JPH10120411A - 炭化ケイ素粉体の製造方法 - Google Patents
炭化ケイ素粉体の製造方法Info
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- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
の硫黄化合物が発生することなく高純度の炭化ケイ素を
製造しうる、高性能の炭化ケイ素粉体の製造方法を提供
する。 【解決手段】 少なくとも1種以上の常温で液状のケ
イ素化合物と、官能基を有し加熱により炭素を生成する
常温で液状の有機化合物と、少なくとも該有機化合物と
均一に溶化する重合又は架橋触媒とを混合し、均質に固
化させて得られた前駆体物質を用いる炭化ケイ素粉体の
製造方法であって、該触媒が炭素原子、水素原子及び酸
素原子のみから構成され、カルボキシル基を有する化合
物であることを特徴とする。触媒は、飽和若しくは不飽
和のカルボン酸、ジカルボン酸類、例えば、マレイン酸
及びその誘導体から選択される少なくとも1種であるこ
とが好ましい。
Description
係り、特に硬化重合触媒由来の硫黄化合物を発生しない
炭化ケイ素粉体の製造方法に関する。
ケイ砂と石油コークスとを原料とし、炭化ケイ素粉体を
得るアチソン法が知られている。この方法によれば、前
記の原料中に不純物が多く含まれているために、得られ
た炭化ケイ素粉体は十分高純度にならず、焼結体原料に
用いた場合には、焼結体中に不純物が混入するため種々
の特性に欠点が多発することが知られており、高純度の
焼結体の製造には不向きである。
しては、高純度の液状ケイ素源と液状の炭素源とを原料
として用いる方法が特公平1−42886号に開示され
ている。
として従来pKaの強度よりトルエンスルホン酸が選択
されていたが、炭化・焼成工程で発生する硫黄化合物、
例えば、SO、SO2 等の気体を連続的に加熱炉外に放
出する際に、相当硫黄化合物の処理のための設備と処理
工程を必要するという欠点を有していた。
問題を鑑みてなされたものであり、本発明の目的は前記
高純度炭化ケイ素製造方法において、炭化・焼成工程に
おいて硫黄化合物が発生することなく炭化ケイ素を製造
しうる、高性能の炭化ケイ素粉体の製造方法を提供する
ことにある。
硫黄化合物の発生機構について鋭意検討した結果、炭化
ケイ素製造方法で用いられていたトルエンスルホン酸に
代表される含硫黄触媒を用いず、主成分のエチルシリケ
ート又はフェノール樹脂中の過剰な酸素原子と反応し加
水分解・重合反応を均一に生起させる方法を見出し、本
発明を完成した。
少なくとも1種以上の常温で液状のケイ素化合物と、官
能基を有し加熱により炭素を生成する常温で液状の有機
化合物と、少なくとも該有機化合物と均一に溶化する重
合又は架橋触媒とを混合し、均質に固化させて得られた
前駆体物質を用いる炭化ケイ素粉体の製造方法であっ
て、該触媒が炭素原子、水素原子及び酸素原子のみから
構成され、カルボキシル基を有する化合物であることを
特徴とする。
ボキシル基を有する化合物であり、なかでも、マレイン
酸及びその誘導体から選択される少なくとも1種である
ことが好ましい。
熱焼成前に予め非酸化性雰囲気下で加熱炭化されること
が好ましく、この混合物には、界面活性剤を添加するこ
とが好ましい。
明する。
のケイ素化合物と、酸素を分子内に含有し、加熱により
炭素を生成する液状の有機化合物(以下、適宜、炭素源
と称する)と、少なくとも有機化合物と均一に溶化する
重合又は架橋触媒とを均質に混合して得られた混合物
を、非酸化性雰囲気下で加熱焼成して製造され、好まし
くは、前記液状のケイ素化合物と炭素源と触媒と、を均
質に混合して得られた混合物を固化して固形物を得る固
化工程と、得られた固形物を非酸化性雰囲気下で加熱炭
化した後、さらに、非酸化性雰囲気下で焼成する焼成工
程とを含む製造方法により得ることができる。
るケイ素源としては、高純度のテトラアルコキシシラ
ン、その重合体、酸化ケイ素から選択される1種以上を
用いる。本発明において酸化ケイ素とは、二酸化ケイ
素、一酸化ケイ素を包含するものとする。ケイ素源とし
ては、具体的には、テトラエトキシシランに代表される
アルコキシシラン、その低分子量重合体(オリゴマ
