JPH10102235A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
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- JPH10102235A JPH10102235A JP25702396A JP25702396A JPH10102235A JP H10102235 A JPH10102235 A JP H10102235A JP 25702396 A JP25702396 A JP 25702396A JP 25702396 A JP25702396 A JP 25702396A JP H10102235 A JPH10102235 A JP H10102235A
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- Japan
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- vacuum
- ring
- door
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空吸引開始時または低真空度において開閉
扉を開口部に必ずしも強く押付ける必要がなく、かつ開
閉扉と開口部との間を必ずしも正確に平行に保つ必要が
ない真空装置を提供する。 【解決手段】 真空容器１の開口部５に刻設された溝７
には、密閉シールリング１０が収容されている。この密
閉シールリング１０は、本体リング１０ａと、この本体
リング１０ａから突出した第１及び第２の突起片１０
ｂ、１０ｃとから構成される。真空容器１の真空吸引開
始前または低真空度の時は、第１の突起片１０ｂは、開
閉扉６のシール面９に接触してそれをシールする。真空
容器１が高真空になると、本体リング１０ａが開閉扉６
のシール面９によって押し潰されて弾性変形してシール
面９をシールする。
扉を開口部に必ずしも強く押付ける必要がなく、かつ開
閉扉と開口部との間を必ずしも正確に平行に保つ必要が
ない真空装置を提供する。 【解決手段】 真空容器１の開口部５に刻設された溝７
には、密閉シールリング１０が収容されている。この密
閉シールリング１０は、本体リング１０ａと、この本体
リング１０ａから突出した第１及び第２の突起片１０
ｂ、１０ｃとから構成される。真空容器１の真空吸引開
始前または低真空度の時は、第１の突起片１０ｂは、開
閉扉６のシール面９に接触してそれをシールする。真空
容器１が高真空になると、本体リング１０ａが開閉扉６
のシール面９によって押し潰されて弾性変形してシール
面９をシールする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空装置に係わ
り、特に真空容器の開口部とそれを開閉する開閉扉との
間に設置される密閉シールリングの構造に関する。
り、特に真空容器の開口部とそれを開閉する開閉扉との
間に設置される密閉シールリングの構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空装置は、蒸着装置やスパッター装置
やＣＶＤ装置やエッチング装置などが多くの分野で使用
されている。特に、半導体素子製造工程ではウエハの真
空処理に種々のタイプの真空装置が使用されている。
やＣＶＤ装置やエッチング装置などが多くの分野で使用
されている。特に、半導体素子製造工程ではウエハの真
空処理に種々のタイプの真空装置が使用されている。
【０００３】図４は半導体素子製造工程で使用されてい
るウエハ真空処理装置の一般的な構造を示したものであ
る。真空容器１には、ウエハ２を載置するウエハ載置ス
テージ３が設置されると共に、真空ポンプ４が接続され
ている。真空容器１は内部に開口が形成された開口部５
を有し、この開口部５は開閉扉６によって開閉される。
開口部５の全周には環状の溝７が刻設され、この溝７に
は弾性材料製の密閉シールリング８が収容されている。
この密閉シールリング８に対向する開閉扉６にはシール
面９が形成されている。
るウエハ真空処理装置の一般的な構造を示したものであ
る。真空容器１には、ウエハ２を載置するウエハ載置ス
テージ３が設置されると共に、真空ポンプ４が接続され
ている。真空容器１は内部に開口が形成された開口部５
を有し、この開口部５は開閉扉６によって開閉される。
開口部５の全周には環状の溝７が刻設され、この溝７に
は弾性材料製の密閉シールリング８が収容されている。
この密閉シールリング８に対向する開閉扉６にはシール
面９が形成されている。
【０００４】ウエハ２は開放された開口部５からウエハ
載置ステージ３に載置され、その後に開閉扉６が閉成さ
れる。この開閉扉６は図示を省略した扉締付機構によっ
て密閉シールリング８に対して強く押し付けられ、これ
によってリング９が弾性変形され、開閉扉６のシール面
