JPH10122645A

JPH10122645A - 循環温浴機

Info

Publication number: JPH10122645A
Application number: JP8271078A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Arakawa; 眞行荒川; Akihisa Suzuki; 昭央鈴木
Original assignee: Brother Industries Ltd
Current assignee: Brother Industries Ltd
Priority date: 1996-10-14
Filing date: 1996-10-14
Publication date: 1998-05-15

Abstract

(57)【要約】【課題】循環する被処理水を殺菌処理するために専用
の高価な殺菌手段を用いず、長寿命で安価に被処理水の
殺菌処理が行えるとともに、使い初めから連続的に入浴
可能な清浄度を維持することができる循環温浴機を提供
すること。【解決手段】循環ポンプ２６が作動すると、浴槽１０
内の浴用水が吸い込み口１２ｃから吸い上げられ、給水
ホース１４を通って微生物浄化槽３２と物理濾過槽３４
に順に送り込まれ浄化される。浄化された浴用水の一部
は、加熱槽２８に内蔵されたヒーター２８ａにより６０
度の高温に熱せられ殺菌処理される。残りの浴用水は加
熱槽２８をバイパスするバイパス流路３０を通り、加熱
槽２８を通った浴用水と合流される。合流された水温は
４０度程度になり、吐出口１２ｂから浴槽１０に循流さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、温水の循環温浴
機に関し、さらに詳細には、浴槽中の浴用水やプール中
の温水のように、使用により経時的に水温が低下すると
ともに汚染される液体を循環させながら、昇温や保温を
するとともに殺菌や制菌をするための家庭用、業務用の
循環温浴機に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、浴槽に貯留した浴用水は、入浴
にともなって垢や毛髪等の有機物、その他埃、塵や砂等
が不可避的に混入して経時的に汚染され、濁りや臭いそ
の他ヌメリ等を生じて入浴時の快適性が損なわれること
が一般に知られている。この場合に、浴槽の貯留水を使
用の度毎に新たな水に張り替えれば、このような問題は
生じることがなく理想的であるが、水道水の使用コスト
や温湯に沸かす際のコストが嵩むとともに水交換の手間
が掛かり、またいつでも入浴を楽しむことができない等
の諸欠点があった。

【０００３】このような問題に対する１つの解決提案と
して、一般の２４時間風呂と称される風呂用の循環浄化
装置が知られている。この装置は、特に、家庭内での使
用を企図したもので、砕石、砂利その他粒状セラミック
のような集合性基材に有用微生物を繁殖させたカートリ
ッジを内蔵し、浴用水をこのカートリッジに強制的に循
環させ得るようになっている。また、循環装置と浴槽と
の連通路中に、例えばスポンジを材質とするフィルター
が配設されている。使用の際は、この槽に内蔵した循環
ポンプを駆動して浴槽中の浴用水を吸引し、前記スポン
ジフィルターで浴用水に混入している毛髪や糸屑等の大
きいなゴミを捕集、濾過する。次いで、このようにして
予備濾過された浴用水中の垢や体脂等の有機物を微生物
で分解して、許容値以下まで清浄化するようになってい
る。この後、ヒーターにより所定の水温に昇温あるいは
保温され、前記浴槽に戻る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、浴槽に貯留
される浴用水は、その貯留開始時点では、一般に殺菌作
用を有する水道水が浴槽に供給されるため、非常に清浄
な状態にあるが、この殺菌作用を発現する塩素成分は比
較的早期に浴槽から放出され、殺菌力のない水となる。
また、貯留された浴用水は快適な入浴を可能にするため
に、通常は４０度前後に水温が保持されており、微生物
が繁殖しやすい環境になっている。特に、浴槽での不必
要な微生物の繁殖が進んだ場合、ぬめり、臭い、着色、
白濁等の不快の原因となる不具合が発生する。

【０００５】例えば、前述した従来技術に係わる浄化装
置では、浴用水の有機物を分解すると、その分解作用に
より生成される汚染物質（副産物）が濾過材表面を覆っ
てしまい、微生物の分解作用が低下してしまうという難
点が指摘される。また、微生物が有機物に対して十分な
浄化力を発揮するには、濾過材表面に微生物が適度に繁
殖していることが重要で、自然な定着を待つ必要があ
る。これには、一般に数日から数週間を要し、この間、
微生物による浴用水の浄化はほとんど期待できず、浴槽
内での不必要な微生物の繁殖に伴う、水の汚染が進行
し、不快な濁り、臭い、ぬめり等を生じる不都合もあっ
た。