ー)、及び、さらに重合度が高いケイ酸ポリマー等や、
シリカゾル、微粉体シリカ等の酸化ケイ素化合物が挙げ
られる。アルコキシシランとしては、メトキシシラン、
エトキシシラン、プロポキシシラン、ブトキシシラン等
が例示され、なかでも、ハンドリング性の観点から、エ
トキシシランが好ましく用いられる。ここでオリゴマー
とは重合度2〜15程度の重合体を指す。
ドリング性が良好な観点から、テトラエトキシシランの
オリゴマーや、テトラエトキシシランのオリゴマーと微
粉体シリカとの混合物等が好適である。また、これらの
ケイ素源は用とに応じて高純度の物質を用いることが好
ましく、その場合には、初期の不純物含有量が20pp
m以下であることが好ましく、5ppm以下であること
がさらに好ましい。
イ素粉末と混合される、加熱により炭素を生成する有機
化合物として用いられる物質は、具体的には、残炭率の
高いコールタールピッチ、フェノール樹脂、フラン樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂やグルコース等の単
糖類、蔗糖等の少糖類、セルロース、デンプン等の多糖
類などの等の各種糖類が挙げられる。これらはケイ源と
均質に混合するという目的から、常温で液状のもの、溶
媒に溶解するもの、熱可塑性或いは熱融解性のように加
熱することにより軟化するもの或いは液状となるものが
好適に用いられるが、なかでも、残炭率が高く、触媒又
は加熱により重合又は架橋する炭素原子、水素原子、及
び窒素原子のみから構成される化合物、具体的には例え
ば、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニルなどが好ましい。
製造するにあたっての、炭素とケイ素の比(以下、C/
Si比と略記)は、混合物を炭化して得られる炭化物中
間体を、元素分析することにより定義される。化学量論
的には、C/Si比が3.0の時に生成炭化ケイ素中の
遊離炭素が0%となるはずであるが、実際には同時に生
成するSiOガスの揮散により低C/Si比において遊
離炭素が発生する。この生成炭化ケイ素粉体中の遊離炭
素量が焼結体製造用途に適当でない量にならないように
予め配合を決定することが重要である。通常、1気圧近
傍で1600℃以上での焼成では、C/Si比を2.0
〜2.5にすると遊離炭素を抑制することができ、この
範囲を好適に用いることができる。C/Si比を2.5
以上にすると遊離炭素が顕著に増加するが、この遊離炭
素は粒成長を抑制する効果を持つため、粒子形成の目的
に応じて適宜選択しても良い。但し、雰囲気の圧力を低
圧又は高圧で焼成する場合は、純粋な炭化ケイ素を得る
ためのC/Si比は変動するので、この場合は必ずしも
前記C/Si比の範囲に限定するものではない。
状のケイ素化合物と、炭素源とをよく混合した後、これ
らの化合物と均一に溶化する触媒とを均質に混合して混
合物を得るものであるが、触媒はこれらの原料を十分攪
拌した後に添加することが好ましい。
有機化合物と均一に溶化し、炭素原子、水素原子及び酸
素原子のみから構成される化合物を触媒として用いるこ
とが特徴であり、炭素原子、水素原子及び酸素原子のみ
から構成され、従来、汎用の触媒であるトルエンスルホ
ン酸(C7 H8 O3 S)の如く分子内に硫黄原子を含ま
ないため、加熱・焼成工程においても有害な硫黄化合物
が発生しない。硫黄原子を含まない従来の触媒は非水系
及び親水系原料の均一混合に難があり、適当なものが用
いられなかったが、本発明に用いられる特定の触媒は少
なくとも反応に使用される有機化合物と均一に溶化しう
るため均質性が良好であり、さらに、反応性向上の観点
からは、カルボキシル基を含む化合物が好ましいことが
見出された。本発明において「有機化合物と均一に溶化
する」とは、有機化合物と混合により分子レベルに均一
になることを指すものとする。
えば、飽和又は不飽和のカルボン酸、ジカルボン酸類、
芳香族カルボン酸、なかでも、飽和脂肪族ジカルボン酸
類、不飽和脂肪族カルボン酸類及びその誘導体等が好適
である。好ましい触媒としては、具体的には、マレイン
酸(pKa=1.75)、アクリル酸(pKa=4.2
6)、シュウ酸(pKa1 =1.04、pKa2 =3.
