JPH10120648A - 光学活性ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸およびその製造方法 - Google Patents
光学活性ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸およびその製造方法Info
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- JPH10120648A JPH10120648A JP28086996A JP28086996A JPH10120648A JP H10120648 A JPH10120648 A JP H10120648A JP 28086996 A JP28086996 A JP 28086996A JP 28086996 A JP28086996 A JP 28086996A JP H10120648 A JPH10120648 A JP H10120648A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡便に光学活性アゼチジン−２−カルボン酸
に導き得る新規な化合物を提供する。 【解決手段】 一般式（１） （式中、Ｎｓは２−ニトロベンゼンスルホニル基、４−
ニトロベンゼンスルホニル基または２，４−ジニトロベ
ンゼンスルホニル基を示し、＊は不斉炭素原子を示
す。）で示される光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カル
ボン酸。
に導き得る新規な化合物を提供する。 【解決手段】 一般式（１） （式中、Ｎｓは２−ニトロベンゼンスルホニル基、４−
ニトロベンゼンスルホニル基または２，４−ジニトロベ
ンゼンスルホニル基を示し、＊は不斉炭素原子を示
す。）で示される光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カル
ボン酸。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学活性アゼチジン
−２−カルボン酸の製造方法に関する。
−２−カルボン酸の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学活性アゼチジン−２−カルボン酸は
医薬品の原料として重要な化合物である。従来よりかか
る光学活性アゼチジン−２−カルボン酸の製造方法とし
ては、例えば光学活性Ｎ−トシル−α−アミノ−γ−ハ
ロゲノ酪酸エステルを塩基の存在下に閉環反応させた
後、加水分解することによって光学活性Ｎ−トシル−ア
ゼチジン−２−カルボン酸を得、次いでトシル基を脱離
する方法（特開昭４７−１４４５７号公報）が知られて
いるが、この方法はトシル基を脱離する際に金属ナトリ
ウムを用いるバーチ還元や、アルカノール中での電解還
元などによらなければならないという問題があった。
医薬品の原料として重要な化合物である。従来よりかか
る光学活性アゼチジン−２−カルボン酸の製造方法とし
ては、例えば光学活性Ｎ−トシル−α−アミノ−γ−ハ
ロゲノ酪酸エステルを塩基の存在下に閉環反応させた
後、加水分解することによって光学活性Ｎ−トシル−ア
ゼチジン−２−カルボン酸を得、次いでトシル基を脱離
する方法（特開昭４７−１４４５７号公報）が知られて
いるが、この方法はトシル基を脱離する際に金属ナトリ
ウムを用いるバーチ還元や、アルカノール中での電解還
元などによらなければならないという問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
より簡便に光学活性アゼチジン−２−カルボン酸に導く
ことができる新たな化合物を開発するべく鋭意検討した
結果、光学活性Ｎ−トシル−アゼチジン−２−カルボン
酸のトシル基に代えて特定の置換基を持つ化合物は、容
易に光学活性アゼチジン−２−カルボン酸に導かれ得る
ことを見出し、本発明に至った。
より簡便に光学活性アゼチジン−２−カルボン酸に導く
ことができる新たな化合物を開発するべく鋭意検討した
結果、光学活性Ｎ−トシル−アゼチジン−２−カルボン
酸のトシル基に代えて特定の置換基を持つ化合物は、容
易に光学活性アゼチジン−２−カルボン酸に導かれ得る
ことを見出し、本発明に至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式（１） （式中、Ｎｓは２−ニトロベンゼンスルホニル基、４−
ニトロベンゼンスルホニル基または２，４−ジニトロベ
ンゼンスルホニル基を示し、＊は不斉炭素原子を示
す。）で示される光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カル
ボン酸を提供するものである。
式（１） （式中、Ｎｓは２−ニトロベンゼンスルホニル基、４−
ニトロベンゼンスルホニル基または２，４−ジニトロベ
ンゼンスルホニル基を示し、＊は不斉炭素原子を示
す。）で示される光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カル
ボン酸を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】一般式（１）で示されるＮ置換ア
ゼチジン−２−カルボン酸とは、（Ｓ）−Ｎ−２−ニト
ロベンゼンスルホニルアゼチジン−２−カルボン酸、
（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニルアゼチジン
−２−カルボン酸、（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベン
ゼンスルホニルアゼチジン−２−カルボン酸、（Ｒ）−
Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニルアゼチジン−２−カ
ルボン酸、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニル
アゼチジン−２−カルボン酸、（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジ
ニトロベンゼンスルホニルアゼチジン−２−カルボン酸
である。
ゼチジン−２−カルボン酸とは、（Ｓ）−Ｎ−２−ニト
ロベンゼンスルホニルアゼチジン−２−カルボン酸、
（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニルアゼチジン
−２−カルボン酸、（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベン
ゼンスルホニルアゼチジン−２−カルボン酸、（Ｒ）−
Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニルアゼチジン−２−カ
ルボン酸、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニル
アゼチジン−２−カルボン酸、（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジ
ニトロベンゼンスルホニルアゼチジン−２−カルボン酸
である。
【０００６】本発明の光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−
カルボン酸は、一般式（２） （式中、Ｎｓ、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示し、Ｒ
は低級アルキル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で示される光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪
酸エステルを塩基の存在下に閉環反応させたのち、加水
分解することによって容易に製造することができる。
カルボン酸は、一般式（２） （式中、Ｎｓ、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示し、Ｒ
は低級アルキル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で示される光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪
酸エステルを塩基の存在下に閉環反応させたのち、加水
分解することによって容易に製造することができる。
【０００７】一般式（２）で示される光学活性Ｎ置換α
−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルにおいて、置換基
Ｒで示される低級アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル
基などの直鎖もしくは分岐状の炭素数１〜６のアルキル
基などが、置換基Ｘで示されるハロゲン原子としては、
例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などがそれぞれ
挙げられる。
−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルにおいて、置換基
Ｒで示される低級アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−プロピル基、ｉ−ブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル
基などの直鎖もしくは分岐状の炭素数１〜６のアルキル
基などが、置換基Ｘで示されるハロゲン原子としては、
例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などがそれぞれ
挙げられる。
【０００８】かかる光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハ
ロゲノ酪酸エステルとしては、例えば（Ｓ）−Ｎ−２−
ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ
酪酸メチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼン
スルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸エチルエス
テル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−ア
ミノ−γ−クロロ酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｓ）
−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−
γ−クロロ酪酸−ｎ−ブチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２
−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロ
ム酪酸メチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼ
ンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸エチルエ
ステル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル
−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステ
ル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α
−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｉ−プロピルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−ア
ミノ−γ−ブロム酪酸−ｎ−ブチルエステル、（Ｓ）−
Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ
−クロロ酪酸メチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロ
ベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸エ
チルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフ
ォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエ
ステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル
−α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｉ−プロピルエステ
ル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α
−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−ブチルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−ア
ミノ−γ−ブロム酪酸メチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４
