JPH10116886A - 試料保持方法及び露光装置 - Google Patents
試料保持方法及び露光装置Info
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- JPH10116886A JPH10116886A JP28930596A JP28930596A JPH10116886A JP H10116886 A JPH10116886 A JP H10116886A JP 28930596 A JP28930596 A JP 28930596A JP 28930596 A JP28930596 A JP 28930596A JP H10116886 A JPH10116886 A JP H10116886A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28930596A JPH10116886A (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | 試料保持方法及び露光装置 |
| US10/429,868 US6888621B2 (en) | 1996-03-22 | 2003-05-06 | Mask-holding apparatus for a light exposure apparatus and related scanning-exposure method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28930596A JPH10116886A (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | 試料保持方法及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10116886A true JPH10116886A (ja) | 1998-05-06 |
| JPH10116886A5 JPH10116886A5 (enExample) | 2004-10-14 |
Family
ID=17741468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28930596A Pending JPH10116886A (ja) | 1996-03-22 | 1996-10-11 | 試料保持方法及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10116886A (enExample) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1996
- 1996-10-11 JP JP28930596A patent/JPH10116886A/ja active Pending
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