82)、イタコン酸(pKa1 =3.85、pKa2 =
5.45)、マロン酸(pKa1 =2.62、pKa2
=5.28)、コハク酸(pKa1 =4.00、pKa
2 =5.24)等が挙げられ、なかでもpKa、水に対
する溶解度の観点からマレイン酸及びその誘導体から選
択される少なくとも1種が好ましい。マレイン酸誘導体
としては、無水マレイン酸等が挙げられる。なお、芳香
族カルボン酸としては、サリチル酸(pKa=2.8
1)、フェノキシ酢酸(pKa=2.99)、フタル酸
(pKa=2.75)等が挙げられる。
挙げれば、(1) pKaの値がトルエンスルホン酸(pK
a=1.4)にほぼ匹敵し(pKa=1.75)、酸強
度がある、(2) 不飽和結合とカルボキシル基両方を分子
内に含むため、疎水性部分親水性部分同士の親和性を有
しており、ケイ素源と炭素源を均一混合し易い、(3)反
応自体が強い発熱反応ではないため、硬化反応が緩やか
で、触媒の添加量により反応速度を制御しうる等の利点
を有するものである。
としては、例えば、ケイ素源100重量部に対して、炭
素源が40〜60重量部、触媒が5〜10重量部程度で
あることが好ましい。触媒は、不純物を含有しない溶媒
に溶解して配合することもでき、例えば、水、アセトン
等の飽和溶液として配合することができる。この混合物
を均質に混合することが、その後の炭化・焼成工程の均
一な反応に重要であるため、混合物の均質度合いに応じ
適宜、混合物に界面活性剤を添加してもよい。ここで用
い得る界面活性剤としては、スパン(Span)20、ツィ
ーン(Tween )20(商品名、関東化学社製)などが挙
げられ、添加量としては、混合物総量に対して5〜10
重量%程度であることが好ましい。
された混合物は固化されるが、その方法としては、触媒
を加えた後、攪拌を続けること以外に加熱を併用しても
よい。また、必要に応じて、該固化物を窒素、アルゴン
等の非酸化性雰囲気中800℃〜1000℃の温度にお
いて30〜120分間加熱することで炭化する工程を加
えてもよい。こうして得られた炭化物は、アルゴン雰囲
気中において、1350℃〜2000℃で加熱すること
により炭化ケイ素になる。焼成温度と時間は希望する粒
径などの特性に応じて適宜選択できるが、より効率的な
生産のためには、1600〜1900℃での焼成が好ま
しい。
御されればよいが、通常の焼結法では高密度化の観点か
らは、小さいことが好ましく、この炭化ケイ素粉体を原
料として用いる観点から0.01〜20μm程度、さら
には、0.05〜2.5μm程度となるよう焼成する。
粒径が0.01μm未満であると、計量、混合などの処
理工程における取扱が困難となり、20μmを超えると
比表面積が小さく、即ち、隣接する粉体との接触面積が
小さくなり、高密度化が困難となるため、好ましくな
い。
径が0.05〜1μm、比表面積が5m2 /g以上、遊
離炭素1%以下、酸素含有量1%以下のものが好適に用
いられるが、必ずしもこれに限定されるわけではない。
るが、本発明はこの実施例に制限されるものではない。
イ素化合物であるエチルシリケート305gと、加熱に
より炭素を発生する有機化合物であるレゾール型フェノ
ール142gを約3000r.p.m.の攪拌速度で5
分間攪拌した後、この混合物に触媒として無水マレイン
酸(三菱化学社製)の飽和水溶液100gを添加してさ
らに3000r.p.m.の攪拌速度で約15分間攪拌
した。
度で約2時間硬化させた後、得られた樹脂状固形物を窒
素雰囲気中、900℃の温度で約1.5時間炭化処理を
行った。また、この熱処理物は、残炭率からC/Si=
2.5と算出された。
1800℃の温度で約2時間焼成処理を行った。得られ
た炭化ケイ素粉体は、X線回折の結果、実質的にβ型炭
化ケイ素のみからなり、その平均粒径は約1.5μmで
あった。
O、SO2 等の気体の発生は認められなかった。
強酸中で加圧分解し、ICP−MSを用いて純度分析を
実施したところ、酸素以外の不純物元素で1ppmを超
える元素は見出されず、非常に高純度であった。
イ素化合物であるエチルシリケート15gと、加熱によ
り炭素を発生する有機化合物であるレゾール型フェノー
ル7gを約3000r.p.m.の攪拌速度で5分間攪
拌した後、この混合物に触媒としてアクリル酸(和光純
薬社製)の飽和水溶液1.5gを添加してさらに約30
00r.p.m.の攪拌速度で約15分間攪拌した。
度で約2時間硬化させた後、得られた樹脂状固形物を窒
素雰囲気中、900℃の温度で約1.5時間炭化処理を
行った。また、この熱処理物は、残炭率からC/Si=
2.5と算出された。
1800℃の温度で約2時間焼成処理を行った。得られ
た炭化ケイ素粉体は、X線回折の結果、実質的にβ型炭
化ケイ素のみからなり、その平均粒径は約1.5μmで
あった。
2 等の気体の発生は認められなかった。
たところ、得られた粉体には1ppmを超える不純物元
素は見出されず、非常に高純度であった。
リカ微粉末24gと、常温で液状のケイ素化合物である
エチルシリケート10gと、加熱により炭素を発生する
有機化合物であるレゾール型フェノール樹脂8gを約3
000r.p.m.の攪拌速度で5分間攪拌した後、こ
の混合物に触媒として無水マレイン酸(三菱化学社製)
の飽和水溶液8gを添加してさらに約3000r.p.