９との間を気密状態にシールする。真空ポンプ４による
真空吸引が進行して真空容器１の真空度が高まると、真
空容器１の内外の圧力差が大きくなり、この圧力差によ
って開閉扉６は密閉シールリング８に更に強く押し付け
られ、シール性が高まる。
載置ステージ３に載置され、その後に開閉扉６が閉成さ
れる。この開閉扉６は図示を省略した扉締付機構によっ
て密閉シールリング８に対して強く押し付けられ、これ
によってリング９が弾性変形され、開閉扉６のシール面
９との間を気密状態にシールする。真空ポンプ４による
真空吸引が進行して真空容器１の真空度が高まると、真
空容器１の内外の圧力差が大きくなり、この圧力差によ
って開閉扉６は密閉シールリング８に更に強く押し付け
られ、シール性が高まる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来の真空処理装置は少なくとも真空容器の内外圧力差が
所定の値に達するまで開閉扉を密閉シールリングに強く
押付ける扉締付装置を必要とするといった問題がある。
来の真空処理装置は少なくとも真空容器の内外圧力差が
所定の値に達するまで開閉扉を密閉シールリングに強く
押付ける扉締付装置を必要とするといった問題がある。
【０００６】更に、開閉扉のシール面と開口部との間の
平行度が悪いと、密閉シールリングの全周を一様に押付
けることができなくなり、漏洩が生じるおそれがある。
この漏洩によって、外部の空気が真空容器内に入り込
み、真空容器内を汚染したり、所定の真空度への到達を
遅らせることになる。
平行度が悪いと、密閉シールリングの全周を一様に押付
けることができなくなり、漏洩が生じるおそれがある。
この漏洩によって、外部の空気が真空容器内に入り込
み、真空容器内を汚染したり、所定の真空度への到達を
遅らせることになる。
【０００７】そこで、本発明の目的は、真空吸引開始時
または低真空度において開閉扉を開口部に必ずしも強く
押付ける必要がなく、かつ開閉扉と開口部との間を必ず
しも正確に平行に保つ必要がない真空装置を提供するこ
とにある。
または低真空度において開閉扉を開口部に必ずしも強く
押付ける必要がなく、かつ開閉扉と開口部との間を必ず
しも正確に平行に保つ必要がない真空装置を提供するこ
とにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に請求項１に記載された発明は、内部に開口を有する開
口部と上記開口を開閉する開閉扉とを備えた真空容器
と、上記開口部と上記開閉扉との一方に形成されたシー
ル面と、上記開口部と上記開閉扉との他方に刻設された
環状の溝内に収容され、上記開閉扉の閉成によって弾性
変形されて上記シール面をシールする密閉シールリング
とを具備する真空装置において、上記密閉シールリング
は、上記開閉扉の閉成時に弾性変形される本体リング
と、上記本体リングから突出した可撓性の第１の突起片
とを有し、上記第１の突起片は上記シール面に接触する
ように上記溝の外方向に突出していることを特徴とする
ものである。
に請求項１に記載された発明は、内部に開口を有する開
口部と上記開口を開閉する開閉扉とを備えた真空容器
と、上記開口部と上記開閉扉との一方に形成されたシー
ル面と、上記開口部と上記開閉扉との他方に刻設された
環状の溝内に収容され、上記開閉扉の閉成によって弾性
変形されて上記シール面をシールする密閉シールリング
とを具備する真空装置において、上記密閉シールリング
は、上記開閉扉の閉成時に弾性変形される本体リング
と、上記本体リングから突出した可撓性の第１の突起片
とを有し、上記第１の突起片は上記シール面に接触する
ように上記溝の外方向に突出していることを特徴とする
ものである。
【０００９】開閉扉が閉成されると、密閉シールリング
の第１の突起片がシール面に接触してシールする。この
第１の突起片は、本体リングから溝の外方向に突出して
いるので、シール面が本体リングに押付けられるよりも
前にシール面に接触してシール面をシールする。更に第
１の突起片は、撓み易いので、たとえ開口部と開閉扉と
の間の平行度が必ずしも正確でない場合であっても、シ
ール面の全面に一様に接触することができる。請求項２
に記載された発明は、請求項１に記載の真空装置におい
て、上記リングは上記本体リングから突出した可撓性の
第２の突起片を更に有し、上記第２の突起片は上記溝の
内壁に接触するように突出していることを特徴とするも
のである。
の第１の突起片がシール面に接触してシールする。この
第１の突起片は、本体リングから溝の外方向に突出して
いるので、シール面が本体リングに押付けられるよりも
前にシール面に接触してシール面をシールする。更に第
１の突起片は、撓み易いので、たとえ開口部と開閉扉と
の間の平行度が必ずしも正確でない場合であっても、シ
ール面の全面に一様に接触することができる。請求項２
に記載された発明は、請求項１に記載の真空装置におい