【０００６】ところで、浄化装置の浄化力と浴用内にお
ける不要な微生物の繁殖速度とのアンバランスにより生
じる浴用水の汚れの進行と、ぬめりや臭い等の不具合の
発生を押さえ、使い初めから連続的に入浴可能な清浄度
を有する浴用水を得るために、浴用水の循環系の中に、
光化学的効果による殺菌作用を呈する紫外線照射源ある
いはこれと光触媒とを組み合わせた殺菌槽や、オゾンの
有する化学的な殺菌力を利用したオゾン装置を配設する
事が考えられる。

【０００７】しかしながら、装置内を十分に清浄化され
た浴用水が循環するわけではないことを考えると、浴用
水の汚染物質の付着により、次第に紫外線の照射光量が
少なくなり殺菌力が弱くなる。さらに、光源の紫外線ラ
ンプは高価であるとともに、寿命が比較的短いための、
そのランニングコストが高いものとなる。また、オゾン
装置においても、高価であることから装置全体のコスト
アップに繋がっていた。

【０００８】そこで、本発明は、循環する被処理水を殺
菌処理するために専用の高価な殺菌手段を用いず、長寿
命で安価に被処理水の殺菌処理が行えるとともに、使い
初めから連続的に入浴可能な清浄度を維持することがで
きる循環温浴機を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記課題を克服し、所期
の目的を好適に達成するためのなされた本発明の請求項
１記載の循環温浴機は、温水を温水貯留槽に貯留し、こ
の温水を温水貯留槽の外部で循環ポンプで循環させると
ともに、加熱手段により温水の昇温や保温を行う循環温
浴機において、加熱手段を回避して下流側に連通するバ
イパス流路を備えている。

【００１０】同じく、前記課題を克服し、所期の目的を
好適に達成するためのなされた請求項２記載の循環温浴
機は、請求項１の構成において、加熱手段を含む流路
と、これを回避して下流側に連通するバイパス流路とに
供給される温水の流量を調節可能な流量調節手段を備え
ている。

【００１１】また、前記課題を克服し、所期の目的を好
適に達成するためのなされた請求項３記載の循環温浴機
は、請求項１の構成において、加熱手段の積算加熱容量
が可変である。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の循環温浴機につ
いて、好適な実施の形態を挙げて、添付図面を参照しな
がら以下説明する。

【００１３】図１は、本発明の一実施の形態の循環温浴
機の概略構成を示している。この装置は、浴槽１０に貯
留されて経時的に汚染される浴用水を、この浴槽１０の
外部でポンプ循環させながら浄化と殺菌を行なうもので
ある。

【００１４】すなわち、本実施の形態の循環温浴機は、
図３と図４に示すように、温水貯留槽としての浴槽１０
に着脱自在に配設される給排水ユニット１２と、この給
排水ユニット１２に給水ホース１４と排水ホース１６を
介して接続する装置本体１８とから基本的に構成されて
いる。この装置本体１８は、例えば、浴槽１０の縁部に
設置されたり屋外の適当な位置に設置される。ここで
は、図３に示すように、浴室内に設置される場合につい
て説明を進める。この装置本体１８は漏電ブレーカー２
０及び給電ケーブル２２を介して電力供給がなされると
ともに、アースケーブル２４で確実にアースされて漏電
や感電に対する保護が図られている。

【００１５】図３および図４に示す給排水ユニット１２
は、一例として吸盤２６により浴槽１０の内壁面に着脱
自在に取り付けられ、浴用水の一般的な貯留水位より下
方に位置している。この給排水ユニット１２は、例え
ば、全体として矩形状をなすケース１２ａからなり、装
置本体１８内で浄化、殺菌された浴用水を浴槽１０に戻
す吐出口１２ｂと浴槽１０より浴用水を吸い出す吸い込
み口１２ｃ、ケース１２ａの背面に位置して、ケース１
２ａを浴槽１０の側壁に固定するための吸盤２６とから
構成されている。

【００１６】このケース１２ａ内部では、浴用水を装置
本体１８へ供給する給水ホース１４が吸い込み口１２ｃ
に、また、装置本体１８から浄化された浴用水を還流さ
せるための排水ホース１６が吐出口１２ｂにそれぞれ接
続されて構成されている。また、前記吸い込み口１２ｃ
は、その開口部に例えばスポンジのようなプレフィルタ
ー１２ｄが着脱可能に設けられ、浴用水に混入している
大きめのゴミや毛髪その他の異物を補集除去できるよう
になっている。これにより、後述の循環温浴機を稼働さ
せた際に、浴槽１０中の浴用水が循環ポンプにより吸い
込み口１２ｃと給水ホース１４を介して装置本体１８に
流入し、ここで浄化及び殺菌された後に、排水ホース１
６及び吐出口１２ｂを介して再び浴槽１０に戻って循環
するようになっている。