m.の攪拌速度で約15分間攪拌した。
度で約2時間硬化させた後、得られた樹脂状固形物を窒
素雰囲気中、900℃の温度で約1.5時間炭化処理を
行った。
1800℃の温度で約2時間焼成処理を行った。得られ
た炭化ケイ素粉体は、X線回折の結果、実質的にβ型炭
化ケイ素のみからなり、その平均粒径は約0.4μmで
あった。
2 等の気体の発生は認められなかった。
たところ、得られた粉体には1ppmを超える不純物元
素は見出されず、非常に高純度であった。
イ素化合物であるエチルシリケート305gと、加熱に
より炭素を発生する有機化合物であるレゾール型フェノ
ール142gとを約3000r.p.m.の攪拌速度で
5分間攪拌した後、この混合物に従来から用いられてい
る触媒であるp−トルエンスルホン酸(ナカライ化学社
製)の50%水溶液26gを添加してさらに約3000
r.p.m.の攪拌速度で約5分間攪拌した。
度で約1時間硬化させた後、得られた樹脂状固形物を窒
素雰囲気中、900℃の温度で約1.5時間炭化処理を
行った。また、この熱処理物は、残炭率からC/Si=
2.5と算出された。
1800℃の温度で約2時間焼成処理を行った。得られ
た炭化ケイ素粉体は、X線回折の結果、実質的にβ型炭
化ケイ素からなり、その平均粒径は約1.5μmであっ
た。
O2 等の気体が発生し(280ppm程度検出)、炭化
・焼成工程で発生する硫黄化合物を加熱炉外に放出し
た。
発明の製造方法によれば、炭化・焼成工程におけるS
O、SO2 等の気体を発生させることなく、C/Si
比、平均粒径ともに従来の方法により得られたものと変
わらない、高品質の炭化ケイ素を得ることができた。
において硫黄化合物が発生することなく高純度の炭化ケ
イ素を製造することができ、環境保護の観点からも好ま
しい炭化ケイ素粉体の製造方法であった。
Claims (5)
- 【請求項1】 少なくとも1種以上の常温で液状のケイ
素化合物と、官能基を有し加熱により炭素を生成する常
温で液状の有機化合物と、少なくとも該有機化合物と均
一に溶化する重合又は架橋触媒とを混合し、均質に固化
させて得られた前駆体物質を用いる炭化ケイ素粉体の製
造方法であって、 該触媒が炭素原子、水素原子及び酸素原子のみから構成
され、カルボキシル基を有する化合物であることを特徴
とする炭化ケイ素粉体の製造方法。 - 【請求項2】 前記触媒が、脂肪族カルボン酸、不飽和
脂肪族カルボン酸、脂肪族ジカルボン酸、不飽和脂肪族
ジカルボン酸及びこれらの誘導体から選択される少なく
とも1種以上であることを特徴とする請求項1記載の炭
化ケイ素粉体の製造方法。 - 【請求項3】 前記触媒が、マレイン酸及びその誘導体
から選択される少なくとも1種であることを特徴とする
請求項1又は2記載の炭化ケイ素粉体の製造方法。 - 【請求項4】 前記混合物が、加熱焼成前に予め非酸化
性雰囲気下で加熱炭化されることを特徴とする請求項1
乃至3いずれか1項に記載の炭化ケイ素粉体の製造方
法。 - 【請求項5】 前記混合物に、界面活性剤を添加するこ
とを特徴とする請求項1乃至4いずれか1項に記載の炭
化ケイ素粉体の製造方法。
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-
1997
- 1997-08-25 JP JP22834697A patent/JP4234800B2/ja not_active Expired - Lifetime
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