JPH10123699A - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】光増感効率に優れ、保存安定性も良好であり、
低温での画像再現性も優れた水なし平版印刷版原版を得
る。 【解決手段】支持体上に感光層、インキ反発層をこの順
に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該感光
層が光塩基発生剤を含有する水なし平版印刷版原版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版に関するものであり、さらに詳しくは著しく光増感効
果が向上し、優れた画像再現性を有する水なし平版印刷
版原版に関するものであり、とりわけ長期保存した場合
でも光増感効果や画像再現性に優れ、低温で露光した場
合でも優れた画像再現性を有する水なし平版印刷版原版
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、シリコーンゴムやフッ素樹脂
をインキ反発層として使用し、湿し水を用いずに平版印
刷を行うための印刷版、とりわけ選択的に露光現像して
なる感光性平版印刷版原版が種々提案されている。

【０００３】このような水なし平版印刷とは、画線部と
非画線部とを基本的にほぼ同一平面に存在させ、画線部
をインキ受容層、非画線部をインキ反発層としてインキ
の付着性の差異を利用して、画線部のみにインキを着肉
させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷を
する平版印刷方法において、非画線部がシリコーンゴ
ム、フッ素樹脂などのインキ反発性を有する物質からな
り、湿し水を用いずに印刷可能であるような印刷方法を
意味する。

【０００４】例えば、ポジ型水なし平版印刷版原版とし
ては、特公昭５４−２６９２３号公報、特公昭５６−２
３１５０号公報などに支持体上に光重合性感光層とイン
キ反発層であるシリコーンゴム層とが積層された水なし
平版印刷版原版、また特公平３−５６６２２号公報、特
開昭６１−１５３６５５号公報などに支持体上に光二量
化型感光層とインキ反発層であるシリコーンゴム層とが
積層された水なし平版印刷版原版が提案されている。ネ
ガ型水なし平版印刷版原版としては、特公昭６１−５４
２２２号公報などに、支持体上に１，２−ナフトキノン
−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノール
ホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物を
多官能イソシアネートで架橋した光剥離性感光層、およ
びその上にインキ反発層としてのシリコーンゴム層を積
層した水なし平版印刷版原版が提案されている。

【０００５】これらの水なし平版印刷版原版は、通常ポ
ジフィルムもしくはネガフィルムを通して、活性光線に
より露光される。そして、その後、現像処理されること
により、画線部に対応したインキ反発層のみが剥ぎ取ら
れて感光層あるいは場合によってはその下層のプライマ
ー層や支持体が露出し、インキ着肉性の画線部となる。
フッ素樹脂をインキ反発層に用いる感光性平版印刷版
原版としては、特開平２−２５４４４９号公報、特開平
２−８５８５５号公報などには、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２
Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレートを用いた
フッ素樹脂をインキ反発層とする水なし平版印刷版原版
が開示されている。

【０００６】ところで、上記で説明した水なし平版印刷
版原版の内、ポジ型水なし平版印刷版原版の感光層に用
いられる光反応性化合物としては、光重合性化合物、光
二量化化合物、ジアゾ樹脂、アジド化合物など多くの提
案がなされている。これらの光反応性化合物を用いる場
合、光増感効果を向上させるため、通常光増感剤や光増
感助剤が添加される。しかしながら、これらの光増感剤
や光増感助剤を用いる場合でも、使用量が少なすぎると
明確な効果が得られず、使用量が多すぎると保存安定性
に悪影響を及ぼしていた。とりわけ光増感助剤としてア
ミン化合物などの塩基性化合物を使用した場合、製造直
後の水なし平版では優れた光増感効果を示すが、長期保
存した水なし平版印刷版原版では塩基性による劣化が激
しくなり、満足な光増感効果が得られず、画像再現性も
悪かった。

【０００７】更に、従来の光重合性感光層の場合、露光
温度が画像再現性に大きく影響する欠点を有しており、
特に低温で露光した場合、光重合が不十分となる場合が
多かった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術の諸
欠点を改良するために創案されたもので、感光層に光塩
基発生剤を含有させることにより、製造直後はもちろ
ん、長期保存した場合や低温で露光した場合でも優れた
画像再現性を有する水なし平版印刷版原版を提供するこ
とにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる発明は以下により
達成される。すなわち、 （１）支持体上に少なくとも感光層、インキ反発層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
感光層が光塩基発生剤を含有していることを特徴とする
水なし平版印刷版原版。

【００１０】（２）光塩基発生剤が光アミン発生剤であ
ることを特徴とする（１）記載の水なし平版印刷版原
版。

【００１１】（３）光塩基発生剤が、下記式（Ｉ）で示
される構造を有することを特徴とする（１）記載の水な
し平版印刷版原版。

【００１２】

【化３】 （４）光塩基発生剤が、下記一般式（ＩＩ）で示される
化合物であることを特徴とする（１）記載の水なし平版
印刷版原版。

【００１３】

【化４】 （式中、Ｌ１は連結基である。Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独
立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト
基、ニトロ基、アミノ基、炭素数１〜５０の置換あるい
は非置換のアルキル基、アルキルオキシ基、炭素数２〜
５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、アルケニル
オキシ基、炭素数４〜５０の置換あるいは非置換のアリ
ール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも
一種である。）

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に本発明の構成についてさら
に具体的に説明する。

【００１５】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版原版で用いられているもの、あるい
は提案されているものであればいずれでもよい。すなわ
ち通常の平版印刷機にセットできるたわみ性と印刷時に
加わる荷重に耐えるものであれば十分である。

【００１６】例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼など
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、鉄などがメッキあるいは蒸着された金属板、ポ
リエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート
などのポリエステル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポ
リプロピレンなどのようなプラスチックフィルムないし
はシート、クロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴム弾性
を有する支持体、あるいはかかるゴム弾性を有する支持
体、もしくは紙、樹脂コート紙、アルミニウムなどの金
属箔が張られた紙などが挙げられる。

【００１７】これらの内、好ましいのは金属板あるいは
プラスチックフィルムであり、とりわけアルミニウムを
主として用いた金属板が好ましい。このような金属板は
そのまま用いるか、アルカリ水溶液あるいは酸性水溶液
による脱脂処理などによりプレーン化して使用する。も
しくは機械的方法、電解エッチング法などにより砂目形
状を形成させてもよい。機械的方法としては、例えばポ
ール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによる研磨
法バフ研磨法が挙げられる。電解エッチング法として
は、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸などを含む溶液を用いて
エッチングする方法が挙げられる。上記の各種方法は、
単独あるいは二種以上組み合わせて用いることができ、
また上記以外の表面処理方法を単独あるいは二種以上組
み合わせて用いてもよい。

【００１８】本発明の水なし平版印刷版原版において、
支持体と感光層との接着は、画像再現性耐刷性などの基
本的な版性能にとって非常に重要であるので、好ましく
は支持体に感光層を塗布する前に、感光層と支持体との
十分な接着性を得るためのプライマー層を設けるのがよ
い。また、ハレーション防止や染色性の点からもプライ
マー層を設けることが好ましい。

【００１９】プライマー層としては、例えば特開昭６０
−２２９０３号公報に提案されている種々の感光性ポリ
マを露光して硬化したもの、特開平４−３２２１８１号
公報に提案されているメタクリル系含リンモノマーを露
光して硬化したもの、特開平２−７０４９号公報に提案
されているメタクリル系エポキシ化合物を露光して硬化
せしめたもの、特開昭６２−５０７６０号公報に提案さ
れているエポキシ樹脂を熱硬化したもの、特開昭６３−
１３３１５１号公報に提案されているゼラチンを硬膜し
たもの、特開平１−２８２２７０号公報に提案されてい
るウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることができ
る。この他にも、尿素樹脂類、フェノール樹脂類、メラ
ミン樹脂類、ベンゾグアナミン樹脂類、フェノキシ樹脂
類、ジアゾ樹脂類、セルロースおよびその誘導体類、キ
チン、キトサン、ミルクカゼイン、大豆タンパク質、ア
ルブミンなどを硬膜したものも有効である。また、これ
ら以外のものを用いてもよい。

