JPH10109923A - 抗菌性低刺激化粧料 - Google Patents
抗菌性低刺激化粧料Info
- Publication number
- JPH10109923A JPH10109923A JP8283415A JP28341596A JPH10109923A JP H10109923 A JPH10109923 A JP H10109923A JP 8283415 A JP8283415 A JP 8283415A JP 28341596 A JP28341596 A JP 28341596A JP H10109923 A JPH10109923 A JP H10109923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- extract
- acid
- photosensitizer
- ginkgo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Medicines Containing Plant Substances (AREA)
Abstract
刺激性や感作性を示さないだけではなく、化粧料使用時
の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不
快感をも与えない化粧料を得る。 【構成】 銀杏内種皮抽出物と、パラオキシ安息香酸エ
ステル類,フェノキシエタノール,感光素101号(プ
ラトニン),感光素201号(ピオニン),感光素40
1号(ルミネキス),ヒノキチオール,N-長鎖アシル塩
基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩,酸化亜鉛より成
る群から選択される1種又は2種以上を併用し含有して
成る。
Description
し、細菌,かび等の微生物により汚染されることのな
い、安定で且つ皮膚に対する刺激性の低い化粧料に関す
る。さらに詳しくは、銀杏内種皮の抽出物と、パラオキ
シ安息香酸エステル類,フェノキシエタノール,感光素
101号(プラトニン),感光素201号(ピオニ
ン),感光素401号(ルミネキス),ヒノキチオー
ル,N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加
塩,酸化亜鉛よりなる群から選択される1種又は2種以
上を含有して成る、抗菌性の高い低刺激化粧料に関す
る。
含有する化粧料においては、製造時及び使用時における
細菌,かび等の微生物の混入による変質を防止するた
め、種々の防腐防黴剤が使用されてきた。かかる防腐剤
としては、イソプロピルメチルフェノール,パラオキシ
安息香酸エステル,フェノキシエタノール,ヒノキチオ
ール等のフェノール類、安息香酸及びその塩,サリチル
酸及びその塩,デヒドロ酢酸及びその塩,ソルビン酸及
びその塩などの酸類、塩化ベンザルコニウム,塩化ベン
ゼトニウム,塩化アルキルトリメチルアンモニウム等の
第4級アンモニウム類、塩酸アルキルアミノエチルグリ
シン,塩化ステアリルヒドロキシエチルベタインナトリ
ウム等の両性界面活性剤、感光素などが用いられてい
る。
る一次刺激性,感作性或いは光感作性の報告されている
ものが多く、安全性の面から化粧品原料基準において配
合量が規制されており、実際に有効な抗菌活性を示す量
を配合できないことが多い。さらに、皮膚に対して発
赤,発疹,浮腫といった刺激或いは感作反応を示さなく
ても、化粧料を使用する際に、刺すような痛みやヒリヒ
リする感じ又はチクチクする感じといった不快感を与え
ることも知られている。また、化粧料の基剤や他の配合
成分との相互作用により、充分な抗菌活性を示さない場
合もある。
パラオキシ安息香酸エステル,ソルビン酸等の油溶性防
腐防黴剤は、高分子増粘剤や粉体を含む化粧料に配合し
た場合、吸着等により抗菌活性が低下する。また、界面
活性剤を含有する化粧料においては、界面活性剤ミセル
への取り込みによりやはり抗菌活性の低下が見られる。
かといって、充分な抗菌活性を期待して多量に配合する
と、低温での結晶析出等、製品の安定性上の問題が生じ
る。
ロ酢酸塩等の水溶性防腐剤は、化粧料のpHが弱酸性で
ないと有効ではなく、酸性下にて使用する場合であって
も、酸性が強くなるに従い水に対する溶解度が低下し、
結晶の析出を来すことがある。
活性剤については、皮膚刺激性,眼粘膜刺激性が認めら