−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロ
ム酪酸エチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼ
ンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｎ−プ
ロピルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスル
フォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｉ−プロピル
エステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニ
ル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｎ−ブチルエステ
ル、
ロゲノ酪酸エステルとしては、例えば（Ｓ）−Ｎ−２−
ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ
酪酸メチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼン
スルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸エチルエス
テル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−ア
ミノ−γ−クロロ酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｓ）
−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−
γ−クロロ酪酸−ｎ−ブチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２
−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロ
ム酪酸メチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼ
ンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸エチルエ
ステル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル
−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステ
ル、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α
−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｉ−プロピルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−ア
ミノ−γ−ブロム酪酸−ｎ−ブチルエステル、（Ｓ）−
Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ
−クロロ酪酸メチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロ
ベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸エ
チルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフ
ォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエ
ステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル
−α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｉ−プロピルエステ
ル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α
−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−ブチルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−ア
ミノ−γ−ブロム酪酸メチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４
−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロ
ム酪酸エチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼ
ンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｎ−プ
ロピルエステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスル
フォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｉ−プロピル
エステル、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニ
ル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−ｎ−ブチルエステ
ル、
【０００９】（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンス
ルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸メチルエステ
ル、（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニ
ル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸エチルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｉ−プロピルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−ブチルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエステル、（Ｓ）−
Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミ
ノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−ブチルエステル、
ルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸メチルエステ
ル、（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニ
ル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸エチルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｉ−プロピルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−ブチルエステル、
（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエステル、（Ｓ）−
Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミ
ノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｓ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−ブチルエステル、
【００１０】（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォ
ニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸メチルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−ア
ミノ−γ−クロロ酪酸エチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２
−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロ
ロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニト
ロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸
−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベン
ゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−
ブチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスル
フォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエステ
ル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α
−アミノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル、（Ｒ）−Ｎ
−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−
ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム
酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロ
ベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−
ｎ−ブチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼン
スルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸メチルエス
テル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸エチルエステル、（Ｒ）−
Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ
−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４
−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロ
ロ酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニト
ロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸
−ｎ−ブチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼ
ンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエ
ステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル
−α−アミノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル、（Ｒ）
−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−
γ−ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−
４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブ
ロム酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニ
トロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪
酸−ｎ−ブチルエステル、
ニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸メチルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−ア
ミノ−γ−クロロ酪酸エチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２
−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロ
ロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニト
ロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸
−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベン
ゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−
ブチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスル
フォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエステ
ル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α
−アミノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル、（Ｒ）−Ｎ
−２−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−
ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム
酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロ
ベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸−
ｎ−ブチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼン
スルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸メチルエス
テル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸エチルエステル、（Ｒ）−
Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ
−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４
−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロ
ロ酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニト
ロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸
−ｎ−ブチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼ
ンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエ
ステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル
−α−アミノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル、（Ｒ）
−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−
γ−ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−
４−ニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブ
ロム酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−４−ニ
トロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−ブロム酪
酸−ｎ−ブチルエステル、
【００１１】（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンス
ルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸メチルエステ
ル、（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニ
ル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸エチルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｉ−プロピルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−ブチルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエステル、（Ｒ）−
Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミ
ノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−ブチルエステルなどが挙げられる。
ルフォニル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸メチルエステ
ル、（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニ
ル−α−アミノ−γ−クロロ酪酸エチルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−プロピルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｉ−プロピルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−クロロ酪酸−ｎ−ブチルエステル、
（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−
α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエステル、（Ｒ）−
Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミ
ノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｉ−プロピルエステル、（Ｒ）−Ｎ−２，
４−ジニトロベンゼンスルフォニル−α−アミノ−γ−
ブロム酪酸−ｎ−ブチルエステルなどが挙げられる。
【００１２】塩基としては、例えば水素化ナトリウム、
水素化カリウム、水素化リチウムなどの水素化アルカリ
金属、ソジウムメチラート、ソジウムエチラートなどの
アルカリ金属のアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどの水酸化アルカリ金属などが挙げられ、
その使用量は光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ
酪酸エステルに対して通常０．７〜１０モル倍、好まし
くは０．８〜３モル倍の範囲である。
水素化カリウム、水素化リチウムなどの水素化アルカリ
金属、ソジウムメチラート、ソジウムエチラートなどの
アルカリ金属のアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどの水酸化アルカリ金属などが挙げられ、
その使用量は光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ
酪酸エステルに対して通常０．７〜１０モル倍、好まし
くは０．８〜３モル倍の範囲である。
【００１３】閉環反応に際して通常は溶媒が用いられ
る。かかる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチルエーテル、ｉ−プロピルエーテル、
ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエ
ーテル系溶媒、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶
媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムな
どのハロゲン系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、メタノール、エタノール、ｉ−プロピルアルコー
ルなどのアルコール系溶媒などが挙げられる。これらの
溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いら
れ、その使用量は光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロ
ゲノ酪酸エステルに対して１〜２０重量倍の範囲であ
る。
る。かかる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチルエーテル、ｉ−プロピルエーテル、
ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエ
ーテル系溶媒、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶
媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムな
どのハロゲン系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、メタノール、エタノール、ｉ−プロピルアルコー
ルなどのアルコール系溶媒などが挙げられる。これらの
溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いら
れ、その使用量は光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロ
ゲノ酪酸エステルに対して１〜２０重量倍の範囲であ
る。
【００１４】閉環反応は、例えば溶媒中で光学活性Ｎ置
換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルおよび塩基を
混合することによって行われ、反応温度は通常−１０〜
７０℃の範囲である。
換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルおよび塩基を
混合することによって行われ、反応温度は通常−１０〜
７０℃の範囲である。
【００１５】次いで加水分解することによって、目的の
光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸を得る。加
水分解は、得られた反応混合物に水を加えることによっ
て行われる。水の使用量は先の反応において用いた光学
活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルに対
して通常０．１〜２０重量倍の範囲であり、加水分解温
度は通常−１０〜５０℃の範囲である。
光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸を得る。加
水分解は、得られた反応混合物に水を加えることによっ
て行われる。水の使用量は先の反応において用いた光学
活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルに対
して通常０．１〜２０重量倍の範囲であり、加水分解温
度は通常−１０〜５０℃の範囲である。
【００１６】なお、先の反応における塩基の使用量が少
ない場合には、加水分解が速やかに進行しないこともあ
るが、その場合には水と共に塩基を追加してもよい。か
かる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水素化リチウムなどの水素化アルカリ金属、ソ
ジウムメチラート、ソジウムエチラートなどのアルカリ
金属のアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなどの水酸化アルカリ金属などが挙げられる。かかる
塩基を追加して用いる場合の使用量は、先の反応におい
て用いた光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸
エステルに対して通常１モル倍以下である。
ない場合には、加水分解が速やかに進行しないこともあ
るが、その場合には水と共に塩基を追加してもよい。か
かる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水素化リチウムなどの水素化アルカリ金属、ソ
ジウムメチラート、ソジウムエチラートなどのアルカリ
金属のアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなどの水酸化アルカリ金属などが挙げられる。かかる
塩基を追加して用いる場合の使用量は、先の反応におい
て用いた光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸
エステルに対して通常１モル倍以下である。
【００１７】加水分解後、得られた反応混合物に塩酸な
どの鉱酸を加えてｐＨを４以下とするが、該反応混合物
を溶媒留去した後に鉱酸を加えてもよい。次いで疎水性
有機溶媒を用いて抽出処理し、得られた有機層を溶媒留
去する方法などによって容易に目的の光学活性Ｎ置換ア
ゼチジン−２−カルボン酸を得ることができる。かくし
て得られた光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸
はさらに再結晶、カラムクロマトグラフィーなどによっ
て精製されてもよい。
どの鉱酸を加えてｐＨを４以下とするが、該反応混合物
を溶媒留去した後に鉱酸を加えてもよい。次いで疎水性
有機溶媒を用いて抽出処理し、得られた有機層を溶媒留