【００２０】更に、プライマー層を柔軟化させる目的
で、前述プライマー層にガラス転移温度（Ｔｇ）が２０
℃以下、好ましくはＴｇが０℃以下であるポリマーおよ
びコポリマーを添加することも可能である。ガラス転移
温度Ｔｇとは、無定型高分子材料の物性がガラス状態か
らゴム状態（またはその逆）に変化する転移点（温度）
のことをいう。慣用的にはデイラトメーターを用いて、
試料の体積を温度を上げながら測定し、体積（比容）−
温度曲線の勾配が急に変化する点として決定される。

【００２１】このようなガラス転移温度（Ｔｇ）が２０
℃以下であるポリマーおよびコポリマーとしては、後述
の感光層で述べる次のようなものが挙げられるが、これ
らに限定されない。

【００２２】（１）ビニルポリマー類 （ａ）ポリオレフィン類 （ｂ）ポリスチレン類 （ｃ）（メタ）アクリル酸エステルポリマー類 （２）未加硫ゴム （３）ポリオキシド類（ポリエーテル類） （４）ポリエステル類 （５）ポリウレタン類 （６）ポリアミド類 これらのガラス転移温度（Ｔｇ）が室温以下であるポリ
マーおよびコポリマーの添加割合は任意であり、フィル
ム層を形成できる範囲であれば、添加剤だけでプライマ
ー層を形成してもよい。また、これらのプライマー層に
はポリマーのフィルム形成能を向上させるために適当な
架橋剤を適当量加えてもよい。更に必要に応じ、染料、
ｐＨ指示薬、露光焼き出し剤、フォトクロ化合物、光重
合開始剤、接着助剤、顔料、シリカ粒子、界面活性剤な
どの添加剤を適当量加えることも可能である。また、公
知の硬化触媒を適当量加えることは任意である。

【００２３】プライマー層中の各成分の配合割合につい
ては特に限定されないが、好ましくは上記のポリマーあ
るいはコポリマー、または光重合や熱重合組成物の一種
もしくは二種以上を１００重量部、必要に応じて適当な
架橋剤を０〜１００重量部、染料や顔料、フォトクロ化
合物、接着助剤、界面活性剤などの添加剤を必要に応じ
てそれぞれ０〜１００重量部、公知の触媒を０〜１０重
量部加えることにより設けるのがよい。

【００２４】プライマー層の膜厚としては、０．１〜１
００μｍ、好ましくは０．２〜５０μｍ、より好ましく
は０．５〜２０μｍである。薄すぎると塗布時にピンホ
ールなどの欠点が生じやすくなり、厚すぎると経済的に
不利である。

【００２５】次に、本発明に用いられる感光層について
説明する。

【００２６】本発明においては、感光層中に光塩基発生
剤を含有していることを最大の特徴としている。とりわ
け、光によりアミノ基を発生する光アミン発生剤は光増
感効果を著しく向上させることができる。このような光
塩基発生剤としては、例えば下記式（Ｉ）で示される構
造を有する化合物が挙げられる。

【００２７】

【化５】 これらの中でもとりわけ一般式（ＩＩ）で示される化合
物が好んで用いられる。

【化６】 （式中、Ｌ１は連結基である。Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独
立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト
基、ニトロ基、アミノ基、炭素数１〜５０の置換あるい
は非置換のアルキル基、アルキルオキシ基、炭素数２〜
５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、アルケニル
オキシ基、炭素数４〜５０の置換あるいは非置換のアリ
ール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも
一種である。）一般式（ＩＩ）における連結基の具体例
としては、炭素数１〜５０の置換あるいは非置換のアル
キル基、炭素数２〜５０の置換あるいは非置換のアルケ
ニル基、炭素数４〜５０の置換あるいは非置換のアリー
ル基などが挙げられ、これらは鎖中にエーテル結合、チ
オエーテル結合、アミノ結合、エステル結合、アミド結
合、ウレア結合、カーボネート結合、カルボニル結合な
どの結合部位を適当に含んでいてもよい。

【００２８】より具体的には、エチレン基、アセチレン
基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレ
ン基、フェニレン基、ナフチレン基、エチレンオキシド
基、プロピレンオキシド基、フェニレンオキシド基およ
びこれらの組合せなどが挙げられるが、これら以外でも
よい。また、場合によってはＬ１の連結基は存在しなく
てもよい。

【００２９】Ｒ１〜Ｒ４の具体例としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、フェニル基、ベンジル基、ナフチル
基、ビニル基、アリル基、メトキシ基、エトキシ基、ブ
トキシ基、ヘキシロキシ基、フェノキシ基、ベンジルオ
キシ基、ナフチルオキシ基ビニルオキシ基、アリルオキ
シ基などが挙げられるが、これらに限定されず、これら
以外でもよい。

【００３０】式（Ｉ）で示される構造を有する化合物と
しては、例えば以下のようなものが挙げられるが、これ
らに限定されない。

【００３１】アセトフェノンオキシムと種々のカルボ
ン酸とのエステル化物。カルボン酸としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、乳酸、アジピン酸、コハク
酸、アクリル酸、メタクリル酸、シュウ酸、マロン酸、
セバチン酸、マレイン酸、フタル酸、イソフタル酸、イ
タコン酸、テレフタル酸、などが挙げられるが、これら
に限定されず、カルボン酸であれば特に限定はない。

【００３２】アセトフェノンオキシムと種々の酸無水
物。酸無水物としては、無水マレイン酸、無水フタル
酸、無水酢酸、無水プロピオン酸などが挙げられるが、
これらに限定されず、酸無水物であれば特に限定はな
い。

【００３３】アセトフェノンオキシムと種々のイソシ
アネート化合物。イソシアネート化合物としては、４−
フェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソ
シアネート、１，４−ブタンジイソシアネート、トルイ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、イソホロンジイソシアネートなどが挙げられる
が、これらに限定されず、イソシアネート化合物であれ
ば特に限定はない。

【００３４】また上記のような低分子化合物ばかりでは
なく、例えばアクリル酸とアクリル酸誘導体の共重合体
にアセトフェノンオキシムを反応させたもの、メタクリ
ル酸とメタクリル酸誘導体の共重合体にアセトフェノン
オキシムを反応させたもの、ポリビニルアルコールにジ
カルボン酸を反応させたポリマーにアセトフェノンオキ
シムを反応させたもののような高分子量の化合物でもよ
い。これらの化合物は光照射により分解し、塩基性基、
例えばアミノ基を発生する。この塩基性基が他の光増感
剤や光増感助剤と組み合わされて光重合や光二量化の開
始を誘発する。

【００３５】また、ジアゾ樹脂やアジド化合物の分解反
応なども誘発する。これにより、光増感効率が向上し、
良好な画像再現性を得ることができうる。

【００３６】本発明に用いられる感光層としては、通常
水なし平版印刷版原版に提案されているものであれば特
に限定はされないが、本発明の光増感効果を十分に引き
出すためにはポジ型の光重合性化合物、光二量化化合
物、ジアゾ樹脂、アジド化合物などを用いた感光層が好
ましく、とりわけ光重合性感光層や光二量化感光層が好
ましい。

【００３７】光重合性感光層を用いる場合、光重合性化
合物としては通常多官能モノマーが使用される。このよ
うな多官能モノマーとしては、例えば以下のような化合
物が挙げられるがこれらに限定されない。

【００３８】アミノ基含有モノマー アミノ基含有モノマーとしては、例えばモノアミン化合
物やジアミン化合物、ポリアミン化合物のようなアミン
化合物とグリシジルメタクリレート、メタクリル酸、メ
タクリル酸無水物などのエチレン性不飽和基を有する化
合物との反応生成物が挙げられる。この場合のアミン化
合物としては、例えば以下のものが挙げられる。