【００１７】装置本体１８は、図１に示すように、浴槽
１０から浴用水を汲み上げ循環させる循環ポンプ２６
と、浴用水に含まれる有機物やその他の汚染物質を吸
着、分解、濾過等により浄化する浄化部と、循環する浴
用水を保温加熱する加熱手段としての加熱槽２８と、こ
の加熱槽２８を回避して下流側に連通するバイパス流路
３０及びこれら各構成要素を連通するための流路とで構
成されている。このうち、循環する浴用水を清浄化する
浄化部は、浴用水に含まれる有機物を微生物により吸
着、分解して浄化する微生物浄化槽３２と、この浴用水
に含まれる有機性または無機性の汚染物質を捕集、濾過
する物理濾過槽３４とで構成されている。

【００１８】なお、浄化、加熱処理後の浴用水が浴槽１
０に帰還する流路には、この浴用水の流量を検出する流
量センサー３６と、循環する浴用水の水温を検出する水
温センサー３８が配設されている。さらに、この加熱槽
２８の内部には、槽内の水位を監視する水位センサー４
０が設置されいる。これらの各センサーは、電気的構成
を示す図５の制御回路４２に接続して、装置本体１８の
各種制御に必要な情報信号を出力するようになってい
る。

【００１９】さて、本実施の形態において、微生物浄化
槽３２は、浴用水に含まれる有機物を微生物の分解作用
により吸着、分解して浄化するもので、微生物の担体と
して流動可能な合成高分子ゲルが好適に用いられる。こ
の合成高分子ゲルとしては、優れた耐水性と弾性及び柔
軟性を有し、しかも高い含水性を有する粒状のポリビニ
ールアルコール（以下「ＰＶＡ」という）ゲルがある。
なお、流動浄化材として、このＰＶＡに限定するもので
はなく、循環する浴用水により流動可能であるととも
に、微生物の繁殖を容易に許すものであればよく、例え
ばセルロースのような高分子材料でもよい。

【００２０】本実施の形態の微生物浄化槽３２は、直立
配置される円筒状ケーシングと、この円筒状ケーシング
の内部に配設され、その中心軸に沿って延在する管状ガ
イド管と、円筒状ケーシングの内部に充填した適量のＰ
ＶＡゲルとから基本的に構成される。このような構成に
より、円筒状ケーシングに流入した浴用水は、その中心
部に位置する管状ガイド管を上昇した後、頂部で反転
し、円筒状ケーシングの内側壁部と管状ガイド管の外側
壁部により形成される環状領域を下降して流出口より流
出することになる。管状ガイド管の下端部は、微生物浄
化槽３２の流入口と直接接続しておらず、前記環状領域
を下降する浴用水とともに流動するＰＶＡゲルを環状ガ
イド管を上昇する浴用水の勢いにより吸い出せるように
開口している。これにより、浴用水の流れに乗って、微
生物浄化槽３２内でＰＶＡゲルが循環流動するととも
に、微生物で分解した後に生成される残査物がＰＶＡゲ
ルの表面に付着することで目詰まりを起こすというよう
な不都合が回避される。

【００２１】この微生物浄化槽３２の下流側に配設され
る物理濾過槽３４は、浴用水に含まれる微細な有機性や
無機性の汚染物質を物理的に補集、濾過するためのもの
で、濾過材として糸巻フィルターが内部に装填されてい
る。すなわち、この物理濾過槽３４は、円筒状容器と、
この円筒状容器の内部に着脱自在に同心配置される糸巻
フィルターとから基本的に構成される。糸巻フィルター
は、円筒状コアに線状素材を渦巻状に所要巻回して構成
され、この筒状コアには、多数の通孔が穿設されてい
る。また、線状素材として、例えばポリプロピレン製の
ヤーンが好適に使用され、その巻回密度としては、例え
ば１０から１００μｍ程度が推奨される。本実施の形態
では、約１０から２０μｍの巻回密度のものを採用し
た。

【００２２】前記物理濾過槽３４の流出口は、循環する
浴用水を６０度以上の高温に加熱可能な加熱槽２８と、
これをバイパスして下流側に連通するバイパス流路３０
とから構成されている。

【００２３】加熱槽２８は、内部に積算加熱容量が可変
のヒーター２８ａを備え、前記循環ポンプ２６でこの加
熱槽２８に供給される浴用水は、これに設けられた水位
センサー４０により監視され、基準水位に達してない場
合は、図５に示す表示器４４にエラー表示を行って、ヒ
ーター２８ａへの給電や前記循環ポンプ２６の運転を停
止させる。また、加熱槽２８とバイパス流路３０により
構成される加熱部から排出される浴用水の水温は、加熱
部の下流側で、浴用水が浴槽１０に帰還する流路に設置
された水温センサー３８により監視し、この水温センサ
ー３８の検出結果に基づいて、ヒーター２８ａへの給電
をＯＮ／ＯＦＦ制御して、浴用水を入浴に適した水温に
維持する。さらに、浴用水が循環しているか否かは、水
温センサー３８の設置位置の近くに介挿された流量セン
サー３６により監視される。

