば
特開平6−148828、特開平6−180477、特
開平6−194774等開示されている高活性なヒドラ
ジン系造核剤が開発されている。とくに少なくとも1つ
の電子吸引性基で置換された置換アルキル基をアシル基
として有する造核剤は、pH11以下の現像液でも極め
て硬調な写真性を得ることができ、また現像液の疲労に
よる写真性能の変動が小さく優れたものであったが、し
かしながら中には造核剤自体が酸化されやすく、保存性
の点で改善が必要とされるものがあった。
特開平6−148828、特開平6−180477、特
開平6−194774等開示されている高活性なヒドラ
ジン系造核剤が開発されている。とくに少なくとも1つ
の電子吸引性基で置換された置換アルキル基をアシル基
として有する造核剤は、pH11以下の現像液でも極め
て硬調な写真性を得ることができ、また現像液の疲労に
よる写真性能の変動が小さく優れたものであったが、し
かしながら中には造核剤自体が酸化されやすく、保存性
の点で改善が必要とされるものがあった。
【0006】一方、内部潜像型ハロゲン化銀写真乳剤を
造核剤の存在下で表面現像することによって直接ポジ像
を得る方法及びそのような方法に用いられる写真乳剤又
は感光材料は例えば米国特許2,456,953号、同
2,497,875号、同2,497,876号、同
2,588,982号、同2,592,250号、同
2,675,318号、同3,227,552号、同
3,317,322号、英国特許1,011,062
号、同1,151,363号、同1,269,640
号、同2,011,391号、特公昭43−29405
号、同49−38164号、特開昭53−16623
号、同53−137133号、同54−37732号、
同54−40629号、同54−74536号、同54
−74729号、同55−52055号、同55−90
940号などで知られている。上記の直接ポジ像を得る
方法において造核剤は現像液中に添加してもよいが、感
光材料の写真乳剤層またはその他の適当な層に添加する
方法がより一般的である。
造核剤の存在下で表面現像することによって直接ポジ像
を得る方法及びそのような方法に用いられる写真乳剤又
は感光材料は例えば米国特許2,456,953号、同
2,497,875号、同2,497,876号、同
2,588,982号、同2,592,250号、同
2,675,318号、同3,227,552号、同
3,317,322号、英国特許1,011,062
号、同1,151,363号、同1,269,640
号、同2,011,391号、特公昭43−29405
号、同49−38164号、特開昭53−16623
号、同53−137133号、同54−37732号、
同54−40629号、同54−74536号、同54
−74729号、同55−52055号、同55−90
940号などで知られている。上記の直接ポジ像を得る
方法において造核剤は現像液中に添加してもよいが、感
光材料の写真乳剤層またはその他の適当な層に添加する
方法がより一般的である。
【0007】直接ポジ型ハロゲン化銀感光材料中に添加
する造核剤としては、ヒドラジン化合物が最も良く知ら
れており、具体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌
第23510(1953年11月)、同15162(1
976年11月、第151巻)および同17626(1
978年12月、第176巻)に示されたものがあげら
れる。一般にヒドラジン系造核剤は最大濃度(Dmax )
と最小濃度(Dmin )との差が大きく、ディスクリミネ
ーションの点では最もすぐれているが、処理に高pH
(pH11以上)を必要とする欠点を有しており、その
改善が望まれていた。
する造核剤としては、ヒドラジン化合物が最も良く知ら
れており、具体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌
第23510(1953年11月)、同15162(1
976年11月、第151巻)および同17626(1
978年12月、第176巻)に示されたものがあげら
れる。一般にヒドラジン系造核剤は最大濃度(Dmax )
と最小濃度(Dmin )との差が大きく、ディスクリミネ
ーションの点では最もすぐれているが、処理に高pH
(pH11以上)を必要とする欠点を有しており、その
改善が望まれていた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、第1に安定な現像液を用いてガンマが10を越える
極めて硬調な写真性を得ることができるハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。本発明の第2の目的
は、高い処理安定性をもち、かつ保存性に優れた製版用
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。本発
明の第3の目的は、少量の添加で低pH処理液でも十分
な反転性を示す、直接ポジ感光材料を提供することにあ
る。
は、第1に安定な現像液を用いてガンマが10を越える
極めて硬調な写真性を得ることができるハロゲン化銀写
真感光材料を提供することにある。本発明の第2の目的
は、高い処理安定性をもち、かつ保存性に優れた製版用
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することにある。本発
明の第3の目的は、少量の添加で低pH処理液でも十分
な反転性を示す、直接ポジ感光材料を提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のこれらの目的
は、以下の(1)〜(3)の構成によって達成された。 (1)アニオン性基と電子吸引性基で置換されたアシル
基を有するヒドラジド化合物を含有することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 (2)(1)に記載の化合物が下記一般式(1)で表さ
れる化合物であることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 一般式(1)
は、以下の(1)〜(3)の構成によって達成された。 (1)アニオン性基と電子吸引性基で置換されたアシル
基を有するヒドラジド化合物を含有することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 (2)(1)に記載の化合物が下記一般式(1)で表さ
れる化合物であることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 一般式(1)
【0010】
【化3】
【0011】式中Arは芳香族基を表し、L1 は電子吸
引性基を有する2価の連結基を表し、Xはアニオン性基
を表す。 (3)(1)に記載の化合物が下記一般式(2−a)、
および(2−b)で表される化合物であることを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。
引性基を有する2価の連結基を表し、Xはアニオン性基
を表す。 (3)(1)に記載の化合物が下記一般式(2−a)、
および(2−b)で表される化合物であることを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。
【0012】
【化4】
【0013】式中Arは芳香族基を表し、L2 はフッ素
原子で置換された2価のアルキレン基またはフェニレン
基を表わす。Mは対カチオンを表わし、mは1から3の
整数を表わす。
原子で置換された2価のアルキレン基またはフェニレン
基を表わす。Mは対カチオンを表わし、mは1から3の
整数を表わす。
【0014】本発明の化合物はヒドラジドのアシル基部
分にその最大の特徴があり、電子吸引性基とアニオン性
基を同時に置換基として有する点で、造核剤の造核硬調
化性能を高め、かつまた保存性を高めることが出来た。
この様な効果は、特開昭63−32538号に開示され
ている、電子吸引性基で置換されていない2−カルボキ
シエチルカルボニル基をアシル基とするヒドラジド誘導
体等には見られない特徴である。
分にその最大の特徴があり、電子吸引性基とアニオン性
基を同時に置換基として有する点で、造核剤の造核硬調
化性能を高め、かつまた保存性を高めることが出来た。
この様な効果は、特開昭63−32538号に開示され
ている、電子吸引性基で置換されていない2−カルボキ
シエチルカルボニル基をアシル基とするヒドラジド誘導
体等には見られない特徴である。
【0015】次に、本発明の化合物について詳しく説明
する。本発明において、アニオン性基とはカルボン酸、
スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン酸、およ
びそれらの塩を表し、電子吸引性基とはこれらアニオン
性基を除く電子吸引性の置換基の事で、具体的にはハメ
ットの置換基定数(σm)として正の数値を与えうる置換
基を意味する。本発明のアニオン性基として好ましいも
のは、アニオン性基がカルボン酸、スルホン酸およびこ
れらの塩を表す時であり、さらに好ましくはカルボン酸
およびその塩を表す時である。本発明の電子吸引性基と
して好ましいものは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフォン
アミド基、スルファモイル基、四級アンモニウム基、ス
ルホニル基、アシル基等が挙げられるが、ハロゲン原子
が特に好ましく、さらに好ましくはフッ素原子である。
する。本発明において、アニオン性基とはカルボン酸、
スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン酸、およ
びそれらの塩を表し、電子吸引性基とはこれらアニオン
性基を除く電子吸引性の置換基の事で、具体的にはハメ
ットの置換基定数(σm)として正の数値を与えうる置換
基を意味する。本発明のアニオン性基として好ましいも
のは、アニオン性基がカルボン酸、スルホン酸およびこ
れらの塩を表す時であり、さらに好ましくはカルボン酸
およびその塩を表す時である。本発明の電子吸引性基と
して好ましいものは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフォン
アミド基、スルファモイル基、四級アンモニウム基、ス
ルホニル基、アシル基等が挙げられるが、ハロゲン原子
が特に好ましく、さらに好ましくはフッ素原子である。
【0016】一般式(1)で表される本発明の化合物に
おいて、Arは芳香族基を表し、具体的には置換もしく
は無置換のフェニル基、ナフチル基、ヘテロ環基を表
す。一般式(1)においてArで表される基は、好まし
くは置換されたフェニル基であり、その置換基として
は、以下に挙げた基が含まれる。
おいて、Arは芳香族基を表し、具体的には置換もしく
は無置換のフェニル基、ナフチル基、ヘテロ環基を表
す。一般式(1)においてArで表される基は、好まし
くは置換されたフェニル基であり、その置換基として
は、以下に挙げた基が含まれる。
【0017】本発明において置換基とは、ハロゲン原
子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子で
環もしくは主鎖に結合する置換基を表す。炭素原子で結
合するものとしては、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基、カルバモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、
カルボキシル基、シアノ基、ヘテロ環基が、酸素原子で
結合するものとしてはヒドロキシ基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、
カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基が、窒素原
子で結合するものとしてはアシルアミノ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ
基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、スルホンアミド基、イミド基、ヘテロ環基が、硫黄
原子で結合するものとしてはアルキルチオ基、アリール
チオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルコキ
シスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、スルホ
ニル基、スルホ基、スルフィニル基が挙げられる。これ
らはこれら置換基でさらに置換されていてもよい。
子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子で
環もしくは主鎖に結合する置換基を表す。炭素原子で結
合するものとしては、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基、カルバモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、
カルボキシル基、シアノ基、ヘテロ環基が、酸素原子で
結合するものとしてはヒドロキシ基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、
カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基が、窒素原
子で結合するものとしてはアシルアミノ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ
基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシ
カルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ
基、スルホンアミド基、イミド基、ヘテロ環基が、硫黄
原子で結合するものとしてはアルキルチオ基、アリール
チオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルコキ
シスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、スルホ
ニル基、スルホ基、スルフィニル基が挙げられる。これ
らはこれら置換基でさらに置換されていてもよい。
【0018】更に詳しく置換基について説明する。ハロ
ゲン原子としては例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原
子である。アルキル基としては炭素数1〜16、好まし
くは炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖または環状のアルキ
ル基であり、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t
−ブチル、ベンジル、シクロペンチルである。アルケニ
ル基としては炭素数2〜16のもので、例えばビニル、
1−プロペニル、1−ヘキセニル、スチリル等が挙げら
れる。アルキニル基としては炭素数2〜16のもので、
例えばエチニル、1−ブチニル、1−ドデセニル、フェ
ニルエチニル等が挙げられる。アリール基としては炭素
数6〜24のアリール基で例えば、フェニル、ナフチ
ル、p−メトキシフェニルである。
ゲン原子としては例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原
子である。アルキル基としては炭素数1〜16、好まし
くは炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖または環状のアルキ
ル基であり、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t
−ブチル、ベンジル、シクロペンチルである。アルケニ
ル基としては炭素数2〜16のもので、例えばビニル、
1−プロペニル、1−ヘキセニル、スチリル等が挙げら
れる。アルキニル基としては炭素数2〜16のもので、
例えばエチニル、1−ブチニル、1−ドデセニル、フェ
ニルエチニル等が挙げられる。アリール基としては炭素
数6〜24のアリール基で例えば、フェニル、ナフチ
ル、p−メトキシフェニルである。
【0019】カルバモイル基としては炭素数1〜18の
もので、例えばカルバモイル、N−エチルカルバモイ
ル、N−オクチルカルバモイル、N−フェニルカルバモ
イルである。アルコキシカルボニル基としては炭素数2
〜18のもので、例えばメトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニルである。アリールオキシカルボニル基
としては炭素数7〜18のもので、例えばフェノキシカ
ルボニルである。アシル基としては炭素数1〜18のも
ので、例えばアセチル、ベンゾイルである。環上の炭素
原子で連結するヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員
または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つでも複
数であっても良く、例えば2−フリル、2−チエニル、
2−ピリジル、2−イミダゾリルである。
もので、例えばカルバモイル、N−エチルカルバモイ
ル、N−オクチルカルバモイル、N−フェニルカルバモ
イルである。アルコキシカルボニル基としては炭素数2
〜18のもので、例えばメトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニルである。アリールオキシカルボニル基
としては炭素数7〜18のもので、例えばフェノキシカ
ルボニルである。アシル基としては炭素数1〜18のも
ので、例えばアセチル、ベンゾイルである。環上の炭素
原子で連結するヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員
または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つでも複
数であっても良く、例えば2−フリル、2−チエニル、
2−ピリジル、2−イミダゾリルである。
【0020】アルコキシ基としては炭素数1〜16、好
ましくは炭素数1〜10のもので例えば、メトキシ、2
−メトキシエトキシ、2−メタンスルホニルエトキシで
ある。アリールオキシ基としては炭素数6〜24のもの
で例えば、フェノキシ、p−メトキシフェノキシ、m−
(3−ヒドロキシプロピオンアミド)フェノキシであ
る。ヘテロ環オキシ基としては炭素数1〜5の酸素原
子、窒素原子、もとくは硫黄原子を1個以上含む5員ま
たは6員環の飽和または不飽和のヘテロ環オキシ基であ
って環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つ
でも複数であっても良く例えば、1−フェニルテトラゾ
リル−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ、
2−ピリジルオキシである。アシルオキシ基としては炭
素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例え
ば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、4−ヒドロキシブ
タノイルオキシである。カルバモイルオキシ基としては
炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例
えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−ヘキ
シルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオ
キシである。スルホニルオキシ基としては炭素数1〜1
6のもので、たとえばメタンスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキシである。
ましくは炭素数1〜10のもので例えば、メトキシ、2
−メトキシエトキシ、2−メタンスルホニルエトキシで
ある。アリールオキシ基としては炭素数6〜24のもの
で例えば、フェノキシ、p−メトキシフェノキシ、m−
(3−ヒドロキシプロピオンアミド)フェノキシであ
る。ヘテロ環オキシ基としては炭素数1〜5の酸素原
子、窒素原子、もとくは硫黄原子を1個以上含む5員ま
たは6員環の飽和または不飽和のヘテロ環オキシ基であ
って環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は1つ
でも複数であっても良く例えば、1−フェニルテトラゾ
リル−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ、
2−ピリジルオキシである。アシルオキシ基としては炭
素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例え
ば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、4−ヒドロキシブ
タノイルオキシである。カルバモイルオキシ基としては
炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例
えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−ヘキ
シルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオ
キシである。スルホニルオキシ基としては炭素数1〜1
6のもので、たとえばメタンスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキシである。
【0021】アシルアミノ基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばアセトアミ
ド、p−クロロベンゾイルアミドである。アルキルアミ
ノ基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜0
のもので例えば、N,N−ジメチルアミノ、N−(2−
ヒドロキシエチル)アミノである。アリールアミノ基と
しては炭素数6〜24のもので例えばアニリノ、N−メ
チルアニリノである。ヘテロ環アミノ基としては炭素数
1〜5の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個
以上含む5員または6員環の飽和または不飽和のヘテロ
環アミノ基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元
素の種類は1つでも複数であっても良く例えば、2−オ
キサゾリルアミノ、2−テトラヒドロピラニルアミノ、
4−ピリジルアミノである。ウレイド基としては炭素数
1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例えば、
ウレイド、メチルウレイド、N,N−ジエチルウレイ
ド、2−メタンスルホンアミドエチルウレイドである。
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばアセトアミ
ド、p−クロロベンゾイルアミドである。アルキルアミ
ノ基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜0
のもので例えば、N,N−ジメチルアミノ、N−(2−
ヒドロキシエチル)アミノである。アリールアミノ基と
しては炭素数6〜24のもので例えばアニリノ、N−メ
チルアニリノである。ヘテロ環アミノ基としては炭素数
1〜5の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個
以上含む5員または6員環の飽和または不飽和のヘテロ
環アミノ基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元
素の種類は1つでも複数であっても良く例えば、2−オ
キサゾリルアミノ、2−テトラヒドロピラニルアミノ、
4−ピリジルアミノである。ウレイド基としては炭素数
1〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので例えば、
ウレイド、メチルウレイド、N,N−ジエチルウレイ
ド、2−メタンスルホンアミドエチルウレイドである。
【0022】スルファモイルアミノ基としては炭素数0
〜16、好ましくは炭素数0〜10のもので、例えばメ
チルスルファモイルアミノ、2−メトキシエチルスルフ
ァモイルアミノである。アルコキシカルボニルアミノ基
としては炭素数2〜16、好ましくは炭素数2〜10の
もので、例えばメトキシカルボニルアミノである。アリ
ールオキシカルボニルアミノ基としては炭素数7〜24
のもので、例えばフェノキシカルボニルアミノ、2,6
−ジメトキシフェノキシカルボニルアミノである。スル
ホンアミド基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素
数1〜10のもので、例えばメタンスルホンアミド、p
−トルエンスルホンアミドである。イミド基としては炭
素数4〜16のもので、例えばN−スクシンイミド、N
−フタルイミドである。環の窒素原子で連結するヘテロ
環基としては、炭素原子、酸素原子または硫黄原子の少
なくとも1種と窒素原子からなる5〜6員のヘテロ環
で、例えばピロリジノ、モルホリノ、イミダゾリノであ
る。
〜16、好ましくは炭素数0〜10のもので、例えばメ
チルスルファモイルアミノ、2−メトキシエチルスルフ
ァモイルアミノである。アルコキシカルボニルアミノ基
としては炭素数2〜16、好ましくは炭素数2〜10の
もので、例えばメトキシカルボニルアミノである。アリ
ールオキシカルボニルアミノ基としては炭素数7〜24
のもので、例えばフェノキシカルボニルアミノ、2,6
−ジメトキシフェノキシカルボニルアミノである。スル
ホンアミド基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素
数1〜10のもので、例えばメタンスルホンアミド、p
−トルエンスルホンアミドである。イミド基としては炭
素数4〜16のもので、例えばN−スクシンイミド、N
−フタルイミドである。環の窒素原子で連結するヘテロ
環基としては、炭素原子、酸素原子または硫黄原子の少
なくとも1種と窒素原子からなる5〜6員のヘテロ環
で、例えばピロリジノ、モルホリノ、イミダゾリノであ
る。
【0023】アルキルチオ基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメチルチ
オ、2−フェノキシエチルチオである。アリールチオ基
としては炭素数6〜24のもので、例えばフェニルチ
オ、2−カルボキシフェニルチオである。ヘテロ環チオ
基としては炭素数1〜5の酸素原子、窒素原子、もしく
は硫黄原子を1個以上含む5員または6員環の飽和また