【００３９】ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチル
アミン、１，３−プロパンジアミン、１，４−ブタンジ
アミン、１，６−ヘキサンジアミン、１，８−オクタン
ジアミン、モノオキシエチレンジアミン、ジオキシエチ
レンジアミン、トリオキシエチレンジアミン、ポリオキ
シエチレンジアミン、モノオキシプロピレンジアミン、
ジオキシプロピレンジアミン、トリコキシプロピレンジ
アミン、ポリオキシプロピレンジアミン、Ｎ−ヒドロキ
シエチルヘキサプロピレンジアミン、Ｎ−ヒドロキシイ
ソプロピルヘキサプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジヒ
ドロキシエチルヘキサプロピレンジアミン、トリメチレ
ンビス（４−アミノベンゾエート）、キシリレンジアミ
ン、Ｎ−ヒドロキシエチル−ｍ−キシリレンジアミン、
Ｎ−ヒドロキシイソプロピル−ｍ−キシリレンジアミン
など。

【００４０】アミノ基含有モノマーの具体例としては以
下のものが挙げられるが、これらに限定されない。

【００４１】Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロ
キシ−３−メタクリロキシプロピル）モノオキシエチレ
ンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロ
キシ−３−メタクリロキシプロピル）ジオキシエチレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキ
シ−３−メタクリロキシプロピル）デカオキシエチレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキ
シ−３−メタクリロキシプロピル）トリトリアコンタオ
キシエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシプロピル）トリオ
キシエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒド
ロキシ−３−メタクリロキシプロピル）−Ｎ’−モノ
（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）モノオキシ
エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキ
シ−３−メタクリロキシプロピル）−Ｎ’−モノ（２−
ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）ジオキシエチレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシ−３−メタク
リロキシプロピル）−Ｎ，Ｎ’−ジ−（２−ヒドロキシ
−３−メトキシプロピル）モノオキシエチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキ
シプロピル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシ−３−メ
トキシプロピル）ジオキシエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロ
ピル）−Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプ
ロピル）モノオキシエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−
トリ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロピル）
−Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピ
ル）ジオキシエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒ
ドロキシ−３−メタクリロキシプロピル）−Ｎ，Ｎ’−
ジ（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル）モノオキ
シエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシ−
３−メタクリロキシプロピル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒ
ドロキシ−３−ブトキシプロピル）ジオキシエチレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキシ
−３−メタクリロキシプロピル）モノオキシプロピレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキ
シ−３−メタクリロキシプロピル）デカオキシプロピレ
ンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロ
キシ−３−アクリロキシプロピル）トリオキシプロピレ
ンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロ
キシ−３−アクリロキシプロピル）ヘキサオキシプロピ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ−
３−メタクリロキシプロピル）−Ｎ’−モノ（２−ヒド
ロキシ−３−メトキシプロピル）モノオキシプロピレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ−３−
メタクリロキシプロピル）−Ｎ’−モノ（２−ヒドロキ
シ−３−メトキシプロピル）ジオキシプロピレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ−３−メタク
リロキシプロピル）−Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３
−メトキシプロピル）デカオキシプロピレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒロロキシ−３−メタクリロキシプ
ロピル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシ−３−メトキ
シプロピル）モノオキシプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ’
−ジ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロピル）
−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピ
ル）ジオキシプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ
（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロピル）−
Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル）
モノオキシプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ
（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロピル）−
Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル）
ジオキシプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒド
ロキシ−３−メタクリロキシプロピル）−Ｎ，Ｎ’−ジ
（２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル）モノオキシ
プロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシ−
３−ブトキシプロピル）ジオキシプロピレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロ
キシプロピル）−Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３−
（２−エチルヘキシロキシ）プロピル）トリオキシプロ
ピレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ
−３−メタクリロキシプロピル）−Ｎ’−モノ（２−ヒ
ドロキシ−３−フェノキシプロピル）トリオキシプロピ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒド
ロキシ−３−メタクリロキシプロピル）ｍ−キシリレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキ
シ−３−メタクリロキシプロピル）ｐ−キシリレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキシ−
３−アクリロキシプロピル）ｍ−キシリレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（２−ヒドロキシ−３−ア
クリロキシプロピル）ｐ−キシリレンジアミン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ
プロピル）−Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３−メトキ
シプロピル）ｍ−キシリレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−
トリ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロピル）
−Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピ
ル）ｐ−キシリレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒド
ロキシ−３−メタクリロキシプロピル）−Ｎ，Ｎ’−ジ
（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）ｍ−キシリ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシ−３−メ
タクリロキシプロピル）−Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキ
シ−３−メトキシプロピル）ｐ−キシリレンジアミン、
Ｎ−モノ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロピ
ル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ−３−メ
トキシプロピル）ｍ−キシリレンジアミン、Ｎ−モノ
（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシプロピル）−
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリ（２−ヒドロキシ−３−メトキシ
プロピル）ｐ−キシリレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−ト
リ（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシプロピル）−
Ｎ’−モノ（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）
ｍ−キシリレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリ（２−ヒ
ドロキシ−３−アクリロキシプロピル）−Ｎ’−モノ
（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）ｐ−キシリ
レンジアミンなど。

【００４２】上記に示したアミノ基含有モノマーは、上
層のインキ反発層との接着性を向上させる点から活性シ
リル基を含有していてもよい。とりわけ、上層がシリコ
ーンゴム層である場合、アセトキシシリル基や、アルコ
キシシリル基、ケトオキシムシリル基、ハイドロジェン
シリル基、ハロゲン化シリル基などの活性シリル基を有
するモノマーを用いることが好ましい。

【００４３】アミノ基を含まないモノマー アミノ基を含まないモノマーとしては、例えばエチレン
性不飽和結合を有する化合物が挙げられる。これらの中
では、グリシジル基とカルボン酸を反応させるなどの方
法により、水酸基を含有させたようなモノマーを用いる
ことも好ましい。

【００４４】このようなアミノ基を含有しないモノマー
の具体例としては以下のものが挙げられるがこれらに限
定されない。

【００４５】（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸
メチルや（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル
酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アク
リル酸ヘキシル、グリシジル（メタ）アクリレート、
１，４−ブタンジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキ
サンジ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジ（メ
タ）アクリレート、１，９−ノナンジ（メタ）アクリレ
ート、１，１０−デカンジ（メタ）アクリレート、エチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、グリセリン１モルに（メタ）アクリル酸を
１〜３モル反応させたもの、トリメチロールプロパン１
モルに（メタ）アクリル酸を１〜３モル反応させたも
の、ペンタエリスリトール１モルに（メタ）アクリル酸
１〜４モル反応させたもの、ポリビニルアルコールに
（メタ）アクリル酸を反応させたもの、多官能アルコー
ルに（メタ）アクリル酸を反応させたもの、モノカルボ
ン酸にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させたも
の、マレイン酸やアジピン酸などの多官能カルボン酸に
グリシジル（メタ）アクリレートを反応させたもの、エ
ポキシ化合物に（メタ）アクリル酸を反応させたもの、
多官能エポキシ化合物に（メタ）アクリル酸を反応させ
たものなど。

【００４６】上記に示したアミノ基を含まないモノマー
は、上層のインキ反発層との接着性を向上させる点から
活性シリル基を含有していてもよい。とりわけ、上層が
シリコーンゴム層である場合、アセトキシシリル基や、
アルコキシシリル基、ケトオキシムシリル基、ハイドロ
ジェンシリル基、ハロゲン化シリル基などの活性シリル
基を有するモノマーを用いることが好ましい。

【００４７】光重合性感光層を用いる場合、感光層の膜
形成能を向上させる目的や耐刷性を向上させる目的など
から、通常バインダーポリマーが上記多官能モノマーと
併用される。バインダーポリマーとしては、通常水なし
平版印刷版原版に提案されているものであれば特に限定
されないが、例えば以下のようなものが挙げられる。こ
れらの中では、耐刷性を向上させる目的から、Ｔｇが０
℃以下のバインダーポリマーが好ましい。

【００４８】（１）ビニルポリマ類 耐刷性を向上させるＴｇが２０℃以下のビニル系ポリマ
ーの具体例としては、例えば以下に示すものが挙げられ
るが、これらに限定されない。