【００２４】ところで、本実施の形態では、加熱槽２８
内に設置されたヒーター２８ａへの通電時は常に６０度
以上の浴用水が生成されるとともに、バイパス流路３０
を流れる浴用水との合流後には、入浴可能な適温となる
ように、予め加熱槽２８とバイパス流路３０に対する浴
用水の分配比が決められており、これに対応した流路
径、すなわち、加熱槽２８を含む流路の流路抵抗とバイ
パス流路の流路抵抗とが調整されている。

【００２５】また、加熱槽２８に内蔵されるヒーター２
８ａの駆動は、これに供給する電力のＯＮ／ＯＦＦ制御
によって行っているが、循環する浴用水に供給する単位
時間当たりの熱量が可変であってもよく、例えば、ヒー
ター２８ａに印可する電圧あるいは電流の値を変えるこ
とで実現するようにしても良い。

【００２６】図５は、本実施の形態の循環温浴機の電気
的構成部分を制御するブロックを概略的に示している。
制御回路４２に前述した流量センサー３６、水温センサ
ー３８及び水位センサー４０が接続されて、それぞれの
検出結果をこの制御回路４２に入力している。またメモ
リ（ＲＡＭ）４６には、循環温浴機を自動的に稼働させ
るに必要な各種の情報や命令データーが格納され、制御
回路４２との間で信号交換されるようになっている。

【００２７】なお、前記循環ポンプ２６の運転と停止
は、制御回路４２から制御指令を受けたポンプ駆動回路
４８により駆動される。同様に、前記表示器４４は表示
器駆動回路５０により駆動され、さらに、加熱槽２８に
設置されて循環する浴用水を昇温、保温する前記ヒータ
ー２８ａはヒーター駆動回路５２により適時の駆動がな
される。また、これらの電気的構成要素に必要な電力
は、電源回路５４により供給される構成となっている。

【００２８】次に、前記各構成の作用について説明す
る。

【００２９】図１において、循環ポンプ２６により汲み
上げられた浴用水は、まず微生物浄化槽３２に供給され
る。

【００３０】先に述べたように、微生物浄化槽３２に
は、バクテリア等の有用微生物を繁殖が容易に可能なＰ
ＶＡゲルが、浴用水の流入により自由流動できる程度に
充填されている。従って、上流側に配設された循環ポン
プ２６により浴用水が微生物浄化槽３２に供給される
と、このＰＶＡゲルは浴用水の流勢により翻弄され流動
する。汚染された浴用水がＰＶＡゲルに接触すると、こ
れに繁殖した微生物は、浴用水中の垢や体脂等の有機物
を分解して汚泥状の汚染残渣とする。このようにして生
成された汚泥状の汚染残渣は、ＰＶＡゲルに膜状に付着
しようとするが、このＰＶＡゲルは槽内で流動している
ので付着がきわめて困難となる。仮に、この汚染残渣が
ＰＶＡゲルに付着しても、その流動動作により容易に剥
落させられてしまう。ＰＶＡゲルは目詰まりを生ずるこ
とがなく、これらＰＶＡゲルに対する洗浄処理や交換等
の定期的なメンテナンスは不要となる。また、ＰＶＡゲ
ルが激しく流動するために、微生物浄化槽３２に供給さ
れる浴用水に対する実効的な接触面積を大きく確保で
き、浴槽水に対して十分な浄化力を発揮できる等の利点
がある。

【００３１】この微生物浄化槽３２で有機物の浄化がな
された浴用水は、次段の物理濾過槽３４に流入する。こ
の物理濾過槽３４に供給された浴用水は、糸巻きフィル
ターの外周からこの糸巻きフィルターの半径方向内方に
通過し、ここで浴用水に含まれる微細な汚染物質が物理
的に捕集、濾過される。すなわち、微生物浄化槽３２で
分解されず残留した有機物や、分解により生成された汚
泥状の汚染残渣その他不溶性の有機物は、糸巻きフィル
ターに捕集、濾過される結果として、この物理濾過槽３
４の流出口に浄化された浴用水が得られる。