去する方法などによって容易に目的の光学活性Ｎ置換ア
ゼチジン−２−カルボン酸を得ることができる。かくし
て得られた光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸
はさらに再結晶、カラムクロマトグラフィーなどによっ
て精製されてもよい。
【００１８】上記の反応における原料化合物である光学
活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルは、
一般式（３） （式中、Ｎｓ、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示す。）
で示される光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ブチロラク
トン化合物、一般式（４） Ｒ−ＯＨ （４） （式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で示されるアル
カノール化合物および一般式（５） Ｈ−Ｘ （５） （式中、Ｘは前記と同じ意味を示す。）で示されるハロ
ゲン化水素を反応させる方法によって容易に製造するこ
とができる。
活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルは、
一般式（３） （式中、Ｎｓ、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示す。）
で示される光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ブチロラク
トン化合物、一般式（４） Ｒ−ＯＨ （４） （式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で示されるアル
カノール化合物および一般式（５） Ｈ−Ｘ （５） （式中、Ｘは前記と同じ意味を示す。）で示されるハロ
ゲン化水素を反応させる方法によって容易に製造するこ
とができる。
【００１９】光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ブチロラ
クトン化合物としては、例えば（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロ
ベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブチロラクト
ン、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニル−α−
アミノ−γ−ブチロラクトン、（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジ
ニトロベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブチロラ
クトン、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニル−
α−アミノ−γ−ブチロラクトン、（Ｒ）−Ｎ−４−ニ
トロベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブチロラク
トン、（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルホニ
ル−α−アミノ−γ−ブチロラクトンなどが挙げられ
る。
クトン化合物としては、例えば（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロ
ベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブチロラクト
ン、（Ｓ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニル−α−
アミノ−γ−ブチロラクトン、（Ｓ）−Ｎ−２，４−ジ
ニトロベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブチロラ
クトン、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニル−
α−アミノ−γ−ブチロラクトン、（Ｒ）−Ｎ−４−ニ
トロベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブチロラク
トン、（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルホニ
ル−α−アミノ−γ−ブチロラクトンなどが挙げられ
る。
【００２０】アルカノール化合物としては、例えばメタ
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ペンタノ
ール、ｎ−ヘキサノール、イソプロパノール、ｉ−ブタ
ノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ネオペ
ンタノールなどが挙げられる。かかるアルカノール化合
物は通常、溶媒量用いられ、例えば光学活性α−アミノ
−γ−ブチロラクトン化合物に対して１〜２０重量倍、
好ましくは３〜１０重量倍の範囲で用いられる。
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ペンタノ
ール、ｎ−ヘキサノール、イソプロパノール、ｉ−ブタ
ノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ネオペ
ンタノールなどが挙げられる。かかるアルカノール化合
物は通常、溶媒量用いられ、例えば光学活性α−アミノ
−γ−ブチロラクトン化合物に対して１〜２０重量倍、
好ましくは３〜１０重量倍の範囲で用いられる。
【００２１】ハロゲン化水素としては、例えば塩化水
素、臭化水素などが挙げられる。かかるハロゲン化水素
の使用量は光学活性α−アミノ−γ−ブチロラクトン化
合物に対して通常は１モル倍以上であればよい。
素、臭化水素などが挙げられる。かかるハロゲン化水素
の使用量は光学活性α−アミノ−γ−ブチロラクトン化
合物に対して通常は１モル倍以上であればよい。
【００２２】反応は、例えば光学活性α−アミノ−γ−
ブチロラクトン化合物およびアルカノール化合物を混合
した後、反応系内にハロゲン化水素を供給することによ
り行われ、光学活性α−アミノ−γ−ブチロラクトン化
合物およびアルカノール化合物を混合した後の反応系内
にハロゲン化水素を吹き込んでもよいし、ハロゲン化水
素雰囲気下で光学活性α−アミノ−γ−ブチロラクトン
化合物およびアルカノール化合物を混合してもよい。反
応温度は通常５０℃以上、アルカノール化合物の沸点以
下の範囲である。
ブチロラクトン化合物およびアルカノール化合物を混合
した後、反応系内にハロゲン化水素を供給することによ
り行われ、光学活性α−アミノ−γ−ブチロラクトン化
合物およびアルカノール化合物を混合した後の反応系内
にハロゲン化水素を吹き込んでもよいし、ハロゲン化水
素雰囲気下で光学活性α−アミノ−γ−ブチロラクトン
化合物およびアルカノール化合物を混合してもよい。反
応温度は通常５０℃以上、アルカノール化合物の沸点以
下の範囲である。
【００２３】反応後、残ったアルカノール化合物を留去
することによって、一般式（２）で示される光学活性Ｎ
置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルを得ること
ができる。かくして得られた光学活性Ｎ置換α−アミノ
−γ−ハロゲノ酪酸エステルは、酢酸エチルなどの疎水
性有機溶媒に溶解した後、炭酸水素ナトリウム水溶液な
どのアルカリ性水溶液で洗浄し、次いで溶媒留去する方
法によって精製されてもよく、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーなどによって精製されてもよい。
することによって、一般式（２）で示される光学活性Ｎ
置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルを得ること
ができる。かくして得られた光学活性Ｎ置換α−アミノ
−γ−ハロゲノ酪酸エステルは、酢酸エチルなどの疎水
性有機溶媒に溶解した後、炭酸水素ナトリウム水溶液な
どのアルカリ性水溶液で洗浄し、次いで溶媒留去する方
法によって精製されてもよく、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーなどによって精製されてもよい。
【００２４】一般式（３）で示される光学活性Ｎ置換α
−アミノ−γ−ブチロラクトン化合物は、一般式（６） （式中、Ｎｓ、＊は前記と同じ意味を示す。）で示され
る光学活性Ｎ置換メチオニンを一般式（７） Ｑ−Ｙ （７） （式中、Ｑは低級アルキル基を示し、Ｙはハロゲン原子
を示す。）で示されるハロゲン化アルキル化合物の存在
下に閉環反応させる方法によって、容易に製造すること
ができる。
−アミノ−γ−ブチロラクトン化合物は、一般式（６） （式中、Ｎｓ、＊は前記と同じ意味を示す。）で示され
る光学活性Ｎ置換メチオニンを一般式（７） Ｑ−Ｙ （７） （式中、Ｑは低級アルキル基を示し、Ｙはハロゲン原子
を示す。）で示されるハロゲン化アルキル化合物の存在
下に閉環反応させる方法によって、容易に製造すること
ができる。
【００２５】光学活性Ｎ置換メチオニンとは（Ｓ）−Ｎ
−２−ニトロベンゼンスルホニルメチオニン、（Ｓ）−
Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニルメチオニン、（Ｓ）
−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルホニルメチオニ
ン、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニルメチオ
ニン、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニルメチ
オニン、（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルホ
ニルメチオニンである。
−２−ニトロベンゼンスルホニルメチオニン、（Ｓ）−
Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニルメチオニン、（Ｓ）
−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルホニルメチオニ
ン、（Ｒ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニルメチオ
ニン、（Ｒ）−Ｎ−４−ニトロベンゼンスルホニルメチ
オニン、（Ｒ）−Ｎ−２，４−ジニトロベンゼンスルホ
ニルメチオニンである。
【００２６】一般式（７）で示されるハロゲン化アルキ
ル化合物において、置換基Ｑとして示される低級アルキ
ル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、イソプロピル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基などの直鎖もしくは
分岐状の炭素数１〜６のアルキル基などが、置換基Ｙで
示されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子などがそれぞれ挙げられる。
ル化合物において、置換基Ｑとして示される低級アルキ
ル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、イソプロピル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基などの直鎖もしくは
分岐状の炭素数１〜６のアルキル基などが、置換基Ｙで
示されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子などがそれぞれ挙げられる。
【００２７】かかるハロゲン化アルキル化合物として
は、例えばヨウ化メチル、臭化メチル、塩化メチル、ヨ
ウ化エチル、臭化エチル、塩化エチル、ヨウ化−ｎ−プ
ロピル、臭化−ｎ−プロピル、塩化−ｎ−プロピル、ヨ
ウ化−ｎ−ブチル、臭化−ｎ−ブチル、塩化−ｎ−ブチ
ルなどが挙げられ、その使用量は光学活性Ｎ置換メチオ
ニンに対して通常１〜１０モル倍、好ましくは１．１〜
２モル倍の範囲である。
は、例えばヨウ化メチル、臭化メチル、塩化メチル、ヨ
ウ化エチル、臭化エチル、塩化エチル、ヨウ化−ｎ−プ
ロピル、臭化−ｎ−プロピル、塩化−ｎ−プロピル、ヨ
ウ化−ｎ−ブチル、臭化−ｎ−ブチル、塩化−ｎ−ブチ
ルなどが挙げられ、その使用量は光学活性Ｎ置換メチオ
ニンに対して通常１〜１０モル倍、好ましくは１．１〜
２モル倍の範囲である。
【００２８】反応は通常、脂肪族酸またはその水溶液中
で行われる。かかる脂肪族酸としては、例えば酢酸、蟻
酸などが挙げられる。これらはそれぞれ単独もしくは混
合して用いられ、その濃度は通常５０〜１００重量パー
セントの範囲である。かかる脂肪族酸の水溶液の使用量
は光学活性Ｎ置換メチオニンに対して通常１〜２０重量
倍の範囲である。
で行われる。かかる脂肪族酸としては、例えば酢酸、蟻
酸などが挙げられる。これらはそれぞれ単独もしくは混
合して用いられ、その濃度は通常５０〜１００重量パー
セントの範囲である。かかる脂肪族酸の水溶液の使用量
は光学活性Ｎ置換メチオニンに対して通常１〜２０重量
倍の範囲である。