【００４９】（ａ）ポリオレフィン類 ポリ（１−ブテン）、ポリ（５−シクロヘキシル−１−
ペンテン）、ポリ（１−デセン）、ポリ（１，１−ジク
ロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチルブテン）、ポ
リ（１，１−ジメチルプロペン）、ポリ（１−ドデセ
ン）、ポリエチレン、ポリ（１−ヘプテン）、ポリ（１
−ヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６−メチル−１−
ヘプテン）、ポリ（５−メチル−１−ヘキセン）、ポリ
（２−メチルプロペン）、ポリ（１−ノネン）、ポリ
（１−オクテン）、ポリ（１−ペンテン）、ポリ（５−
フェニル−１−ペンテン）、ポリプロピレン、ポリイソ
ブチレン、ポリ（１−ブテン）、ポリ（ビニルブチルエ
ーテル）、ポリ（ビニルエチルエーテル）、ポリ（ビニ
ルイソブチルエーテル）、ポリ（ビニルメチルエーテ
ル）など。

【００５０】（ｂ）ポリスチレン類 ポリ（４−［（２−ブトキシエトキシ）メチル］スチレ
ン）、ポリ（４−デシルスチレン）、ポリ（４−ドデシ
ルスチレン）、ポリ［４−（２−エトキシエトキシメチ
ル）スチレン］、ポリ（［４−（１−エチルヘキシロキ
シメチル）スチレン］、ポリ［４−（ヘキシロキシメチ
ル）スチレン］、ポリ（４−ヘキシルスチレン）、ポリ
（４−ノニルスチレン）、ポリ［４−（オクチロキシメ
チル）スチレン］、ポリ（４−オクチルスチレン）、ポ
リ（４−テトラデシルスチレン）など。

【００５１】（ｃ）（メタ）アクリル酸エステルポリマ
ー類 ポリ（ブチルアクリレート）、ポリ［２−（２−シアノ
エチルチオ）エチルアクリレート］、ポリ［３−（２−
シアノエチルチオ）プロピルアクリレート］、ポリ［６
−（シアノメチルチオ）ヘキシルアクリレート］、ポリ
（２−エトキシエチルアクリレート）、ポリ（エチルア
クリレート）、ポリ（２−エチルヘキシルアクリレー
ト）、ポリ（ヘキシルアクリレート）、ポリ（３−メト
キシプロピルアクリレート）、ポリ（オクチルアクリレ
ート）、ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ
（ヒドロキシプロピルアクリレート）、ポリ（デシルメ
タクリレート）、ポリ（ドデシルメタクリレート）、ポ
リ（２−エチルヘキシルメタクリレート）、ポリ（オク
タデシルメタクリレート）、ポリ（テトラデシルメタク
リレート）、ポリ（ｎ−ヘキシルメタクリレート）、ポ
リ（ラウリルメタクリレート）など。

【００５２】（２）未加硫ゴム 耐刷性を向上させるＴｇが２０℃以下の未加硫ゴムの具
体例としては、例えば以下に示すものが挙げられるが、
これらに限定されない。

【００５３】ポリ（１，３−ブタジエン）、ポリ（２−
クロロ−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−デシル−
１，３−ブタジエン）、ポリ（２，３−ジメチル−１，
３−ブタジエン）、ポリ（２−エチル−１，３−ブタジ
エン）、ポリ（２−ヘプチル−１，３−ブタジエン）、
ポリ（２−イソプロピル−１，３−ブタジエン）、ポリ
（２−メチル−１，３−ブタジエン）、クロロスルホン
化ポリエチレンなど。

【００５４】（３）ポリオキシド類（ポリエーテル類） 耐刷性を向上させるＴｇが２０℃以下のポリオキシド類
の具体例としては、例えば以下に示すものが挙げられる
が、これらに限定されない。

【００５５】ポリアセトアルデヒド、ポリ（ブタジエン
オキシド）、ポリ（１−ブテンオキシド）、ポリ（ドデ
センオキシド）、ポリ（エチレンオキシド）、ポリ（イ
ソブテンオキシド）、ポリホルムアルデヒド、ポリ（プ
ロピレンオキシド）、ポリ（テトラメチレンオキシ
ド）、ポリ（トリメチレノキシド）など。

【００５６】（４）ポリエステル類 耐刷性を向上させるＴｇが２０℃以下のポリエステル類
の具体例としては、例えば以下に示すものが挙げられる
が、これらに限定されない。

【００５７】ポリ［１，４−（２−ブテン）セバケー
ト］、ポリ［１，４−（２−ブテン）セバケート］、ポ
リ（デカメチレンアジペイト）、ポリ（エチレナジペイ
ト）、ポリ（オキシジエチレンアジペイト）、ポリ（オ
キシジエチレンアゼラエイト）、ポリ（オキシジエチレ
ンドデカンジエイト）、ポリ（オキシジエチレングルタ
レイト）、ポリ（オキシジエチレンヘプチルマロネイ
ト）、ポリ（オキシジエチレンマロネイト）、ポリ（オ
キシジエチレンメチルマロネイト）、ポリ（オキシジエ
チレンノニルマロネイト）、ポリ（オキシジエチレンオ
クタデカンジエイト）、ポリ（オキシジエチレンオキザ
レイト）、ポリ（オキシジエチレンピメレイト）、ポリ
（オキシジエチレンセバケート）、ポリ（ペンタメチレ
ンアジペイト）、ポリ（テトラメチレンアジペイト）、
ポリ（トリメチレンアジペイト）など。

【００５８】（５）ポリウレタン類 ポリイソシアネート類と多価アルコールより得られるポ
リウレタンは一般的にはＴｇは２０℃以下である。多価
アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサ
ンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリ
コール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、グリセリン、トリメチロールプロパンなどが挙
げられるがこれらに限定されない。ポリイソシアネート
類としては、パラフェニレンジイソシアネート、トルイ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネートなどが挙げられるがこれらに限定さ
れない。

【００５９】（６）ポリアミド類 耐刷性を向上させるＴｇが２０℃以下のポリアミド類の
具体例としては、例えば以下に示すものが挙げられる
が、これらに限定されない。

【００６０】分子量１５０〜１５００のポリエーテルセ
グメントを含有する共重合ポリアミド、より具体的には
末端にアミノ基を有しポリエーテルセグメント部分の分
子量が１５０〜１５００であるポリオキシエチレンと脂
肪族ジカルボン酸またはジアミンとからなる構成単位を
３０〜７０重量％含有するところの共重合ポリアミドな
ど。

【００６１】上記（１）〜（６）に示したバインダポリ
マーは単独で用いてもよいし、また２種以上を混合して
用いてもよい。これらの中ではポリウレタン、ポリエス
テル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ましい。とりわ
け水酸基を含んだバインダポリマーが好ましい。

【００６２】また、光二量化型感光層としては、ケイ皮
酸エステル、β−フリルアクリル酸エステル、α−シア
ノケイ酸エステル、ｐ−アジドケイ皮酸エステル、β−
スチリルアクリル酸エステル、α−シアノ−β−スチリ
ルアクリル酸エステル、ｐ−フェニレンジアクリル酸エ
ステル、ｐ−（２−ベンゾイルビニル）−ケイ皮酸エス
テル、β−ナフチルアクリル酸エステル、シンナミリデ
ンピルビン酸エステル、α−メチル−β−スチリルアク
リル酸エステル、α−フェニル−β−スチリルアクリル
酸エステル、α−シアノ−β−フリルアクリル酸エステ
ル、ｐ−ジメチルアミノケイ皮酸エステルなどの構造を
有する化合物を用いたものが挙げられるが、これらに限
定されるものではない。光二量化化合物としては低分子
化合物でも高分子化合物でもよく、これらを適当に混合
して用いてもよい。このような光二量化感光層でも、上
記光重合性感光層で述べたようなバインダーポリマーを
併用することが好ましい。

【００６３】ジアゾ樹脂を感光層に用いる場合、ジアゾ
樹脂としては例えば４−ジアゾジフェニルアミンとホル
ムアルデヒドとの縮合物が挙げられる。この場合、陰イ
オンとしては塩素イオンやテトラクロロ亜鉛酸、四フッ
化ホウ素、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレ
ンスルホン酸、４，４’−ビフェニルジスルホン酸、
２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベン
ゼンスルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−
ベンゾイルベンゼンスルホン酸などが挙げられるがこれ
らに限定されない。また、４−ジアゾジフェニルアミン
に限らず、他のジアゾモノマーでもよい。縮合剤もホル
ムアルデヒドに限らず、アセトアルデヒドやプロピオン
アルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒ
ド、ベンズアルデヒドなどが挙げられる。