【００３２】なお、糸巻きフィルターは、その使用に伴
い次第に目詰まりを生じて通水抵抗が徐々に増大してい
く。この通水抵抗の増大を、例えば、前述した流量セン
サー３６により検出し、その検出値を前記メモリ（ＲＡ
Ｍ）４６に記憶させた許容流量値と比較して、この糸巻
きフィルターの交換時期を前記表示器４４により使用者
へ知らせるようにしてもよい。

【００３３】上述したように、微生物浄化槽３２及び物
理濾過槽３４で清浄化された浴用水は、ヒーター２８ａ
を内蔵した加熱槽２８と、これをバイパスして下流側に
連通するバイパス流路３０とで構成された加熱部に供給
される。これより下流側に配設された水温センサー３８
は、この管路を通過する浴用水の温度を計測監視し、こ
の水温センサー３８の検出結果が図５に示すメモリ（Ｒ
ＡＭ）４６での設定値よりも低い場合は、制御回路４２
がヒーター駆動回路５２を制御してヒーター２８ａに給
電を開始する。逆に、水温センサー３８の検出結果がメ
モり（ＲＡＭ）４６での設定値よりも高い場合は、制御
回路４２がヒーター駆動回路５２を制御してヒーター２
８ａへの給電を停止する。この場合、加熱槽２８におけ
る浴用水は、常に６０度以上の、浴用水に含まれる不要
な微生物を殺菌するのに適した温度に維持される。この
時の、浴用水の維持温度は、循環温浴機の電源投入初期
に設定される。なお、制御回路４２によるヒーター２８
ａへの給電の停止制御は、加熱槽２８内に設けられた水
位センサー４０により槽内の浴用水が基準水位に達して
いないと判定された場合や、本実施の形態の加熱部と浴
槽１０とを連通する流路に介挿された流量センサー３６
により浴用水が循環していないと判定された場合にも行
われ、ヒーター２８ａによる空焚きを防ぐとともに、常
に浴用水の適切な昇温、保温が行われる。

【００３４】この加熱部を経由して昇温、保温された浴
用水は、再び排水ホース１６を介して吐出口１２ｂから
浴槽１０に還流する。

【００３５】本実施の形態の循環温浴機の動作を、図６
に示すフローチャートを参照しながら説明する。

【００３６】循環温浴機の稼動（Ｓ１）に先立って、前
記メモリ（ＲＡＭ）４６には、入浴時の浴用水の温度設
定（Ｓ２）、加熱槽２８に内蔵されるヒーター２８ａに
通電時に供給される投入電力（殺菌温度）の設定（Ｓ
３）が予めなされているものとする。前記メモリ４６に
入力されるこれらの設定値は、前記表示器４４に表示さ
れて、視覚的に容易に確認できるようになっている。さ
らに、浴槽１０には、浴用水が所要の湯張り水位まで貯
留されているものとする。

【００３７】図６のステップＳ４において、循環温浴機
に備えた運転キー（図示せず）がオンしているか否かを
確認し、判定結果が否定（ＮＯ）であれば循環温浴機は
停止したままで、運転キーがオンされるのを待つことに
なる。また、判定結果が肯定（ＹＥＳ）であれば循環ポ
ンプ２６が駆動（Ｓ５）され、浴槽１０中の浴用水が図
１に示す管路系を循環し始める。そして循環ポンプ２６
を駆動した状態で次の操作を一時的に待機（Ｓ６）し、
この待機後にステップＳ７に移行する。

【００３８】このステップＳ７で、加熱槽２８の水位が
規定値になっているかを水位センサー４０で確認し、そ
の判定結果が否定（ＮＯ）であれば表示器４４にエラー
表示（Ｓ９）を行って循環ポンプ２６の駆動を停止（Ｓ
１０）する。また結果が肯定（ＹＥＳ）であれば次のス
テップＳ８に移行し、管路中を流れる浴用水の流量が規
定値に達しているかを流量センサー３６で確認し、判定
結果が否定（ＮＯ）であれば同じく表示器４４にエラー
表示（Ｓ９）を行って循環ポンプ２６の駆動を停止（Ｓ
１０）する。また、結果が肯定（ＹＥＳ）であれば、ス
テップＳ２１に移行する。なお、前記水位センサー３８
と流量センサー３６での確認が肯定（ＹＥＳ）される
と、循環ポンプ２６の運転が継続され、浴槽１０からの
浴用水は、微生物浄化槽３２、物理濾過槽３４及び加熱
槽２８とバイパス流路３０とで構成された加熱部の順で
循環した後、再び浴槽１０に帰還するという循環を繰り
返す。