【００２９】反応は、例えば脂肪族酸の水溶液中で光学
活性Ｎ置換メチオニンおよびハロゲン化アルキルを混合
することによって行われ、混合温度は通常０〜５０℃の
範囲である。その後、反応系のｐＨが５以上、好ましく
は５〜７になるように水酸化ナトリウムなどの塩基を加
えたのち、ｐＨを上記範囲に保ちながら７０〜１００℃
に加熱する。ｐＨを保つためには、水酸化ナトリウム水
溶液などの塩基を適宜加えればよい。
活性Ｎ置換メチオニンおよびハロゲン化アルキルを混合
することによって行われ、混合温度は通常０〜５０℃の
範囲である。その後、反応系のｐＨが５以上、好ましく
は５〜７になるように水酸化ナトリウムなどの塩基を加
えたのち、ｐＨを上記範囲に保ちながら７０〜１００℃
に加熱する。ｐＨを保つためには、水酸化ナトリウム水
溶液などの塩基を適宜加えればよい。
【００３０】反応後、得られた反応混合物のｐＨが４以
下、好ましくは２〜４になるように塩酸などの酸を加え
た後、酢酸エチルなどの疎水性の有機溶媒を用いて抽出
処理し、得られた有機層を溶媒留去する方法によって、
光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ブチロラクトン化合物
を得ることができる。これはさらにカラムクロマトグラ
フィーなどによって精製されてもよい。
下、好ましくは２〜４になるように塩酸などの酸を加え
た後、酢酸エチルなどの疎水性の有機溶媒を用いて抽出
処理し、得られた有機層を溶媒留去する方法によって、
光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ブチロラクトン化合物
を得ることができる。これはさらにカラムクロマトグラ
フィーなどによって精製されてもよい。
【００３１】本発明の光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−
カルボン酸は光学活性２−アゼチジンカルボン酸の原料
化合物として有用であり、これをチオフェノールもしく
はフェノールのアルカリ金属塩と反応させる方法によっ
て、容易に光学活性アゼチジン−２−カルボン酸を製造
することができる。
カルボン酸は光学活性２−アゼチジンカルボン酸の原料
化合物として有用であり、これをチオフェノールもしく
はフェノールのアルカリ金属塩と反応させる方法によっ
て、容易に光学活性アゼチジン−２−カルボン酸を製造
することができる。
【００３２】チオフェノールもしくはフェノールアルカ
リ金属塩としては、例えばソジウムフェノラート、ポタ
シウムフェノラート、ソジウムチオフェノラート、ポタ
シウムチオフェノラートなどが挙げられ、その使用量は
Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸に対して通常１〜１
０モル倍、好ましくは１．１〜２モル倍の範囲である。
リ金属塩としては、例えばソジウムフェノラート、ポタ
シウムフェノラート、ソジウムチオフェノラート、ポタ
シウムチオフェノラートなどが挙げられ、その使用量は
Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸に対して通常１〜１
０モル倍、好ましくは１．１〜２モル倍の範囲である。
【００３３】かかるチオフェノールもしくはフェノール
のアルカリ金属塩は、反応系内でチオフェノールもしく
はフェノールとアルカリ金属化合物とを反応させて生成
させたものを用いてもよい。この場合に用いるアルカリ
金属塩としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウムなどのアルカリ金属の炭酸水素塩、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、水酸
化ナトリム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのア
ルカリ金属の水酸化物、水素化ナトリウムなどの水素化
アルカリ金属、ソジウムメチラート、ソジウムエチラー
トなどのアルカリ金属のアルコラートなどが挙げられ、
その使用量はチオフェノールもしくはフェノールに対し
て通常１〜１０モル倍の範囲である。
のアルカリ金属塩は、反応系内でチオフェノールもしく
はフェノールとアルカリ金属化合物とを反応させて生成
させたものを用いてもよい。この場合に用いるアルカリ
金属塩としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウムなどのアルカリ金属の炭酸水素塩、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、水酸
化ナトリム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのア
ルカリ金属の水酸化物、水素化ナトリウムなどの水素化
アルカリ金属、ソジウムメチラート、ソジウムエチラー
トなどのアルカリ金属のアルコラートなどが挙げられ、
その使用量はチオフェノールもしくはフェノールに対し
て通常１〜１０モル倍の範囲である。
【００３４】反応は通常、溶媒中で行われ、かかる溶媒
としては、例えば例えばテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルエーテル、ｉ−プロピルエーテル、ｔ−ブチ
ルメチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル系
溶媒、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロ
ゲン系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、水
などが挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしく
は２種以上を混合して用いられ、その使用量は光学活性
Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸に対して通常２〜５
０重量倍の範囲である。
としては、例えば例えばテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチルエーテル、ｉ−プロピルエーテル、ｔ−ブチ
ルメチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル系
溶媒、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロ
ゲン系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、水
などが挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしく
は２種以上を混合して用いられ、その使用量は光学活性
Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸に対して通常２〜５
０重量倍の範囲である。
【００３５】反応は、例えば溶媒中で光学活性Ｎ置換ア
ゼチジン−２−カルボン酸およびチオフェノールもしく
はフェノールのアルカリ金属塩を混合することによって
行われ、チオフェノールもしくはフェノールのアルカリ
金属塩をチオフェノールもしくはフェノールとアルカリ
金属化合物とを反応系内で反応させることにより生成さ
せて用いる場合には、光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−
カルボン酸、チオフェノールもしくはフェノールおよび
アルカリ金属塩を混合すればよい。反応温度は通常０℃
〜１００℃、好ましくは２５℃〜４０℃の範囲である。
ゼチジン−２−カルボン酸およびチオフェノールもしく
はフェノールのアルカリ金属塩を混合することによって
行われ、チオフェノールもしくはフェノールのアルカリ
金属塩をチオフェノールもしくはフェノールとアルカリ
金属化合物とを反応系内で反応させることにより生成さ
せて用いる場合には、光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−
カルボン酸、チオフェノールもしくはフェノールおよび
アルカリ金属塩を混合すればよい。反応温度は通常０℃
〜１００℃、好ましくは２５℃〜４０℃の範囲である。
【００３６】次いで、反応後の反応混合物を有機層と水
層との２層に分離したのち分液して有機層を得る。先の
反応において水を用いた場合には疎水性有機溶媒を加え
た後に分液すればよく、水と相溶性の溶媒を用いた場合
や溶媒の使用量が少ないために容易に分液することがで
きない場合には、水とともに疎水性有機溶媒を加えたの
ちに分液すればよい。水に代えて希塩酸などの酸性水溶
液を用いてもよい。また先の反応において水と水に不溶
の溶媒とを組み合わせて用いた場合には、そのまま分液
してもよい。次いで得られた水層をイオン交換樹脂に通
したのち、イオン交換樹脂をピリジン水溶液などのアル
カリ性水溶液を用いて洗浄し、次いで得られた洗液を濃
縮する方法などによって光学活性アゼチジン−２−カル
ボン酸を得ることができる。かくして得られた光学活性
アゼチジン−２−カルボン酸は、さらに再結晶、イオン
カラムクロマトグラフィーなどによって精製されてもよ
い。
層との２層に分離したのち分液して有機層を得る。先の
反応において水を用いた場合には疎水性有機溶媒を加え
た後に分液すればよく、水と相溶性の溶媒を用いた場合
や溶媒の使用量が少ないために容易に分液することがで
きない場合には、水とともに疎水性有機溶媒を加えたの
ちに分液すればよい。水に代えて希塩酸などの酸性水溶
液を用いてもよい。また先の反応において水と水に不溶
の溶媒とを組み合わせて用いた場合には、そのまま分液
してもよい。次いで得られた水層をイオン交換樹脂に通
したのち、イオン交換樹脂をピリジン水溶液などのアル
カリ性水溶液を用いて洗浄し、次いで得られた洗液を濃
縮する方法などによって光学活性アゼチジン−２−カル
ボン酸を得ることができる。かくして得られた光学活性
アゼチジン−２−カルボン酸は、さらに再結晶、イオン
カラムクロマトグラフィーなどによって精製されてもよ
い。
【００３７】
【発明の効果】本発明の化合物は、容易に光学活性アゼ
チジン−２−カルボン酸に導かれ得る。
チジン−２−カルボン酸に導かれ得る。
【００３８】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
【００３９】参考例１ 窒素気流下、（Ｓ）−Ｌ−メチオニン５０ｇ（０．３４
ｍｏｌ）および炭酸ナトリウム８５．２ｇを水５００ｍ
ｌに縣濁し、これに２−ニトロベンゼンスルフォニルク
ロライド８１．７ｇ（０．３７ｍｏｌ）を徐々に加えた
後、４０℃で５時間攪拌した。その後、氷冷し、３６％
塩酸水を加えてｐＨ３とし、酢酸エチル２５０ｍｌを用
いる抽出を２回行った。得られた有機層を合わせ、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して（Ｓ）
−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニルメチオニン７６．
５ｇ（収率６８．３％）を得た。
ｍｏｌ）および炭酸ナトリウム８５．２ｇを水５００ｍ
ｌに縣濁し、これに２−ニトロベンゼンスルフォニルク
ロライド８１．７ｇ（０．３７ｍｏｌ）を徐々に加えた
後、４０℃で５時間攪拌した。その後、氷冷し、３６％
塩酸水を加えてｐＨ３とし、酢酸エチル２５０ｍｌを用
いる抽出を２回行った。得られた有機層を合わせ、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して（Ｓ）
−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニルメチオニン７６．
５ｇ（収率６８．３％）を得た。
【００４０】実施例１ 窒素気流下、参考例１で得た（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベ
ンゼンスルホニルメチオニン１０ｇ（３０ｍｍｏｌ）、
ヨウ化メチル７．５ｇ（５３ｍｍｏｌ）、酢酸８．９ｍ
ｌ、８０％ギ酸１８ｍｌを室温で１２時間攪拌した。そ
の後、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えてでｐＨ６．
５にしたのち、９０℃に昇温し、ｐＨが６〜７の範囲に
保たれるように適宜１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え
ながら２時間攪拌した。次いで室温まで冷却したのち、
１０％塩酸水を加えてｐＨを３に調整し、酢酸エチル１
５０ｍｌを用いる抽出を２回行い、得られた有機層を合
わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）にて精
製して、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニル−
α−アミノ−γ−ブチロラクトン７．０ｇ（収率８１．
７％）を得た。 比旋光度：〔α〕D 27＝−２２９°（クロロホルム、；
Ｃ＝１．０）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ2.40(dtd,J=12.86,11.55,
8.91Hz,1H), 2.76〜2.88(m,1H), 4.21〜4.32(m,2H), 4.