【００６４】更に本発明の感光層では、必要に応じて染
料、顔料、ｐＨ指示薬、焼き出し剤、界面活性剤、重合
禁止剤、酸、塩基、光開始剤、光増感剤、光増感助剤な
どの各種添加剤を適当量加えることが好ましい。とりわ
け、本発明の光塩基発生剤の光増感効果を十分に引き出
すためには、例えば以下のような光増感剤を併用するこ
とが好ましい。

【００６５】２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノ
ン、５−ニトロアセナフテン、ｐ−ニトロジフェニル、
２−ニトロフルオレノン、１−ニトロピレン、ベンゾフ
ェノン、ミヘラー氏ケトン、４，４’−ジエチルアミノ
ベンゾフェノン、アクリドン、２−クロロアクリドン、
Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、５−ベ
ンゾイルアセナフテン、１，８−フタロイルナフタレ
ン、１，２−ベンズアントラセン、９，１０−フェナン
トラキノン、クロルベンズアンスロン、Ｎ−フェニルチ
オアクリドン、チオキサントン、２−クロロチオキサン
トン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジイ
ソプロピルチオキサントン、エリストシンなど。

【００６６】これらの光増感剤の中では、ベンゾフェノ
ンおよびその誘導体、アクリドンおよびその誘導体、チ
オキサントンおよびその誘導体、フルオレノンおよびそ
の誘導体が好ましい。

【００６７】本発明において、高耐刷性を有する水なし
平版印刷版原版にする場合には、感光層の露光後の初期
弾性率が５〜７５ｋｇｆ／ｍｍ2 、好ましくは１０〜６
５ｋｇｆ／ｍｍ2 、より好ましくは１０〜６０ｋｇｆ／
ｍｍ2 、さらに好ましくは１０〜５０ｋｇｆ／ｍｍ2 に
なるようにすればよい。露光後の初期弾性率が、５ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 未満の場合は、感光層がもろくなり、印刷時
に感光層が破壊してしまう。７５ｋｇｆ／ｍｍ2 を越え
る場合は、感光層が硬くなり、オフセット印刷を行った
場合に感光層とインキ反発層との間で繰り返し応力がか
かり、感光層とインキ反発層間との接着界面で破壊が起
こり高耐刷性が得られない。

【００６８】さらに、感光層の露光後の破断伸度は１０
％以上になるようにすればよい。より好ましくは５０％
以上、さらに好ましくは１００％以上である。破断伸度
が１０％未満の場合には、感光層がもろくなり、オフセ
ット印刷を行った場合に感光層が破壊され、高耐刷性が
得られない。

【００６９】ここで、感光層の露光後の初期弾性率、破
断伸度とは以下の方法により測定されるものをいう。

【００７０】［感光層の初期弾性率、破断伸度］これら
の感光層の引張特性は、ＪＩＳ Ｋ６３０１に従って測
定することができる。すなわち、未露光の水なし平版印
刷版原版を可溶性溶剤に浸漬し、インキ反発層および感
光層を支持体から脱落溶解させる。得られた溶液を濾過
し、可溶性溶剤に不溶のインキ反発層を分離する。さら
に該液を固形分３０％に減圧濃縮し、感光液とする。該
感光液をガラス板に塗布し、乾燥した後ガラス板よりシ
ートを剥がし、得られた約３００μｍの厚さのシートか
ら４号ダンベルでテストピースを作製し、３ｋＷの超高
圧水銀灯（オーク製作所製）を用いＵＶメーター（オー
ク製作所ライトメジャータイプＵＶ３６５）で１２ｍＷ
／ｃｍ2 の照度で１０分間露光し、テンシロン ＲＴＭ
−１００（オリエンテック（株）製）を用い引張速度２
０ｃｍ／分で、ＪＩＳ Ｋ６３０１に従って初期弾性
率、破断伸度を測定する。

【００７１】感光層の各成分の配合割合については特に
限定されないが、光重合性感光層の場合には光重合性化
合物１００重量部に対してバインダーポリマー０〜２，
００００重量部、好ましくは１０〜８，０００重量部、
より好ましくは１００〜５，０００重量部加え、本発明
の光塩基発生剤を１〜１００重量部、好ましくは２〜８
０重量部、より好ましくは５〜５０重量部加え、光開始
剤、光増感剤、光増感助剤のような光反応に寄与する化
合物をそれぞれ０〜１００重量部、好ましくは０〜８０
重量部、より好ましくは２〜５０重量部加え、染料、顔
料、ｐＨ指示薬、焼き出し剤、界面活性剤、重合禁止
剤、酸、塩基、などの各種添加剤をそれぞれ０〜１００
重量部、好ましくは０〜５０重量部、より好ましくは
０．５〜４０重量部加えるのがよい。光二量化型感光層
の場合には光二量化化合物１００重量部に対してバイン
ダーポリマー０〜２，００００重量部、好ましくは１０
〜８，０００重量部、より好ましくは１００〜５，００
０重量部加え、本発明の光塩基発生剤を１〜１００重量
部、好ましくは２〜８０重量部、より好ましくは５〜５
０重量部加え、光開始剤、光増感剤、光増感助剤のよう
な光反応に寄与する化合物をそれぞれ０〜１００重量
部、好ましくは０〜８０重量部、より好ましくは２〜５
０重量部加え、染料、顔料、ｐＨ指示薬、焼き出し剤、
界面活性剤、重合禁止剤、酸、塩基、などの各種添加剤
をそれぞれ０〜１００重量部、好ましくは０〜５０重量
部、より好ましくは０．５〜４０重量部加えるのがよ
い。感光層がこのような配合割合を有すると、光増感効
果に優れ、画像再現性・保存安定性に優れ、低温露光で
の画像再現性にも優れたものとなる。

【００７２】感光層の膜厚としては、０．１〜１００μ
ｍ、好ましくは０．５〜５０μｍ、より好ましくは０．
５〜２０μｍである。薄すぎると塗布時にピンホールな
どの欠点が生じやすくなり、厚すぎると経済的に不利に
なる。

【００７３】次に、本発明に用いられるインキ反発層に
ついて説明する。

【００７４】インキ反発層としては、シリコーンゴムを
用いるもの、フッ素樹脂を用いるものが挙げられる。こ
れらの中では、材料供給の簡便さなどからシリコーンゴ
ムが好ましい。

【００７５】シリコーンゴムを用いる場合、シリコーン
ゴムは大別して以下の２種に分類されるが、これらに限
定されない。

【００７６】（１）縮合型シリコーンゴム 縮合型シリコーンゴムを形成する方法としては、下記一
般式（ＩＩＩ）で示される繰り返し単位を有する分子量
数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを架橋剤により
架橋する方法が一般的である。

【００７７】

【化７】 （式中、ｎは２以上の整数、Ｒ５、Ｒ６は炭素数１〜５
０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜５０
の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜５０
の置換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれる少
なくとも一種であり、それぞれ同一でも異なっていても
よい。Ｒ５、Ｒ６の全体の４０％以下がビニル、フェニ
ル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、全
体の６０％以上がメチル基であるものが好ましい。） このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添
加して熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリコ
ーンゴムとすることもできる。

【００７８】このような線状ポリシロキサンには、通常
以下の一般式（ＩＶ）に示されるような架橋剤を添加す
ることにより架橋させる。

【００７９】 Ｒ７_q ＳｉＺ_4-q （ＩＶ） （式中、ｑは０〜２の整数であり、Ｒ７はアルキル基、
アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わさ
れた基を示し、それらはハロゲン原子、アミノ基、水酸
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、（メタ）アクリ
ルオキシ基、チオール基などの官能基を置換基として有
していてもよい。Ｚは水素原子、水酸基、アルコキシ
基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、アミ
ノオキシ基、アミノ基、グリシジル基、メタクリル基、
アリル基、ビニル基などを有するアセトキシシラン、ケ
トオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、
アミドシランなどが挙げられるが、これらに限定されな
い。） このような縮合型シリコーンゴムには、錫、亜鉛、鉛、
カルシウム、マンガンなどの金属を含んだ化合物などを
触媒として添加することは任意である。