【００３９】ステップＳ２１では、加熱槽２８とバイパ
ス流路３０とで構成された加熱部と浴槽１０とを連通す
る流路を流れる浴用水の温度がメモリ（ＲＡＭ）４６で
の設定値より低いか否かを確認し、結果が肯定（ＹＥ
Ｓ）であればヒーター２８ａをオン（Ｓ２２）してこの
加熱槽２８で浴用水の水温を、浴用水中に含まれる微生
物を殺菌可能な温度まで上昇させる。また、ステップＳ
２１での結果が否定（ＮＯ）であれば、前記ヒーター２
８ａをオフ（Ｓ２３）して次のステップＳ１１に移行す
る。

【００４０】ここでは、運転キーがオフされているか否
かを確認（Ｓ１１）し、結果が否定（ＮＯ）であれば、
図６に示すステップＳ７に戻る。一方、このステップで
の結果が肯定（ＹＥＳ）であれば、循環ポンプ２６等の
駆動を停止（Ｓ１０）し、循環温浴機の稼働が停止（Ｓ
１２）する。

【００４１】次に、本発明の第二の実施の形態について
説明する。

【００４２】図２は、第二の実施の形態の循環温浴機の
概略構成を示している。

【００４３】この装置も、浴槽１０に貯留されて経時的
に汚染される浴用水を、この浴槽１０の外部でポンプ循
環させながら浄化と殺菌を行なうもので、液体貯留槽と
しての浴槽１０に着脱自在に配設される給排水ユニット
１２と、この給排水ユニット１２に給水ホース１４と排
水ホース１６を介して接続する装置本体１８とから基本
的に構成されている。この装置本体１８は漏電ブレーカ
ー２０及び給電ケーブル２２を介して電力供給がなされ
るとともに、アースケーブル２４で確実にアースされて
漏電や感電に対する保護が図られている等の点は、先の
実施の形態と同じである。

【００４４】ここでは、ヒーター２８ａを内蔵した加熱
槽２８とこれをバイパスするバイパス流路３０とで構成
された加熱部のうち、加熱槽２８を含む流路系が、加熱
槽２８に加えて、バイパス流路３０と加熱槽２８とに流
れる浴用水の分配比を変更可能な弁装置と、加熱槽２８
で生成される温水の温度を直接測定可能な別の水温セン
サー５６とにより構成されていることに特徴がある。本
実施の形態では、前記弁装置は絞り弁５８を用いてい
る。

【００４５】すなわち循環ポンプ２６により浴槽１０よ
り汲み上げられ、加熱槽２８に供給された浴用水は、加
熱部と浴槽１０との間を連通する流路に配設された水温
センサー３８により検出される水温がメモリ（ＲＡＭ）
４６での設定値より低いと判断された場合、加熱槽２８
に内蔵されたヒーター２８ａに電力が供給されることに
なる。この時、別の水温センサー５６は、加熱槽２８で
生成される温水の温度を監視し、絞り弁５８の弁の開口
度を調節することで常に所定の高温水、この場合、装置
駆動初期に設定された殺菌温度にまで昇温された浴用水
が生成される。この加熱槽２８を通過する浴用水は、６
０度以上の高温になり、これに含まれる不必要な微生物
は死滅処理される。これにより、浴槽１０に環流する浴
用水中の微生物濃度は低くなり、結果的に、浴槽１０中
の浴用水の含まれる微生物の数も少なくなる。浴槽１０
内の不要な微生物の数と不快の原因となるぬめり、臭
い、白濁等の不具合には相関があるので、快適な入浴が
持続的に可能である浴用水が生成されることになる。

【００４６】図７は、第二の実施の形態の循環温浴機の
電気的構成部分を制御するブロックを概略的に示してい
る。電気的な構成は、先の実施の形態の場合とほぼ同じ
で、さらに、加熱部の加熱槽２８を含む流路に配設され
る絞り弁５８と、これに対応して設置される弁駆動回路
６０から構成されている点が特徴である。また、これら
の電気的構成要素に必要な電力は、電源回路５４により
供給され、流量センサー３６、水温センサー３８及び水
位センサー４０と制御回路４２との間で信号交換される
とともに、各種の装置駆動上の制御を行っている点も、
先の実施の形態の場合と同様である。さらに、別の水温
センサー５６が制御回路４２との間で電気的に接続さ
れ、装置を駆動する上で必要な信号交換を行っている。