て、上記リングは上記本体リングから突出した可撓性の
第２の突起片を更に有し、上記第２の突起片は上記溝の
内壁に接触するように突出していることを特徴とするも
のである。
【００１０】第２の突起片は溝の内壁に接触して、第１
の突起片と相俟ってシール面をシールする。従って、本
体リングを事前に溝内部に密着させる必要がなくなり、
溝への密閉シールリングの装着が容易になる。請求項３
に記載された発明は、請求項２に記載の真空装置におい
て、上記溝は上記開口部に刻設され、上記シール面は上
記開閉扉に形成されていることを特徴とするものであ
る。請求項４に記載された発明は、請求項３に記載の真
空装置において、上記本体リングは横断面がほぼ円形で
あり、上記本体リングにおける上記第１の突起片の突出
位置は上記開閉扉の閉成時に上記開閉扉が最初に接触す
る上記本体リングの部位から所定量ずれていることを特
徴とするものである。
の突起片と相俟ってシール面をシールする。従って、本
体リングを事前に溝内部に密着させる必要がなくなり、
溝への密閉シールリングの装着が容易になる。請求項３
に記載された発明は、請求項２に記載の真空装置におい
て、上記溝は上記開口部に刻設され、上記シール面は上
記開閉扉に形成されていることを特徴とするものであ
る。請求項４に記載された発明は、請求項３に記載の真
空装置において、上記本体リングは横断面がほぼ円形で
あり、上記本体リングにおける上記第１の突起片の突出
位置は上記開閉扉の閉成時に上記開閉扉が最初に接触す
る上記本体リングの部位から所定量ずれていることを特
徴とするものである。
【００１１】もし、第１の突起片の突出位置を開閉扉の
閉成時に開閉扉が最初に接触する本体リングの第１接触
部位に選定すると、開閉扉が開口部に強く押付けられた
時に、第１の突起片は根元からほぼ直角に折曲げられ、
長期の使用によって根元から切断される恐れがある。こ
れを避けるために、第１の突起片の突出位置は本体リン
グの第１接触部位から所定量ずれていることが望まし
い。
閉成時に開閉扉が最初に接触する本体リングの第１接触
部位に選定すると、開閉扉が開口部に強く押付けられた
時に、第１の突起片は根元からほぼ直角に折曲げられ、
長期の使用によって根元から切断される恐れがある。こ
れを避けるために、第１の突起片の突出位置は本体リン
グの第１接触部位から所定量ずれていることが望まし
い。
【００１２】請求項５に記載された発明は、請求項４に
記載の真空装置において、上記第１の突起片は上記開閉
扉の上記シール面に対して直角とならないように傾斜し
ていることを特徴とするものである。第１の突起片をシ
ール面に対して傾斜させることによって、第１の突起片
とシール面との接触が確実になると共に、接触面積も大
きくすることができる。
記載の真空装置において、上記第１の突起片は上記開閉
扉の上記シール面に対して直角とならないように傾斜し
ていることを特徴とするものである。第１の突起片をシ
ール面に対して傾斜させることによって、第１の突起片
とシール面との接触が確実になると共に、接触面積も大
きくすることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明にの真空装置の実施
例を図４と同一部材には同一符号を付して示した図１乃
至図３を参照して説明する。図１及び図２において、真
空容器１の開口部５の全周には環状の溝７が刻設され、
この環状溝７内には弾性材料製の密閉シールリング１０
が収容されている。この密閉シールリング１０は、図３
に明示したように、横断面が円形の本体リング１０ａ
と、この本体リング１０ａから突出した第１及び第２の
突起片１０ｂ，１０ｃとから構成される。両突起片１０
ｂ，１０ｃは、薄く細長い形状で、高い可撓性を有して
いる。第１の突起片１０ｂは溝７の外方に向って、即ち
閉成状態の開閉扉６のシール面９の方に向って、突出し
ており、第２の突起片１０ｃは溝７の内壁に接触するよ
うに溝７の内方へ突出している。その他の構成は図４と
同一である。
例を図４と同一部材には同一符号を付して示した図１乃
至図３を参照して説明する。図１及び図２において、真
空容器１の開口部５の全周には環状の溝７が刻設され、
この環状溝７内には弾性材料製の密閉シールリング１０
が収容されている。この密閉シールリング１０は、図３
に明示したように、横断面が円形の本体リング１０ａ
と、この本体リング１０ａから突出した第１及び第２の
突起片１０ｂ，１０ｃとから構成される。両突起片１０
ｂ，１０ｃは、薄く細長い形状で、高い可撓性を有して
いる。第１の突起片１０ｂは溝７の外方に向って、即ち
閉成状態の開閉扉６のシール面９の方に向って、突出し
ており、第２の突起片１０ｃは溝７の内壁に接触するよ
うに溝７の内方へ突出している。その他の構成は図４と
同一である。
【００１４】次に、この実施例の作用を説明する。開閉
扉６が閉成されると、図１に示したように密閉シールリ