44〜4.51(m,1H), 6.17(bd,1H), 7.74〜7.81(m,2H), 7.9
4〜7.98(m,1H), 7.99〜8.19(m,1H)13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ31.0, 52.7, 65.9, 125.
9, 130.7, 133.1, 134.0,173.6
ンゼンスルホニルメチオニン１０ｇ（３０ｍｍｏｌ）、
ヨウ化メチル７．５ｇ（５３ｍｍｏｌ）、酢酸８．９ｍ
ｌ、８０％ギ酸１８ｍｌを室温で１２時間攪拌した。そ
の後、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えてでｐＨ６．
５にしたのち、９０℃に昇温し、ｐＨが６〜７の範囲に
保たれるように適宜１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加え
ながら２時間攪拌した。次いで室温まで冷却したのち、
１０％塩酸水を加えてｐＨを３に調整し、酢酸エチル１
５０ｍｌを用いる抽出を２回行い、得られた有機層を合
わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）にて精
製して、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニル−
α−アミノ−γ−ブチロラクトン７．０ｇ（収率８１．
７％）を得た。 比旋光度：〔α〕D 27＝−２２９°（クロロホルム、；
Ｃ＝１．０）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ2.40(dtd,J=12.86,11.55,
8.91Hz,1H), 2.76〜2.88(m,1H), 4.21〜4.32(m,2H), 4.
44〜4.51(m,1H), 6.17(bd,1H), 7.74〜7.81(m,2H), 7.9
4〜7.98(m,1H), 7.99〜8.19(m,1H)13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ31.0, 52.7, 65.9, 125.
9, 130.7, 133.1, 134.0,173.6
【００４１】実施例２ 窒素気流下、実施例１と同様にして得た（Ｓ）−Ｎ−２
−ニトロベンゼンスルホニル−γ−ブチロラクトン１０
ｇ（３５ｍｍｏｌ）を無水エタノール１００ｍｌに懸濁
し、７０℃で臭化水素ガスを吹き込みながら３時間攪拌
した。その後、エタノールを留去し、残渣に酢酸エチル
１５０ｍｌを加え、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄後、水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶
媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１
〜５／１、グラジエント）にて精製して、（Ｓ）−Ｎ−
２−ニトロベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブロ
ム酪酸エチルエステル１２．１ｇ（白色結晶、収率８
８．０％）を得た。 比旋光度：〔α〕D 27＝−１３１°（クロロホルム、；
Ｃ＝０．８）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ1.09(t,J=7.26Hz,3H), 2.2
0〜2.33(m,1H), 2.35〜2.48(m,1H), 3.54(t,J=6.93Hz,2
H), 3.97(q,J=7.26,2H), 4.35(dt,J=4.62,8.91Hz,1H),
6.25(d,J=8.91Hz,1H), 7.74〜7.79(m,2H), 7.93〜7.96
(m,1H), 8.10〜8.13(m,1H)13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ 13.8, 27.9, 36.0, 55.
3, 62.2, 125.7, 130.6,133.0, 133.7, 133.8, 147.7,
170.3
−ニトロベンゼンスルホニル−γ−ブチロラクトン１０
ｇ（３５ｍｍｏｌ）を無水エタノール１００ｍｌに懸濁
し、７０℃で臭化水素ガスを吹き込みながら３時間攪拌
した。その後、エタノールを留去し、残渣に酢酸エチル
１５０ｍｌを加え、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄後、水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶
媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１
〜５／１、グラジエント）にて精製して、（Ｓ）−Ｎ−
２−ニトロベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブロ
ム酪酸エチルエステル１２．１ｇ（白色結晶、収率８
８．０％）を得た。 比旋光度：〔α〕D 27＝−１３１°（クロロホルム、；
Ｃ＝０．８）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ1.09(t,J=7.26Hz,3H), 2.2
0〜2.33(m,1H), 2.35〜2.48(m,1H), 3.54(t,J=6.93Hz,2
H), 3.97(q,J=7.26,2H), 4.35(dt,J=4.62,8.91Hz,1H),
6.25(d,J=8.91Hz,1H), 7.74〜7.79(m,2H), 7.93〜7.96
(m,1H), 8.10〜8.13(m,1H)13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ 13.8, 27.9, 36.0, 55.