【００４７】本実施の形態の循環温浴機の動作を、図８
に示すフローチャートを参照しながら簡単に説明する。

【００４８】なお、全体的な動作のフローは、先の実施
の形態の場合と同じであるので、その説明は省略する。
ステップＳ３１で、加熱槽２８とそのバイパス流路３０
とで構成された加熱部と浴槽１０とを連通する流路を流
れる浴用水の温度が、メモリ（ＲＡＭ）４６での設定値
より低いと判定した後の動作が異なる。すなわち、この
場合、加熱槽２８に内蔵されたヒーター２８ａをオン
（Ｓ３２）して、この加熱槽２８で浴用水の温度を水中
に含まれる微生物を殺菌可能な温度まで上昇させる。さ
らに、ステップＳ３４で、加熱槽２８で加熱される浴用
水の温度が、メモリ（ＲＡＭ）４６での設定値（殺菌温
度）より高いか否かを確認し、結果が肯定（ＹＥＳ）で
あれば絞り弁５８の弁を開き（Ｓ３５）、加熱槽２８に
供給される浴用水の流量を増やす。一方、ステップＳ３
４での結果が否定（ＮＯ）であれば、加熱槽２８の上流
側に設置された絞り弁５８の弁を絞り（Ｓ３６）、加熱
槽２８に供給される浴用水の流量を減らす。このよう
に、常に加熱槽２８を通過する浴用水の水温が設定値に
あるように絞り弁５８の弁の開口度を制御する。

【００４９】この後、次のステップＳ１１に移る。

【００５０】ここでは、先の実施の形態と同じで、運転
キーがオフされているか否かを確認（Ｓ１１）し、結果
が否定（ＮＯ）であれば、ステップＳ７に戻る。一方、
このステップでの結果が肯定（ＹＥＳ）であれば、循環
ポンプ２６等の駆動を停止（Ｓ１０）し、循環温浴機の
稼働を停止（Ｓ１２）する。

【００５１】更に、本発明の第三の実施の形態について
説明する。

【００５２】概略構成ならびに電気的な構成は、第二の
実施の形態と同じで、図２と図７に示している。

【００５３】本実施の形態の循環温浴機の動作を、図９
に示すフローチャートを参照しながら簡単に説明する。

【００５４】全体的な動作のフローは、第二の実施の形
態の場合とほぼ同じであるが、ステップＳ４１以降の動
作が異なる。第二の実施の形態においては、ヒーター２
８ａへの電力供給をＯＮ／ＯＦＦ制御することで循環す
る浴用水への熱の添加量を制御しているが、ここではヒ
ーター２８ａへの印可電圧や電流を制御して熱添加量を
制御する点に特徴がある。

【００５５】加熱槽２８とそのバイパス流路３０とで構
成された加熱部と浴槽１０とを連通する流路を流れる浴
用水の温度が、メモリ（ＲＡＭ）４６での設定値より低
いと判定した場合、加熱槽２８に内蔵されたヒーター２
８ａへの印可電圧や電流を上げて（Ｓ４２）、この加熱
槽２８を通過する浴用水の温度を水中に含まれる微生物
を殺菌可能な温度まで上昇する。さらに、ステップＳ４
４で、加熱槽２８で加熱される浴用水の温度が、メモリ
（ＲＡＭ）４６での設定値（殺菌温度）より高いか否か
を確認し、結果が肯定（ＹＥＳ）であれば絞り弁５８の
弁を開き（Ｓ４５）、加熱槽２８に供給される浴用水の
流量を増やす。一方、ステップＳ４４での結果が否定
（ＮＯ）であれば、加熱槽２８の上流側に設置された絞
り弁５８の弁を絞り（Ｓ４６）、加熱槽２８に供給され
る浴用水の流量を減らす。また、ステップ４１での結果
が否定（ＮＯ）であれば、加熱槽２８に内蔵されたヒー
ター２８ａへの印可電圧や電流を下げ（Ｓ４３）、且
つ、この加熱槽２８で浴用水の温度を水中に含まれる微
生物を殺菌可能な温度まで上昇させることができるまで
絞り弁５８の弁を絞る（Ｓ４７）。このように、常に加
熱槽２８を通過する浴用水の水温が設定値にあるように
絞り弁５８の弁の開口度を制御する。

【００５６】この後、次のステップＳ１１に移る。

【００５７】ここでは、先の実施の形態と同じで、運転
キーがオフされているか否かを確認（Ｓ１１）し、結果
が否定（ＮＯ）であれば、ステップＳ７に戻る。一方、
このステップでの結果が肯定（ＹＥＳ）であれば、循環
ポンプ２６等の駆動を停止（Ｓ１０）し、循環温浴機の
稼働を停止（Ｓ１２）する。

【００５８】このように、入浴設定温度を入浴中に低く
設定し直した場合、ヒーター２８ａへの印可電圧や電流
を下げて熱添加量を制限しても良い。この場合、水温セ
ンサー３８により測定された循環する浴用水の水温に基
づいて、ヒーター２８ａへの印可電圧あるいは電流が制
限されることになる。この制限は、連続的であっても良
いし断続的であっても良い。また、別の水温センサー５
６により、加熱槽２８から排出される浴用水の水温が測
られ、この情報信号に基づいて、絞り弁５８の弁の開口
度が変更される。この場合は、殺菌可能温度の６０度以
上に保持する必要があるので、弁はさらに絞られ流量は
減少することになるが、加熱槽２８を通過する浴用水は
常に確実に殺菌処理されることになる。