ング１０の第１の突起片１０ｂが開閉扉６のシール面９
に接触すると共に、第２の突起片１０ｃが溝７の内壁に
接触する。これらの第１及び第２の突起片１０ｂ、１０
ｃの接触によって、真空容器１の開口部５と開閉扉６の
シール面９との間がシールされる。なお、たとえ開口部
５と開閉扉６との間が、製造時の誤差、または使用によ
る経年変化等によって正確に平行ではない場合であって
も、第１の突起片１０ｂは撓み易いのでシール面９の全
周囲に一様に接触する。
扉６が閉成されると、図１に示したように密閉シールリ
ング１０の第１の突起片１０ｂが開閉扉６のシール面９
に接触すると共に、第２の突起片１０ｃが溝７の内壁に
接触する。これらの第１及び第２の突起片１０ｂ、１０
ｃの接触によって、真空容器１の開口部５と開閉扉６の
シール面９との間がシールされる。なお、たとえ開口部
５と開閉扉６との間が、製造時の誤差、または使用によ
る経年変化等によって正確に平行ではない場合であって
も、第１の突起片１０ｂは撓み易いのでシール面９の全
周囲に一様に接触する。
【００１５】真空ポンプによって真空容器１内の真空度
が高まり、真空容器１の内外圧力差が大きくなると、開
閉扉６は大気圧により開口部５に更に押付けられ、これ
によって図２に示したようにシール面９が第１の突起片
１０ｂを著しく変形させると共に本体リング１０ａに接
触してそれを弾性変形させる、即ち押し潰す。こうし
て、比較的高真空度の状態では、シール面９のシールは
本体リング１０ａの弾性変形によって確保される。
が高まり、真空容器１の内外圧力差が大きくなると、開
閉扉６は大気圧により開口部５に更に押付けられ、これ
によって図２に示したようにシール面９が第１の突起片
１０ｂを著しく変形させると共に本体リング１０ａに接
触してそれを弾性変形させる、即ち押し潰す。こうし
て、比較的高真空度の状態では、シール面９のシールは
本体リング１０ａの弾性変形によって確保される。
【００１６】以上のように、真空吸引開始前及び低真空
度の時は第１の突起片１０ｂが第２の突起片１０ｃと相
俟ってシール面９をシールし、高い真空度になると本体
リング１０ａがその弾性変形によってシール面９をシー
ルする。第１及び第２の突起片１０ｂ，１０ｃは、柔軟
であるので、たとえ開閉扉６のシール面９と開口部５と
の平行度が悪い場合であってもシール面９の全周にしっ
かりと接触しそれを一様にシールすることができる。
度の時は第１の突起片１０ｂが第２の突起片１０ｃと相
俟ってシール面９をシールし、高い真空度になると本体
リング１０ａがその弾性変形によってシール面９をシー
ルする。第１及び第２の突起片１０ｂ，１０ｃは、柔軟
であるので、たとえ開閉扉６のシール面９と開口部５と
の平行度が悪い場合であってもシール面９の全周にしっ
かりと接触しそれを一様にシールすることができる。
【００１７】次に、第１の突起片１０ｂの突出位置と突
出量と突出方向について、図３を参照して詳細に説明す
る。シール面９に最も近い本体リング１０ａの横断面位
置をＮとした時に、第１の突起片１０ｂはその横断面位
置Ｎから所定量ｄだけずれた本体リング１０ａの位置か
ら突出することが望ましい。もし、突起片１０ｂが横断
面位置Ｎから突出している場合には、高真空度の状態で
開閉扉６が本体リング１０ａを押し潰した時に第１の突
起片１０ｂはその根元からほぼ直角に折曲げられ、そこ
から切断され易くなる。従って、第１の突起片１０ｂは
横断面位置Ｎから所定量ｄずれた位置から突出すること
が好ましい。
出量と突出方向について、図３を参照して詳細に説明す
る。シール面９に最も近い本体リング１０ａの横断面位
置をＮとした時に、第１の突起片１０ｂはその横断面位
置Ｎから所定量ｄだけずれた本体リング１０ａの位置か
ら突出することが望ましい。もし、突起片１０ｂが横断
面位置Ｎから突出している場合には、高真空度の状態で
開閉扉６が本体リング１０ａを押し潰した時に第１の突
起片１０ｂはその根元からほぼ直角に折曲げられ、そこ
から切断され易くなる。従って、第１の突起片１０ｂは
横断面位置Ｎから所定量ｄずれた位置から突出すること
が好ましい。
【００１８】第１の突起片１０ｂの突出量は、その先端
が横断面位置Ｎよりもシール面９側に突出するに選定さ
れている。従って、突起片１０ｂは閉扉６の閉成時に本
体リング１０ａよりも先にシール面９に接触してシール
する。また、第１の突起片１０ｂはシール面９に対し
て、直角でなく傾斜していることが好ましい。この傾斜
によって第１の突起片１０ａとシール面９との接触が確
実になると共に、接触面積も大きくすることができる。
が横断面位置Ｎよりもシール面９側に突出するに選定さ
れている。従って、突起片１０ｂは閉扉６の閉成時に本
体リング１０ａよりも先にシール面９に接触してシール
する。また、第１の突起片１０ｂはシール面９に対し
て、直角でなく傾斜していることが好ましい。この傾斜