れたり、発泡しやすい,酸性側で抗菌活性が低下する,
陰イオン性物質との相互作用などの実使用上の問題があ
る。
ては、化粧料基剤や他の配合成分により抗菌活性が低下
することなく有効な抗菌作用を示し、且つ可能な限り防
腐防黴剤の配合量を少なくして、皮膚に対し一次刺激性
や感作性を示さないだけではなく、化粧料使用時の刺す
ような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感を
も与えない化粧料を得ることを目的とした。
め、安定性が高く、アレルギー性,刺激性及び毒性の低
い防腐防黴系を検討した結果、銀杏内種皮抽出物と、パ
ラオキシ安息香酸エステル類,フェノキシエタノール,
感光素101号(プラトニン),感光素201号(ピオ
ニン),感光素401号(ルミネキス),ヒノキチオー
ル,N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加
塩,酸化亜鉛よりなる群から選択される1種又は2種以
上とを併用して含有させることにより、相乗的に抗菌活
性が向上するばかりか、皮膚に対する刺激性や不快感が
著しく低減することを見いだし、本発明を完成するに至
った。
皮は、イチョウ(Ginkgo biloba L.)の種子である銀杏
の白く硬い殻の部分であり、イチョウの食用部位である
胚乳(白果)をとった後は廃棄されてしまう部分であ
る。
のを粉砕して用いる。銀杏内種皮の抽出物を得る際の溶
媒は、特に限定されないが、水,エタノール,1,3-ブチ
レングリコール,プロピレングリコール,グリセリン,
ジグリセリンから選ばれる1種又は2種以上が好まし
く、さらにはエタノール及び含水エタノール抽出物が抗
菌作用の点から最も好ましい。抽出の際の銀杏内種皮と
と溶媒との比率は特に限定されるものではないが、銀杏
内種皮1に対して溶媒2〜1000重量倍、特に抽出操
作、効率の点で5〜100重量倍が好ましい。
いが、抽出温度は室温−常圧下で、溶剤の沸点以下の範
囲とするのが好ましい。抽出時間は抽出温度などによっ
て異なるが、2時間〜2週間の範囲とするのが好まし
い。
抽出物は、抽出物をそのまま用いることもでき、また防
腐防黴作用を失わない範囲内で脱臭,精製等の操作を加
えてから配合することもでき、さらにはカラムクロマト
グラフィー等を用いて分画物としてもよい。さらに、こ
れらの抽出物や脱臭,精製物、分画物は、これらから溶
媒を除去することによって乾燥物とすることもでき、さ
らにアルコールなどの溶媒に可溶化した形態、或いは乳
剤の形態で提供することができる。化粧料への配合量
は、0.01〜10重量%程度の低濃度で充分である
する物質として、パラオキシ安息香酸エステル類,フェ
ノキシエタノール,感光素101号(プラトニン),感
光素201号(ピオニン),感光素401号(ルミネキ
ス),ヒノキチオール,N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘
導体及びその酸付加塩,酸化亜鉛が挙げられ、これらよ
り1種又は2種以上を選択して配合する。
パラオキシ安息香酸メチル,パラオキシ安息香酸エチ
ル,パラオキシ安息香酸プロピル,パラオキシ安息香酸
ブチル,パラオキシ安息香酸イソプロピル,パラオキシ
安息香酸イソブチルが挙げられる。本発明においては、
銀杏内種皮抽出物との併用により、抗菌活性の相乗的な
向上が認められるため、これらの配合量としては0.0
1〜0.2重量%程度で十分である。
おついては、0.05〜0.3重量%程度の配合で十分
な抗菌活性を得ることができる。また、感光素101号
(プラトニン),感光素201号(ピオニン),感光素
401号(ルミネキス)については、それぞれ0.00
01〜0.002重量%程度の配合で十分である。ヒノ
キチオールについては、0.0001〜0.1重量%の
配合が適当である。
は、次の一般式(1),一般式(2)及び一般式(3)
で示されるものが好ましく、これら及びこれらの酸付加
塩より1種又は2種以上を選択して用いる。
RCOは炭素数6〜20の飽和又は不飽和の脂肪酸残
基、Xは-NH2,-OCH3,-OC2H5,-OC3H7,-O
C4H9又は-OCH2C6H5を示し、一般式(2)中、n
は3又は4を示す)
ルエステル塩酸塩,N-ラウロイル-L-アルギニンエチル
エステル-DL-ピロリドンカルボン酸塩,N-パルミトイル
-L-アルギニンエチルエステル塩酸塩,N-ココイル-L-ア