【００８０】（２）付加型シリコーンゴム 付加型シリコーンゴムを形成する方法としては、分子中
に２個以上のエチレン性不飽和結合を有するポリシロキ
サン化合物と多価ハイドロジェンポリシロキサン化合物
とを反応させる方法が一般的である。分子中に２個以上
のエチレン性不飽和結合を有するポリシロキサン化合物
としてはα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン、両
末端メチル基の（メチルシロキサン）（ジメチルシロキ
サン）共重合体などが挙げられる。多価ハイドロジェン
ポリシロキサン化合物としては、α，ω−ジメチルポリ
メチルハイドロジェンシロキサン、両末端メチル基の
（メチルポリメチルハイドロジェンシロキサン）（ジメ
チルシロキサン）共重合体などが挙げられる。

【００８１】このような付加型シリコーンゴムには、白
金単体、塩化白金、オレフィン配位白金などを触媒とし
て添加する。

【００８２】インキ反発層の膜厚としては、０．５〜１
００μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましく
は１．０〜５μｍである。薄すぎる場合には耐刷性およ
びインキ反発性の点で問題を生じる。厚すぎると経済的
に不利であるばかりでなく、現像時にインキ反発層を除
去しにくくなり、画像再現性の低下をもたらす。

【００８３】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版においては、表面のインキ反発層保護の
目的および露光工程でのフィルムの真空密着性を改善す
るために、インキ反発層の表面にプレーンまたは凹凸処
理した薄い保護フィルムをラミネートまたは薄いプラス
チックシート状物を塗布または転写して保護層とするこ
ともできる。保護フィルム、保護層は露光工程において
有用であるが、現像工程においては、剥離または溶解に
よって除去され、印刷工程においては不必要なものであ
る。

【００８４】有用な保護フィルムは紫外線透過性を有
し、１００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下の厚みを
有するもので、その代表例として、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレ
ート、セロファンなどを挙げることができる。これらの
保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良するた
めに凹凸加工を施すことができる。また、曝光から原版
を保護する目的から、種々の光吸収剤や光退色性物質、
光発色性物質などを表面に塗布したフィルムを用いるこ
とも可能である。このような曝光対策を行う場合、露光
時に感光層の光重合反応を抑制しないような化合物を用
いることが好ましい。また、保護フィルムの代わりにコ
ーティングなどの方法で保護層を形成させておいてもよ
い。

【００８５】本発明で用いられる水なし平版印刷版は、
例えば次のようにして製造される。まず必要に応じて各
種粗面化処理した支持体上に、リバースコーター、エア
ナイフコーター、メーヤバーコーターなどの通常のコー
ター、あるいはホエラのような回転塗布装置を用い感光
層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要に応じ
て熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述したように
支持体と感光層の間に同様の方法でプライマー層を設け
た後、インキ反発層を形成しうる溶液を感光層上に同様
の方法で塗布し、通常６０〜１８０℃の温度で数分間熱
処理して、十分に硬化せしめてインキ反発層を形成す
る。必要ならば、保護層をさらに塗布するか保護フィル
ムを該インキ反発層上にラミネーターなどを用いてカバ
ーする。

【００８６】このようにして製造された水なし平版印刷
版は、例えば光透過性フィルムの場合はそのまま、ある
いは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場合は剥いでか
ら真空密着されたポジ型の場合はポジフィルム（ネガ型
の場合はネガフィルム）を通して活性光線で露光され
る。この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に
発生するものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キセ
ノンランプ、メタルハライドランプ、タングステンラン
プ、蛍光灯などを用いることができる。

【００８７】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら、自動現像装置を用いるかあるいは手による現像を行
うことによって、ポジ型の場合は未露光部（ネガ型の場
合は露光部）のインキ反発層、あるいはその下の感光層
が除去され、感光層あるいはプライマー層あるいは支持
体表面が露出しインキ受容部となる。自動現像装置とし
ては、好ましくは前処理部と現像部、及び後処理部がこ
の順に設けられている現像装置を用いるのがよい。場合
によっては後処理部の後方にさらに水洗部が設けられて
いてもよい。このような現像装置の具体例としては、東
レ（株）製ＴＷＬ−１１６０、ＴＷＬ−６５０などの現
像装置、あるいは特開平４−２２６５号や特開平５−２
２７２号、特開平５−６０００号などに開示されている
現像装置を挙げることができる。また、これらの現像装
置を組み合わせて用いることもできる。

【００８８】前処理液ならびに後処理液としては、通常
水なし平版印刷版原版の現像に開示されているものが用
いられる。また現像液としては水が通常用いられるが、
これらに限定されず、水や親水系溶剤、疎水系溶剤、界
面活性剤を適当に組み合わせて前処理液や現像液として
用いてもよい。逆に、現像液と後処理液を組み合わせて
用いてもよい。後処理液には通常染料などを含有させる
ことにより、後処理と同時に染色を行うことも可能であ
る。

【００８９】

【実施例】以下に実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。

【００９０】参考例１ ４−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩１４．５ｇを氷冷下
で４１．０ｇの濃硫酸に溶解した。温度を１０℃以下に
保ちながら、この反応液に１．４ｇのパラホルムアルデ
ヒドをゆっくり添加した。

【００９１】この反応混合物を氷冷下、５００ｍｌのエ
タノールに滴下し、生じた沈殿を濾過した。エタノール
で洗浄後、この沈殿物を１００ｍｌの純水に溶解し、こ
の液に７．０ｇの塩化亜鉛を溶解した２０ｇの冷水溶液
を加えた。

【００９２】生じた沈殿を濾過した後、エタノールで洗
浄し、これを１５０ｍｌの純水に溶解した。この液に
８．０ｇのヘキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解し
た２０ｇの冷水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過し、水
洗した後、乾燥してジアゾ化合物１を得た。

【００９３】合成例１ アセトフェノン２５ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩１４
ｇ、エタノール１００ｍｌを混合し、９０℃で２時間反
応させた。反応終了後、減圧乾燥によりエタノールを除
去し、得られた固体をヘキサンで２回洗浄した。（この
化合物を中間物１とする。） このようにして得られた中間物１０ｇ、アジピン酸ジク
ロリド７．３ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌを混合
し、容器全体を氷冷しながらトリエチルアミン／テトラ
ヒドロフラン＝１／１（重量比）溶液２０ｇを約１時間
かけて徐々に滴下した。滴下終了後、約１時間室温でか
くはんした。水とクロロホルムを加え、分液ロートを用
いて抽出を行い、有機層と水層を分離した。有機層を硫
酸ナトリウムで脱水し、ひだ折り濾紙で濾過して硫酸ナ
トリウムを除去し、その後減圧乾燥して溶媒を除去し
た。

【００９４】このようにして、式（Ｉ）で示される構造
を有する光塩基発生剤を得た。この光塩基発生剤は光ア
ミン発生剤であり、一般式（ＩＩ）で示される化合物で
もある。（この化合物を発生剤１とする。）

【化８】 合成例２ 合成例１で得られた中間物１０ｇ、アクリル酸５．５
ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌを混合し、容器全体を
氷冷しながらトリエチルアミン／テトラヒドロフラン＝
１／１（重量比）溶液２０ｇを約１時間かけて徐々に滴
下した。滴下終了後、約６時間室温でかくはんした。水
とクロロホルムを加え、分液ロートを用いて抽出を行
い、有機層と水層を分離した。有機層を硫酸ナトリウム
で脱水し、ひだ折り濾紙で濾過して硫酸ナトリウムを除
去し、その後減圧乾燥して溶媒を除去した。