によって第１の突起片１０ａとシール面９との接触が確
実になると共に、接触面積も大きくすることができる。
【００１９】実施例では、密閉シールリング１０は第１
及び第２の突起片１０ｂ、１０ｃが本体リング１０ａの
外周側から突出している。しかしながら、本発明はこれ
に限らず、第１及び第２の突起片１０ｂ、１０ｃを図３
に破線で示したように本体リング１０ａの内周側から突
出させることもできる。また、第１及び第２の突起片１
０ｂ、１０ｃの一方を本体リング１０ａの外周側から突
出させ、第１及び第２の突起片１０ｂ、１０ｃの他方を
本体リング１０ａの内周側から突出させることもでき
る。更には、第１及び第２の突起片１０ｂ、１０ｃの各
々は、実線と破線のように一対設けてもよい。
及び第２の突起片１０ｂ、１０ｃが本体リング１０ａの
外周側から突出している。しかしながら、本発明はこれ
に限らず、第１及び第２の突起片１０ｂ、１０ｃを図３
に破線で示したように本体リング１０ａの内周側から突
出させることもできる。また、第１及び第２の突起片１
０ｂ、１０ｃの一方を本体リング１０ａの外周側から突
出させ、第１及び第２の突起片１０ｂ、１０ｃの他方を
本体リング１０ａの内周側から突出させることもでき
る。更には、第１及び第２の突起片１０ｂ、１０ｃの各
々は、実線と破線のように一対設けてもよい。
【００２０】上述の実施例では、シール面９を開閉扉６
に形成し、密閉シールリング収容用の溝７を開口部５に
刻設したが、その逆、即ちシール面９を開口部５に形成
し、密閉シールリング収容用の溝７を開閉扉６に刻設す
ることもできる。更に、密閉シールリング１０を溝７内
に収容する際に、本体リング１０ａが溝７の内部に密着
するように収容した場合には、第２の突起片１０ｃを省
略することもできる。また、上記の実施例は本発明を半
導体製造工程に使用される真空処理装置に適用したもの
であったが、本発明は半導体製造装置用の真空処理装置
に限らず、任意の真空装置に適用することができるもの
である。
に形成し、密閉シールリング収容用の溝７を開口部５に
刻設したが、その逆、即ちシール面９を開口部５に形成
し、密閉シールリング収容用の溝７を開閉扉６に刻設す
ることもできる。更に、密閉シールリング１０を溝７内
に収容する際に、本体リング１０ａが溝７の内部に密着
するように収容した場合には、第２の突起片１０ｃを省
略することもできる。また、上記の実施例は本発明を半
導体製造工程に使用される真空処理装置に適用したもの
であったが、本発明は半導体製造装置用の真空処理装置
に限らず、任意の真空装置に適用することができるもの
である。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、真空容器の真空吸引開始前または低真空度の時
は第１の突起片がシール面に接触してシールするので、
開閉扉を開口部に必ずしも強く押付ける必要がなく、か
つ開閉扉と開口部との間を必ずしも正確に平行に保つ必
要がない。また、高い真空度になると本体リングがその
弾性変形によってシール面をシールするので、高真空度
時には従来の真空装置と少なくとも同等のシール性を確
保することができる。従って、シール面での漏洩に起因
する外気流入による真空容器内の汚染が防止でき、かつ
短時間で所定の真空度に真空吸引することができる。
よれば、真空容器の真空吸引開始前または低真空度の時
は第１の突起片がシール面に接触してシールするので、
開閉扉を開口部に必ずしも強く押付ける必要がなく、か
つ開閉扉と開口部との間を必ずしも正確に平行に保つ必
要がない。また、高い真空度になると本体リングがその
弾性変形によってシール面をシールするので、高真空度
時には従来の真空装置と少なくとも同等のシール性を確
保することができる。従って、シール面での漏洩に起因
する外気流入による真空容器内の汚染が防止でき、かつ
短時間で所定の真空度に真空吸引することができる。
【図１】本発明による真空装置の実施例の要部を示した
断面図。
断面図。
【図２】真空容器が高真空度になった時の状態を示した
実施例の断面図。
実施例の断面図。
【図３】実施例の密閉シールリングを拡大して示した断
面図。
面図。
【図４】従来の真空装置を示した断面図。
１ 真空容器 ５ 開口部 ６ 開閉扉 ７ 溝 ９ シール面 １０ 密閉シールリング １０ａ 本体リング １０ｂ 第１の突起片
Claims (5)
- 【請求項１】内部に開口を有する開口部と上記開口を開
閉する開閉扉とを備えた真空容器と、上記開口部と上記
開閉扉との一方に形成されたシール面と、上記開口部と
上記開閉扉との他方に刻設された環状の溝内に収容さ
れ、上記開閉扉の閉成によって弾性変形されて上記シー
ル面をシールする密閉シールリングとを具備する真空装
置において、上記密閉シールリングは、上記開閉扉の閉
成時に弾性変形される本体リングと、上記本体リングか
ら突出した可撓性の第１の突起片とを有し、上記第１の