は不飽和のヘテロ環チオ基であって環を構成するヘテロ
原子の数及び元素の種類は1つでも複数であっても良
く、例えば2−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチ
オである。
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメチルチ
オ、2−フェノキシエチルチオである。アリールチオ基
としては炭素数6〜24のもので、例えばフェニルチ
オ、2−カルボキシフェニルチオである。ヘテロ環チオ
基としては炭素数1〜5の酸素原子、窒素原子、もしく
は硫黄原子を1個以上含む5員または6員環の飽和また
は不飽和のヘテロ環チオ基であって環を構成するヘテロ
原子の数及び元素の種類は1つでも複数であっても良
く、例えば2−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチ
オである。
【0024】スルファモイル基としては炭素数0〜1
6、好ましくは炭素数0〜10のもので、例えばスルフ
ァモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモ
イルである。アルコキシスルホニル基としては炭素数1
〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメ
トキシスルホニルである。アリールオキシスルホニル基
としては炭素数6〜24、好ましくは炭素数6〜12の
もので、例えばフェノキシスルホニルである。スルホニ
ル基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜1
0のもので、例えばメタンスルホニル、ベンゼンスルホ
ニルである。スルフィニル基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメタンスル
フィニル、ベンゼンスルフィニルである。
6、好ましくは炭素数0〜10のもので、例えばスルフ
ァモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモ
イルである。アルコキシスルホニル基としては炭素数1
〜16、好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメ
トキシスルホニルである。アリールオキシスルホニル基
としては炭素数6〜24、好ましくは炭素数6〜12の
もので、例えばフェノキシスルホニルである。スルホニ
ル基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜1
0のもので、例えばメタンスルホニル、ベンゼンスルホ
ニルである。スルフィニル基としては炭素数1〜16、
好ましくは炭素数1〜10のもので、例えばメタンスル
フィニル、ベンゼンスルフィニルである。
【0025】本発明における置換基として好ましくは、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、カルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ス
ルホニル基であり、さらに好ましくはアルキル基、アリ
ール基、カルバモイル基、アルコキシ基、アシルアミノ
基、ウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイル基
である。最も好ましくはアシルアミノ基、ウレイド基、
スルホンアミド基である。一般式(1)においてArで
表わされる基は、ハロゲン化銀粒子への吸着促進基を置
換基として有していてもよい。ハロゲン化銀への吸着促
進基の好ましい例としては、チオアミド基、メルカプト
基または5ないし6員の含窒素ヘテロ環基があげられ
る。チオアミド吸着促進基としては、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、カルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ス
ルホニル基であり、さらに好ましくはアルキル基、アリ
ール基、カルバモイル基、アルコキシ基、アシルアミノ
基、ウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイル基
である。最も好ましくはアシルアミノ基、ウレイド基、
スルホンアミド基である。一般式(1)においてArで
表わされる基は、ハロゲン化銀粒子への吸着促進基を置
換基として有していてもよい。ハロゲン化銀への吸着促
進基の好ましい例としては、チオアミド基、メルカプト
基または5ないし6員の含窒素ヘテロ環基があげられ
る。チオアミド吸着促進基としては、
【0026】
【化5】
【0027】で表わされる二価の基であり、環構造の一
部であってもよいし、また好ましくは非環式チオアミド
基であることができる。有用なチオアミド吸着促進基
は、例えば米国特許4,030,925号、同4,03
1,127号、同4,080,207号、同4,24
5,037号、同4,255,511号、同4,26
6,013号及び同4,276,364号、ならびにリ
サーチ・ディスクロージャー(Research Disclosure)
第151巻、1976年11月、15162項、及び同
第176巻、1978年12月、17626項に開示さ
れているものから選ぶことができる。特に好ましいチオ
アミド基は式(A)で示されるものである。 一般式(A)
部であってもよいし、また好ましくは非環式チオアミド
基であることができる。有用なチオアミド吸着促進基
は、例えば米国特許4,030,925号、同4,03
1,127号、同4,080,207号、同4,24
5,037号、同4,255,511号、同4,26
6,013号及び同4,276,364号、ならびにリ
サーチ・ディスクロージャー(Research Disclosure)
第151巻、1976年11月、15162項、及び同
第176巻、1978年12月、17626項に開示さ
れているものから選ぶことができる。特に好ましいチオ
アミド基は式(A)で示されるものである。 一般式(A)
【0028】
【化6】
【0029】〔式中、E及びE′の一方は−N(R62)
−を表わし、他方は−O−、−S−または−N(R62)
−を表わす。R62は水素原子、脂肪族基もしくは芳香族
基を表わすかまたはEもしくはE′と互いに結合して5
員もしくは6員複素環を形成する。R62及びR62はそれ
ぞれ水素原子、脂肪族基もしくは芳香族基である。〕
−を表わし、他方は−O−、−S−または−N(R62)
−を表わす。R62は水素原子、脂肪族基もしくは芳香族
基を表わすかまたはEもしくはE′と互いに結合して5
員もしくは6員複素環を形成する。R62及びR62はそれ
ぞれ水素原子、脂肪族基もしくは芳香族基である。〕
【0030】式(A)で表わされるチオアミドとして
は、チオ尿素、チオウレタン、ジチオカルバミン酸エス
テルである。またEまたはE′とR62とが互いに結合し
て環を形成する場合の例としては、メロシアニン色素の
酸性核としてみられるものがあげられ、例えば4−チア
ゾリン−2−チオン、チアゾリジン−2−チオン、4−
オキサゾリン−2−チオン、オキサゾリジン−2−チオ
ン、2−ピラゾリン−5−チオン、4−イミダゾリン−
2−チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、イソ
ローダニン、2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオ
ン、チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオン、
1,2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,4−
チアジアゾリン−2−チオン、1,3,4−オキサジア
ゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チオ
ン、ベンズオキサゾリン−2−チオン及びベンゾチアゾ
リン−2−チオンなどであり、これらはさらに置換され
ていてもよい。
は、チオ尿素、チオウレタン、ジチオカルバミン酸エス
テルである。またEまたはE′とR62とが互いに結合し
て環を形成する場合の例としては、メロシアニン色素の
酸性核としてみられるものがあげられ、例えば4−チア
ゾリン−2−チオン、チアゾリジン−2−チオン、4−
オキサゾリン−2−チオン、オキサゾリジン−2−チオ
ン、2−ピラゾリン−5−チオン、4−イミダゾリン−
2−チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、イソ
ローダニン、2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオ
ン、チオバルビツール酸、テトラゾリン−5−チオン、
1,2,4−トリアゾリン−3−チオン、1,3,4−
チアジアゾリン−2−チオン、1,3,4−オキサジア
ゾリン−2−チオン、ベンズイミダゾリン−2−チオ
ン、ベンズオキサゾリン−2−チオン及びベンゾチアゾ
リン−2−チオンなどであり、これらはさらに置換され
ていてもよい。
【0031】メルカプト吸着促進基としては、脂肪族メ
ルカプト基、芳香族メルカプト基、またはヘテロ環メル
カプト基(SH基が結合する炭素の隣りが窒素原子の場
合は、互変異性体である環形成チオアミド基としてすで
に述べた)があげられる。脂肪族メルカプト基として
は、例えばメルカプトアルキル基(例えばメルカプトエ
チル基やメルカプトプロピル基など)、メルカプトアル
ケニル基(例えばメルカプトプロペニル基など)及びメ
ルカプトアルキニル基(例えばメルカプトブチニル基な
ど)があげられる。芳香族メルカプト基としては、例え
ばメルカプトフェニル基やメルカプトナフチル基があげ
られる。ヘテロ環メルカプト基の例としては、環形成チ
オアミド基で述べたものに加え例えば4−メルカプトピ
リジル基、5−メルカプトキノリニル基、6−メルカプ
トベンゾチアゾリル基などがあげられる。
ルカプト基、芳香族メルカプト基、またはヘテロ環メル
カプト基(SH基が結合する炭素の隣りが窒素原子の場
合は、互変異性体である環形成チオアミド基としてすで
に述べた)があげられる。脂肪族メルカプト基として
は、例えばメルカプトアルキル基(例えばメルカプトエ
チル基やメルカプトプロピル基など)、メルカプトアル
ケニル基(例えばメルカプトプロペニル基など)及びメ
ルカプトアルキニル基(例えばメルカプトブチニル基な
ど)があげられる。芳香族メルカプト基としては、例え
ばメルカプトフェニル基やメルカプトナフチル基があげ
られる。ヘテロ環メルカプト基の例としては、環形成チ
オアミド基で述べたものに加え例えば4−メルカプトピ
リジル基、5−メルカプトキノリニル基、6−メルカプ
トベンゾチアゾリル基などがあげられる。
【0032】5ないし6員の含窒素ヘテロ環吸着促進基
としては、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる
5員ないし6員の含窒素ヘテロ環があげられる。これら
のうち、好ましいものとしては、ベンゾトリアゾール、
トリアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイ
ミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾ
ール、ベンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾ
ール、オキサジアゾール、トリアジンなどがあげられ
る。これらはさらに適当な置換基を有してもよい。含窒
素ヘテロ環として更に好ましくはベンゾトリアゾール、
トリアゾール、テトラゾール、インダゾールであり、最
も好ましくはベンゾトリアゾールである。
としては、窒素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる
5員ないし6員の含窒素ヘテロ環があげられる。これら
のうち、好ましいものとしては、ベンゾトリアゾール、
トリアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベンズイ
ミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾール、チアゾ
ール、ベンゾオキサゾール、オキサゾール、チアジアゾ
ール、オキサジアゾール、トリアジンなどがあげられ
る。これらはさらに適当な置換基を有してもよい。含窒
素ヘテロ環として更に好ましくはベンゾトリアゾール、
トリアゾール、テトラゾール、インダゾールであり、最
も好ましくはベンゾトリアゾールである。
【0033】含窒素ヘテロ環の好ましい具体例をあげる
と、例えばベンゾトリアゾール−5−イル、6−クロロ
ベンゾトリアゾール−5−イル、ベンゾトリアゾール−
5−カルボニル、5−フェニル−1,3,4−トリアゾ
ール−2−イル、4−(5−メチル−1,3,4−トリ
アゾール−2−イル)ベンゾイル、1H−テトラゾール
−5−イル及び3−シアノインダゾール−5−イルなど
があげられる。
と、例えばベンゾトリアゾール−5−イル、6−クロロ
ベンゾトリアゾール−5−イル、ベンゾトリアゾール−
5−カルボニル、5−フェニル−1,3,4−トリアゾ
ール−2−イル、4−(5−メチル−1,3,4−トリ
アゾール−2−イル)ベンゾイル、1H−テトラゾール
−5−イル及び3−シアノインダゾール−5−イルなど
があげられる。
【0034】一般式(1)で表される化合物に於いてL
1 は、先に説明した電子吸引性基で置換された2価の連
結基を表し、具体的にはアルキレン基、アルケニレン
基、アルキニレン基、アラルキレン基、アリーレン基ま
たは、これらの組み合わせからなる基を表わす。好まし
くはL1 がアルキレン基、アリーレン基を表す時であ
り、特に好ましくはアルキレン基、フェニレン基を表す
時である。
1 は、先に説明した電子吸引性基で置換された2価の連
結基を表し、具体的にはアルキレン基、アルケニレン
基、アルキニレン基、アラルキレン基、アリーレン基ま
たは、これらの組み合わせからなる基を表わす。好まし
くはL1 がアルキレン基、アリーレン基を表す時であ
り、特に好ましくはアルキレン基、フェニレン基を表す
時である。
【0035】次に一般式(2−a)もしくは(2−b)
で表される本発明の化合物について説明する。一般式
(2−a)および(2−b)に於いてArは、一般式
(1)に於けるArと同義の基であり、その好ましい範
囲もまた同じである。L2 はフッ素原子で部分的に、も
しくは完全に置換された2価のアルキレン基、フェニレ
ン基を表す。具体的には、例えば-CF2CF2-、-C3F6-、-C
F2CH2-、-CFH- 、-(CF2)4-、-(CF2)6-、-C6F4-(テトラ
フルオロフェニレン基)、-CF2- 等の基が挙げられる。
L2として特に好ましくは、-CF2CF2-、-C3F6-の基であ
る。
で表される本発明の化合物について説明する。一般式
(2−a)および(2−b)に於いてArは、一般式
(1)に於けるArと同義の基であり、その好ましい範
囲もまた同じである。L2 はフッ素原子で部分的に、も
しくは完全に置換された2価のアルキレン基、フェニレ
ン基を表す。具体的には、例えば-CF2CF2-、-C3F6-、-C
F2CH2-、-CFH- 、-(CF2)4-、-(CF2)6-、-C6F4-(テトラ
フルオロフェニレン基)、-CF2- 等の基が挙げられる。
L2として特に好ましくは、-CF2CF2-、-C3F6-の基であ
る。
【0036】一般式(2−b)に於いてMは対カチオン
を表し、mは1から3の整数を表す。Mで表されるカチ
オン種は、具体的にはリチウムイオン、ナトリウムイオ
ン、カリウムイオン、カルシウムイオン、マグネシウム
イオン、アルミニウムイオン、亜鉛イオン、バリウムイ
オン、四級アンモニウムイオン、四級化された窒素原子
を含むヘテロ環、4級ホスホニウムイオン等が挙げられ
る。Mは特に好ましくは、ナトリウムイオン、カリウム
イオンであり、この時mは1を表す。
を表し、mは1から3の整数を表す。Mで表されるカチ
オン種は、具体的にはリチウムイオン、ナトリウムイオ
ン、カリウムイオン、カルシウムイオン、マグネシウム
イオン、アルミニウムイオン、亜鉛イオン、バリウムイ
オン、四級アンモニウムイオン、四級化された窒素原子
を含むヘテロ環、4級ホスホニウムイオン等が挙げられ
る。Mは特に好ましくは、ナトリウムイオン、カリウム
イオンであり、この時mは1を表す。
【0037】一般式(2−a)および(2−b)に於い
てArで表される基は、ハロゲン化銀粒子への吸着促進
基を置換基として有していてもよい。
てArで表される基は、ハロゲン化銀粒子への吸着促進
基を置換基として有していてもよい。
【0038】一般式(2)で表される化合物のうち、よ
り好ましいものは、次の一般式(3−a)もしくは(3
−b)で表される。
り好ましいものは、次の一般式(3−a)もしくは(3
−b)で表される。
【0039】
【化7】
【0040】式中L2 、M、mは一般式(2−a)、
(2−b)に於けるそれらと同じものであり、X1 、X
2 はベンゼン環に置換可能な基を表し、m1 、m2 はそ
れぞれ0〜4、0〜5の整数を表す。m1 、m2 が2以
上の整数を表す時、それらは互いに同じでも異なってい
てもよく、またそれらが互いに結合して環を形成してい
てもよい。X1 で表される置換基は、先に置換基につい
て説明したのと同じものを表す。好ましくは、アルキル
基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミド基、アリ
ールアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールス
ルホンアミド基、カルボキシル基、スルホ基またはそれ
らの塩、アルキルチオ基、メルカプト基、アシルオキシ
基、ヘテロ環基であるが、一般式(3−a)もしくは
(3−b)で表される化合物のうち、特に好ましくはm
1 が0を表す時である。X2 は先に一般式(2)のAr
の置換基について説明したものと同じであり、好ましい
範囲もまた同じである。またこれがハロゲン化銀粒子へ
の吸着促進基を含んでいてもよい。m2 は好ましくは
1、もしくは2であり、特に好ましくは1である。
(2−b)に於けるそれらと同じものであり、X1 、X
2 はベンゼン環に置換可能な基を表し、m1 、m2 はそ
れぞれ0〜4、0〜5の整数を表す。m1 、m2 が2以
上の整数を表す時、それらは互いに同じでも異なってい
てもよく、またそれらが互いに結合して環を形成してい
てもよい。X1 で表される置換基は、先に置換基につい
て説明したのと同じものを表す。好ましくは、アルキル
基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミド基、アリ
ールアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールス
ルホンアミド基、カルボキシル基、スルホ基またはそれ
らの塩、アルキルチオ基、メルカプト基、アシルオキシ
基、ヘテロ環基であるが、一般式(3−a)もしくは
(3−b)で表される化合物のうち、特に好ましくはm
1 が0を表す時である。X2 は先に一般式(2)のAr
の置換基について説明したものと同じであり、好ましい
範囲もまた同じである。またこれがハロゲン化銀粒子へ
の吸着促進基を含んでいてもよい。m2 は好ましくは
1、もしくは2であり、特に好ましくは1である。
【0041】一般式(3−a)もしくは(3−b)で表
される化合物のうち、さらに好ましいものは、次の一般
式(4−a、b)〜(7−a、b)で表される。
される化合物のうち、さらに好ましいものは、次の一般
式(4−a、b)〜(7−a、b)で表される。
【0042】
【化8】
【0043】
【化9】
【0044】
【化10】
【0045】
【化11】
【0046】一般式(4−a、b)〜(7−a、b)に
於いて、X3 、X4 は置換基を表し、これは一般式(3
−a)もしくは(3−b)に於けるX1 、X2 と同じ意
味の基であり、m3 、m4 はともに0〜4の整数を表わ
す。J1 、J2 、J3 、J4 は2価の連結基を表わし、
具体的には−SO2 NR11−基、−NR11SO2 −基、
−CONR11−基、−NR11CO−基、−COO−基、
−O−CO−基、−O−基、−S−基、−NR11SO2
NR12−基、−NR11CONR12−基を表わす。ここで
R11、R12は水素原子、脂肪族基、または芳香族基を表
わす。p、q、r、tはそれぞれ1または2を表わし、
p、r、tが2のとき、m4は3以下の整数を表わす。
sおよびuは0または1を表わす。
於いて、X3 、X4 は置換基を表し、これは一般式(3
−a)もしくは(3−b)に於けるX1 、X2 と同じ意
味の基であり、m3 、m4 はともに0〜4の整数を表わ
す。J1 、J2 、J3 、J4 は2価の連結基を表わし、
具体的には−SO2 NR11−基、−NR11SO2 −基、
−CONR11−基、−NR11CO−基、−COO−基、
−O−CO−基、−O−基、−S−基、−NR11SO2
NR12−基、−NR11CONR12−基を表わす。ここで
R11、R12は水素原子、脂肪族基、または芳香族基を表
わす。p、q、r、tはそれぞれ1または2を表わし、
p、r、tが2のとき、m4は3以下の整数を表わす。
sおよびuは0または1を表わす。
【0047】一般式(4−a)もしくは(4−b)にお
いてR1 は置換もしくは無置換で、分岐もしくは直鎖の
総炭素数4〜16のアルキル基を表わす。R1 で表わさ
れるアルキル基が置換基を有するとき、その置換基とし
ては先に一般式(1)のArの置換基として説明したの
と同じものが挙げられるが、より好ましい置換基として
はアリールオキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ単
位をくり返し含む基を含む)、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基が挙げられる。
いてR1 は置換もしくは無置換で、分岐もしくは直鎖の
総炭素数4〜16のアルキル基を表わす。R1 で表わさ
れるアルキル基が置換基を有するとき、その置換基とし
ては先に一般式(1)のArの置換基として説明したの
と同じものが挙げられるが、より好ましい置換基として
はアリールオキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ単
位をくり返し含む基を含む)、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基が挙げられる。
【0048】一般式(5−a)もしくは(5−b)にお
いてR2 は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基を表わし、R3 は2価の脂肪族基を表わ
す。R2 およびR3 で表わされる基の総炭素数は2から
20が好ましく、これらの基はさらに置換基を有してい
てもよい。好ましい置換基の例としては、アルコキシ基
(エチレンオキシ単位をくり返し含むアルコキシ基を含
む)、アルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、アンモニウム基、アミノ基、
ヒドロキシ基、アルキルチオ基等が挙げられる。
いてR2 は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、ヘテロ環基を表わし、R3 は2価の脂肪族基を表わ
す。R2 およびR3 で表わされる基の総炭素数は2から
20が好ましく、これらの基はさらに置換基を有してい
てもよい。好ましい置換基の例としては、アルコキシ基
(エチレンオキシ単位をくり返し含むアルコキシ基を含
む)、アルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、アンモニウム基、アミノ基、
ヒドロキシ基、アルキルチオ基等が挙げられる。
【0049】一般式(6−a)もしくは(6−b)にお
いてAはハロゲン化銀粒子への吸着促進基を表わし、具
体的には一般式(1)におけるArが置換基として有し
ていてもよい吸着促進基について説明したものと同じも
のが挙げられる。好ましくは、メルカプト基を含む芳香
族基もしくはヘテロ環基、メルカプトアルキレン基を有
するヘテロ環基、チオウレイド基、チオウレタン基、チ
オアミド基、ジスルフィド結合を含むアルキルもしくは
シクロアルキル基、N原子を2つ以上含み、かつ少なく
ともその1つが水素原子と結合した含窒素ヘテロ環基で
あり、より具体的には、メルカプト基、メルカプトフェ
ニル基、2−メルカプト−1−チア−3,4−ジアゾリ
ル基、5−メルカプトテトラゾリル基、2−メルカプト
−1,3,4−トリアゾリル基、2−メルカプトベンズ
オキサゾリル基、2−メルカプトベンゾチアゾリル基、
2−メルカプトピリジル基、4−メルカプト−1,3,
3a,7−テトラザインデニル基、ベンゾトリアゾリル
基、チアトリアゾリル基、チオウレイド基、N′−フェ
ニルチオウレイド基、フェニルチオウレタン基、などが
挙げられる。
いてAはハロゲン化銀粒子への吸着促進基を表わし、具
体的には一般式(1)におけるArが置換基として有し
ていてもよい吸着促進基について説明したものと同じも
のが挙げられる。好ましくは、メルカプト基を含む芳香
族基もしくはヘテロ環基、メルカプトアルキレン基を有
するヘテロ環基、チオウレイド基、チオウレタン基、チ
オアミド基、ジスルフィド結合を含むアルキルもしくは
シクロアルキル基、N原子を2つ以上含み、かつ少なく
ともその1つが水素原子と結合した含窒素ヘテロ環基で
あり、より具体的には、メルカプト基、メルカプトフェ
ニル基、2−メルカプト−1−チア−3,4−ジアゾリ
ル基、5−メルカプトテトラゾリル基、2−メルカプト
−1,3,4−トリアゾリル基、2−メルカプトベンズ
オキサゾリル基、2−メルカプトベンゾチアゾリル基、
2−メルカプトピリジル基、4−メルカプト−1,3,
3a,7−テトラザインデニル基、ベンゾトリアゾリル
基、チアトリアゾリル基、チオウレイド基、N′−フェ
ニルチオウレイド基、フェニルチオウレタン基、などが
挙げられる。
【0050】一般式(7−a)もしくは(7−b)にお
いてBはカチオン性基およびその対アニオンを表わし、
具体的には4級のアンモニウム基、窒素原子が4級化さ
れた含窒素ヘテロ環基、4級のホスホニウム基、3級の
スルホニウム基および、その対アニオンであるクロロア
ニオン、ブロモアニオン、ヨードアニオン、スルホン酸
アニオンを表わす。Bで表わされるカチオン性基は、好
ましくは4級のアンモニウム基もしくは窒素原子が4級
化された含窒素ヘテロ環基であり、トリアルキルアンモ
ニウム基、ピリジニウム基、キノリニウム基、イソキノ
リニウム基、フェナンスリニウム基、トリアゾリニウム
基、イミダゾリニウム基、ベンゾチアゾリニウム基、が
挙げられる。これらの基はさらに置換基によって置換さ