【００５９】本発明の構成は以上の述べた実施形態の限
定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で種
々の変更を加えることができる。

【００６０】例えば、第二の実施の形態では、加熱槽２
８に供給される浴用水の流量を変更するために、本実施
形態では、絞り弁５８を加熱槽２８の上流側に設置した
が、絞り弁５８の設置位置はこれに限定されるものでは
なく、加熱槽２８の下流側や、バイパス流路３０中に設
置しても良い。

【００６１】また、このような一つの流路を流れる浴用
水の流量を制限する絞り弁を用いるのではなく、加熱槽
２８を含む流路とそのバイパス流路３０との分岐点ある
いは合流点に、全体を流れる流量を変えることなくこれ
らの流路に流れる浴用水の分配比を切り替えることがで
きる流量制御弁を設置しても良い。この場合は、各流路
に流れる浴用水の分配比が変わるが、全体の流量は変わ
らないので、全体的な循環ポンプ２６に対する負荷も変
化しない。

【００６２】さらに、水温センサー３８は、加熱部と吐
出口１２ｂを連通する流路に配設しているが、吸い込み
口１２ｃと加熱部を連通する流路内に配設しても良い。
この場合には、浴槽１０内の浴用水の水温の変化を的確
に、また、迅速に検出することができ、さらに良好な加
熱、保温及び殺菌処理を行えることが期待できる。

【００６３】

【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明の請求項１記載の循環温浴機によれば、加熱手段
と、これを回避して下流側に連通するバイパス流路を備
えているので、加熱手段は、循環する温水中に含まれる
不要な微生物を死滅できる程度の高温にまで加熱し、バ
イパス流路は、この加熱手段を回避して、循環する温水
の一部を下流側に供給する。これにより、新たな殺菌用
の装置を用いることなく、循環する温水を殺菌処理でき
るとともに、入浴に適する温度の温水を安価に生成でき
るという効果を有する。

【００６４】また、請求項２記載の循環温浴機によれ
ば、加熱手段を含む流路と、これを回避して下流側に連
通するバイパス流路に供給する温水の流量を調節可能な
流量調整手段を備えているので、加熱手段を流れる温水
は常に設定された６０度以上の殺菌温度にまで昇温され
るように流量が調整され、可能な限り多量の温水の確実
な殺菌が行える。

【００６５】また、請求項３記載の循環温浴機によれ
ば、加熱手段の積算加熱容量が可変であるので、温水の
温度を低く設定した場合でも、継続して殺菌処理を行う
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施の形態の基本構成を示す概
略図である。

【図２】本発明の第二の実施の形態の基本構成を示す概
略図である。

【図３】浴室に循環浄化装置を設置した状態を示す概略
斜視図である。

【図４】循環浄化装置の一部を構成する給排水ユニット
を浴槽内壁面に取り付けた状態を示す縦断面図である。

【図５】第一の実施の形態の循環温浴機の電気的構成部
分を個別に制御し得る制御ブロックを示す概略図であ
る。

【図６】第一の実施の形態の循環浄化装置の制御の流れ
を示すフローチャート図である。

【図７】第二の実施の形態の電気的構成部分を個別に制
御し得る制御ブロックを示す概略図である。

【図８】第二の実施の形態の制御の流れを示すフローチ
ャート図である。

【図９】第三の実施の形態の制御の流れを示すフローチ
ャート図である。

【符号の説明】

１０浴槽１２ｂ吐出口１２ｃ吸い込み口１４給水ホース１８装置本体２６循環ポンプ２８加熱槽２８ａヒーター３０バイパス流路３２微生物浄化槽３４物理濾過槽３８水温センサー５８絞り弁

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】温水を温水貯留槽に貯留し、この温水を
循環ポンプで循環させるとともに、加熱手段により前記
温水の昇温や保温を行う循環温浴機において、前記加熱手段を回避して下流側に連通するバイパス流路
を備えたことを特徴とする循環温浴機。
【請求項２】前記加熱手段を含む流路と、これを回避
して下流側に連通するバイパス流路とに供給される温水
の流量を調節可能な流量調節手段を備えたことを特徴と
する請求項１記載の循環温浴機。
【請求項３】前記加熱手段の積算加熱容量が可変であ
ることを特徴とする請求項１記載の循環温浴機。