突起片は上記シール面に接触するように上記溝の外方向
に突出していることを特徴とする真空装置。 - 【請求項２】上記リングは上記本体リングから突出した
可撓性の第２の突起片を更に有し、上記第２の突起片は
上記溝の内壁に接触するように突出していることを特徴
とする請求項１に記載の真空装置。 - 【請求項３】上記溝は上記開口部に刻設され、上記シー
ル面は上記開閉扉に形成されていることを特徴とする請
求項２に記載の真空装置。 - 【請求項４】上記本体リングは横断面がほぼ円形であ
り、上記本体リングにおける上記第１の突起片の突出位
置は上記開閉扉の閉成時に上記開閉扉が最初に接触する
上記本体リングの部位から所定量ずれていることを特徴
とする請求項３に記載の真空装置。 - 【請求項５】上記第１の突起片は上記開閉扉の上記シー
ル面に対して直角とならないように傾斜していることを
特徴とする請求項４に記載の真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25702396A JPH10102235A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25702396A JPH10102235A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 真空装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10102235A true JPH10102235A (ja) | 1998-04-21 |
Family
ID=17300671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25702396A Pending JPH10102235A (ja) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | 真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10102235A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002099863A1 (fr) * | 2001-06-01 | 2002-12-12 | Tokyo Electron Limited | Dispositif de traitement de plasma |
| US6631049B2 (en) * | 2000-09-04 | 2003-10-07 | Fujitsu Limited | Sealed structure for an electronic device |
| JP2012217924A (ja) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | Miura Co Ltd | 洗浄装置 |
| JP2012256637A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | Philtech Inc | 膜成長装置および太陽電池の製造装置 |
| KR101369404B1 (ko) * | 2013-10-14 | 2014-03-06 | 주식회사 씰테크 | 반도체 설비용 실링부재 |
-
1996
- 1996-09-27 JP JP25702396A patent/JPH10102235A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6631049B2 (en) * | 2000-09-04 | 2003-10-07 | Fujitsu Limited | Sealed structure for an electronic device |
| WO2002099863A1 (fr) * | 2001-06-01 | 2002-12-12 | Tokyo Electron Limited | Dispositif de traitement de plasma |
| JP2012217924A (ja) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | Miura Co Ltd | 洗浄装置 |
| JP2012256637A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | Philtech Inc | 膜成長装置および太陽電池の製造装置 |
| KR101369404B1 (ko) * | 2013-10-14 | 2014-03-06 | 주식회사 씰테크 | 반도체 설비용 실링부재 |
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