【００９５】このようにして、式（Ｉ）で示される構造
を有する光塩基発生剤を得た。この光塩基発生剤は光ア
ミン発生剤である。（この化合物を発生剤２とする。） 合成例３ 合成例２において、アクリル酸５．５ｇをメタクリル酸
６．５ｇに変更する以外は全て合成例２と同様にして光
塩基発生剤を得た。この光塩基発生剤は光アミン発生剤
である。（この化合物を発生剤３とする。） 合成例４ 合成例２で得られた発生剤２とメタクリル酸メチルとを
１／１（モル比）で共重合し、高分子量の光塩基発生剤
を得た。この光塩基発生剤は光アミン発生剤である。
（この化合物を発生剤４とする。） 合成例５ 合成例３で得られた発生剤３とメタクリル酸メチルとを
１／１（モル比）で共重合し、高分子量の光塩基発生剤
を得た。この光塩基発生剤は光アミン発生剤である。
（この化合物を発生剤５とする。） 実施例１ 厚さ０．２４ｍｍのアルミ板上に、下記の組成のプライ
マー層を、硬化後の膜厚が９μｍになるように塗布して
１５０℃×２分間乾燥した後、３ｋＷの超高圧水銀灯
（オーク製作所製）を用いＵＶメーター（オーク製作所
ライトメジャータイプＵＶ３６５）で１２ｍＷ／ｃｍ2
の照度で１０分間露光し硬化させた。

【００９６】 （１）２−ヒドロキシエチルメタクリレート／２−ヒドロキシ １００重量部 エチルアクリレート／ケタクリル酸メチル／アクリル酸 メチル＝２５／２５／２５／２５の共重合体 （２）ジアゾ化合物１ ６５重量部 （３）黄色顔料（ＫＥＴ−ＹＥＬＬＯＷ４０２、大日本インキ １２重量部 化学工業（株）製） （４）白色顔料（ＦＩＮＥＸ−２５、堺化学社製） ２３重量部 （５）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ２５０重量部 （６）テトラヒドロフラン １５０重量部 プライマ層の上層に、下記の組成の感光層を、乾燥後の
膜厚が２μｍになるように塗布して、１２０℃×１分間
乾燥した。

【００９７】 （１）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ ２５重量部 ート４モルを反応させたもの （２）”サンプレン”ＩＢ１７００Ｄ（三洋化成工業（株）製 ５７重量部 ポリウレタン樹脂） （３）ペンタエリスリトールトリアクリレート １２重量部 （４）発生剤１ ３．６重量部 （５）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ７重量部 （６）２−クロロチオキサントン ５重量部 （７）ビクトリアピュアブルーＢＯＨの４−トルエンスルホン ０．３重量部 酸塩 （８）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活性 ０．１重量部 剤） （９）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １４５重量部 （１０）メチルエチルケトン １４５重量部 感光層の上層に、下記の組成のシリコーンゴム層を、乾
燥後の膜厚が２μｍになるように塗布して、１２０℃×
２分間乾燥硬化した。

【００９８】 （１）両末端水酸基のポリジメチルシロキサン １００重量部 （平均分子量５０，０００） （２）メチルトリアセトキシシラン ９．９重量部 （３）ジブチル錫ジオクテート ０．１重量部 （４）ヘキサン １９０重量部 （５）キシレン ５０重量部 シリコーンゴム層の上層に、膜厚６μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルムをラミネートして保護層とし、
水なし平版印刷版原版を得た。

【００９９】得られた水なし平版印刷版原版にポジフィ
ルムを３０秒真空密着させ、２５℃の温度で３ｋＷの超
高圧水銀灯（オーク製作所製）を用いＵＶメーター（オ
ーク製作所ライトメジャータイプＵＶ３６５）で２４ｍ
Ｗ／ｃｍ2 の照度で３分間露光した。露光後、保護層で
あるポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、東
レ（株）製自動現像装置ＴＷＬ−６５０を用いて現像し
た。この際、前処理液としては東レ（株）製”ＰＰ−
Ｆ”、現像液としては水、後処理液としては東レ（株）
製”ＰＡ−Ｆ”を使用した。得られた水なし平版印刷版
は良好な画像再現性を示した。結果を表１に示す。

【０１００】次に、上記と同様の方法にて作製した水な
し平版印刷版原版に、上記と同様のポジフィルムを３０
秒真空密着させ、１５℃の温度で３ｋＷの超高圧水銀灯
（オーク製作所製）を用いＵＶメーター（オーク製作所
ライトメジャータイプＵＶ３６５）で２４ｍＷ／ｃｍ2
の照度で３分間露光した。露光後、保護層であるポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離し、東レ（株）製
自動現像装置ＴＷＬ−６５０を用いて現像した。この
際、前処理液としては東レ（株）製”ＰＰ−Ｆ”、現像
液としては水、後処理液としては東レ（株）製”ＰＡ−
Ｆ”を使用した。得られた水なし平版印刷版は良好な画
像再現性を示した。結果を表１に示す。

【０１０１】次に、上記と同様の方法にて作製した水な
し平版印刷版原版を５０℃に温度調節した恒温容器内に
１月間保存した後、上記と同様の方法にて露光・現像を
行い、画像再現性を調べた。得られた水なし平版印刷版
は保存後も良好な画像再現性を示した。結果を表１に示
す。

【０１０２】実施例２ 実施例１において、感光層を以下のように変更する以外
は全て実施例１と同様にして原版を作製し、実施例１と
同様の評価を行った。結果を表１に示す。

【０１０３】 （１）１，２，５−トリ（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシ １３重量部 プロピルオキシ）−３−アクリロキシ−４，６−ジヒド ロキシヘキサン （２）ｐ−キリリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ １３重量部 ート３モル、ブチルグリシジルエーテル１モルを反応さ せたもの （３）”サンプレン”ＩＢ１７００Ｄ（三洋化成工業（株）製 ５３重量部 ポリウレタン樹脂） （４）ペンタエリスリトールテトラメタクリレート ８重量部 （５）発生剤２ ３重量部 （６）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ５重量部 （７）２−クロロチオキサントン ４．６重量部 （８）ビクトリアピュアブルーＢＯＨの４−トルエンスルホン ０．３重量部 酸塩 （９）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活性 ０．１重量部 剤） （１０）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １５０重量部 （１１）メチルイソブチルケトン １５０重量部 実施例３ 実施例１において、感光層を以下のように変更する以外
は全て実施例１と同様にして原版を作製し、実施例１と
同様の評価を行った。結果を表１に示す。

【０１０４】 （１）テトラオキシプロピレンジアミン１モルにグリシジルメ ２０重量部 タクリレート３モル、ブチルグリシジルエーテル１モル を反応させたもの （２）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ １１重量部 ート３モル、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ ラン１モルを反応させたもの （３）”ミラクトン”Ｐ２２Ｓ（日本ポリウレタン（株）製ポ ６０重量部 リウレタン樹脂） （４）１，８−オクタンジアクリレート １５重量部 （５）発生剤３ ５重量部 （５）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ３重量部 （６）２，４−ジエチルチオキサントン ５．５重量部 （７）ビクトリアピュアブルーＢＯＨのベンゼンスルホン酸塩 ０．４重量部 （８）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活性 ０．１重量部 剤） （１０）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １４０重量部 （１１）テトラヒドロフラン １４０重量部 比較例１ 実施例１において、感光層を以下のように変更する以外
は全て実施例１と同様にして原版を作製し、実施例１と
同様の評価を行った。結果を表１に示す通りであり、低
温露光の画像再現性が実施例１〜３より劣っていた。

【０１０５】 （１）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ ２５重量部 ート４モルを反応させたもの （２）”サンプレン”ＩＢ１７００Ｄ（三洋化成工業（株）製 ５７重量部 ポリウレタン樹脂） （３）ペンタエリスリトールトリアクリレート １２重量部 （４）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ７重量部 （５）２−クロロチオキサントン ５重量部 （６）ビクトリアピュアブルーＢＯＨの４−トルエンスルホン ０．３重量部 酸塩 （７）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活性 ０．１重量部 剤） （８）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １４５重量部 （９）メチルエチルケトン １４５重量部 比較例２ 実施例１において、感光層を以下のように変更する以外
は全て実施例１と同様にして原版を作製し、実施例１と
同様の評価を行った。結果を表１に示す通りであり、保
存後の画像再現性が実施例１〜３より劣っていた。