ルギニンエチルエステル-DL-ピロリドンカルボン酸塩,
N-カプロイル-L-リジンメチルエステル塩酸塩,N-ラウ
ロイル-L-リジンエチルエステル-DL-ピロリドンカルボ
ン酸塩,N-ミリストイル-L-リジンプロピルエステル塩
酸塩,N-ココイル-L-リジンメチルエステル-DL-ピロリ
ドンカルボン酸塩,N-ステアロイル-L-ヒスチジンメチ
ルエステル塩酸塩,N-オレオイル-L-ヒスチジンエチル
エステル-DL-ピロリドンカルボン酸塩などが例示され
る。配合量としては、0.001〜0.5重量%程度が
適当である。
ム,軟膏,ローション,乳液,固形状,散剤など任意の
剤型とすることができ、化粧水,乳液,美容液,保湿ク
リーム等の基礎化粧料、日焼け止めクリーム,日焼け止
めローション,日焼けオイル,カーマインローション等
のサンケア商品、ファンデーション,アイライナー,マ
スカラ,アイカラー,チークカラー,口紅などのメイク
アップ化粧料、洗顔料,ボディーシャンプー,ヘアシャ
ンプー等の洗浄料、リンス,トリートメント,ヘアクリ
ーム,ヘアオイル,整髪剤などの毛髪用化粧料、香水、
防臭制汗剤等の形態で提供することができる。
で、化粧料に一般的に用いられる各種成分、例えば、ア
ボカド油,パーム油,ピーナッツ油,コメヌカ油,ホホ
バ油,オレンジラフィー油,マカデミアナッツ油,スク
ワラン,月見草油,セサミ油,サンフラワー油,サフラ
ワー油,キャローラ油,カルナウバワックス,パラフィ
ンワックス,ラノリン,リンゴ酸ジイソステアリル,イ
ソステアリルアルコール,流動パラフィン等の油分、グ
リセリン,ジグリセリン,ポリグリセリン,ソルビッ
ト,ポリエチレングリコール,1,3-ブチレングリコー
ル,コラーゲン,ヒアルロン酸等の保湿剤、ビタミンA
油,レチノール,酢酸レチノール等のビタミンA類、リ
ボフラビン,酪酸リボフラビン等のビタミンB2類、塩酸
ピリドキシン等のビタミンB6類、L-アスコルビン酸,L-
アスコルビルリン酸マグネシウム,L-アスコルビン酸ナ
トリウム等のビタミンC類、パントテン酸カルシウム,D
-パントテニルアルコール,パントテニルエチルエーテ
ル,アセチルパントテニルエチルエーテル等のパントテ
ン酸類、エルゴカルシフェロール,コレカルシフェロー
ル等のビタミンD類、ニコチン酸,ニコチン酸アミド,
ニコチン酸ベンジル等のニコチン酸類、α-トコフェロー
ル,酢酸トコフェロール等のビタミンE類、ビタミンP、
ビオチン等のビタミン類、2-ヒドロキシ-4-メトキシベ
ンゾフェノン,2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノ
ン-5-スルホン酸,2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェ
ノン-5-スルホン酸ナトリウム等のベンゾフェノン誘導
体、パラアミノ安息香酸,パラアミノ安息香酸エチル,
パラジメチルアミノ安息香酸オクチル等のパラアミノ安
息香酸誘導体、パラメトキシ桂皮酸-2-エチルヘキシル,
ジパラメトキシ桂皮酸モノ-2-エチルヘキサン酸グリセ
リル等のメトキシ桂皮酸誘導体類、サリチル酸オクチ
ル,サリチル酸ミリスチル等のサリチル酸誘導体、ウロ
カニン酸、4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール等の紫外線吸収剤、グアガム,ローカストビーン
ガム,カラギーナン,クインスシード,ペクチン,マン
ナン等の植物系天然多糖類、キサンタンガム,デキスト
ラン,カードラン,ヒアルロン酸等の微生物系天然多糖
類、ゼラチン,カゼイン,アルブミン,コラーゲン等の
動物系高分子、メチルセルロース,エチルセルロース,
ヒドロキシエチルセルロース,ヒドロキシプロピルセル
ロース,カルボキシメチルセルロース等のセルロース系
半合成高分子、可溶性デンプン,カルボキシメチルデン
プン,メチルデンプン等のデンプン系半合成高分子、ア
ルギン酸プロピレングリコールエステル,アルギン酸塩
等のアルギン酸系半合成高分子、ポリビニルアルコー
ル,ポリビニルピロリドン,カルボキシビニルポリマ
ー,ポリアクリル酸ナトリウム,ポリエチレンオキサイ
ド等の合成高分子、ベントナイト,ラポナイト,コロイ
ダルアルミナ等の無機物系高分子等の水溶性高分子、ジ
ブチルヒドロキシトルエン,ブチルヒドロキシアニソー
ル,没食子酸エステル等の酸化防止剤、高級脂肪酸石