3, 62.2, 125.7, 130.6,133.0, 133.7, 133.8, 147.7,
170.3
【００４２】実施例３ （Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホニル−γ−ブチ
ロラクトン１０ｇ（３５ｍｍｏｌ）を無水メタノール１
００ｍｌに窒素気流下で懸濁し、６０℃で臭化水素ガス
を吹き込みながら３時間攪拌した。その後、メタノール
を留去し、残渣に酢酸エチル１５０ｍｌを加えたのち、
５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、水洗し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒留去した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜５／１、グラジ
エント）にて精製して、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼ
ンスルホニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエス
テル１１．７ｇ（収率８７．９％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ2.13〜2.41(m,2H), 3.46
(s,3H), 4.31(dt,J=4.62,8.91Hz,1H), 6.13(d,J=8.91H
z,1H), 7.65〜7.73(m,2H), 7.84〜7.91(m,1H), 8.00〜
8.07(m,1H)13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ27.9, 36.0, 52.8, 55.2,
125.7, 130.6, 133.0,7, 133.9, 147.6, 170.8
ロラクトン１０ｇ（３５ｍｍｏｌ）を無水メタノール１
００ｍｌに窒素気流下で懸濁し、６０℃で臭化水素ガス
を吹き込みながら３時間攪拌した。その後、メタノール
を留去し、残渣に酢酸エチル１５０ｍｌを加えたのち、
５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、水洗し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥したのち溶媒留去した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１〜５／１、グラジ
エント）にて精製して、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼ
ンスルホニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチルエス
テル１１．７ｇ（収率８７．９％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ2.13〜2.41(m,2H), 3.46
(s,3H), 4.31(dt,J=4.62,8.91Hz,1H), 6.13(d,J=8.91H
z,1H), 7.65〜7.73(m,2H), 7.84〜7.91(m,1H), 8.00〜
8.07(m,1H)13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ27.9, 36.0, 52.8, 55.2,
125.7, 130.6, 133.0,7, 133.9, 147.6, 170.8
【００４３】実施例４ 実施例２で得た（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホ
ニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル１０
ｇ（２５ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド５０ｍｌに
窒素気流下で溶解し、０℃にて６０％水素化ナトリウム
１．１ｇ（２５ｍｍｏｌ）を加え、同温度下で２時間攪
拌した。次いで１０％水酸化ナトリウム水溶液５０ｍｌ
を加え、同温度下で更に１時間攪拌した。その後、酢酸
エチル５０ｍｌを加えたのち分液して水層を得、氷冷し
たのち、３６％塩酸水を加えてｐＨを３とし、酢酸エチ
ル１００ｍｌを用いる抽出を２回行い、得られた有機層
を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒留去し
て残渣を得た。この残渣を酢酸エチル−ヘキサンにて再
結晶により精製して、白色結晶（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロ
ベンゼンスルホニルアゼチジンカルボン酸６．７ｇ（収
率９３％）を得た。 ｍ．ｐ．１４５〜１４７℃ 比旋光度：〔α〕D 27＝−２０７°（メタノール、；Ｃ
＝０．９）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ-d6）δ2.19〜2.49(m,2H), 3.80
〜3.88(m,1H), 3.97〜4.07(m,1H), 4.83(dd,J=7.26,9.5
7Hz,1H), 7.86〜7.96(m,2H),7.98〜8.03(m,1H),8.06〜
8.11(m,1H)13 Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ-d6）δ19.1, 48.9, 61.5, 12
4.3, 130.4, 130.7, 132.6, 134.8, 147.9, 171.1
ニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸エチルエステル１０
ｇ（２５ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド５０ｍｌに
窒素気流下で溶解し、０℃にて６０％水素化ナトリウム
１．１ｇ（２５ｍｍｏｌ）を加え、同温度下で２時間攪
拌した。次いで１０％水酸化ナトリウム水溶液５０ｍｌ
を加え、同温度下で更に１時間攪拌した。その後、酢酸
エチル５０ｍｌを加えたのち分液して水層を得、氷冷し
たのち、３６％塩酸水を加えてｐＨを３とし、酢酸エチ
ル１００ｍｌを用いる抽出を２回行い、得られた有機層
を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒留去し
て残渣を得た。この残渣を酢酸エチル−ヘキサンにて再
結晶により精製して、白色結晶（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロ
ベンゼンスルホニルアゼチジンカルボン酸６．７ｇ（収
率９３％）を得た。 ｍ．ｐ．１４５〜１４７℃ 比旋光度：〔α〕D 27＝−２０７°（メタノール、；Ｃ
＝０．９）1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ-d6）δ2.19〜2.49(m,2H), 3.80
〜3.88(m,1H), 3.97〜4.07(m,1H), 4.83(dd,J=7.26,9.5
7Hz,1H), 7.86〜7.96(m,2H),7.98〜8.03(m,1H),8.06〜
8.11(m,1H)13 Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ-d6）δ19.1, 48.9, 61.5, 12
4.3, 130.4, 130.7, 132.6, 134.8, 147.9, 171.1
【００４４】実施例５ 窒素気流下に、実施例３で得た（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロ
ベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチ
ルエステル１０ｇ（２６ｍｍｏｌ）をジメトキシエタン
５０ｍｌに溶解し、室温にて２８％ソジウムメチラート
のメタノール溶液７．１ｇを徐々に滴下し同温度下で８
時間攪拌した。次いで１０％水酸化ナトリウム水溶液５
０ｍｌを加え、同温度下で更に１時間攪拌した。その
後、減圧下でジメトキシエタンおよびメタノールを留去
したのち、氷冷下で３６％塩酸を加えてｐＨを１とした
のち、析出する沈殿をろ取し、これを水−メタノールか
ら再結晶して、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホ
ニルアゼチジンカルボン酸６．４ｇ（収率８５．３％）
を得た。
ベンゼンスルホニル−α−アミノ−γ−ブロム酪酸メチ
ルエステル１０ｇ（２６ｍｍｏｌ）をジメトキシエタン
５０ｍｌに溶解し、室温にて２８％ソジウムメチラート
のメタノール溶液７．１ｇを徐々に滴下し同温度下で８
時間攪拌した。次いで１０％水酸化ナトリウム水溶液５
０ｍｌを加え、同温度下で更に１時間攪拌した。その
後、減圧下でジメトキシエタンおよびメタノールを留去
したのち、氷冷下で３６％塩酸を加えてｐＨを１とした
のち、析出する沈殿をろ取し、これを水−メタノールか
ら再結晶して、（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホ
ニルアゼチジンカルボン酸６．４ｇ（収率８５．３％）
を得た。
【００４５】実施例６ 実施例５で得た（Ｓ）−Ｎ−２−ニトロベンゼンスルホ
ニルアゼチジンカルボン酸５ｇ（１７ｍｍｏｌ）をジメ
チルホルムアミド２５ｍｌに溶解し、炭酸カリウム９．
７ｇ（７０ｍｍｏｌ）を加えたのち、２５℃で攪拌しな
がらチオフェノール２．３ｇ（２１ｍｍｏｌ）を滴下し
て加えた。２時間後、酢酸エチル５０ｍｌおよび１Ｎ塩
酸１００ｍｌを加えて攪拌し、次いで分液して水層を得
た。この水層をイオン交換樹脂（オルガノ社製、アンバ
ーライトＩＲ１２０−Ｂ）カラムに５回繰り返し通過し
たのち、洗液のｐＨが６〜７になるまでイオン交換樹脂