【０１０６】 （１）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ ２５重量部 ート４モルを反応させたもの （２）”サンプレン”ＩＢ１７００Ｄ（三洋化成工業（株）製 ５７重量部 ポリウレタン樹脂） （３）ペンタエリスリトールトリアクリレート １２重量部 （４）ブチルジエタノールアミン ３．６重量部 （５）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ７重量部 （６）２−クロロチオキサントン ５重量部 （７）ビクトリアピュアブルーＢＯＨの４−トルエンスルホン ０．３重量部 酸塩 （８）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活性 ０．１重量部 剤） （９）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １４５重量部 （１０）メチルエチルケトン １４５重量部 比較例３ 実施例２において、感光層を以下のように変更する以外
は全て実施例２と同様にして原版を作製し、実施例２と
同様の評価を行った。結果を表１に示す通りであり、低
温露光の画像再現性が実施例１〜３より劣っていた。

【０１０７】 （１）１，２，５−トリ（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシ １３重量部 プロピルオキシ）−３−アクリロキシ−４，６−ジヒド ロキシヘキサン （２）ｐ−キリリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ １３重量部 ート３モル、ブチルグリシジルエーテル１モルを反応さ せたもの （３）”サンプレン”ＩＢ１７００Ｄ（三洋化成工業（株）製 ５３重量部 ポリウレタン樹脂） （４）ペンタエリスリトールテトラメタクリレート ８重量部 （５）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ５重量部 （６）２−クロロチオキサントン ４．６重量部 （７）ビクトリアピュアブルーＢＯＨの４−トルエンスルホン ０．３重量部 酸塩 （８）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活性 ０．１重量部 剤） （９）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １５０重量部 （１０）メチルイソブチルケトン １５０重量部 比較例４ 実施例３において、感光層を以下のように変更する以外
は全て実施例３と同様にして原版を作製し、実施例３と
同様の評価を行った。結果を表１に示す通りであり、保
存後の画像再現性が実施例１〜３より劣っていた。

【０１０８】 （１）テトラオキシプロピレンジアミン１モルにグリシジルメ ２０重量部 タクリレート３モル、ブチルグリシジルエーテル１モル を反応させたもの （２）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ １１重量部 ート３モル、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ ラン１モルを反応させたもの （３）”ミラクトン”Ｐ２２Ｓ（日本ポリウレタン（株）製ポ ６０重量部 リウレタン樹脂） （４）１，８−オクタンジアクリレート １５重量部 （５）ベンジルアミン ５重量部 （５）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ３重量部 （６）２，４−ジエチルチオキサントン ５．５重量部 （７）ビクトリアピュアブルーＢＯＨのベンゼンスルホン酸塩 ０．４重量部 （８）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活性 ０．１重量部 剤） （１０）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １４０重量部 （１１）テトラヒドロフラン １４０重量部 実施例４ 実施例１において、プライマ層を以下に示す組成に変更
し、光硬化の代わりに２００℃×２分間加熱硬化させる
以外は全て実施例１と同様にして原版を作製し、実施例
１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。

【０１０９】 （１）ポリウレタン樹脂”ミラクトン”Ｐ２２Ｓ １８０重量部 （日本ポリウレタン（株）製） （２）ヘキサメチレンジイソシアネート １５重量部 （３）エポキシ・フェノール・尿素樹脂”ＳＪ９３７２” ４０重量部 （関西ペイント（株）製） （４）グリセリン１モルとエピクロロヒドリン３モルとを反応 ２５重量部 させたもの （５）白色顔料（ＦＩＮＥＸ−２５、堺化学社製） ２０重量部 （６）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ２５０重量部 （７）テトラヒドロフラン ２０重量部 実施例５ 実施例１において、シリコーンゴム層を下記に示す組成
に変更した以外は全て実施例１と同様にして原版を作製
し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示
す。

【０１１０】 （１）両末端ビニル基のポリジメチルシロキサン １００重量部 （平均分子量５０，０００） （２）(CH3)3 SiO(SiO(Si(CH3)2 O)30-(SiH(CH3)O)10 Si(CH3)3 ９．７重量部 （３）塩化白金酸／メチルビニルサイクリック錯体 ０．３重量部 （４）ヘキサン １８０重量部 （５）キシレン ５０重量部 実施例６ 実施例１において、感光層を以下のように変更する以外
は全て実施例１と同様にして原版を作製し、実施例１と
同様の評価を行った。結果を表１に示す。

【０１１１】 （１）１，３，４，６−テトラ（２−ヒドロキシ−３−メタク １５重量部 リロキシプロピルオキシ）−２，５−ジヒドロキシヘキ サン （２）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ ８重量部 ート２モル、ブチルグリシジルエーテル２モルを反応さ せたもの （３）ｍ−キシリレンジアミン１モルにグリシジルメタクリレ ４重量部 ート２モル、ブチルグリシジルエーテル１モル、３−グ リシドキシプロピルトリメトキシシラン１モルを反応さ せたもの （４）”サンプレン”ＩＢ１７００Ｄ（三洋化成工業（株）製 ５５重量部 ポリウレタン樹脂） （５）ペンタエリスリトールトリアクリレート １０重量部 （６）発生剤４ ３重量部 （７）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ６重量部 （８）２−クロロチオキサントン ５．６重量部 （９）ビクトリアピュアブルーＢＯＨの４−トルエンスルホン ０．３重量部 酸塩 （１０）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活 ０．１重量部 性剤） （１１）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １４５重量部 （１２）メチルエチルケトン １４５重量部 実施例７ 実施例１において、感光層を以下のように変更する以外
は全て実施例１と同様にして原版を作製し、実施例１と
同様の評価を行った。結果を表１に示す。

【０１１２】 （１）１，３，５−トリ（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキ １６重量部 シプロピルオキシ）−２，４，６−トリヒドロキシヘキ サン （２）テトラオキシプロピレンジアミン１モルにグリシジルメ １０重量部 タクリレート３モル、ブチルグリシジルエーテル１モル を反応させたもの （３）テトラオキシプロピレンジアミン１モルにグリシジルメ ４重量部 タクリレート２モル、ブチルグリシジルエーテル１モル 、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン１モル を反応させたもの （４）”ミラクトン”Ｐ２２Ｓ（日本ポリウレタン（株）製ポ ５７重量部 リウレタン樹脂） （５）１，８−オクタンジアクリレート １２重量部 （６）発生剤５ ４重量部 （７）４，４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン ６重量部 （８）２，４−ジエチルチオキサントン ５．６重量部 （９）ビクトリアピュアブルーＢＯＨのベンゼンスルホン酸塩 ０．３重量部 （１０）ＭＣＦ３２３（大日本インキ化学工業（株）製界面活 ０．１重量部 性剤） （１１）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド １４０重量部 （１２）テトラヒドロフラン １４０重量部

【表１】

【０１１３】

【発明の効果】本発明の水なし平版印刷版原版は、感光
層中に光塩基発生剤を含有しているので、光増感効率に
優れ、長期保存における保存安定性も良く、低温での露
光でも良好な画像再現性を有している。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に少なくとも感光層、インキ反発
   層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
   て、該感光層が光塩基発生剤を含有していることを特徴
   とする水なし平版印刷版原版。
2. 【請求項２】光塩基発生剤が光アミン発生剤であること
   を特徴とする請求項１記載の水なし平版印刷版原版。
3. 【請求項３】光塩基発生剤が、下記式（Ｉ）で示される
   構造を有することを特徴とする請求項１記載の水なし平
   版印刷版原版。 【化１】
4. 【請求項４】光塩基発生剤が、下記一般式（ＩＩ）で示
   される化合物であることを特徴とする請求項１記載の水
   なし平版印刷版原版。 【化２】 （式中、Ｌ１は連結基である。Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独
   立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト
   基、ニトロ基、アミノ基、炭素数１〜５０の置換あるい
   は非置換のアルキル基、アルキルオキシ基、炭素数２〜
   ５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、アルケニル
   オキシ基、炭素数４〜５０の置換あるいは非置換のアリ
   ール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも
   一種である。）