鹸,アルキル硫酸エステル塩,ポリオキシエチレンアル
キルエーテル硫酸塩,アシルメチルタウリン塩,アルキ
ルエーテルリン酸エステル塩,アシルアミノ酸塩等のア
ニオン界面活性剤、塩化アルキルトリメチルアンモニウ
ム,塩化ジアルキルジメチルアンモニウム,塩化ベンザ
ルコニウム等のカチオン界面活性剤、アルキルジメチル
アミノ酢酸ベタイン,アルキルアミドジメチルアミノ酢
酸ベタイン,2-アルキル-N-カルボキシメチル-N-ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタインなどの両性界面活
性剤、ポリオキシエチレン型ノニオン界面活性剤、アルコ
ールエステル型ノニオン界面活性剤等の界面活性剤、エ
チレンジアミン四酢酸ナトリウム塩,ポリリン酸ナトリ
ウム,クエン酸,メタリン酸ナトリウム,コハク酸,グ
ルコン酸等の金属イオン封鎖剤、胎盤抽出物,ソウハク
ヒエキス,グルタチオン,コウジ酸及びその誘導体類,
ハイドロキノン配糖体等のハイドロキノン及びその誘導
体類等の美白剤、グリチルリチン酸,グリチルレチン
酸,アラントイン,アズレン,ヒドロコルチゾン,ε-
アミノカプロン酸等の抗炎症剤、アラントインヒドロキ
シアルミニウム,塩化アルミニウム,タンニン酸,クエ
ン酸,乳酸等の収れん剤、メントール,カンフル等の清
涼化剤、塩酸ジフェンヒドラミン,マレイン酸クロルフ
ェニラミン等の抗ヒスタミン剤、エストラジオール,エ
ストロン,エチニルエストラジオール等の皮脂抑制剤、
サリチル酸,レゾルシン等の角質剥離・溶解剤、α−ヒ
ドロキシ酸類等が配合できる。
詳細に説明する。まず、本発明で使用する銀杏内種皮抽
出物の製造方法を製造例1〜3に示す。
ール300mlを混合し、1時間環流させる。フィルター
で濾過して銀杏内種皮を除去した後、溶媒を留去し、乾
燥物とする。得られた銀杏種皮抽出物は、20重量%エ
タノール水溶液300mlに溶解し、銀杏内種皮抽出物1
とする。
リコール300mlに浸漬する。室温で24時間静置後濾
過して、銀杏内種皮抽出物2とする。
いて脱色処理し、濾過後溶媒を留去した乾燥物を、銀杏
内種皮抽出物3とする。
混合する。
75℃に保つ。一方(7)〜(10)の水相を混合し、加熱溶
解して75℃とし、これに前記油相を攪拌しながら添加
して乳化する。冷却後40℃にて(11)〜(13)を順次添
加,混合する。
する。一方、(8),(9)の水相成分を混合,加熱して7
5℃とし、これに前記油相を添加して乳化し、冷却後4
0℃にて(11)〜(13)の成分を(10)に溶解して添加する。
冷却後40℃にて(6)及び(7)の成分を添加する。
る。(11)を70℃に加熱し、(8)を加えてよく膨潤さ
せ、これにあらかじめ(7)を(9)に分散させたものを加
え、さらに(10)を添加し、溶解させる。(1)〜(6)の油
相は混合し、加熱融解して80℃とする。前記顔料を水
相に攪拌しながら加え、コロイドミルを通して75℃と
し、前記油相を攪拌しながら加えて乳化し、冷却後40
℃にて(12)〜(14)の成分を添加する。
これを高速ブレンダーに移し、(9)〜(13)を添加,混合
し、均一とする。これを粉砕機で処理し、ふるいを通し
粒度をそろえた後、金皿に充填し圧縮成型する。
(6)〜(8)を添加し、コロイドミルを通して分散させ
る。これに(1)を加え、均一に分散させる。
解させる。
方(1)〜(4)を混合,溶解し、70℃に加熱する。この
油相を攪拌しながら先に調製した水相に徐々に加えて予
備乳化し、ホモミキサーを加えて均一とした後冷却し、
40℃にて(7),(8)を添加する。
する。一方、(6)〜(8)の水相成分を混合,加熱して7
5℃とし、これに前記油相を添加して乳化し、冷却後4
0℃にて(9),(10)を添加する。
する。一方、(8)〜(10)の水相成分を混合,加熱して8
5℃とし、これに前記油相を添加して乳化し、冷却後4
0℃にて(11)〜(13)を添加する。
れ75℃に混合加熱溶解した後、油相に水相を加えてケ
ン化する。冷却後40℃で(9)〜(11)を添加して混合す
る。
れ75℃に混合加熱溶解した後、油相に水相を加えてケ
ン化する。冷却後40℃で(7)〜(9)を添加して混合す
る。
菌活性,皮膚刺激性及び使用時の不快感について評価を
行った。同時に表1に示す比較例についても同様に抗菌
活性の評価を行った。
(Escherichia coli),黄色ブドウ球菌(Staphylococc