を水洗した。次いで５％ピリジン水でイオン交換樹脂を
洗浄して洗液を得、該洗液を濃縮して残渣を得た。この
残渣をエタノール−水混合溶媒（体積比２５／１）から
再結晶して、（Ｓ）−アゼチジン−２−カルボン酸１．
３ｇを得た（収率７２％、光学純度９９％ｅｅ以上）。
ニルアゼチジンカルボン酸５ｇ（１７ｍｍｏｌ）をジメ
チルホルムアミド２５ｍｌに溶解し、炭酸カリウム９．
７ｇ（７０ｍｍｏｌ）を加えたのち、２５℃で攪拌しな
がらチオフェノール２．３ｇ（２１ｍｍｏｌ）を滴下し
て加えた。２時間後、酢酸エチル５０ｍｌおよび１Ｎ塩
酸１００ｍｌを加えて攪拌し、次いで分液して水層を得
た。この水層をイオン交換樹脂（オルガノ社製、アンバ
ーライトＩＲ１２０−Ｂ）カラムに５回繰り返し通過し
たのち、洗液のｐＨが６〜７になるまでイオン交換樹脂
を水洗した。次いで５％ピリジン水でイオン交換樹脂を
洗浄して洗液を得、該洗液を濃縮して残渣を得た。この
残渣をエタノール−水混合溶媒（体積比２５／１）から
再結晶して、（Ｓ）−アゼチジン−２−カルボン酸１．
３ｇを得た（収率７２％、光学純度９９％ｅｅ以上）。
Claims (11)
- 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｎｓは２−ニトロベンゼンスルホニル基、４−
ニトロベンゼンスルホニル基または２，４−ジニトロベ
ンゼンスルホニル基を示し、＊は不斉炭素原子を示
す。）で示される光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カル
ボン酸。 - 【請求項２】一般式（２） （式中、Ｎｓ、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示し、Ｒ
は低級アルキル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で示される光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ酪
酸エステルを塩基の存在下に閉環反応させたのち、加水
分解することを特徴とする請求項１に記載の光学活性Ｎ
置換アゼチジン−２−カルボン酸の製造方法。 - 【請求項３】一般式（２）で示される光学活性Ｎ置換α
−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルを、一般式（３） （式中、Ｎｓ、＊はそれぞれ前記と同じ意味を示す。）
で示される光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ブチロラク
トン化合物、一般式（４） Ｒ−ＯＨ （４） （式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で示されるアル
カノール化合物および一般式（５） Ｈ−Ｘ （５） （式中、Ｘは前記と同じ意味を示す。）で示されるハロ
ゲン化水素を反応させて製造することを特徴とする請求
項２に記載の光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン
酸の製造方法。 - 【請求項４】一般式（３）で示される光学活性Ｎ置換α
−アミノ−γ−ブチロラクトン化合物を、一般式（６） （式中、Ｎｓ、＊は前記と同じ意味を示す。）で示され
る光学活性Ｎ置換メチオニンを、一般式（７） Ｑ−Ｙ （７） （式中、Ｑは低級アルキル基を示し、Ｙはハロゲン原子
を示す。）で示されるハロゲン化アルキル化合物の存在
下に閉環反応させて製造することを特徴とする請求項３
に記載の光学活性Ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸の
製造方法。 - 【請求項５】一般式（２）で示される光学活性Ｎ置換α
−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステル。 - 【請求項６】一般式（３）で示される光学活性Ｎ置換α
−アミノ−γ−ブチロラクトン化合物、一般式（４）で
示されるアルカノール化合物および一般式（５）で示さ
れるハロゲン化水素を反応させることを特徴とする請求
項５に記載の光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ハロゲノ
酪酸エステルの製造方法。 - 【請求項７】一般式（３）で示される光学活性Ｎ置換α
−アミノ−γ−ブチロラクトン化合物を、一般式（６）
光学活性Ｎ置換メチオニンを一般式（７）で示されるハ
ロゲン化アルキル化合物の存在下に閉環反応させて製造
することを特徴とする請求項６に記載の光学活性Ｎ置換
α−アミノ−γ−ハロゲノ酪酸エステルの製造方法。 - 【請求項８】一般式（３）で示される光学活性Ｎ置換α
−アミノ−γ−ブチロラクトン化合物。 - 【請求項９】一般式（６）光学活性Ｎ置換メチオニンを
一般式（７）で示されるハロゲン化アルキル化合物の存
在下に閉環反応させて製造することを特徴とする請求項
８に記載の光学活性Ｎ置換α−アミノ−γ−ブチロラク
トン化合物の製造方法。 - 【請求項１０】一般式（１）で示される光学活性Ｎ置換
アゼチジン−２−カルボン酸をチオフェノールもしくは
フェノールのアルカリ金属塩と反応させることを特徴と
する光学活性アゼチジン−２−カルボン酸の製造方法。 - 【請求項１１】チオフェノールもしくはフェノールのア
ルカリ金属塩の使用量が光学活性Ｎ置換アゼチジン−２
−カルボン酸に対して１〜１０モル倍であることを特徴
とする請求項１０に記載の光学活性アゼチジン−２−カ
ルボン酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28086996A JPH10120648A (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | 光学活性ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28086996A JPH10120648A (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | 光学活性ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10120648A true JPH10120648A (ja) | 1998-05-12 |
Family
ID=17631100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28086996A Pending JPH10120648A (ja) | 1996-10-23 | 1996-10-23 | 光学活性ｎ置換アゼチジン−２−カルボン酸およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10120648A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001055104A1 (fr) * | 2000-01-25 | 2001-08-02 | Kaneka Corporation | Procede de preparation d'acides azetidine-2-carboxyliques a substitution n optiquement actifs |
| EP1253140A1 (en) * | 2000-02-04 | 2002-10-30 | Kaneka Corporation | Process for cyclizing optically active 4-amino-2-halogenobutyric acids |
| WO2003014081A1 (en) * | 2001-08-08 | 2003-02-20 | Kaneka Corporation | Process for producing optically active azetidine-2-carboxylic acid |
-
1996
- 1996-10-23 JP JP28086996A patent/JPH10120648A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001055104A1 (fr) * | 2000-01-25 | 2001-08-02 | Kaneka Corporation | Procede de preparation d'acides azetidine-2-carboxyliques a substitution n optiquement actifs |
| EP1253140A1 (en) * | 2000-02-04 | 2002-10-30 | Kaneka Corporation | Process for cyclizing optically active 4-amino-2-halogenobutyric acids |
| EP1253140A4 (en) * | 2000-02-04 | 2003-03-26 | Kaneka Corp | METHOD FOR CYCLING OPTICALLY ACTIVE 4-AMINO-2-HALOGENBUTTERIC ACIDS |
| US6747161B2 (en) | 2000-02-04 | 2004-06-08 | Kaneka Corporation | Process for cyclizing optically active 4-amino-2-halogenobutyric acids |
| WO2003014081A1 (en) * | 2001-08-08 | 2003-02-20 | Kaneka Corporation | Process for producing optically active azetidine-2-carboxylic acid |
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