れていてもよいが、置換基として好ましくは、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アルキルカルバモイル
基、アミノ基、アンモニウム基、ヘテロ環基が挙げられ
る。Bで表わされるカチオン性基として、特に好ましく
は、トリアルキルアンモニウム基およびピリジニウム基
であり、また対イオンとしてはクロルアニオン、ブロモ
アニオンである。R4 は2価の脂肪族基を表わし、さら
に置換基を有していてもよい。R4 は好ましくはアルキ
レン基であり、特に好ましくは無置換で直鎖または分岐
のアルキレン基である。
いてBはカチオン性基およびその対アニオンを表わし、
具体的には4級のアンモニウム基、窒素原子が4級化さ
れた含窒素ヘテロ環基、4級のホスホニウム基、3級の
スルホニウム基および、その対アニオンであるクロロア
ニオン、ブロモアニオン、ヨードアニオン、スルホン酸
アニオンを表わす。Bで表わされるカチオン性基は、好
ましくは4級のアンモニウム基もしくは窒素原子が4級
化された含窒素ヘテロ環基であり、トリアルキルアンモ
ニウム基、ピリジニウム基、キノリニウム基、イソキノ
リニウム基、フェナンスリニウム基、トリアゾリニウム
基、イミダゾリニウム基、ベンゾチアゾリニウム基、が
挙げられる。これらの基はさらに置換基によって置換さ
れていてもよいが、置換基として好ましくは、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アルキルカルバモイル
基、アミノ基、アンモニウム基、ヘテロ環基が挙げられ
る。Bで表わされるカチオン性基として、特に好ましく
は、トリアルキルアンモニウム基およびピリジニウム基
であり、また対イオンとしてはクロルアニオン、ブロモ
アニオンである。R4 は2価の脂肪族基を表わし、さら
に置換基を有していてもよい。R4 は好ましくはアルキ
レン基であり、特に好ましくは無置換で直鎖または分岐
のアルキレン基である。
【0051】一般式(4−a、b)〜(7−a、b)に
おいてMおよびmは、一般式(1)におけるそれらと同
じ意味を表わす。
おいてMおよびmは、一般式(1)におけるそれらと同
じ意味を表わす。
【0052】以下に本発明に用いられる化合物を列記す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0053】
【表1】
【0054】
【表2】
【0055】
【表3】
【0056】
【表4】
【0057】
【表5】
【0058】
【表6】
【0059】
【表7】
【0060】
【表8】
【0061】本発明の化合物は合成スキームに示した様
に、ヒドラジン誘導体と電子吸引性基で置換されたジカ
ルボン酸の酸無水物、もしくは酸塩化物、あるいはその
酸塩化物より調製される一般式(8)で表わされる化合
物とを反応させることにより容易に合成することが出来
る。
に、ヒドラジン誘導体と電子吸引性基で置換されたジカ
ルボン酸の酸無水物、もしくは酸塩化物、あるいはその
酸塩化物より調製される一般式(8)で表わされる化合
物とを反応させることにより容易に合成することが出来
る。
【0062】
【化12】
【0063】
【化13】
【0064】合成例
(例示化合物1の合成)例示化合物1は、スキーム2に
従って合成した。
従って合成した。
【0065】
【化14】
【0066】(合成中間体1の合成)N−p−ニトロフ
ェニル−N′−ホルミルヒドラジンとm−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロライドとを反応させた後、得られたN
−m−ニトロベンゼンスルホンアミドフェニル−N′−
ホルミルヒドラジンを鉄還元することにより、合成中間
体1を調製した。 (合成中間体3の合成)中間体1.10.0gのアセト
ニトリルおよびジメチルアセトアミド混合溶液100ml
に、氷冷下、デカン酸クロライド7.14gのアセトニ
トリル溶液30mlを滴下した。通常の後処理後、酢酸エ
チルより生成物を晶折し、合成中間体3.12.31g
を得た。 (合成中間体4の合成)中間体3.12.30g、およ
び1,5−ジナフタレンスルホン酸4.54gのメタノ
ールけんだき液300mlを、窒素雰囲気下加熱し、50
℃にて3時間かくはんした。酢酸エチル及び重ソウ水を
加えて生成物を抽出し、乾燥後、酢酸エチル層を濃縮
し、粗結晶(中間体4)を得た。 (例示化合物1の合成)中間体4の粗結晶全量を、ジメ
チルイミダゾリジノンとアセトニトリルの混合溶液(3
00ml)とし、氷冷下、テトラフルオロコハク酸無水物
2.33mlのアセトニトリル溶液50mlを滴下した。通
常の後処理操作を行なった後、カラムクロマトグラフィ
ーによって精製し、例示化合物1.3.7gを得た。
(2ステップで収率23%、アモルファス)
ェニル−N′−ホルミルヒドラジンとm−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロライドとを反応させた後、得られたN
−m−ニトロベンゼンスルホンアミドフェニル−N′−
ホルミルヒドラジンを鉄還元することにより、合成中間
体1を調製した。 (合成中間体3の合成)中間体1.10.0gのアセト
ニトリルおよびジメチルアセトアミド混合溶液100ml
に、氷冷下、デカン酸クロライド7.14gのアセトニ
トリル溶液30mlを滴下した。通常の後処理後、酢酸エ
チルより生成物を晶折し、合成中間体3.12.31g
を得た。 (合成中間体4の合成)中間体3.12.30g、およ
び1,5−ジナフタレンスルホン酸4.54gのメタノ
ールけんだき液300mlを、窒素雰囲気下加熱し、50
℃にて3時間かくはんした。酢酸エチル及び重ソウ水を
加えて生成物を抽出し、乾燥後、酢酸エチル層を濃縮
し、粗結晶(中間体4)を得た。 (例示化合物1の合成)中間体4の粗結晶全量を、ジメ
チルイミダゾリジノンとアセトニトリルの混合溶液(3
00ml)とし、氷冷下、テトラフルオロコハク酸無水物
2.33mlのアセトニトリル溶液50mlを滴下した。通
常の後処理操作を行なった後、カラムクロマトグラフィ
ーによって精製し、例示化合物1.3.7gを得た。
(2ステップで収率23%、アモルファス)
【0067】(例示化合物2の合成)例示化合物1の合
成において、デカン酸クロライドのかわりにp−t−ア
ミルフェノキシアセチルクロライドを用いる以外は、全
く同様にして例示化合物2を合成することが出来た。
成において、デカン酸クロライドのかわりにp−t−ア
ミルフェノキシアセチルクロライドを用いる以外は、全
く同様にして例示化合物2を合成することが出来た。
【0068】(例示化合物11の合成)スキーム2にお
ける中間体1をクロロ炭酸フェニルと反応させること
で、フェニルウレタン化した後、β−ヘプチルメルカプ
トエチルアミンを作用させて合成中間体5を調製した。
ける中間体1をクロロ炭酸フェニルと反応させること
で、フェニルウレタン化した後、β−ヘプチルメルカプ
トエチルアミンを作用させて合成中間体5を調製した。
【0069】
【化15】
【0070】スキーム2で示された中間体3のかわり
に、この中間体5を用いる以外は例示化合物1の合成と
全く同様にして、例示化合物11を合成した(mp 1
70〜175℃)。
に、この中間体5を用いる以外は例示化合物1の合成と
全く同様にして、例示化合物11を合成した(mp 1
70〜175℃)。
【0071】(例示化合物45の合成)例示化合物11
の合成において、テトラフルオロコハク酸無水物のかわ
りに、ヘキサフルオログルタル酸無水物を用いる以外
は、全く同様の方法にて、例示化合物45を合成した。
の合成において、テトラフルオロコハク酸無水物のかわ
りに、ヘキサフルオログルタル酸無水物を用いる以外
は、全く同様の方法にて、例示化合物45を合成した。
【0072】(例示化合物19の合成)スキーム2にお
ける中間体1を、クロロ炭酸フェニルと反応させてフェ
ニルウレタン化した後、1−m−アミノフェニル−5−
メルカプトテトラゾールと反応させて、合成中間体6を
調製した。
ける中間体1を、クロロ炭酸フェニルと反応させてフェ
ニルウレタン化した後、1−m−アミノフェニル−5−
メルカプトテトラゾールと反応させて、合成中間体6を
調製した。
【0073】
【化16】
【0074】後は、スキーム2で示された中間体3のか
わりに、この中間体6を用いる以外は、ほぼ例示化合物
1の合成と同様の方法にて例示化合物19を合成するこ
とができた。
わりに、この中間体6を用いる以外は、ほぼ例示化合物
1の合成と同様の方法にて例示化合物19を合成するこ
とができた。
【0075】本発明においては公知の造核促進剤を併用
してもよい。造核促進剤としてはアミン化合物、ヒドラ
ジン化合物、四級オニウム塩化合物およびカルビノール
化合物等が挙げられる。これらの造核促進剤は特開平4
−56749号公報、特開昭63−124045号公
報、同62−187340号公報に記載されているもの
が挙げられる。これらの化合物は分子内に耐拡散性また
はハロゲン化銀吸着基を有してもよい。その他具体的に
は以下の特許に記載の化合物が挙げられる。特願平3−
295926号明細書、同3−293366号明細書に
記載の化合物である。
してもよい。造核促進剤としてはアミン化合物、ヒドラ
ジン化合物、四級オニウム塩化合物およびカルビノール
化合物等が挙げられる。これらの造核促進剤は特開平4
−56749号公報、特開昭63−124045号公
報、同62−187340号公報に記載されているもの
が挙げられる。これらの化合物は分子内に耐拡散性また
はハロゲン化銀吸着基を有してもよい。その他具体的に
は以下の特許に記載の化合物が挙げられる。特願平3−
295926号明細書、同3−293366号明細書に
記載の化合物である。
【0076】更に具体的には以下のような造核促進剤が
挙げられる。
挙げられる。
【0077】
【化17】
【0078】
【化18】
【0079】
【化19】
【0080】本発明において好ましく用いられる造核促
進剤は下記一般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で
示される化合物である。
進剤は下記一般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で
示される化合物である。
【0081】
【化20】
【0082】式中、R1 、R2 、R3 は、アルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロ
アルケニル基、ヘテロ環残基を表わし、これらは更に置
換基を有していてもよい。mは1ないし4の整数を表わ
し、LはP原子とその炭素原子で結合するm価の有機基
を表わし、nは1ないし3の整数を表わし、Xはn価の
陰イオンを表わし、XはLと連結してもよい。
シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロ
アルケニル基、ヘテロ環残基を表わし、これらは更に置
換基を有していてもよい。mは1ないし4の整数を表わ
し、LはP原子とその炭素原子で結合するm価の有機基
を表わし、nは1ないし3の整数を表わし、Xはn価の
陰イオンを表わし、XはLと連結してもよい。
【0083】
【化21】
【0084】式中、Aはヘテロ環を完成させるための有
機基を表わす。B、Cはそれぞれ2価の基を表わす。R
1 、R2 は、各々アルキル基またはアリール基を表わ
し、R3 、R4 は水素原子、又は、置換基を表わす。X
は、アニオン基を表わすが、分子内塩を形成する場合は
必要ない。
機基を表わす。B、Cはそれぞれ2価の基を表わす。R
1 、R2 は、各々アルキル基またはアリール基を表わ
し、R3 、R4 は水素原子、又は、置換基を表わす。X
は、アニオン基を表わすが、分子内塩を形成する場合は
必要ない。
【0085】
【化22】
【0086】式中、Zは含窒素複素芳香環を形成するた
めに必要な原子群を表わし、Rはアルキル基を表わし、
X- は対アニオンを表わす。
めに必要な原子群を表わし、Rはアルキル基を表わし、
X- は対アニオンを表わす。
【0087】一般式(I)について、詳細に説明する。
式中R1 、R2 、R3 はアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、
ヘテロ環残基を表わし、これらはさらに置換基を有して
いてもよい。mは整数を表わし、LはP原子とその炭素
原子で結合するm価の有機基を表わし、nは1ないし3
の整数を表わし、Xはn価の陰イオンを表わし、XはL
と連結していてもよい。R1 、R2 、R3 で表わされる
基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基な
どの直鎖又は分枝状のアルキル基、置換、無置換のベン
ジル基などのアラルキル基;シクロプロピル基、シクロ
ペンチール基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基、フェニル基、ナフチル基、フエナントリル基などの
アリール基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、
などのアルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキ
セニル基などのシクロアルケニル基;ピリジル基、キノ
リル基、フリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、チ
アジアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾ
リル基、モルホリル基、ピリミジル基、ピロリジル基な
どのヘテロ環残基が挙げられる。これらの基上に置換し
た置換基の例としては、R1 、R2 、R3 で表わされる
基の他に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子などのハロゲン原子、ニトロ基、1、2、3級アミノ
基、アルキル又はアリールエーテル基、アルキル又はア
リールチオエーテル基、カルボンアミド基、カルバモイ
ル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキ
シル基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル
基、スルホン酸基、シアノ基又はカルボニル基、が挙げ
られる。Lで表わされる基の例としてはR1 、R2、R
3 と同義の基のほかにトリメチレン基、テトラメチレン
基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン基、オクタメチ
レン基、ドデカメチレン基などのポリメチレン基、フェ
ニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基などの2価芳
香族基、トリメチレンメチル基、テトラメチレンメチル
基などの多価脂肪族基、フェニレン−1,3,5−トル
イル基、フェニレン−1,2,4,5−テトライル基な
どの多価芳香族基などが挙げられる。Xで表わされる陰
イオンの例としては、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素
イオンなどのハロゲンイオン、アセテートイオン、オキ
サレートイオン、フマレートイオン、ベンゾエートイオ
ンなどのカルボキシレートイオン、p−トルエンスルホ
ネート、メタンスルホネート、ブタンスルホネート、ベ
ンゼンスルホネートなどのスルホネートイオン、硫酸イ
オン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオンが挙げ
られる。一般式(I)において、R1 、R2 、R3 は好
ましくは炭素数20以下の基であり、炭素数15以下の
アリール基が特に好ましい。mは1または2が好まし
く、mが1を表わす時、Lは好ましくは炭素数20以下
の基であり、総炭素数15以下のアルキル基またはアリ
ール基が特に好ましい。mが2を表わす時、Lで表わさ
れる2価の有機基は好ましくはアルキレン基、アリーレ
ン基またはこれらの基を結合して形成される2価の基、
さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−NR4
−基(ただしR4 は水素原子またはR1 、R2 、R3 と
同義の基を表わし、分子内に複数のR4 が存在する時、
これらは同じであっても異なっていても良く、さらには
互いに結合していても良い)、−S−基、−SO−基、
−SO2 −基を組みあわせて形成される2価の基であ
る。mが2を表わす時、Lはその炭素原子でP原子と結
合する総炭素数20以下の2価基であることが特に好ま
しい。mが2以上の整数を表わす時、分子内にR1 、R
2 、R3 はそれぞれ複数存在するが、その複数のR1 、
R2 、R3 はそれぞれ同じであっても異なっていても良
い。nは1または2が好ましく、mは1または2が好ま
しい。XはR1 、R2 、R3 、またはLと結合して分子
内塩を形成しても良い。本発明の一般式(I)で表わさ
れる化合物の多くのものは公知であり、試薬として市販
のものである。一般的合成法としては、ホスフィン酸類
をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステルなどのア
ルキル化剤と反応させる方法:あるいはホスホニウム塩
類の対陰イオンを常法により交換する方法がある。一般
式(I) で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但
し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
式中R1 、R2 、R3 はアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、
ヘテロ環残基を表わし、これらはさらに置換基を有して
いてもよい。mは整数を表わし、LはP原子とその炭素
原子で結合するm価の有機基を表わし、nは1ないし3
の整数を表わし、Xはn価の陰イオンを表わし、XはL
と連結していてもよい。R1 、R2 、R3 で表わされる
基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基な
どの直鎖又は分枝状のアルキル基、置換、無置換のベン
ジル基などのアラルキル基;シクロプロピル基、シクロ
ペンチール基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基、フェニル基、ナフチル基、フエナントリル基などの
アリール基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、
などのアルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキ
セニル基などのシクロアルケニル基;ピリジル基、キノ
リル基、フリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、チ
アジアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾ
リル基、モルホリル基、ピリミジル基、ピロリジル基な
どのヘテロ環残基が挙げられる。これらの基上に置換し
た置換基の例としては、R1 、R2 、R3 で表わされる
基の他に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子などのハロゲン原子、ニトロ基、1、2、3級アミノ
基、アルキル又はアリールエーテル基、アルキル又はア
リールチオエーテル基、カルボンアミド基、カルバモイ
ル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキ
シル基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル
基、スルホン酸基、シアノ基又はカルボニル基、が挙げ
られる。Lで表わされる基の例としてはR1 、R2、R
3 と同義の基のほかにトリメチレン基、テトラメチレン
基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン基、オクタメチ
レン基、ドデカメチレン基などのポリメチレン基、フェ
ニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基などの2価芳
香族基、トリメチレンメチル基、テトラメチレンメチル
基などの多価脂肪族基、フェニレン−1,3,5−トル
イル基、フェニレン−1,2,4,5−テトライル基な
どの多価芳香族基などが挙げられる。Xで表わされる陰
イオンの例としては、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素
イオンなどのハロゲンイオン、アセテートイオン、オキ
サレートイオン、フマレートイオン、ベンゾエートイオ
ンなどのカルボキシレートイオン、p−トルエンスルホ
ネート、メタンスルホネート、ブタンスルホネート、ベ
ンゼンスルホネートなどのスルホネートイオン、硫酸イ
オン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオンが挙げ
られる。一般式(I)において、R1 、R2 、R3 は好
ましくは炭素数20以下の基であり、炭素数15以下の
アリール基が特に好ましい。mは1または2が好まし
く、mが1を表わす時、Lは好ましくは炭素数20以下
の基であり、総炭素数15以下のアルキル基またはアリ
ール基が特に好ましい。mが2を表わす時、Lで表わさ
れる2価の有機基は好ましくはアルキレン基、アリーレ
ン基またはこれらの基を結合して形成される2価の基、
さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−NR4
−基(ただしR4 は水素原子またはR1 、R2 、R3 と
同義の基を表わし、分子内に複数のR4 が存在する時、
これらは同じであっても異なっていても良く、さらには
互いに結合していても良い)、−S−基、−SO−基、
−SO2 −基を組みあわせて形成される2価の基であ
る。mが2を表わす時、Lはその炭素原子でP原子と結
合する総炭素数20以下の2価基であることが特に好ま
しい。mが2以上の整数を表わす時、分子内にR1 、R
2 、R3 はそれぞれ複数存在するが、その複数のR1 、
R2 、R3 はそれぞれ同じであっても異なっていても良
い。nは1または2が好ましく、mは1または2が好ま
しい。XはR1 、R2 、R3 、またはLと結合して分子
内塩を形成しても良い。本発明の一般式(I)で表わさ
れる化合物の多くのものは公知であり、試薬として市販
のものである。一般的合成法としては、ホスフィン酸類
をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステルなどのア
ルキル化剤と反応させる方法:あるいはホスホニウム塩
類の対陰イオンを常法により交換する方法がある。一般
式(I) で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但
し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
【0088】
【化23】
【0089】
【化24】
【0090】
【化25】
【0091】
【化26】
【0092】
【化27】
【0093】
【化28】
【0094】
【化29】
【0095】
【化30】
【0096】
【化31】
【0097】一般式(II)、一般式(III) について更に詳
細に説明する。式中、Aはヘテロ環を完成させるための
有機基を表わし、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素
原子、硫黄原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環
してもかまわない。好ましい例として、Aは5〜6員環
を挙げることができ、更に好ましい例としてピリジン環
を挙げることができる。B、Cで表わされる2価基は、
アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−SO2 −、
−SO−、−O−、−S−、−N(R5 )−を単独また
は組合せて構成されるものが好ましい。ただし、R5 は
アルキル基、アリール基、水素原子を表わす。特に好ま
しい例として、B、Cはアルキレン、アリーレン、−O
−、−S−を単独または組合せて構成されるものを挙げ
ることができる。R1 、R2 は炭素数1〜20のアルキ
ル基が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。ア
ルキル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あ
るいは無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒドロ
キシエチル基など)、置換あるいは無置換のアリール基
(例えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル
基など)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベ
ンゾイル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基な
ど)、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、アリ
ールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、ウレイド基、無置換あるいはアルキル置換アミ
ノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基を表わす。特に好ましい例として、R1 、R2 は
各々炭素数1〜10のアルキル基を表わす。好ましい置
換基の例として、アリール基、スルホ基、カルボキシ
基、ヒドロキシ基を挙げることができる。R3 、R4 は
水素原子、又は置換基を表わし、置換基の例としては上
記にR1、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換
基から選ばれる。好ましい例として、R3 、R4 は炭素
数0〜10であり、具体的には、アリール置換アルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基を挙げることがで
きる。Xはアニオン基を表わすが、分子内塩の場合はX
は必要ない。Xの例として、塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホン酸イオン、オギザラートを表わす。次に本発明の
具体的化合物を記すが、これらに限られるものではな
い。また、本発明の化合物の合成は一般によく知られた
方法により容易に合成することができるが、以下の文献
が参考になる。(参照、Quart.Rev., 16,163(1
962).)
細に説明する。式中、Aはヘテロ環を完成させるための
有機基を表わし、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素
原子、硫黄原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環
してもかまわない。好ましい例として、Aは5〜6員環
を挙げることができ、更に好ましい例としてピリジン環
を挙げることができる。B、Cで表わされる2価基は、
アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−SO2 −、
−SO−、−O−、−S−、−N(R5 )−を単独また
は組合せて構成されるものが好ましい。ただし、R5 は
アルキル基、アリール基、水素原子を表わす。特に好ま
しい例として、B、Cはアルキレン、アリーレン、−O
−、−S−を単独または組合せて構成されるものを挙げ
ることができる。R1 、R2 は炭素数1〜20のアルキ
ル基が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。ア
ルキル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あ
るいは無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒドロ
キシエチル基など)、置換あるいは無置換のアリール基
(例えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル
基など)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベ
ンゾイル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基な
ど)、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、アリ
ールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、ウレイド基、無置換あるいはアルキル置換アミ
ノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基を表わす。特に好ましい例として、R1 、R2 は
各々炭素数1〜10のアルキル基を表わす。好ましい置
換基の例として、アリール基、スルホ基、カルボキシ
基、ヒドロキシ基を挙げることができる。R3 、R4 は
水素原子、又は置換基を表わし、置換基の例としては上
記にR1、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換
基から選ばれる。好ましい例として、R3 、R4 は炭素
数0〜10であり、具体的には、アリール置換アルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基を挙げることがで
きる。Xはアニオン基を表わすが、分子内塩の場合はX
は必要ない。Xの例として、塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホン酸イオン、オギザラートを表わす。次に本発明の
具体的化合物を記すが、これらに限られるものではな
い。また、本発明の化合物の合成は一般によく知られた
方法により容易に合成することができるが、以下の文献
が参考になる。(参照、Quart.Rev., 16,163(1
962).)
【0098】一般式(II)、(III) の具体的化合物を以
下に示すが、本発明は、これに限定されるものではな
い。
下に示すが、本発明は、これに限定されるものではな
い。
【0099】
【化32】
【0100】
【化33】
【0101】
【化34】
【0102】
【化35】
【0103】
【化36】
【0104】
【化37】
【0105】一般式(IV)について更に詳細に説明す
る。Zが表わす含窒素複素芳香環は窒素原子の他に炭素
原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含んでもよく、
さらにベンゼン環が縮環してもよい。形成される複素芳
香環は5〜6員環が好ましく、ピリジン環、キノリン
環、イソキノリン環がさらに好ましい。Rは炭素数1〜
20のアルキル基が好ましく、直鎖でも分枝していて
も、さらには環状のアルキル基でも良い。炭素数1〜1
2のアルキル基がさらに好ましく、炭素数1〜8が最も
好ましい。X- はアニオン基を表わすが、分子内塩の場
合はX- は必要ない。X- の例として、塩素イオン、臭
素イオン、沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−
トルエンスルホン酸イオン、オギザラートを表わす。
る。Zが表わす含窒素複素芳香環は窒素原子の他に炭素
原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含んでもよく、
さらにベンゼン環が縮環してもよい。形成される複素芳
香環は5〜6員環が好ましく、ピリジン環、キノリン
環、イソキノリン環がさらに好ましい。Rは炭素数1〜
20のアルキル基が好ましく、直鎖でも分枝していて
も、さらには環状のアルキル基でも良い。炭素数1〜1
2のアルキル基がさらに好ましく、炭素数1〜8が最も
好ましい。X- はアニオン基を表わすが、分子内塩の場
合はX- は必要ない。X- の例として、塩素イオン、臭
素イオン、沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−
トルエンスルホン酸イオン、オギザラートを表わす。
【0106】またZ、Rで表わされる基は置換されてい
ても良く好ましい置換基としては、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子)、置換あるいは無置換のアリ
ール基(例えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフ
ェニル基など)、置換あるいは無置換のアシル基(例え
ば、ベンゾイル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル
基など)、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、
アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カル
バモイル基、ウレイド基、無置換あるいはアルキル置換
アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基を表わす。特に好ましい置換基の例として、
アリール基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基を
挙げることができる。またZの置換基としては他にも置
換あるいは無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒ
ドロキシエチル基など)、置換あるいは無置換のアラル
キル基(例えば、ベンジル基、p−メトキシフェネチル
基など)も好ましい。次に本発明の具体的化合物を記す
が、これらに限られるものではない。また、本発明の化
合物の合成は一般によく知られた方法により容易に合成
することができるが、以下の文献が参考になる。(参
照、Quart.Rev., 16,163(1962).) 一般式(IV)の具体的化合物を以下に示すが、本発明
は、これに限定されるものではない。
ても良く好ましい置換基としては、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子)、置換あるいは無置換のアリ
ール基(例えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフ
ェニル基など)、置換あるいは無置換のアシル基(例え
ば、ベンゾイル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル
基など)、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、
アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、カル
バモイル基、ウレイド基、無置換あるいはアルキル置換
アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基を表わす。特に好ましい置換基の例として、
アリール基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基を
挙げることができる。またZの置換基としては他にも置
換あるいは無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒ
ドロキシエチル基など)、置換あるいは無置換のアラル
キル基(例えば、ベンジル基、p−メトキシフェネチル
基など)も好ましい。次に本発明の具体的化合物を記す
が、これらに限られるものではない。また、本発明の化
合物の合成は一般によく知られた方法により容易に合成
することができるが、以下の文献が参考になる。(参
照、Quart.Rev., 16,163(1962).) 一般式(IV)の具体的化合物を以下に示すが、本発明
は、これに限定されるものではない。
【0107】
【化38】
【0108】
【化39】
【0109】
【化40】
【0110】一般式(I)、一般式(II)、一般式(II
I)及び一般式(IV)で表わされる化合物の添加量は、
感材の特性等により、必要な量を添加して用いればよく
特に制限はない。本発明に用いる場合の好ましい添加量
としては1×10-5〜2×10 -2 mol/molAg 、より好
ましくは、2×10-5〜1×10-2 mol/molAg であ
る。
I)及び一般式(IV)で表わされる化合物の添加量は、
感材の特性等により、必要な量を添加して用いればよく
特に制限はない。本発明に用いる場合の好ましい添加量
としては1×10-5〜2×10 -2 mol/molAg 、より好
ましくは、2×10-5〜1×10-2 mol/molAg であ
る。
【0111】本発明の一般式(I)、一般式(II)、一
般式(III)及び一般式(IV)の化合物は、適当な水混和
性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、エタ
ノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなど
に溶解して用いることができる。また、既に良く知られ
ている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリ
クレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあ
るいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルや
シクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械
的に乳化分散物を作成して用いることもできる。あるい
は固体分散法として知られている方法によって、微細な
分散物にして用いることもできる。
般式(III)及び一般式(IV)の化合物は、適当な水混和
性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、エタ
ノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなど
に溶解して用いることができる。また、既に良く知られ
ている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリ
クレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあ
るいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルや
シクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械
的に乳化分散物を作成して用いることもできる。あるい
は固体分散法として知られている方法によって、微細な
分散物にして用いることもできる。
【0112】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
るハロゲン化銀乳剤はハロゲン組成に制限はなく、塩化
銀、塩臭化銀、沃塩臭化銀、臭化銀、沃臭化銀など、い
ずれも使用できる。スキャナー用あるいはカメラ用感材
をつくるには、塩化銀含有率50mol %以上であること
が好ましい。明室返し感材をつくるには塩化銀含有率9
5mol %以上であることが好ましい。ハロゲン化銀粒子
の形状は、立方体、十四面体、八面体、不定型、板状い
ずれでも良いが、立方体が好ましい。ハロゲン化銀の平
均粒径は0.1μm〜0.7μmが好ましいが、より好
ましくは0.2〜0.5μmであり、{(粒径の標準偏
差)/(平均粒径)}×100で表される変動係数が1
5%以下、より好ましくは10%以下の粒径分布の狭い
ものが好ましい。ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一
な層からなっていても、異なる層からなっていても良
い。本発明に用いられる写真乳剤は、P.Glafkides 著 C
himie et Physique Photographique (Paul Montel 社
刊、1967年) 、G.F.Dufin 著 Photographic EmulsionCh
emistry (The Forcal Press 刊、1966年) 、V.L.Zelikm
an et al著 Making and Coating Photographic Emulsio
n (The Focal Press刊、1964年)などに記載された方法
を用いて調製することができる。
るハロゲン化銀乳剤はハロゲン組成に制限はなく、塩化
銀、塩臭化銀、沃塩臭化銀、臭化銀、沃臭化銀など、い
ずれも使用できる。スキャナー用あるいはカメラ用感材
をつくるには、塩化銀含有率50mol %以上であること
が好ましい。明室返し感材をつくるには塩化銀含有率9
5mol %以上であることが好ましい。ハロゲン化銀粒子
の形状は、立方体、十四面体、八面体、不定型、板状い
ずれでも良いが、立方体が好ましい。ハロゲン化銀の平
均粒径は0.1μm〜0.7μmが好ましいが、より好
ましくは0.2〜0.5μmであり、{(粒径の標準偏
差)/(平均粒径)}×100で表される変動係数が1
5%以下、より好ましくは10%以下の粒径分布の狭い
ものが好ましい。ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一
な層からなっていても、異なる層からなっていても良
い。本発明に用いられる写真乳剤は、P.Glafkides 著 C
himie et Physique Photographique (Paul Montel 社
刊、1967年) 、G.F.Dufin 著 Photographic EmulsionCh
emistry (The Forcal Press 刊、1966年) 、V.L.Zelikm
an et al著 Making and Coating Photographic Emulsio
n (The Focal Press刊、1964年)などに記載された方法
を用いて調製することができる。
【0113】可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させ
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合法)
を用いることもできる。同時混合法の一つの型式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭53−824
08号、同55−77737号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリンチオンである。コントロー
ルド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使用
した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ分
布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本発
明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手段
である。また、粒子サイズ均一にするためには、英国特
許第1,535,016号、特公昭48−36890
号、同52−16364号に記載されているように、硝
酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に
応じて変化させる方法や、英国特許第4,242,44
5号、特開昭55−158124号に記載されているよ
うに水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和
度を越えない範囲において早く成長させることが好まし
い。
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合法)
を用いることもできる。同時混合法の一つの型式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭53−824
08号、同55−77737号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリンチオンである。コントロー
ルド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使用
した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ分
布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本発
明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手段
である。また、粒子サイズ均一にするためには、英国特
許第1,535,016号、特公昭48−36890
号、同52−16364号に記載されているように、硝
酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に
応じて変化させる方法や、英国特許第4,242,44
5号、特開昭55−158124号に記載されているよ
うに水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和
度を越えない範囲において早く成長させることが好まし
い。
【0114】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られるハロゲン化銀粒子には高コントラストおよび低カ
ブリを達成するために、ロジウム、レニウム、ルテニウ
ム、オスミニウム、イリジウムから選ばれる少なくとも
一種の金属を含有することができる。この含有率は銀1
モルに対して1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が
好ましく、さらには1×10-8〜5×10-6モルの範囲
が好ましい。これらの金属は2種以上併用しても良い。
これらの金属はハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭63−29603号、特開平2
−306236号、同3−167545号、同4−76
534号、特願平4−68305号、同4−25818
7号等に記載されているように粒子内に分子をもたせて
含有させることもできる。
られるハロゲン化銀粒子には高コントラストおよび低カ
ブリを達成するために、ロジウム、レニウム、ルテニウ
ム、オスミニウム、イリジウムから選ばれる少なくとも
一種の金属を含有することができる。この含有率は銀1
モルに対して1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が
好ましく、さらには1×10-8〜5×10-6モルの範囲
が好ましい。これらの金属は2種以上併用しても良い。
これらの金属はハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭63−29603号、特開平2
−306236号、同3−167545号、同4−76
534号、特願平4−68305号、同4−25818
7号等に記載されているように粒子内に分子をもたせて
含有させることもできる。
【0115】本発明に用いられるロジウム化合物として
は、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たと
えば、ハロゲン化ロジウム(III) 化合物、またはロジウ
ム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラト
等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム(III)
錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキサアンミ
ンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(III) 錯塩
等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、水あるい
は適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化合物
の溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、
すなわち、ハロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭
酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえ
ばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する
方法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代
わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをド
ープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させ
ることも可能である。
は、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たと
えば、ハロゲン化ロジウム(III) 化合物、またはロジウ
ム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラト
等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム(III)
錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキサアンミ
ンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(III) 錯塩
等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、水あるい
は適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化合物
の溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、
すなわち、ハロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭
酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえ
ばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する
方法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代
わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをド
ープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させ
ることも可能である。
【0116】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
【0117】本発明に用いられるレニウム、ルテニウ
ム、オスミニウムは特開昭63−2042号、特開平1
−285941号、同2−20852号、同2−208
55号等に記載された水溶性錯塩の形で添加される。特
に好ましいものとして、以下の式で示される六配位錯体
が挙げられる。 〔ML6 〕-n ここでMはRu、Re、またはOsを表し、nは0、
1、2、3または4を表す。この場合、対イオンは重要
性を持たず、アニモニウムもしくはアルカリ金属イオン
が用いられる。また好ましい配位子としてはハロゲン化
物配位子、シアン化物配位子、シアン配化物配位子、ニ
トロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられ
る。以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示す
が、本発明はこれに限定されるものではない。
ム、オスミニウムは特開昭63−2042号、特開平1
−285941号、同2−20852号、同2−208
55号等に記載された水溶性錯塩の形で添加される。特
に好ましいものとして、以下の式で示される六配位錯体
が挙げられる。 〔ML6 〕-n ここでMはRu、Re、またはOsを表し、nは0、
1、2、3または4を表す。この場合、対イオンは重要
性を持たず、アニモニウムもしくはアルカリ金属イオン
が用いられる。また好ましい配位子としてはハロゲン化
物配位子、シアン化物配位子、シアン配化物配位子、ニ
トロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられ
る。以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示す
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【0118】
〔ReCl6 〕-3 〔ReBr6 〕-3 〔ReCl5(NO) 〕-2
〔Re(NS)Br5 〕-2 〔Re(NO)(CN)5 〕-2 〔Re(O)2(CN)4 〕-3
〔RuCl6 〕-3 〔RuCl4(H2O)2 〕-2 〔RuCl5(NO) 〕-2
〔RuBr5(NS) 〕-2 〔Ru(CN)6 〕-4 〔Ru(CO)3Cl3〕-2
〔Ru(CO)Cl5 〕-2 〔Ru(CO)Br5 〕-2
〔OsCl6 〕-3 〔OsCl5(NO) 〕-2 〔Os(NO)(CN)5 〕-2
〔Os(NS)Br5 〕-2 〔Os(CN)6 〕-4 〔Os(O)2(CN)4 〕-4
【0119】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。これ
らの化合物をハロゲン化銀の粒子形成中に添加してハロ
ゲン化銀粒子中に組み込むには、金属錯体の粉末もしく
はNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液を、粒子形
成中の水溶性塩または水溶性ハライド溶液中に添加して
おく方法、あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合さ
れるとき第3の溶液として添加し、3液同時混合の方法
でハロゲン化銀粒子を調製する方法、あるいは粒子形成
中に必要量の金属錯体の水溶性を反応容器に投入する方
法などがある。特に粉末もしくはNaCl、KClと一
緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加する
方法が好ましい。粒子表面に添加するには、粒子形成直
後または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成
時に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。
剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において
適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハ
ロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。これ
らの化合物をハロゲン化銀の粒子形成中に添加してハロ
ゲン化銀粒子中に組み込むには、金属錯体の粉末もしく
はNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液を、粒子形
成中の水溶性塩または水溶性ハライド溶液中に添加して
おく方法、あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合さ
れるとき第3の溶液として添加し、3液同時混合の方法
でハロゲン化銀粒子を調製する方法、あるいは粒子形成
中に必要量の金属錯体の水溶性を反応容器に投入する方
法などがある。特に粉末もしくはNaCl、KClと一
緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加する
方法が好ましい。粒子表面に添加するには、粒子形成直
後または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成
時に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。
【0120】本発明で用いられるイリジウム化合物とし
ては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロロイ
リジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラト
イリジウム、ヘキサシアノイリジウム等が挙げられる。
これらのイリジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に
溶解して用いられるが、イリジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸
等)、あるいはハロゲン化アリカリ(たとえばKC1、
NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方法を用い
ることができる。水溶性イリジウムを用いる代わりにハ
ロゲン化銀調製時に、あらかじめイリジウムをドープし
てある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させること
も可能である。
ては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロロイ
リジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラト
イリジウム、ヘキサシアノイリジウム等が挙げられる。
これらのイリジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に
溶解して用いられるが、イリジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸
等)、あるいはハロゲン化アリカリ(たとえばKC1、
NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方法を用い
ることができる。水溶性イリジウムを用いる代わりにハ
ロゲン化銀調製時に、あらかじめイリジウムをドープし
てある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させること
も可能である。
【0121】本発明におけるハロゲン化銀粒子には、他
の重金属塩をドープしても良い。特にK4 〔Fe(C
N)6 〕のごときFe塩のドープが有利に行われる。さ
らに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に、コバル
ト、ニッケル、パラジウム、白金、金、タリウム、銅、
鉛等の金属原子を含有してもよい。上記金属はハロゲン
化銀1モルあたり1×10-9〜1×10-4モルが好まし
い。また、上記金属を含有せしめるには単塩、複塩、ま
たは錯塩の形の金属塩にして粒子調製時に添加すること
ができる。
の重金属塩をドープしても良い。特にK4 〔Fe(C
N)6 〕のごときFe塩のドープが有利に行われる。さ
らに本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に、コバル
ト、ニッケル、パラジウム、白金、金、タリウム、銅、
鉛等の金属原子を含有してもよい。上記金属はハロゲン
化銀1モルあたり1×10-9〜1×10-4モルが好まし
い。また、上記金属を含有せしめるには単塩、複塩、ま
たは錯塩の形の金属塩にして粒子調製時に添加すること
ができる。
【0122】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感する
ことが好ましく、硫黄増感、セレン増感、テルル増感、
還元増感、貴金属増感等の知られている方法を用いるこ
とができ、単独、または組み合わせて用いられる。組み
合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増
感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感
法とテルル増感法と金増感法等が特に好ましい。
ことが好ましく、硫黄増感、セレン増感、テルル増感、
還元増感、貴金属増感等の知られている方法を用いるこ
とができ、単独、または組み合わせて用いられる。組み
合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増
感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感
法とテルル増感法と金増感法等が特に好ましい。
【0123】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ば、チオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
1モルあたり10-7〜10-2モルであり、より好ましく
は10-5〜10-3モルである。
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ば、チオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
1モルあたり10-7〜10-2モルであり、より好ましく
は10-5〜10-3モルである。
【0124】本発明で用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち通常、不安定型および/または非安定型セレン化合物
を添加して、高温、好ましくは40℃以上で乳剤を一定
時間攪拌することにより行われる。不安定型セレン化合
物としては特公昭44−15748号、特公昭43−1
3489号、特願平2−130976号、同2−229
300号、同3−121798号等に記載の化合物を用
いることができる。特に特願平3−121798号中の
一般式(VIII)および(IX)で示される化合物を用いること
が好ましい。
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち通常、不安定型および/または非安定型セレン化合物
を添加して、高温、好ましくは40℃以上で乳剤を一定
時間攪拌することにより行われる。不安定型セレン化合
物としては特公昭44−15748号、特公昭43−1
3489号、特願平2−130976号、同2−229
300号、同3−121798号等に記載の化合物を用
いることができる。特に特願平3−121798号中の
一般式(VIII)および(IX)で示される化合物を用いること
が好ましい。
【0125】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平4−
146739号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−33
3819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、J.Chem.Soc.Chem.Commun.,
635(1980)、同1102(1979)、同645(1979) 、J.Chem.So
c.Perkin.Trans., 1,2191(1980)、S.Patai 編、The Che
mistry of Organic Serenium and Tellurium Compound
s, Vol.1(1986)、同Vol.2(1987) に記載の化合物を用い
ることができる。特に特願平4−146739号中の一
般式(II) 、(III) 、(IV)で示される化合物が好まし
い。
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平4−
146739号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−33
3819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、J.Chem.Soc.Chem.Commun.,
635(1980)、同1102(1979)、同645(1979) 、J.Chem.So
c.Perkin.Trans., 1,2191(1980)、S.Patai 編、The Che
mistry of Organic Serenium and Tellurium Compound
s, Vol.1(1986)、同Vol.2(1987) に記載の化合物を用い
ることができる。特に特願平4−146739号中の一
般式(II) 、(III) 、(IV)で示される化合物が好まし
い。
【0126】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モルあ
たり、10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
モル程度を用いる。本発明における化学増感の条件とし
ては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgと
しては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度とし
ては40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モルあ
たり、10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
モル程度を用いる。本発明における化学増感の条件とし
ては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgと
しては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度とし
ては40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
【0127】本発明に用いられる貴金属増感剤として
は、金、白金、パラジウム等が挙げられるが、特に金増
感が好ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具
体的には、塩化金酸、カリウムクロレート、カリウムオ
ーリチンシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン
化銀1モルあたり10-7〜10-2モル程度を用いること
ができる。
は、金、白金、パラジウム等が挙げられるが、特に金増
感が好ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具
体的には、塩化金酸、カリウムクロレート、カリウムオ
ーリチンシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン
化銀1モルあたり10-7〜10-2モル程度を用いること
ができる。
【0128】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。本発明においては、還元増感を用いることが
できる。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホ
ルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いる
ことができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州特許
(EP)−293,917号に示される方法により、チ
オスルホン酸化合物を添加しても良い。本発明に用いら
れる感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよ
いし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるも
の、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化
学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。本発明においては、還元増感を用いることが
できる。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホ
ルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いる
ことができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州特許
(EP)−293,917号に示される方法により、チ
オスルホン酸化合物を添加しても良い。本発明に用いら
れる感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよ
いし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるも
の、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化
学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。
【0129】本発明に用いられる分光増感色素として
は、特に制約はない。本発明に用いる増感色素の添加量
は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ等により異なる
が、ハロゲン化銀1モル当り4×10-6〜8×10-3モ
ルの範囲で用いられる。例えば、ハロゲン化銀粒子サイ
ズが0.2〜1.3μmの場合には、ハロゲン化銀粒子
の表面積1m2当り、2×10-7〜3.5×10-6モルの
添加量範囲が好ましく、特に6.5×10-7〜2.0×
10-6モルの添加量範囲が好ましい。
は、特に制約はない。本発明に用いる増感色素の添加量
は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ等により異なる
が、ハロゲン化銀1モル当り4×10-6〜8×10-3モ
ルの範囲で用いられる。例えば、ハロゲン化銀粒子サイ
ズが0.2〜1.3μmの場合には、ハロゲン化銀粒子
の表面積1m2当り、2×10-7〜3.5×10-6モルの
添加量範囲が好ましく、特に6.5×10-7〜2.0×
10-6モルの添加量範囲が好ましい。
【0130】本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤は、増感
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。増感色素として
は、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックス
シアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロ
ホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色
素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用い
ることができる。本発明に使用される有用な増感色素は
例えば RESEARCH DISCLOSURE I tem 17643 IV −
A項(1978年12月p.23)、同 I tem 183
1X項(1978年8月p.437)に記載もしくは引
用された文献に記載されている。特に各種スキャナー光
源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利
に選択することができる。例えば A)アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭60−1
62247号、特開平2−48653号、米国特許2,
161,331号、西独特許936,071号、特願平
3−189532号記載のシンプルメロシアニン類、
B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特開昭
50−62425号、同54−18726号、同59−
102229号に示された三核シアニン色素類、C)L
ED光源及び赤色半導体レーザーに対しては特公昭48
−42172号、同51−9609号、同55−398
18号へ特開昭62−284343号、特開平2−10
5135号に記載されたチアカルボシアニン類、D)赤
外半導体レーザー光源に対しては特開昭59−1910
32号、特開昭60−80841号に記載されたトリカ
ルボシアニン類、特開昭59−192242号、特開平
3−67242号の一般式(IIIa)、一般式(IIIb)に
記載された4−キノリン核を含有するジカルボシアニン
類などが有利に選択される。これらの増感色素は単独に
用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感
色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いら
れる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもた
ない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であ
って、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有
用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増
感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャー(Resear
ch Disclosure) 176巻17643(1978年12
月発行)第23頁IVのJ項に記載されている。
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。増感色素として
は、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックス
シアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロ
ホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色
素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用い
ることができる。本発明に使用される有用な増感色素は
例えば RESEARCH DISCLOSURE I tem 17643 IV −
A項(1978年12月p.23)、同 I tem 183
1X項(1978年8月p.437)に記載もしくは引
用された文献に記載されている。特に各種スキャナー光
源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利
に選択することができる。例えば A)アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭60−1
62247号、特開平2−48653号、米国特許2,
161,331号、西独特許936,071号、特願平
3−189532号記載のシンプルメロシアニン類、
B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特開昭
50−62425号、同54−18726号、同59−
102229号に示された三核シアニン色素類、C)L
ED光源及び赤色半導体レーザーに対しては特公昭48
−42172号、同51−9609号、同55−398
18号へ特開昭62−284343号、特開平2−10
5135号に記載されたチアカルボシアニン類、D)赤
外半導体レーザー光源に対しては特開昭59−1910
32号、特開昭60−80841号に記載されたトリカ
ルボシアニン類、特開昭59−192242号、特開平
3−67242号の一般式(IIIa)、一般式(IIIb)に
記載された4−キノリン核を含有するジカルボシアニン
類などが有利に選択される。これらの増感色素は単独に
用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感
色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いら
れる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもた
ない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であ
って、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有
用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増
感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャー(Resear
ch Disclosure) 176巻17643(1978年12
月発行)第23頁IVのJ項に記載されている。
【0131】アルゴンレーザー光源に対しては、下記に
あげる色素が特に好ましく用いられる。
あげる色素が特に好ましく用いられる。
【0132】
【化41】
【0133】
【化42】
【0134】ヘリウム−ネオン光源に対しては、前記の
他に特願平4−228745の8頁の下から1行目から
13頁の上から4行目に記載の一般式(I)で表わされ
る増感色素が特に好ましい。具体例を下記に示すが、こ
れらの他に特願平4−228745一般式(I)記載の
ものがいずれも好ましく用いられる。
他に特願平4−228745の8頁の下から1行目から
13頁の上から4行目に記載の一般式(I)で表わされ
る増感色素が特に好ましい。具体例を下記に示すが、こ
れらの他に特願平4−228745一般式(I)記載の
ものがいずれも好ましく用いられる。
【0135】
【化43】
【0136】
【化44】
【0137】LED光源及び赤色半導体レーザーに対し
ては、下記にあげる色素が特に好ましく用いられる。
ては、下記にあげる色素が特に好ましく用いられる。
【0138】
【化45】
【0139】
【化46】
【0140】赤外半導体レーザー光源に対しては、下記
にあげる色素が特に好ましく用いられる。
にあげる色素が特に好ましく用いられる。
【0141】
【化47】
【0142】
【化48】
【0143】
【化49】
【0144】カメラ撮影などの白色光源に対しては、特
願平5−201254号に記載の一般式(IV) の増感色
素(20頁14行目から22頁23行目)が好ましく用
いられる。具体的化合物例を下記に示す。
願平5−201254号に記載の一般式(IV) の増感色
素(20頁14行目から22頁23行目)が好ましく用
いられる。具体的化合物例を下記に示す。
【0145】
【化50】
【0146】
【化51】
【0147】
【化52】
【0148】
【化53】
【0149】本発明で感光材料を現像処理する際の現像
液には、通常用いられる添加剤(例えば、現像主薬、ア
ルカリ剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤)を含有す
ることができる。本発明の現像処理には、公知の方法の
いずれかを用いることもできるし、現像処理液には公知
のものを用いることができる。本発明に使用する現像液
に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキ
シベンゼン類、あるいはアスコルビン酸誘導体を含むこ
とが好ましく、更に現像能力の点でジヒドロキシベンゼ
ン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合せ、ジ
ヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノール類の組合
せ、アスコルビン酸誘導体と1−フェニル−3−ピラゾ
リドン類の組合せまたは、アスコルビン酸誘導体とp−
アミノフェノール類の組合せが好ましい。
液には、通常用いられる添加剤(例えば、現像主薬、ア
ルカリ剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤)を含有す
ることができる。本発明の現像処理には、公知の方法の
いずれかを用いることもできるし、現像処理液には公知
のものを用いることができる。本発明に使用する現像液
に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキ
シベンゼン類、あるいはアスコルビン酸誘導体を含むこ
とが好ましく、更に現像能力の点でジヒドロキシベンゼ
ン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合せ、ジ
ヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノール類の組合
せ、アスコルビン酸誘導体と1−フェニル−3−ピラゾ
リドン類の組合せまたは、アスコルビン酸誘導体とp−
アミノフェノール類の組合せが好ましい。
【0150】本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像
主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、
イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
ハイドロキノンモノスルホン酸塩などがあるが、特にハ
イドロキノンが好ましい。本発明に用いるアスコルビン
酸誘導体現像主薬としてはアスコルビン酸、その立体異
性体であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩(ナト
リウム、カリウム塩)などがある。本発明に用いる1−
フェニル−3−ピラゾリドン又はその誘導体の現像主薬
としては1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリ
ドンなどがある。本発明に用いるp−アミノフェノール
系現像主薬としてはN−メチル−p−アミノフェノー
ル、p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチ
ル)−p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフ
ェニル)グリシン等があるが、なかでもN−メチル−p
−アミノフェノールが好ましい。ジヒドロキシベンゼン
系現像主薬は通常0.05〜0.8モル/リットルの量
で用いられるのが好ましい。特に好ましくは、0.2〜
0.6モル/リットルの範囲である。またジヒドロキシ
ベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類もしく
はp−アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前
者を0.05〜0.6モル/リットル、さらに好ましく
は0.2〜0.5モル/リットル、後者を0.06モル
/リットル以下、さらに好ましくは0.03モル/リッ
トル以下の量で用いるのが好ましい。アスコルビン酸誘
導体現像主薬は通常0.05〜0.8モル/リットルの
量で用いられるのが好ましい。特に好ましくは、0.2
〜0.6モル/リットルの範囲である。またアスコルビ
ン酸誘導体と1−フェニル−3−ピラゾリドン類もしく
はp−アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前
者を0.05〜0.6モル/リットル、さらに好ましく
は0.2〜0.5モル/リットル、後者を0.06モル
/リットル以下、さらに好ましくは0.03モル/リッ
トル以下の量で用いるのが好ましい。
主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、
イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
ハイドロキノンモノスルホン酸塩などがあるが、特にハ
イドロキノンが好ましい。本発明に用いるアスコルビン
酸誘導体現像主薬としてはアスコルビン酸、その立体異
性体であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩(ナト
リウム、カリウム塩)などがある。本発明に用いる1−
フェニル−3−ピラゾリドン又はその誘導体の現像主薬
としては1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリ
ドンなどがある。本発明に用いるp−アミノフェノール
系現像主薬としてはN−メチル−p−アミノフェノー
ル、p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチ
ル)−p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフ
ェニル)グリシン等があるが、なかでもN−メチル−p
−アミノフェノールが好ましい。ジヒドロキシベンゼン
系現像主薬は通常0.05〜0.8モル/リットルの量
で用いられるのが好ましい。特に好ましくは、0.2〜
0.6モル/リットルの範囲である。またジヒドロキシ
ベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類もしく
はp−アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前
者を0.05〜0.6モル/リットル、さらに好ましく
は0.2〜0.5モル/リットル、後者を0.06モル
/リットル以下、さらに好ましくは0.03モル/リッ
トル以下の量で用いるのが好ましい。アスコルビン酸誘
導体現像主薬は通常0.05〜0.8モル/リットルの
量で用いられるのが好ましい。特に好ましくは、0.2
〜0.6モル/リットルの範囲である。またアスコルビ
ン酸誘導体と1−フェニル−3−ピラゾリドン類もしく
はp−アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前
者を0.05〜0.6モル/リットル、さらに好ましく
は0.2〜0.5モル/リットル、後者を0.06モル
/リットル以下、さらに好ましくは0.03モル/リッ
トル以下の量で用いるのが好ましい。
【0151】本発明に用いる保恒剤としては亜硫酸ナト
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
亜硫酸塩は0.20モル/リットル以上、特に0.3モ
ル/リットル以上用いられるが、余りに多量添加すると
現像液中の銀汚れの原因になるので、上限は1.2モル
/リットルとするのが望ましい。特に好ましくは、0.
35〜0.7モル/リットルである。ジヒドロキシベン
ゼン系現像主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用してア
スコルビン酸誘導体を少量使用しても良い。アスコルビ
ン酸誘導体としては、アスコルビン酸、その立体異性体
であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩(ナトリウ
ム、カリウム塩)などがあるが、エリソルビン酸ナトリ
ウムを用いることが素材コストの点で好ましい。添加量
はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で
0.03〜0.12の範囲が好ましく、特に好ましくは
0.05〜0.10の範囲である。保恒剤としてアスコ
ルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素化
合物を含まないことが好ましい。
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
亜硫酸塩は0.20モル/リットル以上、特に0.3モ
ル/リットル以上用いられるが、余りに多量添加すると
現像液中の銀汚れの原因になるので、上限は1.2モル
/リットルとするのが望ましい。特に好ましくは、0.
35〜0.7モル/リットルである。ジヒドロキシベン
ゼン系現像主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用してア
スコルビン酸誘導体を少量使用しても良い。アスコルビ
ン酸誘導体としては、アスコルビン酸、その立体異性体
であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩(ナトリウ
ム、カリウム塩)などがあるが、エリソルビン酸ナトリ
ウムを用いることが素材コストの点で好ましい。添加量
はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で
0.03〜0.12の範囲が好ましく、特に好ましくは
0.05〜0.10の範囲である。保恒剤としてアスコ
ルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素化
合物を含まないことが好ましい。
【0152】pHの設定のために用いるアルカリ剤には
通常の水溶性無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム)を用いることができる。上記の以外に用いられる添
加剤としては、臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現
像抑制剤;エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアミドの
如き有機溶剤;ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等のアルカノールアミン、イミダゾール又はその誘
導体等の現像促進剤;メルカプト系化合物、インダゾー
ル系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミ
ダゾール系化合物をカブリ防止剤又は黒ポツ(black pe
pper) 防止剤として含んでもよい。具体的には、5−ニ
トロインダゾール、5−p−ニトロベンゾイルアミノイ
ンダゾール、1−メチル−5−ニトロインダゾール、6
−ニトロインダゾール、3−メチル−5−ニトロインダ
ゾール、5−ニトロベンズイミダゾール、2−イソプロ
ピル−5−ニトロベンズイミダゾール、5−ニトロベン
ズトリアゾール、4−〔(2−メルカプト−1,3,4
−チアジアゾール−2−イル)チオ〕ブタンスルホン酸
ナトリウム、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール
−2−チオール、メチルベンゾトリアゾール、5−メチ
ルベンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾ
ールなどを挙げることができる。これらカブリ防止剤の
量は、通常、現像液1リットル当り0.01〜10mmol
であり、より好ましくは0.1〜2mmolである。
通常の水溶性無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム)を用いることができる。上記の以外に用いられる添
加剤としては、臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現
像抑制剤;エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアミドの
如き有機溶剤;ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等のアルカノールアミン、イミダゾール又はその誘
導体等の現像促進剤;メルカプト系化合物、インダゾー
ル系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミ
ダゾール系化合物をカブリ防止剤又は黒ポツ(black pe
pper) 防止剤として含んでもよい。具体的には、5−ニ
トロインダゾール、5−p−ニトロベンゾイルアミノイ
ンダゾール、1−メチル−5−ニトロインダゾール、6
−ニトロインダゾール、3−メチル−5−ニトロインダ
ゾール、5−ニトロベンズイミダゾール、2−イソプロ
ピル−5−ニトロベンズイミダゾール、5−ニトロベン
ズトリアゾール、4−〔(2−メルカプト−1,3,4
−チアジアゾール−2−イル)チオ〕ブタンスルホン酸
ナトリウム、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール
−2−チオール、メチルベンゾトリアゾール、5−メチ
ルベンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾ
ールなどを挙げることができる。これらカブリ防止剤の
量は、通常、現像液1リットル当り0.01〜10mmol
であり、より好ましくは0.1〜2mmolである。
【0153】更に本発明の現像液中には各種の有機・無
機のキレート剤を併用することができる。無機キレート
剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタ
リン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、有機
キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリ
カルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸および
有機ホスホノカルボン酸を用いることができる。有機カ
ルボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コハ
ク酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン
酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マ
レイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等
を挙げることができるが、これらに限定されるものでは
ない。
機のキレート剤を併用することができる。無機キレート
剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタ
リン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、有機
キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリ
カルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸および
有機ホスホノカルボン酸を用いることができる。有機カ
ルボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コハ
ク酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン
酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マ
レイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等
を挙げることができるが、これらに限定されるものでは
ない。
【0154】アミノポリカルボン酸としては、イミノ二
酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチ
レンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1,2−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノ−2
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四
酢酸、その他特開昭52−25632号、同55−67
747号、同57−102624号、及び特公昭53−
40900号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。
酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチ
レンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1,2−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノ−2
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四
酢酸、その他特開昭52−25632号、同55−67
747号、同57−102624号、及び特公昭53−
40900号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。
【0155】有機ホスホン酸としては、米国特許321
4454号、同3794591号、及び西独特許公開2
227639号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジ
ホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure) 第181巻、Item 18170(1979
年5月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホス
ホン酸としては、アミノトリス(メチレンホスホン
酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー18170号、特開
昭57−208554号、同54−61125号、同5
5−29883号及び同56−97347号等に記載の
化合物を挙げることができる。
4454号、同3794591号、及び西独特許公開2
227639号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジ
ホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure) 第181巻、Item 18170(1979
年5月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホス
ホン酸としては、アミノトリス(メチレンホスホン
酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー18170号、特開
昭57−208554号、同54−61125号、同5
5−29883号及び同56−97347号等に記載の
化合物を挙げることができる。
【0156】有機ホスホノカルボン酸としては、特開昭
52−102726号、同53−42730号、同54
−121127号、同55−4024号、同55−40
25号、同55−126241号、同55−65955
号、同55−65956号、及び前述のリサーチ・ディ
スクロージャー18170号等に記載の化合物を挙げる
ことができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩や
アンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレート
剤の添加量としては、現像液1リットル当り好ましく
は、1×10-4〜1×10-1モル、より好ましくは1×
10-3〜1×10-2モルである。
52−102726号、同53−42730号、同54
−121127号、同55−4024号、同55−40
25号、同55−126241号、同55−65955
号、同55−65956号、及び前述のリサーチ・ディ
スクロージャー18170号等に記載の化合物を挙げる
ことができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩や
アンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレート
剤の添加量としては、現像液1リットル当り好ましく
は、1×10-4〜1×10-1モル、より好ましくは1×
10-3〜1×10-2モルである。
【0157】さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として特
開昭56−24347号、特公昭56−46585号、
特公昭62−2849号、特開平4−362942号記
載の化合物を用いることができる。また、現像ムラ防止
剤として特開昭62−212651号記載の化合物、溶
解助剤として特開昭61−267759号記載の化合物
を用いることができる。さらに必要に応じて色調剤、界
面活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでもよい。
開昭56−24347号、特公昭56−46585号、
特公昭62−2849号、特開平4−362942号記
載の化合物を用いることができる。また、現像ムラ防止
剤として特開昭62−212651号記載の化合物、溶
解助剤として特開昭61−267759号記載の化合物
を用いることができる。さらに必要に応じて色調剤、界
面活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでもよい。
【0158】本発明に用いられる現像液には、緩衝剤と
して炭酸塩、特開昭62−186259号に記載のホウ
酸、特開昭60−93433号に記載の糖類(例えばサ
ッカロース)、オキシム類(例えばアセトオキシム)、
フェノール類(例えば5−スルホサリチル酸)、第3リ
ン酸塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩)などが用い
られ、好ましくは炭酸塩、ホウ酸が用いられる 現像処理温度及び時間は相互に関係し、全処理時間との
関係において決定されるが、一般に現像温度は約20℃
〜約50℃、好ましくは25〜45℃で、現像時間は5
秒〜2分、好ましくは7秒/1分30秒である。ハロゲ
ン化銀黒白写真感光材料1平方メートルを処理する際
に、現像液の補充液量は500ミリリットル以下、好ま
しくは400ミリリットル以下である。処理液の搬送コ
スト、包装材料コスト、省スペース等の目的で、処理液
を濃縮化し、使用時に希釈して用いるようにすることは
好ましいことである。現像液の濃縮化のためには、現像
液に含まれる塩成分をカリウム塩化することが有効であ
る。
して炭酸塩、特開昭62−186259号に記載のホウ
酸、特開昭60−93433号に記載の糖類(例えばサ
ッカロース)、オキシム類(例えばアセトオキシム)、
フェノール類(例えば5−スルホサリチル酸)、第3リ
ン酸塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩)などが用い
られ、好ましくは炭酸塩、ホウ酸が用いられる 現像処理温度及び時間は相互に関係し、全処理時間との
関係において決定されるが、一般に現像温度は約20℃
〜約50℃、好ましくは25〜45℃で、現像時間は5
秒〜2分、好ましくは7秒/1分30秒である。ハロゲ
ン化銀黒白写真感光材料1平方メートルを処理する際
に、現像液の補充液量は500ミリリットル以下、好ま
しくは400ミリリットル以下である。処理液の搬送コ
スト、包装材料コスト、省スペース等の目的で、処理液
を濃縮化し、使用時に希釈して用いるようにすることは
好ましいことである。現像液の濃縮化のためには、現像
液に含まれる塩成分をカリウム塩化することが有効であ
る。
【0159】定着工程で使用する定着液は、チオ硫酸ナ
トリウム、チオ硫酸アンモニウム、必要により酒石酸、
クエン酸、グルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢酸、5−ス
ルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、タイロン、エチレ
ンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ニト
リロ三酢酸これらの塩を含む水溶液である。近年の環境
保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が好ましい。
本発明に用いられる定着液の定着剤としてはチオ硫酸ナ
トリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであり、定着速度
の点からはチオ硫酸アンモニウムが好ましいが、近年の
環境保護の観点からチオ硫酸ナトリウムが使われても良
い。これら既知の定着剤の使用量は適宜変えることがで
き、一般には約0.1〜約2モル/リットルである。特
に好ましくは、0.2〜1.5モル/リットルである。
定着液には所望により、硬膜剤(例えば水溶性アルミニ
ウム化合物)、保恒剤(例えば、亜硫酸塩、重亜硫酸
塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸)、pH調整剤(例えば、
アンモニア、硫酸)、キレート剤、界面活性剤、湿潤
剤、定着促進剤を含むことができる。界面活性剤として
は、例えば硫酸化物、スルフォン化物などのアニオン界
面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開昭57−6
740号公報記載の両性界面活性剤などが挙げられる。
また、公知の消泡剤を添加してもよい。湿潤剤として
は、例えばアルカノールアミン、アルキレングリコール
なとが挙げられる。定着促進剤としては、例えば特公昭
45−35754号、同58−122535号、同58
−122536号各公報記載のチオ尿素誘導体、分子内
に3重結合を持つアルコール、米国特許第412645
9号記載のチオエーテル化合物、特開平4−22986
0号記載のメソイオン化合物などが挙げられ、また、特
開平2−44355号記載の化合物を用いてもよい。ま
た、pH緩衝剤としては、例えば酢酸、リンゴ酸、こはく
酸、酒石酸、クエン酸シュウ酸、マレイン酸、グリコー
ル酸、アジピン酸などの有機酸、ホウ酸、リン酸塩、亜
硫酸塩などの無機緩衝剤が使用できる。好ましいものと
して酢酸、酒石酸、亜硫酸塩が用いられる。ここでpH
緩衝剤は、現像液の持ち込みによる定着剤のpH上昇を防
ぐ目的で使用され、0.01〜1.0モル/リットル、
より好ましくは0.02〜0.6モル/リットル程度用
いる。定着液のpHは4.0〜6.5が好ましく、特に
好ましくは4.5〜6.0の範囲である。また、色素溶
出促進剤として、特開昭64−4739号記載の化合物
を用いることもできる。
トリウム、チオ硫酸アンモニウム、必要により酒石酸、
クエン酸、グルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢酸、5−ス
ルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、タイロン、エチレ
ンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ニト
リロ三酢酸これらの塩を含む水溶液である。近年の環境
保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が好ましい。
本発明に用いられる定着液の定着剤としてはチオ硫酸ナ
トリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであり、定着速度
の点からはチオ硫酸アンモニウムが好ましいが、近年の
環境保護の観点からチオ硫酸ナトリウムが使われても良
い。これら既知の定着剤の使用量は適宜変えることがで
き、一般には約0.1〜約2モル/リットルである。特
に好ましくは、0.2〜1.5モル/リットルである。
定着液には所望により、硬膜剤(例えば水溶性アルミニ
ウム化合物)、保恒剤(例えば、亜硫酸塩、重亜硫酸
塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸)、pH調整剤(例えば、
アンモニア、硫酸)、キレート剤、界面活性剤、湿潤
剤、定着促進剤を含むことができる。界面活性剤として
は、例えば硫酸化物、スルフォン化物などのアニオン界
面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開昭57−6
740号公報記載の両性界面活性剤などが挙げられる。
また、公知の消泡剤を添加してもよい。湿潤剤として
は、例えばアルカノールアミン、アルキレングリコール
なとが挙げられる。定着促進剤としては、例えば特公昭
45−35754号、同58−122535号、同58
−122536号各公報記載のチオ尿素誘導体、分子内
に3重結合を持つアルコール、米国特許第412645
9号記載のチオエーテル化合物、特開平4−22986
0号記載のメソイオン化合物などが挙げられ、また、特
開平2−44355号記載の化合物を用いてもよい。ま
た、pH緩衝剤としては、例えば酢酸、リンゴ酸、こはく
酸、酒石酸、クエン酸シュウ酸、マレイン酸、グリコー
ル酸、アジピン酸などの有機酸、ホウ酸、リン酸塩、亜
硫酸塩などの無機緩衝剤が使用できる。好ましいものと
して酢酸、酒石酸、亜硫酸塩が用いられる。ここでpH
緩衝剤は、現像液の持ち込みによる定着剤のpH上昇を防
ぐ目的で使用され、0.01〜1.0モル/リットル、
より好ましくは0.02〜0.6モル/リットル程度用
いる。定着液のpHは4.0〜6.5が好ましく、特に
好ましくは4.5〜6.0の範囲である。また、色素溶
出促進剤として、特開昭64−4739号記載の化合物
を用いることもできる。
【0160】本発明の定着液中の硬膜剤としては、水溶
性アルミニウム塩、クロム塩がある。好ましい化合物は
水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。好まし
い添加量は0.01モル〜0.2モル/リットル、さら
に好ましくは0.03〜0.08モル/リットルであ
る。定着温度は、約20℃〜約50℃、好ましくは25
〜45℃で、定着時間は5秒〜1分、好ましくは7秒〜
50秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に
対して600ml/m2以下であり、特に500ml/m2以下
が好ましい。
性アルミニウム塩、クロム塩がある。好ましい化合物は
水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。好まし
い添加量は0.01モル〜0.2モル/リットル、さら
に好ましくは0.03〜0.08モル/リットルであ
る。定着温度は、約20℃〜約50℃、好ましくは25
〜45℃で、定着時間は5秒〜1分、好ましくは7秒〜
50秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に
対して600ml/m2以下であり、特に500ml/m2以下
が好ましい。
【0161】現像、定着処理が済んだ感光材料は、次い
で水洗または安定化処理される。水洗または安定化処理
は、水洗水量は通常ハロゲン化銀感光材料1m2当り、2
0リットル以下で行われ、3リットル以下の補充量(0
も含む、すなわちため水水洗)で行うこともできる。す
なわち、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式(例えば2
段、3段など)が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に正常な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなさ
れる。水洗を少量の水で行う場合は、特開昭63−18
350号、同62−287252号などに記載のスクイ
ズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設ける
ことがより好ましい。あるいは、また、少量水洗時に問
題となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加やフィ
ルター濾過を組み合わせてもよい。更に、本発明の方法
で水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応
じて補充することによって生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバーフロー液の一部又は全部は特開昭60−23
5133号に記載されているようにその前の処理工程で
ある定着能を有する処理液に利用することもできる。ま
た、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および/また
はスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理された
フィルムに転写することを防止するために水溶性界面活
性剤や消泡剤を添加してもよい。また、感光材料から溶
出した染料による汚染防止に、特開昭63−16345
6号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。ま
た、前記水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、
その例として特開平2−201357号、同2−132
435号、同1−102553号、特開昭46−444
46号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴
として使用してもよい。この安定浴にも必要に応じてア
ンモニウム化合物、Bi、Alなどの金属化合物、蛍光
増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜剤、殺菌
剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加え
ることもできる。水洗工程もしくは安定化工程に用いら
れる水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロ
ゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤(オゾン、過酸化水
素、塩素酸塩など)等によって殺菌された水を使用する
ことが好ましいし、また、特開平4−39652号、特
開平5−241309号記載の化合物を含む水洗水を使
用してもよい。水洗または安定浴温度及び時間は0〜5
0℃、5秒〜2分が好ましい。
で水洗または安定化処理される。水洗または安定化処理
は、水洗水量は通常ハロゲン化銀感光材料1m2当り、2
0リットル以下で行われ、3リットル以下の補充量(0
も含む、すなわちため水水洗)で行うこともできる。す
なわち、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式(例えば2
段、3段など)が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に正常な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなさ
れる。水洗を少量の水で行う場合は、特開昭63−18
350号、同62−287252号などに記載のスクイ
ズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設ける
ことがより好ましい。あるいは、また、少量水洗時に問
題となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加やフィ
ルター濾過を組み合わせてもよい。更に、本発明の方法
で水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応
じて補充することによって生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバーフロー液の一部又は全部は特開昭60−23
5133号に記載されているようにその前の処理工程で
ある定着能を有する処理液に利用することもできる。ま
た、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および/また
はスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理された
フィルムに転写することを防止するために水溶性界面活
性剤や消泡剤を添加してもよい。また、感光材料から溶
出した染料による汚染防止に、特開昭63−16345
6号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。ま
た、前記水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、
その例として特開平2−201357号、同2−132
435号、同1−102553号、特開昭46−444
46号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴
として使用してもよい。この安定浴にも必要に応じてア
ンモニウム化合物、Bi、Alなどの金属化合物、蛍光
増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜剤、殺菌
剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加え
ることもできる。水洗工程もしくは安定化工程に用いら
れる水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロ
ゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤(オゾン、過酸化水
素、塩素酸塩など)等によって殺菌された水を使用する
ことが好ましいし、また、特開平4−39652号、特
開平5−241309号記載の化合物を含む水洗水を使
用してもよい。水洗または安定浴温度及び時間は0〜5
0℃、5秒〜2分が好ましい。
【0162】本発明に用いられる処理液は特開昭61−
73147号に記載された酸素透過性の低い包材で保管
することが好ましい。補充量を低減する場合には処理槽
の空気との接触面積を小さくすることによって液の蒸
発、空気酸化を防止することが好ましい。ローラー搬送
型の自動現像機については米国特許第3025779号
明細書、同第3545971号明細書などに記載されて
おり、本明細書においては単にローラー搬送型プロセッ
サーとして言及する。ローラー搬送型プロセッサーは現
像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなっており、本発
明の方法も、他の工程(例えば、停止工程)を除外しな
いが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。水洗工
程の代わりに安定工程による四工程でも構わない。
73147号に記載された酸素透過性の低い包材で保管
することが好ましい。補充量を低減する場合には処理槽
の空気との接触面積を小さくすることによって液の蒸
発、空気酸化を防止することが好ましい。ローラー搬送
型の自動現像機については米国特許第3025779号
明細書、同第3545971号明細書などに記載されて
おり、本明細書においては単にローラー搬送型プロセッ
サーとして言及する。ローラー搬送型プロセッサーは現
像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなっており、本発
明の方法も、他の工程(例えば、停止工程)を除外しな
いが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。水洗工
程の代わりに安定工程による四工程でも構わない。
【0163】現像液や定着液の組成から水を除いた成分
を固形にして供給し、使用に当たって所定量の水で溶解
して現像液や定着液として使用してもよい。このような
形態の処理剤は固形処理剤と呼ばれる。固形処理剤は、
粉末、錠剤、顆粒、粉末、塊状叉はペースト状のものが
用いられ、好ましい形態は、特開昭61−259921
号記載の形態あるいは錠剤である。錠剤の製造方法は、
例えば特開昭51−61837号、同54−15503
8号、同52−88025号、英国特許1,213,8
08号等に記載される一般的な方法で製造でき、更に顆
粒処理剤は、例えば特開平2−109042号、同2−
109043号、同3−39735号及び同3−397
39号等に記載される一般的な方法で製造できる。更に
又、粉末処理剤は、例えば特開昭54−133332
号、英国特許725,892号、同729,862号及
びドイツ特許3,733,861号等に記載されるが如
き一般的な方法で製造できる。
を固形にして供給し、使用に当たって所定量の水で溶解
して現像液や定着液として使用してもよい。このような
形態の処理剤は固形処理剤と呼ばれる。固形処理剤は、
粉末、錠剤、顆粒、粉末、塊状叉はペースト状のものが
用いられ、好ましい形態は、特開昭61−259921
号記載の形態あるいは錠剤である。錠剤の製造方法は、
例えば特開昭51−61837号、同54−15503
8号、同52−88025号、英国特許1,213,8
08号等に記載される一般的な方法で製造でき、更に顆
粒処理剤は、例えば特開平2−109042号、同2−
109043号、同3−39735号及び同3−397
39号等に記載される一般的な方法で製造できる。更に
又、粉末処理剤は、例えば特開昭54−133332
号、英国特許725,892号、同729,862号及
びドイツ特許3,733,861号等に記載されるが如
き一般的な方法で製造できる。
【0164】固形処理剤の嵩密度は、その溶解性の観点
と、本発明の目的の効果の点から、0.5〜6.0g/
cm3 のものが好ましく、特に1.0〜5.0g/cm3 の
ものが好ましい。
と、本発明の目的の効果の点から、0.5〜6.0g/
cm3 のものが好ましく、特に1.0〜5.0g/cm3 の
ものが好ましい。
【0165】固形処理剤を調製するに当たっては、処理
剤を構成する物質の中の、少なくとも2種の相互に反応
性の粒状物質を、反応性物質に対して不活性な物質によ
る少なくとも一つの介在分離層によって分離された層に
なるように層状に反応性物質を置き、真空包装可能な袋
を包材とし、袋内から排気しシールする方法を採用して
もよい。ここにおいて、不活性という言葉は物質が互い
に物理的に接触されたときにパッケージ内の通常の状態
下で反応しないこと、叉は何らかの反応があっても著し
くないことを意味する。不活性物質は、二つの相互に反
応性の物質に対して不活性であることは別にして、二つ
の反応性の物質が意図される使用において不活発であれ
ばよい。さらに不活性物質は二つの反応性物質と同時に
用いられる物質である。例えば、現像液においてハイド
ロキノンと水酸化ナトリウムは直接接触すると反応して
しまうので、真空包装においてハイドロキノンと水酸化
ナトリウムの間に分別層として亜硫酸ナトリウム等を使
うことで長期間パッケージ中に保存できる。これらの真
空包装材料の包材として用いられるのは不活性なプラス
チックフィルム、プラスチック物質と金属箔のラミネー
トから作られたバッグである。
剤を構成する物質の中の、少なくとも2種の相互に反応
性の粒状物質を、反応性物質に対して不活性な物質によ
る少なくとも一つの介在分離層によって分離された層に
なるように層状に反応性物質を置き、真空包装可能な袋
を包材とし、袋内から排気しシールする方法を採用して
もよい。ここにおいて、不活性という言葉は物質が互い
に物理的に接触されたときにパッケージ内の通常の状態
下で反応しないこと、叉は何らかの反応があっても著し
くないことを意味する。不活性物質は、二つの相互に反
応性の物質に対して不活性であることは別にして、二つ
の反応性の物質が意図される使用において不活発であれ
ばよい。さらに不活性物質は二つの反応性物質と同時に
用いられる物質である。例えば、現像液においてハイド
ロキノンと水酸化ナトリウムは直接接触すると反応して
しまうので、真空包装においてハイドロキノンと水酸化
ナトリウムの間に分別層として亜硫酸ナトリウム等を使
うことで長期間パッケージ中に保存できる。これらの真
空包装材料の包材として用いられるのは不活性なプラス
チックフィルム、プラスチック物質と金属箔のラミネー
トから作られたバッグである。
【0166】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
個所に記載された物を好ましく用いることが出来る。 項 目 該 当 箇 所 1)界面活性剤、帯電防 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目 止剤 から同右下欄7行目及び特開平2−18542号 公報第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄1 8行目。特願平6−47961号に記載の一般式 (II)の化合物 2)カブリ防止剤、安定 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1 剤 9行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄 1行目から5行目。さらに特開平1−23753 8号公報に記載のチオスルフィン酸化合物。 3)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄1 2行目から同20行目。 4)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第8頁右下欄5行 目から同第19頁左上欄1行目及び同2−553 49号公報第8頁右下欄13行目から同第11頁 左上欄8行目。 5)マット剤、滑り剤、 特開平2−103536号第19頁左上欄15行 可塑剤 から同第19頁右上欄15行目。 6)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5 行目から同17行目。 7)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1 行目から同18行目、同2−30042号公報第 4頁右上欄1行目から第6頁右上欄5行目。さら に特開平2−294638号および同5−113 82号公報に記載の固体染料。 8)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目 から20行目。 9) 黒ポツ防止剤 米国特許第4,956,257号および特開平1 −118832号公報に記載の化合物。 10) レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で 表わされる化合物(特に化合物例1ないし50) 、同3−174143号公報第3頁ないし第20 頁に記載の一般式(R−1)、(R−2)、(R −3)、化合物例1ないし75、さらに特願平3 −69466号、特開平4−278939号に記 載の化合物。 11) モノメチン化合物 特開平2−287532号公報記載の一般式(II )の化合物(特に化合物例II−1ないしII−26 )。 12) ジヒドロキシベンゼ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から ン類 第12頁左下欄の記載、および欧州特許第452 ,772A号公報に記載の化合物。
等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該当
個所に記載された物を好ましく用いることが出来る。 項 目 該 当 箇 所 1)界面活性剤、帯電防 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目 止剤 から同右下欄7行目及び特開平2−18542号 公報第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄1 8行目。特願平6−47961号に記載の一般式 (II)の化合物 2)カブリ防止剤、安定 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1 剤 9行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄 1行目から5行目。さらに特開平1−23753 8号公報に記載のチオスルフィン酸化合物。 3)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄1 2行目から同20行目。 4)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第8頁右下欄5行 目から同第19頁左上欄1行目及び同2−553 49号公報第8頁右下欄13行目から同第11頁 左上欄8行目。 5)マット剤、滑り剤、 特開平2−103536号第19頁左上欄15行 可塑剤 から同第19頁右上欄15行目。 6)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5 行目から同17行目。 7)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1 行目から同18行目、同2−30042号公報第 4頁右上欄1行目から第6頁右上欄5行目。さら に特開平2−294638号および同5−113 82号公報に記載の固体染料。 8)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目 から20行目。 9) 黒ポツ防止剤 米国特許第4,956,257号および特開平1 −118832号公報に記載の化合物。 10) レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で 表わされる化合物(特に化合物例1ないし50) 、同3−174143号公報第3頁ないし第20 頁に記載の一般式(R−1)、(R−2)、(R −3)、化合物例1ないし75、さらに特願平3 −69466号、特開平4−278939号に記 載の化合物。 11) モノメチン化合物 特開平2−287532号公報記載の一般式(II )の化合物(特に化合物例II−1ないしII−26 )。 12) ジヒドロキシベンゼ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から ン類 第12頁左下欄の記載、および欧州特許第452 ,772A号公報に記載の化合物。
【0167】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【0168】本発明の造核剤の比較化合物として、下記
の造核剤を使用した。
の造核剤を使用した。
【0169】
【化54】
【0170】実施例1
<ハロゲン化銀写真感光材料の作成>
乳剤調整
以下の方法で乳剤Aを調整した。
〔乳剤A〕硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリ
ウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当するK
3 IrCl6 と2.0×10-7モルに相当するK2 Rh
(H2 O)Cl5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリ
ウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェ
ット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm、塩
化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製した。
ウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当するK
3 IrCl6 と2.0×10-7モルに相当するK2 Rh
(H2 O)Cl5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリ
ウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェ
ット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm、塩
化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製した。
【0171】その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた
後、pH6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当た
り2mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60゜Cで最適感度になるように化学増感し
た。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加
え、さらに防腐剤としてプロキセル100mgを加え
た。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.25μ
m、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子であ
った。(変動係数10%)
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた
後、pH6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当た
り2mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60゜Cで最適感度になるように化学増感し
た。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加
え、さらに防腐剤としてプロキセル100mgを加え
た。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.25μ
m、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子であ
った。(変動係数10%)
【0172】塗布試料の作成
塩化ビニリデンを含む防湿層下塗りを有するポリエチレ
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、UL層、EM層、PC層、OC層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、UL層、EM層、PC層、OC層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。
【0173】(UL層)ゼラチン水溶液に、ゼラチンに
対し30wt%のポリエチルアクリレートの分散物を添
加し、ゼラチン0.5g/m2 になるように塗布した。
対し30wt%のポリエチルアクリレートの分散物を添
加し、ゼラチン0.5g/m2 になるように塗布した。
【0174】(EM層)上記乳剤Aに、増感色素として
下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4モ
ル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モル
あたり3×10-4モルの下記(a)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(b)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるトリアジ
ン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキ
シキノリン、下記化合物(p)を5×10-4モル、造核
促進剤として下記化合物(A)を4×10-4モルを添加
した。さらに、ハイドロキノン100mg、N−オレイ
ル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg/m2
塗布されるように添加した。次に表9に示す造核剤(ヒ
ドラジン誘導体)を1×10-5 mol/m2、(d)で示さ
れる水溶性ラテックスを200mg/m2 、ポリエチル
アクリレートの分散物を200mg/m2 、メチルアク
リレートと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸ナトリウム塩と2−アセトアセトキシエチルメ
タクリレートのラテックス共重合体(重量比88:5:
7)を200mg/m2 、平均粒径0.02μmのコロ
イダルシリカを200mg/m2 、さらに硬膜剤として
1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノールを20
0mg/m2 を加えた。溶液のpHは酢酸を用いて5.
65に調製した。それらを塗布銀量3.5g/m2 にな
るように塗布した。
下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4モ
ル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モル
あたり3×10-4モルの下記(a)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(b)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるトリアジ
ン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキ
シキノリン、下記化合物(p)を5×10-4モル、造核
促進剤として下記化合物(A)を4×10-4モルを添加
した。さらに、ハイドロキノン100mg、N−オレイ
ル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg/m2
塗布されるように添加した。次に表9に示す造核剤(ヒ
ドラジン誘導体)を1×10-5 mol/m2、(d)で示さ
れる水溶性ラテックスを200mg/m2 、ポリエチル
アクリレートの分散物を200mg/m2 、メチルアク
リレートと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸ナトリウム塩と2−アセトアセトキシエチルメ
タクリレートのラテックス共重合体(重量比88:5:
7)を200mg/m2 、平均粒径0.02μmのコロ
イダルシリカを200mg/m2 、さらに硬膜剤として
1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノールを20
0mg/m2 を加えた。溶液のpHは酢酸を用いて5.
65に調製した。それらを塗布銀量3.5g/m2 にな
るように塗布した。
【0175】(PC層)ゼラチン水溶液にゼラチンに対
して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、
下記界面活性剤(w)を5mg/m2 、1,5−ジヒド
ロキシ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2 塗布
されるように添加し、ゼラチン0.5g/m2 になるよ
うに塗布した。
して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、
下記界面活性剤(w)を5mg/m2 、1,5−ジヒド
ロキシ−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2 塗布
されるように添加し、ゼラチン0.5g/m2 になるよ
うに塗布した。
【0176】(OC層)ゼラチン0.5g/m2 、平均
粒子サイズ約3.5μmの不定形なSiO2 マット剤4
0mg/m2 、メタノールシリカ0.1g/m2 、ポリ
アクリルアミド100mg/m2 とシリコーンオイル2
0mg/m2 および塗布助剤として下記構造式(e)で
示されるフッ素界面活性剤5mg/m2 とドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m2 を塗布し
た。
粒子サイズ約3.5μmの不定形なSiO2 マット剤4
0mg/m2 、メタノールシリカ0.1g/m2 、ポリ
アクリルアミド100mg/m2 とシリコーンオイル2
0mg/m2 および塗布助剤として下記構造式(e)で
示されるフッ素界面活性剤5mg/m2 とドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m2 を塗布し
た。
【0177】
【化55】
【0178】これらの塗布試料は下記組成のバック層お
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2
【0179】
【化56】
【0180】
SnO2 /Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μm)
200mg/m2
染料 染料〔a〕、染料〔b〕、染料〔c〕の混合物
染料〔a〕 70mg/m2
染料〔b〕 70mg/m2
染料〔c〕 90mg/m2
【0181】
【化57】
【0182】
〔バック保護層〕
ゼラチン 0.8mg/m2
ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2
p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2
酢酸ナトリウム 40mg/m2
【0183】<写真性能の評価>
(1) 露光、現像処理
上記の試料を488nmにピークを持つ干渉フィルター
を介し、ステップウェッジを通して発光時間10-5se
cのキセノンフラッシュ光で露光し、下記組成の現像液
Aを用いて35℃で30秒間現像した後、定着、水洗、
乾燥処理を行った。
を介し、ステップウェッジを通して発光時間10-5se
cのキセノンフラッシュ光で露光し、下記組成の現像液
Aを用いて35℃で30秒間現像した後、定着、水洗、
乾燥処理を行った。
【0184】
現像液A
水酸化カリウム 35.0g
ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g
炭酸カリウム 12.0g
メタ重亜硫酸ナトリウム 40.0g
臭化カリウム 3.0g
ハイドロキノン 25.0g
5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g
4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン 0.45g
2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ
−4−(1H)−キナゾリノン 0.04g
2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
ナトリウム 0.15g
エリソルビン酸ナトリウム 3.0g
水酸化カリウムを加えて、水を加えて1リットルとしp
Hを10.5に合わせる。
Hを10.5に合わせる。
【0185】定着液は、下記処方の物を用いた。
(定着液処方)
チオ硫酸アンモニウム 359.1ml
エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 2.26g
チオ硫酸ナトリウム 5水塩 32.8g
亜硫酸ナトリウム 64.8g
NaOH 37.2g
氷酢酸 87.3g
酒石酸 8.76g
グルコン酸ナトリウム 6.6g
硫酸アルミニウム 25.3g
pH(硫酸または水酸化ナトリウムで調整) 4.85
水を加えて 1リットル
【0186】(2) 画像のコントラストの評価
画像のコントラストを示す指標(ガンマ)としては、特
性曲線のfog+濃度0.1の点からfog+濃度3.
0の点を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値として
表した。すなわち、ガンマ=(3.0−0.1)/〔l
og(濃度3.0を与える露光量)−log(濃度0.
1を与える露光量)〕であり、ガンマ値は大きいほど硬
調な写真特性であることを示している。グラフィックア
ーツ用感材としては、ガンマは10以上であることが好
ましく、15以上であることがさらに好ましい。
性曲線のfog+濃度0.1の点からfog+濃度3.
0の点を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値として
表した。すなわち、ガンマ=(3.0−0.1)/〔l
og(濃度3.0を与える露光量)−log(濃度0.
1を与える露光量)〕であり、ガンマ値は大きいほど硬
調な写真特性であることを示している。グラフィックア
ーツ用感材としては、ガンマは10以上であることが好
ましく、15以上であることがさらに好ましい。
【0187】(3) 保存性の評価
塗布試料を60℃65%の条件下に3日間放置した。
造核剤残存率の測定
上記試料および塗布直後の試料から造核剤を有機溶媒で
抽出し、HPLCを用いて定量した。 造核剤残存率(%) =〔(65℃,65% ,3 日経時試料から抽
出された造核剤量)/(塗布直後の試料から抽出された
造核剤量)〕×100 感度変化 上記試料および塗布直後の試料について現像処理を行い
感度を測定し、感度変化(△S1.5)を算出した。 感度(S1.5);濃度1.5を与える露光量の対数値→値
が小さい程高感度である。 △S1.5 =(塗布直後試料のS1.5)−(65℃,65% ,3日
経時試料S1.5)→値が小さい程、減感傾向にある。
抽出し、HPLCを用いて定量した。 造核剤残存率(%) =〔(65℃,65% ,3 日経時試料から抽
出された造核剤量)/(塗布直後の試料から抽出された
造核剤量)〕×100 感度変化 上記試料および塗布直後の試料について現像処理を行い
感度を測定し、感度変化(△S1.5)を算出した。 感度(S1.5);濃度1.5を与える露光量の対数値→値
が小さい程高感度である。 △S1.5 =(塗布直後試料のS1.5)−(65℃,65% ,3日
経時試料S1.5)→値が小さい程、減感傾向にある。
【0188】
【表9】
【0189】<結果>表9から、比較化合物A、Bは保
存性は良好であるが、造核活性が低く、10以上のガン
マを得ることができない。一方、比較化合物Cは高ガン
マを得ることができるが、保存性が悪く、実用上問題と
なる。本発明の造核剤を用いることにより、高ガンマで
保存性の良好なアルゴンレーザースキャナー用感材を得
ることができた。
存性は良好であるが、造核活性が低く、10以上のガン
マを得ることができない。一方、比較化合物Cは高ガン
マを得ることができるが、保存性が悪く、実用上問題と
なる。本発明の造核剤を用いることにより、高ガンマで
保存性の良好なアルゴンレーザースキャナー用感材を得
ることができた。
【0190】実施例2
<ハロゲン化銀写真感光材料の作成>
乳剤調整
以下の方法で乳剤Bを調整した。
〔乳剤B〕銀1モル当たり1mgの下記構造式のセレン増
感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60℃で最適感度になるように化学増感するこ
と以外は乳剤Aと同様に調整した。
感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60℃で最適感度になるように化学増感するこ
と以外は乳剤Aと同様に調整した。
【0191】
【化58】
【0192】塗布試料の作成
実施例1のEM層の増感色素の代わりに下記の化合物
(S−3)を銀1モルあたり2.1×10-4モル添加す
ること、EM層の乳剤として乳剤Bを使用したこと以外
は実施例1と同様にして試料を作成した。
(S−3)を銀1モルあたり2.1×10-4モル添加す
ること、EM層の乳剤として乳剤Bを使用したこと以外
は実施例1と同様にして試料を作成した。
【0193】
【化59】
【0194】<写真性能の評価>
(1) 露光、現像処理
上記の試料を633nmにピークを持つ干渉フィルター
を介し、ステップウェッジを通して発光時間10-6se
cのキセノンフラッシュ光で露光した。、実施例1に記
載の現像液Aを用いて35℃で30秒間現像をした後、
定着(実施例1と同じ)、水洗、乾燥処理を行った。
を介し、ステップウェッジを通して発光時間10-6se
cのキセノンフラッシュ光で露光した。、実施例1に記
載の現像液Aを用いて35℃で30秒間現像をした後、
定着(実施例1と同じ)、水洗、乾燥処理を行った。
【0195】画像のコントラスト、および保存性の評価
は、実施例1と同様に行った。
は、実施例1と同様に行った。
【0196】<結果>本発明の造核剤を用いることによ
り、高ガンマで保存性の良好なヘリウムネオンレーザー
スキャナー用感材を得ることができた。
り、高ガンマで保存性の良好なヘリウムネオンレーザー
スキャナー用感材を得ることができた。
【0197】実施例3
<ハロゲン化銀写真感光材料の作成>実施例2のEM層
の増感色素を下記の化合物(S−4)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
の増感色素を下記の化合物(S−4)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
【0198】
【化60】
【0199】<写真性能の評価>上記の試料を780n
mにピークを持つ干渉フィルターを介し、ステップウェ
ッジを通して発光時間10-6secのキセノンフラッシ
ュ光で露光した。、実施例1に記載の現像液Aを用いて
35℃で30秒間現像をした後、定着(実施例1と同
じ)、水洗、乾燥処理を行った。画像のコントラストの
評価、保存性の評価は、実施例2と同様に行った。 <結果>本発明の造核剤を用いることにより、高ガンマ
で保存性の良好な半導体レーザースキャナー用感材を得
ることができた。
mにピークを持つ干渉フィルターを介し、ステップウェ
ッジを通して発光時間10-6secのキセノンフラッシ
ュ光で露光した。、実施例1に記載の現像液Aを用いて
35℃で30秒間現像をした後、定着(実施例1と同
じ)、水洗、乾燥処理を行った。画像のコントラストの
評価、保存性の評価は、実施例2と同様に行った。 <結果>本発明の造核剤を用いることにより、高ガンマ
で保存性の良好な半導体レーザースキャナー用感材を得
ることができた。
【0200】実施例4
<ハロゲン化銀写真感光材料の作成>実施例2のEM層
の増感色素を下記の化合物(S−5)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。使用した造核
剤は表10に示した。
の増感色素を下記の化合物(S−5)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。使用した造核
剤は表10に示した。
【0201】
【化61】
【0202】<写真性能の評価>上記の試料をステップ
ウェッジを通して3200°Kのタングステン光で露光
した。実施例1に記載の現像液Aを用いて35℃で30
秒間現像した後、定着、水洗、乾燥処理を行った。定着
液としてはGR−F1(富士写真フイルム株式会社製)
を用いた。画像のコントラストの評価、保存性の評価
は、実施例2同様に行った。
ウェッジを通して3200°Kのタングステン光で露光
した。実施例1に記載の現像液Aを用いて35℃で30
秒間現像した後、定着、水洗、乾燥処理を行った。定着
液としてはGR−F1(富士写真フイルム株式会社製)
を用いた。画像のコントラストの評価、保存性の評価
は、実施例2同様に行った。
【0203】
【表10】
【0204】<結果>実施例2と同様に、本発明の造核
剤を用いることにより、高ガンマで保存性の良好な撮影
感材を得ることができた。
剤を用いることにより、高ガンマで保存性の良好な撮影
感材を得ることができた。
【0205】実施例5
特願平5−202547号の実施例5の感材処方を基本
にして、本発明のヒドラジン誘導体を添加した塗布試料
を作成し、実施例4と同様に現像処理、評価を行った。
本明細書の実施例4と同様に、造核剤を用いることによ
り高ガンマで保存性の良好な撮影感材を得ることができ
た。
にして、本発明のヒドラジン誘導体を添加した塗布試料
を作成し、実施例4と同様に現像処理、評価を行った。
本明細書の実施例4と同様に、造核剤を用いることによ
り高ガンマで保存性の良好な撮影感材を得ることができ
た。
【0206】実施例6
<乳剤調整>乳剤C:40℃に保った塩化ナトリウムお
よび銀1モルあたり3×10-5モルの下記化合物(f)
を含むpH=2.0の1.5%ゼラチン水溶液中に硝酸
銀水溶液と銀1モル当り3.5×10-5モルの(NH4)2Rh
(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液をダブルジェット
法により電位95mVにおいて3分30秒間で同時添加
し、芯部の粒子0.12μmを調製した。その後、硝酸
銀水溶液と金1モル当り10.5×10-5モルの(NH4)2
Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を前述と同様に
7分間で添加し、平均粒子サイズ0.15μmの塩化銀
立方体粒子を調製した。(変動係数12%) その後で4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,
7−テトラザインデンを銀1モル当たり1.5×10-3
モル添加した。さらにこの後、当業界でよく知られたフ
ロキュレーション法により水洗し、可溶性塩を除去した
のちゼラチンを加え、化学熟成せずに防腐剤として下記
化合物(g)とフェノキシエタノールを銀1モル当たり
各50mg、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
3×10-3モル添加した(pH=5.7、pAg=7.
5、Rh=6×10-5モル/Agモル)。
よび銀1モルあたり3×10-5モルの下記化合物(f)
を含むpH=2.0の1.5%ゼラチン水溶液中に硝酸
銀水溶液と銀1モル当り3.5×10-5モルの(NH4)2Rh
(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液をダブルジェット
法により電位95mVにおいて3分30秒間で同時添加
し、芯部の粒子0.12μmを調製した。その後、硝酸
銀水溶液と金1モル当り10.5×10-5モルの(NH4)2
Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を前述と同様に
7分間で添加し、平均粒子サイズ0.15μmの塩化銀
立方体粒子を調製した。(変動係数12%) その後で4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,
7−テトラザインデンを銀1モル当たり1.5×10-3
モル添加した。さらにこの後、当業界でよく知られたフ
ロキュレーション法により水洗し、可溶性塩を除去した
のちゼラチンを加え、化学熟成せずに防腐剤として下記
化合物(g)とフェノキシエタノールを銀1モル当たり
各50mg、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
3×10-3モル添加した(pH=5.7、pAg=7.
5、Rh=6×10-5モル/Agモル)。
【0207】<乳剤層塗布液の調整とその塗布>乳剤C
に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が1.1g/
m2、塗布銀量が2.5g/m2となるようにハロゲン化銀
乳剤層を塗布した。 4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7 −テトラザインデン 10mg/m2 N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩 35mg/m2 化合物(h) 10mg/m2 化合物(i) 20mg/m2 n−ブチルアクリレート/2−アセトアセトキシエチル メタクリレート/アクリル酸共重合体(89/8/3) 900mg/m2 化合物(j)(硬膜剤) 150mg/m2 さらに造核促進剤(k)を20mg/m2、造核剤を表3の
ように塗布されるよう添加した。
に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が1.1g/
m2、塗布銀量が2.5g/m2となるようにハロゲン化銀
乳剤層を塗布した。 4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7 −テトラザインデン 10mg/m2 N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩 35mg/m2 化合物(h) 10mg/m2 化合物(i) 20mg/m2 n−ブチルアクリレート/2−アセトアセトキシエチル メタクリレート/アクリル酸共重合体(89/8/3) 900mg/m2 化合物(j)(硬膜剤) 150mg/m2 さらに造核促進剤(k)を20mg/m2、造核剤を表3の
ように塗布されるよう添加した。
【0208】上記乳剤層の上層に、乳剤保護下層及び上
層を塗布した。
層を塗布した。
【0209】<乳剤保護下層塗布液の調整とその塗布>
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.7g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量 2700ppm) 0.7g/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 化合物(g) 5mg/m2 化合物(l) 10mg/m2 化合物(m) 20mg/m2
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.7g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量 2700ppm) 0.7g/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 化合物(g) 5mg/m2 化合物(l) 10mg/m2 化合物(m) 20mg/m2
【0210】<乳剤保護上層塗布液の調整とその塗布>
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.8g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量 2700ppm) 0.8g/m2 不定形シリカマット剤 40mg/m2 (平均粒径3.5μ、細孔直径25Å、表面積700m2/g) 不定形シリカマット剤 10mg/m2 (平均粒径2.5μ、細孔直径170Å、表面積300m2/g) N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリ シンポタジウム 5mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 30mg/m2 化合物(g) 5mg/m2 固体分散染料−G1 100mg/m2 固体分散染料−G2 50mg/m2
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.8g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量 2700ppm) 0.8g/m2 不定形シリカマット剤 40mg/m2 (平均粒径3.5μ、細孔直径25Å、表面積700m2/g) 不定形シリカマット剤 10mg/m2 (平均粒径2.5μ、細孔直径170Å、表面積300m2/g) N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリ シンポタジウム 5mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 30mg/m2 化合物(g) 5mg/m2 固体分散染料−G1 100mg/m2 固体分散染料−G2 50mg/m2
【0211】ついで、支持体の反対側の面に、下記に示
す導電層及びバック層を同時塗布した。
す導電層及びバック層を同時塗布した。
【0212】<導電層塗布液の調整とその塗布>ゼラチ
ン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が77
mg/m2となるように塗布した。 SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm) 77 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃 化合物(g) 7 〃
ン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が77
mg/m2となるように塗布した。 SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm) 77 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃 化合物(g) 7 〃
【0213】<バック層塗布液の調整とその塗布>ゼラ
チン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が
2.92g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量30ppm) 2.92g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ) 54mg/m2 化合物(h) 140 〃 化合物(r) 140 〃 化合物(s) 40 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃 化合物(t) 5 〃 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 5 〃 硫酸ナトリウム 50 〃 酢酸ナトリウム 85 〃
チン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が
2.92g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量30ppm) 2.92g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ) 54mg/m2 化合物(h) 140 〃 化合物(r) 140 〃 化合物(s) 40 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃 化合物(t) 5 〃 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 5 〃 硫酸ナトリウム 50 〃 酢酸ナトリウム 85 〃
【0214】(支持体、下塗層)二軸延伸したポリエチ
レンテレフタレート支持体(厚味100μm)の両面に
下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布した。 <下塗層1層> コアーシェル型塩化ビニリデン共重合体 15g 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25〃 ポリスチレン微粒子(平均粒径3μ) 0.05〃 化合物(u) 0.20〃 コロイダルシリカ(スノーテックスZL:粒径70〜 100μm日産化学(株)製) 0.12〃 水を加えて 100〃 さらに、10重量%のKOHを加え、pH=6に調整し
た塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.
9μになる様に塗布した。
レンテレフタレート支持体(厚味100μm)の両面に
下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布した。 <下塗層1層> コアーシェル型塩化ビニリデン共重合体 15g 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25〃 ポリスチレン微粒子(平均粒径3μ) 0.05〃 化合物(u) 0.20〃 コロイダルシリカ(スノーテックスZL:粒径70〜 100μm日産化学(株)製) 0.12〃 水を加えて 100〃 さらに、10重量%のKOHを加え、pH=6に調整し
た塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.
9μになる様に塗布した。
【0215】
<下塗層第2層>
ゼラチン 1
メチルセルロース 0.05〃
化合物(v) 0.02〃
C12H25O(CH2CH2O)10H 0.03〃
化合物(g) 3.5×10-3〃
酢酸 0.2〃
水を加えて 100〃
この塗布液を乾燥温度170℃2分間で、乾燥膜厚が
0.1μになる様に塗布した。
0.1μになる様に塗布した。
【0216】
【化62】
【0217】
【化63】
【0218】
【化64】
【0219】<写真性能の評価>
(1) 露光、現像処理
この様にして得られた試料を光学クサビを通して大日本
スクリーン社製P−627FMプリンターで露光し、富
士写真フイルム(株)製自動現像機FG−680AG及
び実施例1の現像液Aで38℃20秒処理し、定着、水
洗、乾燥した。定着液は実施例1と同様のものを使用し
た。
スクリーン社製P−627FMプリンターで露光し、富
士写真フイルム(株)製自動現像機FG−680AG及
び実施例1の現像液Aで38℃20秒処理し、定着、水
洗、乾燥した。定着液は実施例1と同様のものを使用し
た。
【0220】画像のコントラスト、および保存性の評価
は、実施例1と同様に行った。
は、実施例1と同様に行った。
【0221】
【表11】
【0222】<結果>本発明の造核剤を用いることによ
り、高ガンマで保存性の良好な明室返し感光材料を得る
ことができた。
り、高ガンマで保存性の良好な明室返し感光材料を得る
ことができた。
【0223】実施例7
実施例1〜8で使用した現像液Aのかわりに、下記現像
液B、Cを使用して、実施例1〜8で作成した感材をそ
れぞれの実施例の条件で現像処理を行った。
液B、Cを使用して、実施例1〜8で作成した感材をそ
れぞれの実施例の条件で現像処理を行った。
【0224】
現像液B
水酸化カリウム 35 g
ジエチレントリアミン5酢酸 2 g
炭酸カリウム 100 g
臭化カリウム 3 g
5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g
2−メルカプトベンツイミダゾール−5−
スルホン酸ナトリウム 0.15g
2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−
2−チオキソ−4−(1H)−キナゾリノン 0.03g
メタ重亜硫酸ナトリウム 54g
4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェ
ニル−3−ピラゾリドン 0.45g
ハイドロキノン 30g
エリソルビン酸ナトリウム 3g
水を加えて 1 リットル
pHを調整して 10.5
【0225】
現像液C
水酸化ナトリウム 10.0 g
ジエチレントリアミン五酢酸 1.5 g
炭酸カリウム 15.0 g
臭化カリウム 3.0 g
5−メチルベンゾトリアゾール 0.10g
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.02g
亜硫酸カリウム 10.0 g
2−メルカプトベンツイミダゾール−5−ス
ルホン酸ナトリウム 0.15g
4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル−3−ピラゾリドン 0.
40g
エリソルビン酸ナトリウム 30.0 g
水酸化カリウムを加えて、水を加えて1リットルとしp
Hを10.7に合わせる。
Hを10.7に合わせる。
【0226】また、現像液Bは保存形態が固形のものか
ら調整した。固形処理剤の製造方法は、プラスチック物
質にコーティングしたアルミニウム箔よりなる袋に現像
液の成分を固体で積層にして詰めた。積層の順序は上か
ら、 第一層 ハイドロキノン 第二層 その他の成分 第三層 重亜硫酸ナトリウム 第四層 炭酸カリウム 第五層 水酸化カリウムペレット にし、慣用の方法で排気し、系内を真空にしてシールし
た。
ら調整した。固形処理剤の製造方法は、プラスチック物
質にコーティングしたアルミニウム箔よりなる袋に現像
液の成分を固体で積層にして詰めた。積層の順序は上か
ら、 第一層 ハイドロキノン 第二層 その他の成分 第三層 重亜硫酸ナトリウム 第四層 炭酸カリウム 第五層 水酸化カリウムペレット にし、慣用の方法で排気し、系内を真空にしてシールし
た。
【0227】<結果>実施例1〜8の現像処理に、上記
現像液B、Cを用いても、同様の結果が得られた。
現像液B、Cを用いても、同様の結果が得られた。
【0228】実施例8
特開昭60−95533号に記載されている方法と同様
な方法で粒子内部が硫黄と金で化学増感され、粒子表面
が硫黄で化学増感された内部潜像型直接ポジ臭化銀乳剤
を調製した。乳剤粒子は1.0μmの八面粒子であっ
た。この乳剤に本発明の化合物または比較用として米国
特許3,759,901号に開示された化合物Jを添加
し、セルロースアセテートフィルム支持体上に保護層
(ゼラチン0.8g/m2)と共に、銀4.4g/m2、ゼ
ラチン4.9g/m2の割合で塗布した。これらの塗布サ
ンプルを連続階調ウェッジを通して、1000ルックス
のタングステン光で1/10秒露光し、下記組成の現像
液X(表面現像液、pH=13.5)で処理した。得ら
れた直接反転像の最大濃度(Dmax )と最小濃度(Dmi
n )を表12に示す。
な方法で粒子内部が硫黄と金で化学増感され、粒子表面
が硫黄で化学増感された内部潜像型直接ポジ臭化銀乳剤
を調製した。乳剤粒子は1.0μmの八面粒子であっ
た。この乳剤に本発明の化合物または比較用として米国
特許3,759,901号に開示された化合物Jを添加
し、セルロースアセテートフィルム支持体上に保護層
(ゼラチン0.8g/m2)と共に、銀4.4g/m2、ゼ
ラチン4.9g/m2の割合で塗布した。これらの塗布サ
ンプルを連続階調ウェッジを通して、1000ルックス
のタングステン光で1/10秒露光し、下記組成の現像
液X(表面現像液、pH=13.5)で処理した。得ら
れた直接反転像の最大濃度(Dmax )と最小濃度(Dmi
n )を表12に示す。
【0229】
現像液X
亜硫酸ソーダ 30 g
ハイドロキノン 10 g
1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル
−3−ピラゾリジン 0.75g
リン酸三ナトリウム 40 g
水酸化ナトリウム 10.7 g
5−メチルベンゾトリアゾール 0.02g
水を加えて 1リットル
【0230】
【表12】
【0231】表12より本発明の化合物は比較用化合物
よりも添加量少なくかつ良好な反転性能を示すことがわ
かる。
よりも添加量少なくかつ良好な反転性能を示すことがわ
かる。
【0232】実施例9
実施例8と同じ内部潜像型直接ポジ乳剤に、表10に記
載の本発明の化合物又は比較化合物を添加し、実施例8
と同様な塗布サンプルを作製した。これらの塗布サンプ
ルを実施例8と同じ露光条件で像露光し、現像液Xより
pHが低い下記組成の現像液Y(pH=10.7)で処
理した。得られた直接反転像の最大濃度(Dmax )と最
小濃度(Dmin )を表13に示す。
載の本発明の化合物又は比較化合物を添加し、実施例8
と同様な塗布サンプルを作製した。これらの塗布サンプ
ルを実施例8と同じ露光条件で像露光し、現像液Xより
pHが低い下記組成の現像液Y(pH=10.7)で処
理した。得られた直接反転像の最大濃度(Dmax )と最
小濃度(Dmin )を表13に示す。
【0233】
現像液Y
亜硫酸ソーダ 30 g
ハイドロキノン 10 g
1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル
−3−ピラゾリジン 0.75g
リン酸三ナトリウム 40 g
5−メチルベンゾトリアゾール 0.02g
水を加えて 1リットル
【0234】
【表13】
【0235】表13より、本発明の化合物は、低pHに
おいても比較化合物よりも少ない添加量で良好なる反転
性を示すことがわかる。
おいても比較化合物よりも少ない添加量で良好なる反転
性を示すことがわかる。
【0236】実施例10
試料501の作製
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体(厚さ10
0ミクロン)の表側に、次の第1層から第11層を、裏
側に第12層から第13層を重層塗布したカラー写真感
光材料を作成した。第1層塗布側のポリエチレンには酸
化チタン(4g/m2)を白色顔料として、また微量
(0.003g/m2)の群青を青み付け染料として含む
(支持体の表面の色度はL* 、a* 、b* 系で88.
0、−0.20、−0.75であった。)。
0ミクロン)の表側に、次の第1層から第11層を、裏
側に第12層から第13層を重層塗布したカラー写真感
光材料を作成した。第1層塗布側のポリエチレンには酸
化チタン(4g/m2)を白色顔料として、また微量
(0.003g/m2)の群青を青み付け染料として含む
(支持体の表面の色度はL* 、a* 、b* 系で88.
0、−0.20、−0.75であった。)。
【0237】(感光層組成)以下に成分と塗布量(g/
m2単位)を示す。ただし、増感色素の添加量は銀1モル
当りのモルで示す。なお、ハロゲン化銀については銀換
算の塗布量を示す。各層に用いた乳剤は後記する乳剤E
M−1の製法に準じ温度を変えて粒子サイズを変えるこ
とで作られた。但し第11層の乳剤は表面化学増感しな
いリップマン乳剤を用いた。
m2単位)を示す。ただし、増感色素の添加量は銀1モル
当りのモルで示す。なお、ハロゲン化銀については銀換
算の塗布量を示す。各層に用いた乳剤は後記する乳剤E
M−1の製法に準じ温度を変えて粒子サイズを変えるこ
とで作られた。但し第11層の乳剤は表面化学増感しな
いリップマン乳剤を用いた。
【0238】
第1層(アンチハレーション層)
黒色コロイド銀 0.10
混色防止剤(Cpd−7) 0.05
混色防止剤溶媒(Solv−4、5各等量) 0.12
ゼラチン 0.70
【0239】
第2層(中間層)
ゼラチン 1.40
染料(Cpd−32) 0.005
【0240】
第3層(赤感層)
赤色増感色素(ExS−1、2、3各等量 計5.4×10-4)で分光増感さ
れた臭化銀(平均粒子サイズ0.40μ、粒子サイズ分布10%、八面体)
0.25
ゼラチン 0.70
シアンカプラー(ExC−1、2、3を1:1:0.2) 0.30
退色防止剤(Cpd−1、2、3、4、30各等量) 0.18
ステイン防止剤(Cpd−5、15各等量) 0.003
カプラー分散媒(Cpd−6) 0.30
カプラー溶媒(Solv−1、3、5各等量) 0.30
【0241】
第4層(中間層)
ゼラチン 1.00
混色防止剤(Cpd−7) 0.08
混色防止剤溶媒(Solv−4、5各等量) 0.16
ポリマーラテックス(Cpd−8) 0.10
染料(Cpd−33) 0.25
【0242】
第5層(緑感層)
緑色増感色素(ExS−4 2.6×10-4)で分光増感された臭化銀(平均
粒子サイズ0.40μ、粒子サイズ分布10%、八面体) 0.20
ゼラチン 1.00
マゼンタカプラー(ExM−1、2各等量) 0.30
イエローカプラー(ExY−1) 0.06
退色防止剤(Cpd−9、26、30、31を各等量) 0.15
ステイン防止剤(Cpd−10、11、12、13を10:7:7:1比で)
0.025
カプラー分散媒(Cpd−6) 0.05
カプラー溶媒(Solv−4、6各等量) 0.60
【0243】
第6層(イエローフィルター層)
ゼラチン 1.00
染料(Cpd−34) 0.10
混色防止剤(Cpd−7) 0.08
混色防止剤溶媒(Solv−4、5各等量) 0.16
【0244】
第7層(青感層)
青色増感色素(ExS−5、6各等量 計3.5×10-4)で分光増感された
臭化銀(平均粒子サイズ0.60μ、粒子サイズ分布11%、八面体)
0.32
ゼラチン 0.80
イエローカプラー(ExY−2、3各等量) 0.60
退色防止剤(Cpd−14) 0.10
退色防止剤(Cpd−30) 0.05
ステイン防止剤(Cpd−5、15を1:5比で) 0.007
カプラー分散媒(Cpd−6) 0.05
カプラー溶媒(Solv−2) 0.29
【0245】
第8層(紫外線吸収剤含有層)
ゼラチン 0.60
紫外線吸収剤(Cpd−2、4、16各等量) 0.40
混色防止剤(Cpd−7、17各等量) 0.03
分散媒(Cpd−6) 0.02
紫外線吸収剤溶媒(Solv−2、7各等量) 0.08
イラジェーション防止染料(Cpd−18、19、20、21、27を10:
10:13:15:20比で) 0.05
【0246】
第9層(保護層)
微粒子沃臭化銀(臭化銀99モル%、平均サイズ0.05μ) 0.05
ポリビニルアルコールのアクリル変性共重合体(分子量50,000)
0.01
ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒子サイズ2.4μ)と酸化けい素(平
均粒子サイズ5μ)等量 0.05
ゼラチン 0.05
ゼラチン硬化剤(H−1、H−2各等量) 0.18
【0247】
第10層(裏層)
ゼラチン 2.50
紫外線吸収剤(Cpd−2、4、16各等量) 0.50
染料(Cpd−18、19、20、21、27各等量) 0.06
【0248】
第11層(裏層保護層)
ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒子サイズ2.4μ)と酸化けい素(平
均粒子サイズ5μ)等量 0.05
ゼラチン 2.00
ゼラチン硬化剤(H−1、H−2各等量) 0.14
【0249】乳剤EM−1の作り方
臭化カリウムと硝酸銀の水溶液をゼラチン水溶液に激し
く攪拌しながら65℃で15分を要して同時に添加し、
平均粒径が0.23μの八面体臭化銀粒子を得た。この
際、銀1モル当り0.3gの3,4−ジメチル−1,3
−チアゾリン−2−チオンを添加した。この乳剤に銀1
モル当り6mgのチオ硫酸ナトリウムと7mgの塩化金酸
(4水塩)を順次加え、75℃で80分間加熱すること
により化学増感処理を行なった。こうして得た粒子をコ
アとして、第1回目と同様な沈澱環境で更に成長させ、
最終的に平均粒径が0.4μの八面体単分散コア/シェ
ル臭化銀乳剤を得た。粒子サイズの変動係数は約10%
であった。この乳剤に銀1モル当り1.5mgのチオ硫酸
ナトリウムと1.5mgの塩化金酸(4水塩)を加え、6
0℃で60分間加熱して化学増感処理を行ない内部潜像
型ハロゲン化銀乳剤を得た。
く攪拌しながら65℃で15分を要して同時に添加し、
平均粒径が0.23μの八面体臭化銀粒子を得た。この
際、銀1モル当り0.3gの3,4−ジメチル−1,3
−チアゾリン−2−チオンを添加した。この乳剤に銀1
モル当り6mgのチオ硫酸ナトリウムと7mgの塩化金酸
(4水塩)を順次加え、75℃で80分間加熱すること
により化学増感処理を行なった。こうして得た粒子をコ
アとして、第1回目と同様な沈澱環境で更に成長させ、
最終的に平均粒径が0.4μの八面体単分散コア/シェ
ル臭化銀乳剤を得た。粒子サイズの変動係数は約10%
であった。この乳剤に銀1モル当り1.5mgのチオ硫酸
ナトリウムと1.5mgの塩化金酸(4水塩)を加え、6
0℃で60分間加熱して化学増感処理を行ない内部潜像
型ハロゲン化銀乳剤を得た。
【0250】各感光層には、造核剤としてExZK−1
を用いた。添加量は表14に示した。造核促進剤として
Cpd−22、28、29をそれぞれ3.2×10-4mm
ol/m2(赤感層)、2.9×10-4mmol/m2(緑感
層)、2.6×10-4mmol/m2(青感層)を用いた。更
に各層には乳化分散助剤としてアルカノールXC(Du P
ont 社)及びアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム
を、塗布助剤としてコハク酸エステル及びMagefac F−
120(大日本インキ社製)を用いた。ハロゲン化銀及
びコロイド銀含有層には安定剤として(Cpd−23、
24、25各等量)を用いた。この試料を試料番号50
1とした。以下に実施例に用いた化合物を示す。
を用いた。添加量は表14に示した。造核促進剤として
Cpd−22、28、29をそれぞれ3.2×10-4mm
ol/m2(赤感層)、2.9×10-4mmol/m2(緑感
層)、2.6×10-4mmol/m2(青感層)を用いた。更
に各層には乳化分散助剤としてアルカノールXC(Du P
ont 社)及びアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム
を、塗布助剤としてコハク酸エステル及びMagefac F−
120(大日本インキ社製)を用いた。ハロゲン化銀及
びコロイド銀含有層には安定剤として(Cpd−23、
24、25各等量)を用いた。この試料を試料番号50
1とした。以下に実施例に用いた化合物を示す。
【0251】
【化65】
【0252】
【化66】
【0253】
【化67】
【0254】
【化68】
【0255】
【化69】
【0256】
【化70】
【0257】
【化71】
【0258】
【化72】
【0259】
【化73】
【0260】
【化74】
【0261】
【化75】
【0262】
【化76】
【0263】
Solv−1 ジ(2−エチルヘキシル)セバケート
Solv−2 トリノニルホスフェート
Solv−3 ジ(3−メチルヘキシル)フタレート
Solv−4 トリクレジルホスフェート
Solv−5 ジブチルフタレート
Solv−6 トリオクチルホスフェート
Solv−7 ジ(2−エチルヘキシル)フタレート
【0264】H−1 1,2−ビス(ビニルスルホニル
アセトアミド)エタン H−2 4,6−ジクロロ−2−ヒドロキシ−1,3,
5−トリアジン Na塩
アセトアミド)エタン H−2 4,6−ジクロロ−2−ヒドロキシ−1,3,
5−トリアジン Na塩
【0265】ExZK−1 7−(3−エトキシチオカ
ルボニルアミノベンズアミド)−9−メチル−10−プ
ロパルギル−1,2,3,4−テトラヒドロアクリジニ
ウム トリフルオロメタンスルホナート 次に造核剤を表14に示すように、ExZK−2および
本発明の造核剤に変更する以外は全く同様にして、試料
502〜505の感光試料を作成した。
ルボニルアミノベンズアミド)−9−メチル−10−プ
ロパルギル−1,2,3,4−テトラヒドロアクリジニ
ウム トリフルオロメタンスルホナート 次に造核剤を表14に示すように、ExZK−2および
本発明の造核剤に変更する以外は全く同様にして、試料
502〜505の感光試料を作成した。
【0266】以上のようにして作成したハロゲン化銀カ
ラー写真感光材料を富士写真フイルム(株)製ファイン
チェッカー 850Hを用いて像様露光、及び以下に記
載の方法で液の累積補充量がそのタンク容量の3倍にな
るまで連続処理した。 処理工程 時間 温度 タンク容量 補充量 発色現像 135秒 38℃ 28リットル 240ミリリットル/m2 漂白定着 40秒 35℃ 11リットル 320ミリリットル/m2 水洗 (1) 40秒 35℃ 7リットル 水洗 (2) 40秒 35℃ 7リットル 320ミリリットル/m2 乾 燥 30秒 80℃ 水洗水の補充方式は、水洗浴(2)に補充し、水洗浴
(2)のオーバーフロー液を水洗浴(1)に導く、いわ
ゆる向流補充方式とした。このとき感光材料による各処
理液の持ち出し量は35ミリリットル/m2であった。
ラー写真感光材料を富士写真フイルム(株)製ファイン
チェッカー 850Hを用いて像様露光、及び以下に記
載の方法で液の累積補充量がそのタンク容量の3倍にな
るまで連続処理した。 処理工程 時間 温度 タンク容量 補充量 発色現像 135秒 38℃ 28リットル 240ミリリットル/m2 漂白定着 40秒 35℃ 11リットル 320ミリリットル/m2 水洗 (1) 40秒 35℃ 7リットル 水洗 (2) 40秒 35℃ 7リットル 320ミリリットル/m2 乾 燥 30秒 80℃ 水洗水の補充方式は、水洗浴(2)に補充し、水洗浴
(2)のオーバーフロー液を水洗浴(1)に導く、いわ
ゆる向流補充方式とした。このとき感光材料による各処
理液の持ち出し量は35ミリリットル/m2であった。
【0267】各処理液の組成は以下の通りであった。
〔発色現像液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕
D−ソルビット 0.15g 0.20g
ナフタレンスルホン酸ナトリウム・ホルマリン
縮合物 0.15g 0.20g
ニトリロトリス(メチレンホスホン酸)五ナト
リウム塩 1.8 g 1.8 g
ジエチレントリアミン五酢酸 0.5 g 0.5 g
1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホ
ン酸 0.15g 0.15g
ジエチレングリコール 12.0ミリリットル 16.0ミリリットル
ベンジルアルコール 14.0ミリリットル 18.5ミリリットル
臭化カリウム 0.70g
ベンゾトリアゾール 0.005g 0.007g
亜硫酸ナトリウム 5.6 g 7.4 g
ヒドロキシルアミン・1/2硫酸塩 4.5 g 6.0 g
トリエタノールアミン 6.0 g 8.0 g
4−〔N−エチル−N−(β−ヒドロキシエチル)
アミノ〕アニリン硫酸・1/2水塩 4.2 g 5.6 g
炭酸カリウム 30.0 g 25.0 g
螢光増白剤(ジアミノスチルベン系) 1.3 g 1.7 g
水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル
pH(25℃)(KOH または硫酸でpH調整) 10.25 10.75
【0268】
〔漂白定着液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕
エチレンジアミン4酢酸・2ナトリウム・2水塩 タンク液に同
4.0 g じ
エチレンジアミン4酢酸・Fe(III) ・アンモニウム
・2水塩 55.0 g
チオ硫酸アンモニウム(750g/リットル) 168 ミリリットル
p−トルエンスルフィン酸ナトリウム 30.0 g
亜硫酸アンモニウム 35.0 g
3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール 0.5 g
硝酸アンモニウム 10.0 g
水を加えて 1000 ミリリットル
pH(25℃)(アンモニア水または酢酸でpH調整)
6.20
【0269】
〔水洗水〕 〔タンク液、補充液とも〕
塩素化イソシアヌール酸ナトリウム 0.02g
脱イオン水(導電率5μs/cm以下) 1000ミリリットル
pH 6.5
得られた結果を表14に示す。
【0270】
【表14】
【0271】表14から本発明の造核剤が、多層系のカ
ラー直接ポジ感材においても少ない添加量で良好な反転
性を示すことがわかる。
ラー直接ポジ感材においても少ない添加量で良好な反転
性を示すことがわかる。
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(72)発明者 江副 利秀
神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写
真フイルム 株式会社内
(72)発明者 平野 茂夫
神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写
真フイルム 株式会社内
(56)参考文献 特開 平1−283548(JP,A)
特開 昭63−234245(JP,A)
特開 平1−276128(JP,A)
特開 平4−76530(JP,A)
特開 平6−148777(JP,A)
特開 平6−214333(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
G03C 1/06 501
Claims (2)
- 【請求項1】 ヒドラジド化合物を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料において、前記ヒドラ
ジド化合物が下記一般式(1)で表される化合物である
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。一般式
(1) 【化1】 (式中Arは芳香族基を表し、L1 は電子吸引性基を有
する2価の連結基を表し、Xはカルボン酸、スルホン
酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン酸、およびそれら
の塩からなる群より選択されるアニオン性基を表す。) - 【請求項2】ヒドラジド化合物を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料において、前記ヒドラジ
ド化合物が下記一般式(2−a)、もしくは(2−b)
で表される化合物であることを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。 【化2】 (式中Arは芳香族基を表し、L2 はフッ素原子で置換
された2価のアルキレン基またはフェニレン基を表わ
す。Mは対カチオンを表わし、mは1から3の整数を表
わす。)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03586195A JP3418648B2 (ja) | 1994-11-16 | 1995-02-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US08/558,856 US5688630A (en) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Silver halide photographic material |
DE69514892T DE69514892T2 (de) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Photographisches Silberhalogenid-Material |
EP95118066A EP0713131B1 (en) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Silver halide photographic material |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30570294 | 1994-11-16 | ||
JP6-305702 | 1994-11-16 | ||
JP03586195A JP3418648B2 (ja) | 1994-11-16 | 1995-02-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08194279A JPH08194279A (ja) | 1996-07-30 |
JP3418648B2 true JP3418648B2 (ja) | 2003-06-23 |
Family
ID=26374871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03586195A Expired - Fee Related JP3418648B2 (ja) | 1994-11-16 | 1995-02-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3418648B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999040063A1 (fr) * | 1998-02-06 | 1999-08-12 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | Nouveaux derives de l'acide hydroxamique de type azapeptide |
-
1995
- 1995-02-02 JP JP03586195A patent/JP3418648B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08194279A (ja) | 1996-07-30 |
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