us aureus),緑濃菌(Pseudomonas aeruginosa),及
びアクネ菌(Propionibacterium acnes)を、真菌とし
てカンジダ(Candida albicans),黒カビ(Aspergillus
niger),及びフケ菌(Pityrosporum ovale)を用い、
試料1g当たり細菌は106個,真菌は105個を植菌
し、37℃及び25℃でそれぞれ培養して、2週間後の
生菌数を測定した。なお、抗菌活性は2週間後に、細菌
については死滅した場合、真菌については生菌数が1/
1000以下となった場合に合格であると判断した。な
お抗菌力試験結果は、表2及び表3において合格したも
のを「○」、不合格のものを「×」として示した。
施例においては、いずれも細菌及び真菌にの双方に対し
て十分な抗菌活性が認められていた。これに対し表3に
示した通り、銀杏内種皮抽出物のみを含有する比較例
2,5,7,9,11,及び13においては、ほとんど
の試験菌に対して抗菌活性が認められていなかった。ま
た、フェノキシエタノールなどの抗菌性物質を相当量含
有する比較例1,3,4,6,8,10,12において
も、一部の試験菌に対し合格基準を満たしていなかっ
た。
男性パネラー30名を用いて、48時間閉塞貼付試験を
行い、表4に示す判定基準により評価し、30名の皮膚
刺激指数の平均値を求めた。なお、実施例7〜9,1
2,13については、1.0重量%水溶液を試験に用い
た。
20名を1群とし、各群に各試料をそれぞれ使用させ、
塗布後30秒から1分間の間に感じる刺すような痛み,
ヒリヒリ感,チクチク感といった不快感について評価さ
せた。評価結果は、「非常に強く感じる;5点」,「や
や強く感じる;4点」,「感じる;3点」,「少し感じ
る;2点」,「微妙に感じる;1点」,「感じない;0
点」として評価し、20名の平均値にて示した。この際
にも、実施例7〜9,12,13については、1.0重
量%水溶液を試験に用いた。以上の結果を表5にまとめ
て示した。
は、いずれにおいても皮膚刺激性は認められておらず、
使用時の不快感も微妙に感じられる程度である。
菌作用が相乗的に強化され、しかも皮膚刺激性のみなら
ず、使用時の刺すような痛み,ヒリヒリ感,チクチク感
といった不快感もほとんど感じられない抗菌性化粧料を
得ることができた。
Claims (5)
- 【請求項1】 銀杏内種皮の抽出物と、パラオキシ安息
香酸エステル類,フェノキシエタノール,感光素101
号(プラトニン),感光素201号(ピオニン),感光
素401号(ルミネキス),ヒノキチオール,N-長鎖ア
シル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩,酸化亜鉛
よりなる群から選択される1種又は2種以上を含有する
ことを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。 - 【請求項2】 銀杏内種皮の抽出物が極性溶媒抽出物で
あることを特徴とする、請求項1に記載の抗菌性低刺激
化粧料。 - 【請求項3】 銀杏内種皮の抽出物がエタノール抽出物
であることを特徴とする、請求項1及び請求項2に記載
の抗菌性低刺激化粧料。 - 【請求項4】 N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及び
その酸付加塩が、一般式(1),一般式(2)及び一般
式(3)で示されるものであることを特徴とする、請求
項1〜請求項3に記載の抗菌性低刺激化粧料。 【化1】 【化2】 【化3】 (但し、一般式(1)〜一般式(3)中、RCOは炭素
数6〜20の飽和又は不飽和脂肪酸残基、Xは-NH2,
-OCH3,-OC2H5,-OC3H7,-OC4H9又は-OC
H2C6H5を示し、一般式(2)中、nは3又は4を示
す。) - 【請求項5】 銀杏内種皮の抽出物の配合量が0.00
1〜10重量%、パラオキシ安息香酸エステル類,フェ
ノキシエタノール,感光素101号(プラトニン),感
光素201号(ピオニン),感光素401号(ルミネキ
ス),ヒノキチオール,N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘
導体及びその酸付加塩,酸化亜鉛の配合量が、それぞれ
0.01〜0.2重量%,0.05〜0.3重量%,
0.0001〜0.002重量%,0.0001〜0.
002重量%,0.0001〜0.002重量%,0.
0001〜0.1重量%,0.001〜0.5重量%,
0.1〜30重量%であることを特徴とする、請求項1
〜請求項4に記載の抗菌性低刺激化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28341596A JP3573883B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 抗菌性低刺激化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28341596A JP3573883B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 抗菌性低刺激化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10109923A true JPH10109923A (ja) | 1998-04-28 |
JP3573883B2 JP3573883B2 (ja) | 2004-10-06 |
Family
ID=17665241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28341596A Expired - Fee Related JP3573883B2 (ja) | 1996-10-04 | 1996-10-04 | 抗菌性低刺激化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3573883B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005298504A (ja) * | 2004-04-06 | 2005-10-27 | Amorepacific Corp | 混合異性化糖及び銀杏葉抽出物を含有する皮膚外用剤組成物 |
CN103308620A (zh) * | 2013-06-09 | 2013-09-18 | 广西工学院 | 化妆品中对羟基苯甲酸酯的快速测定方法 |
JP2014231501A (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 株式会社ミルボン | 毛髪用処理剤 |
KR20210128962A (ko) * | 2019-02-20 | 2021-10-27 | 충남대학교산학협력단 | 은행나무 꽃 추출물을 유효성분으로 포함하는 항진균 조성물 |
-
1996
- 1996-10-04 JP JP28341596A patent/JP3573883B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005298504A (ja) * | 2004-04-06 | 2005-10-27 | Amorepacific Corp | 混合異性化糖及び銀杏葉抽出物を含有する皮膚外用剤組成物 |
JP2014231501A (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 株式会社ミルボン | 毛髪用処理剤 |
CN103308620A (zh) * | 2013-06-09 | 2013-09-18 | 广西工学院 | 化妆品中对羟基苯甲酸酯的快速测定方法 |
KR20210128962A (ko) * | 2019-02-20 | 2021-10-27 | 충남대학교산학협력단 | 은행나무 꽃 추출물을 유효성분으로 포함하는 항진균 조성물 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3573883B2 (ja) | 2004-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3711377B2 (ja) | 乳化剤及び乳化化粧料並びにその製造法 | |
JPH11501954A (ja) | 化粧品用および/または皮膚病用組成物における脂漏症および/またはざ瘡治療用活性剤としてのオクトオキシグリセリンの使用 | |
JP3615894B2 (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JP2002114670A (ja) | 抗菌性皮膚外用剤 | |
JPH1045563A (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JP2700071B2 (ja) | 抗菌剤及びそれを用いた皮膚外用剤、口腔用組成物 | |
JP3568077B2 (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JPH09291016A (ja) | 頭髪化粧料 | |
JPH11255612A (ja) | 抗菌剤及び抗菌性組成物 | |
JP4828077B2 (ja) | 皮膚外用剤 | |
JP3573883B2 (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JPH10203954A (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JP3630384B2 (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JP2001212445A (ja) | 乳化剤 | |
JP2003335621A (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JPH1072312A (ja) | 皮膚外用剤 | |
JPH10203991A (ja) | 皮膚外用剤 | |
JPH11302147A (ja) | 化粧料 | |
JPH10182335A (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JPH10194917A (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JP2000344697A (ja) | 長鎖分岐アルコール及びこれを用いた化粧料及び外用剤 | |
JP3562781B2 (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JP3560424B2 (ja) | 抗菌性組成物 | |
JPH10194916A (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 | |
JP3568076B2 (ja) | 抗菌性低刺激化粧料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040304 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040506 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040604 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040604 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040629 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040630 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |