JPH098389A - 狭帯域化エキシマレーザー発振器 - Google Patents
狭帯域化エキシマレーザー発振器Info
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- JPH098389A JPH098389A JP15571495A JP15571495A JPH098389A JP H098389 A JPH098389 A JP H098389A JP 15571495 A JP15571495 A JP 15571495A JP 15571495 A JP15571495 A JP 15571495A JP H098389 A JPH098389 A JP H098389A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザー媒質を封入した1つのレーザー管だ
けで光発振と光増幅を効果的に行うようにする。 【構成】 レーザー媒質101を封入したレーザー管1
02を間にして、一対のアパーチャ103a,103b
と、光共振器である全反射鏡104と波長分散性光学素
子106を備え、狭帯域化した良質なレーザー光Lを得
る。この場合、全反射鏡104を用いているのでQ値が
大きく、レーザー光強度は高い。レーザー光Lはビーム
拡大素子105により光断面積が拡げられ、波長分散性
光学素子106により特定の次数の光成分が取り出され
る。取り出されたレーザー光L′は、折り返し鏡107
で反射されて再びレーザー管102のレーザー媒質10
1の中を通り光増幅される。
けで光発振と光増幅を効果的に行うようにする。 【構成】 レーザー媒質101を封入したレーザー管1
02を間にして、一対のアパーチャ103a,103b
と、光共振器である全反射鏡104と波長分散性光学素
子106を備え、狭帯域化した良質なレーザー光Lを得
る。この場合、全反射鏡104を用いているのでQ値が
大きく、レーザー光強度は高い。レーザー光Lはビーム
拡大素子105により光断面積が拡げられ、波長分散性
光学素子106により特定の次数の光成分が取り出され
る。取り出されたレーザー光L′は、折り返し鏡107
で反射されて再びレーザー管102のレーザー媒質10
1の中を通り光増幅される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー分光装置や微
細加工の光源に適用される狭帯域化エキシマレーザー発
振器に関し、光強度の高いレーザー光が得られると共に
装置構成が簡単になるように工夫したものである。
細加工の光源に適用される狭帯域化エキシマレーザー発
振器に関し、光強度の高いレーザー光が得られると共に
装置構成が簡単になるように工夫したものである。
【0002】
【従来の技術】エキシマレーザー発振器は、エキシマ
(二つの原子が付着したゆるやかな結合状態の分子)状
態から基底状態へ、紫外域の誘導放出光を出して遷移す
ることを利用したものである。このエキシマレーザー発
振器は、一般には、放電により励起している。つまり、
レーザー管には希ガスとハロゲン元素とでなるレーザー
媒質(混合ガス)が封入されており、放電を均一化し効
率を上げるため予備放電電極により予備放電をした後、
主放電電極がグロー放電して、レーザー発振が行なわれ
る。
(二つの原子が付着したゆるやかな結合状態の分子)状
態から基底状態へ、紫外域の誘導放出光を出して遷移す
ることを利用したものである。このエキシマレーザー発
振器は、一般には、放電により励起している。つまり、
レーザー管には希ガスとハロゲン元素とでなるレーザー
媒質(混合ガス)が封入されており、放電を均一化し効
率を上げるため予備放電電極により予備放電をした後、
主放電電極がグロー放電して、レーザー発振が行なわれ
る。
【0003】ここで従来のエキシマレーザー発振器の一
例を、図4を基に説明する。図4に示すようにこのエキ
シマレーザー発振器は、主に発振器10と増幅器20と
で構成されている。
例を、図4を基に説明する。図4に示すようにこのエキ
シマレーザー発振器は、主に発振器10と増幅器20と
で構成されている。
【0004】このうち発振器10では、レーザー媒質
(希ガスとハロゲン元素との混合ガス)11が封入され
たレーザー管12を間にして、一対のアパーチャ(孔直
径が2〜3mm)13a,13bが配置されている。更に
アパーチャ13aの外側(図中左側)に出力鏡14が備
えられ、アパーチャ13bの外側(図中右側)にビーム
拡大素子(プリズム)15及び波長分散性光学素子(反
射式回折格子)16が備えられている。
(希ガスとハロゲン元素との混合ガス)11が封入され
たレーザー管12を間にして、一対のアパーチャ(孔直
径が2〜3mm)13a,13bが配置されている。更に
アパーチャ13aの外側(図中左側)に出力鏡14が備
えられ、アパーチャ13bの外側(図中右側)にビーム
拡大素子(プリズム)15及び波長分散性光学素子(反
射式回折格子)16が備えられている。
【0005】レーザー管12の放電電極(図示省略)の
放電により生じた光は、出力鏡14と波長分散性光学素
子16とで反射され両者の間で往復する。つまり出力鏡
14と波長分散性光学素子16とにより光共振器が構成
されている。3つのプリズムで構成したビーム拡大素子
15は、アパーチャ13bから出力された光を拡大(光
断面積を拡大)して波長分散性光学素子16に送る。波
長分散性光学素子16は、回折現象を利用して入射光を
分光し、特定の波長(次数)の光成分のみを反射する。
反射した光は、ビーム拡大素子15により光断面積が絞
られてアパーチャ13bに戻っていく。よって光は特定
の波長幅に絞られて狭帯域化される。また、光はアパー
チャ13a,13bを通過することにより拡がり角が制
限されて高次の横モード発振が制限され、光の質が向上
する。結局、波長分散性光学素子16の波長選択機能
と、アパーチャ13a,13bの横モード発振制限機能
とが相俟って、光が狭帯域化しきれいなスペクトルが得
られる。更に光はレーザー管12を通過する毎に増幅さ
れる。そして光強度が発振しきい値を越えたら、出力鏡
14からレーザー光Lが出力される。
放電により生じた光は、出力鏡14と波長分散性光学素
子16とで反射され両者の間で往復する。つまり出力鏡
14と波長分散性光学素子16とにより光共振器が構成
されている。3つのプリズムで構成したビーム拡大素子
15は、アパーチャ13bから出力された光を拡大(光
断面積を拡大)して波長分散性光学素子16に送る。波
長分散性光学素子16は、回折現象を利用して入射光を
分光し、特定の波長(次数)の光成分のみを反射する。
反射した光は、ビーム拡大素子15により光断面積が絞
られてアパーチャ13bに戻っていく。よって光は特定
の波長幅に絞られて狭帯域化される。また、光はアパー
チャ13a,13bを通過することにより拡がり角が制
限されて高次の横モード発振が制限され、光の質が向上
する。結局、波長分散性光学素子16の波長選択機能
と、アパーチャ13a,13bの横モード発振制限機能
とが相俟って、光が狭帯域化しきれいなスペクトルが得
られる。更に光はレーザー管12を通過する毎に増幅さ
れる。そして光強度が発振しきい値を越えたら、出力鏡
14からレーザー光Lが出力される。
【0006】一方、増幅器20では、レーザー媒質21
が封入されたレーザー管22を間にして、孔付き凹面鏡
23a及び凸面鏡23bが相対向して配置されている。
この鏡23a,23bにより不安定共振器23が形成さ
れており、凸面鏡23bの中心部には、レーザー光Lつ
まり発振波長の光成分を100%反射するコーティング
が施こされている。更に、レーザー光Lをレーザー管2
2に導くミラー24,25が備えられている。
が封入されたレーザー管22を間にして、孔付き凹面鏡
23a及び凸面鏡23bが相対向して配置されている。
この鏡23a,23bにより不安定共振器23が形成さ
れており、凸面鏡23bの中心部には、レーザー光Lつ
まり発振波長の光成分を100%反射するコーティング
が施こされている。更に、レーザー光Lをレーザー管2
2に導くミラー24,25が備えられている。
【0007】この増幅器20では、発振器10から出力
されたレーザー光Lを、ミラー24,25で導びいてレ
ーザー管21に通過させることにより、光強度を増幅す
る。更にレーザー光Lを不安定共振器23の凸面鏡23
a及び凹面鏡23bで反射させることにより、光断面積
の大きな平行光線としている。よって光断面積の大きな
平行光線となった光強度の高いレーザー光Lが出力(凸
面鏡23bから図中右方に出力)される。
されたレーザー光Lを、ミラー24,25で導びいてレ
ーザー管21に通過させることにより、光強度を増幅す
る。更にレーザー光Lを不安定共振器23の凸面鏡23
a及び凹面鏡23bで反射させることにより、光断面積
の大きな平行光線としている。よって光断面積の大きな
平行光線となった光強度の高いレーザー光Lが出力(凸
面鏡23bから図中右方に出力)される。
【0008】なお増幅器20での増幅を行うためには、
注入同期を最適化する必要がある。注入同期とは、レー
ザー媒質内にコヒーレンスの高い外部レーザー光を注入
し、発振モードを、注入した光のモードに引き入れる技
術のことである。注入同期では、小さな注入パワーで注
入光と同程度のスペクトル幅(波長幅)を持った出力光
を発生させることができる。図4の例では、発振器10
と増幅器20を独立させているため、発振器10で発振
したレーザー光を増幅器20に注入するときに、発振器
10と増幅器20とのガス励起同期を適正にとりながら
注入する必要がある。なお、同期が不適正であると注入
したレーザー光は消滅してしまうので、適正同期がとれ
るように制御をしている。
注入同期を最適化する必要がある。注入同期とは、レー
ザー媒質内にコヒーレンスの高い外部レーザー光を注入
し、発振モードを、注入した光のモードに引き入れる技
術のことである。注入同期では、小さな注入パワーで注
入光と同程度のスペクトル幅(波長幅)を持った出力光
を発生させることができる。図4の例では、発振器10
と増幅器20を独立させているため、発振器10で発振
したレーザー光を増幅器20に注入するときに、発振器
10と増幅器20とのガス励起同期を適正にとりながら
注入する必要がある。なお、同期が不適正であると注入
したレーザー光は消滅してしまうので、適正同期がとれ
るように制御をしている。
【0009】図5は従来のエキシマレーザー発振器の他
の例を示す。このエキシマレーザー発振器では、レーザ
ー光Lの光断面積をビームエキスパンダ(コリメータレ
ンズ)26により拡大してから、レーザー管22に入力
して増幅している。つまり不安定共振器23(図4参
照)の代わりに、ビームエキスパンダ26を用いてい
る。なお他の部分は、図4に示す例と同じである。
の例を示す。このエキシマレーザー発振器では、レーザ
ー光Lの光断面積をビームエキスパンダ(コリメータレ
ンズ)26により拡大してから、レーザー管22に入力
して増幅している。つまり不安定共振器23(図4参
照)の代わりに、ビームエキスパンダ26を用いてい
る。なお他の部分は、図4に示す例と同じである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで図4及び図5
に示す従来のエキシマレーザー発振器では、次のような
問題があった。 (1)発振器10と増幅器20とが独立した別部材とな
っているため、2つのレーザー媒質11,21及び2つ
のレーザー管12,22が必要となり、装置が大型化し
ていた。 (2)エキシマレーザーの場合、一般に、パルス幅が2
0〜50[ns]と非常に短く、発振器10と増幅器20
の注入同期には、数10[ns]オーダの制御が必要であ
り、注入同期制御に精度の高い制御装置が用いられ装置
構成が複雑になっていた。 (3)発振器10から得られるレーザー光断面積が小さ
いので、増幅器20でレーザー光出力を有効に上げるた
め、レーザー光断面積を大きくする不安定共振器23や
ビームエキスパンダ26が必要になり、装置構成が複雑
であった。
に示す従来のエキシマレーザー発振器では、次のような
問題があった。 (1)発振器10と増幅器20とが独立した別部材とな
っているため、2つのレーザー媒質11,21及び2つ
のレーザー管12,22が必要となり、装置が大型化し
ていた。 (2)エキシマレーザーの場合、一般に、パルス幅が2
0〜50[ns]と非常に短く、発振器10と増幅器20
の注入同期には、数10[ns]オーダの制御が必要であ
り、注入同期制御に精度の高い制御装置が用いられ装置
構成が複雑になっていた。 (3)発振器10から得られるレーザー光断面積が小さ
いので、増幅器20でレーザー光出力を有効に上げるた
め、レーザー光断面積を大きくする不安定共振器23や
ビームエキスパンダ26が必要になり、装置構成が複雑
であった。
【0011】本発明は、上記従来技術に鑑み、出力する
レーザー光の光強度が高く且つ構成が簡単な狭帯域化エ
キシマレーザー発振器を提供することを目的とする。
レーザー光の光強度が高く且つ構成が簡単な狭帯域化エ
キシマレーザー発振器を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の構成は、レーザー媒質が封入されたレーザー管と、
レーザー管を間にして対向配置されており、前記レーザ
ー管から出力された光の拡がり角を制限しつつ通過させ
る一対の拡がり角制限手段と、前記レーザー管から出力
され前記拡がり角制限手段の一方を通過してきた光を反
射し、反射光を往路と同じ光路に送る位置に設置された
全反射鏡と、前記レーザー管から出力され前記拡がり角
制限手段の他方を通過してきた光が入射する位置に設置
され、光がレーザー管から離れる方向に進行・通過する
ときには光断面積を拡大し、光がレーザー管に近づく方
向に進行・通過するときには光断面積を縮小するビーム
拡大素子と、前記ビーム拡大素子を進行・通過すること
により光断面積が拡大した光が入射する位置に設置さ
れ、回折現象を利用して、特定次の光は反射して往路と
同じ光路に送ると共に、特定次と1次異なる光は反射し
て往路と異なる光路に送る波長分散性光学素子と、前記
波長分散性光学素子により反射された特定次と1次異な
る光を反射することにより前記レーザー管に入力して通
過させる折り返し鏡と、でなることを特徴とする。
明の構成は、レーザー媒質が封入されたレーザー管と、
レーザー管を間にして対向配置されており、前記レーザ
ー管から出力された光の拡がり角を制限しつつ通過させ
る一対の拡がり角制限手段と、前記レーザー管から出力
され前記拡がり角制限手段の一方を通過してきた光を反
射し、反射光を往路と同じ光路に送る位置に設置された
全反射鏡と、前記レーザー管から出力され前記拡がり角
制限手段の他方を通過してきた光が入射する位置に設置
され、光がレーザー管から離れる方向に進行・通過する
ときには光断面積を拡大し、光がレーザー管に近づく方
向に進行・通過するときには光断面積を縮小するビーム
拡大素子と、前記ビーム拡大素子を進行・通過すること
により光断面積が拡大した光が入射する位置に設置さ
れ、回折現象を利用して、特定次の光は反射して往路と
同じ光路に送ると共に、特定次と1次異なる光は反射し
て往路と異なる光路に送る波長分散性光学素子と、前記
波長分散性光学素子により反射された特定次と1次異な
る光を反射することにより前記レーザー管に入力して通
過させる折り返し鏡と、でなることを特徴とする。
【0013】また本発明の構成は、レーザー媒質が封入
されたレーザー管と、レーザー管を間にして対向配置さ
れており、前記レーザー管から出力された光の拡がり角
を制限しつつ通過させる一対の拡がり角制限手段と、前
記レーザー管から出力され前記拡がり角制限手段の一方
を通過してきた光を反射し、反射光を往路と同じ光路に
送る位置に設置された第1の全反射鏡と、前記レーザー
管から出力され前記拡がり角制限手段の他方を通過して
きた光が入射する位置に設置され、光がレーザー管から
離れる方向に進行・通過するときには光断面積を拡大
し、光がレーザー管に近づく方向に進行・通過するとき
には光断面積を縮小するビーム拡大素子と、前記ビーム
拡大素子を進行・通過することにより光断面積が拡大し
た光が入射する位置に設置され、回折現象を利用して、
特定次の光は反射して往路と同じ光路に送ると共に、特
定次と1次異なる光は反射して往路と異なる光路に送る
波長分散性光学素子と、前記波長分散性光学素子により
反射された特定次と1次異なる光を反射することにより
前記レーザー管に入力して通過させる折り返し鏡と、前
記折り返し管と前記レーザー管との間に配置した偏光光
学素子と、前記レーザー管を間にして前記折り返し鏡に
対向する位置に配置され、前記折り返し鏡で反射されて
偏光光学素子及びレーザー管中を通過してきたレーザー
光を全反射することにより前記レーザー管を通過させて
前記偏光光学素子に送る第2の全反射鏡と、前記第2の
全反射鏡と前記レーザー管との間に配置した1/4波長
板と、を有することを特徴とする。
されたレーザー管と、レーザー管を間にして対向配置さ
れており、前記レーザー管から出力された光の拡がり角
を制限しつつ通過させる一対の拡がり角制限手段と、前
記レーザー管から出力され前記拡がり角制限手段の一方
を通過してきた光を反射し、反射光を往路と同じ光路に
送る位置に設置された第1の全反射鏡と、前記レーザー
管から出力され前記拡がり角制限手段の他方を通過して
きた光が入射する位置に設置され、光がレーザー管から
離れる方向に進行・通過するときには光断面積を拡大
し、光がレーザー管に近づく方向に進行・通過するとき
には光断面積を縮小するビーム拡大素子と、前記ビーム
拡大素子を進行・通過することにより光断面積が拡大し
た光が入射する位置に設置され、回折現象を利用して、
特定次の光は反射して往路と同じ光路に送ると共に、特
定次と1次異なる光は反射して往路と異なる光路に送る
波長分散性光学素子と、前記波長分散性光学素子により
反射された特定次と1次異なる光を反射することにより
前記レーザー管に入力して通過させる折り返し鏡と、前
記折り返し管と前記レーザー管との間に配置した偏光光
学素子と、前記レーザー管を間にして前記折り返し鏡に
対向する位置に配置され、前記折り返し鏡で反射されて
偏光光学素子及びレーザー管中を通過してきたレーザー
光を全反射することにより前記レーザー管を通過させて
前記偏光光学素子に送る第2の全反射鏡と、前記第2の
全反射鏡と前記レーザー管との間に配置した1/4波長
板と、を有することを特徴とする。
【0014】
【作用】本発明では、波長分散性光学素子と共に光共振
器となる鏡が全反射鏡であるので、損失が少なくなりレ
ーザー光の光強度が大きく、発振成立時間が短くなる。
また同一のレーザー媒質によりレーザー光の発振と増幅
を行う。
器となる鏡が全反射鏡であるので、損失が少なくなりレ
ーザー光の光強度が大きく、発振成立時間が短くなる。
また同一のレーザー媒質によりレーザー光の発振と増幅
を行う。
【0015】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づき詳細に
説明する。
説明する。
【0016】<第1実施例>図1は本発明の第1実施例
に係る狭帯域化エキシマレーザー発振器を示す。本実施
例では、レーザー媒質(希ガスとハロゲン元素との混合
ガス)101が封入されたレーザー管102には、放電
電極(図示省略)が備えられている。放電電極により放
電をするとレーザー媒質101から光が発生する。
に係る狭帯域化エキシマレーザー発振器を示す。本実施
例では、レーザー媒質(希ガスとハロゲン元素との混合
ガス)101が封入されたレーザー管102には、放電
電極(図示省略)が備えられている。放電電極により放
電をするとレーザー媒質101から光が発生する。
【0017】アパーチャ103a,103bは、孔直径
が2〜3mmとなっており、レーザー管102を間にして
対向設置されている。このアパーチャ103a,103
bは、レーザー管102から出力された光の拡がり角を
制限し、制限した一部の光のみを絞って通過させる。こ
のようにすることにより、光の高次の横モード発振を制
限してレーザー光Lの質を向上させることができる。な
おアパーチャ103a,103bの代わりに、スリット
(スリット幅が2〜3mm)を用いてもよい。
が2〜3mmとなっており、レーザー管102を間にして
対向設置されている。このアパーチャ103a,103
bは、レーザー管102から出力された光の拡がり角を
制限し、制限した一部の光のみを絞って通過させる。こ
のようにすることにより、光の高次の横モード発振を制
限してレーザー光Lの質を向上させることができる。な
おアパーチャ103a,103bの代わりに、スリット
(スリット幅が2〜3mm)を用いてもよい。
【0018】全反射鏡104は、アパーチャ103aの
外側(図中左側)に位置しており、レーザー光Lに対し
て、つまり発振波長成分の光成分に対して100%の反
射率を有している。このため、全反射鏡104は、レー
ザー管102から出力してアパーチャ103aを通過し
てきた光(レーザー光L)を全反射し、反射光を往路と
同じ光路に送ってレーザー管102に戻す。このように
全反射鏡を用いていることが、本発明のポイントの1つ
である。
外側(図中左側)に位置しており、レーザー光Lに対し
て、つまり発振波長成分の光成分に対して100%の反
射率を有している。このため、全反射鏡104は、レー
ザー管102から出力してアパーチャ103aを通過し
てきた光(レーザー光L)を全反射し、反射光を往路と
同じ光路に送ってレーザー管102に戻す。このように
全反射鏡を用いていることが、本発明のポイントの1つ
である。
【0019】ビーム拡大素子105は、プリズムやコリ
メータで構成したものであるが、図1では四角のブロッ
クにより簡略化して示している。このビーム拡大素子1
05は、アパーチャ103bの外側(図中右側)に位置
しており、レーザー管102から出力してアパーチャ1
03aを通過してきた光の光断面積を拡大して波長分散
性光学素子106に送り、この波長分散性光学素子10
6で反射してきた光の光断面積を縮小してアパーチャ1
03bを介してレーザー管102に戻す。
メータで構成したものであるが、図1では四角のブロッ
クにより簡略化して示している。このビーム拡大素子1
05は、アパーチャ103bの外側(図中右側)に位置
しており、レーザー管102から出力してアパーチャ1
03aを通過してきた光の光断面積を拡大して波長分散
性光学素子106に送り、この波長分散性光学素子10
6で反射してきた光の光断面積を縮小してアパーチャ1
03bを介してレーザー管102に戻す。
【0020】波長分散性光学素子106は、反射式回折
格子であり、ビーム拡大素子105から送られてくる光
に対して、その面が斜めになる角度で配置されている。
更に詳述すると、入射する光のうち0次の光成分は反射
後に往路と同じ光路を戻り、入射する光のうち1次の光
成分は一定の反射角(回折角)をもって反射して取り出
すことができるような角度で、波長分散性光学素子10
6が設置されている。このため波長分散性光学素子10
6は、全反射鏡104と共働して光共振器としての機能
を発揮すると共に、それ単独でレーザー光Lの取り出し
の機能も発揮する。
格子であり、ビーム拡大素子105から送られてくる光
に対して、その面が斜めになる角度で配置されている。
更に詳述すると、入射する光のうち0次の光成分は反射
後に往路と同じ光路を戻り、入射する光のうち1次の光
成分は一定の反射角(回折角)をもって反射して取り出
すことができるような角度で、波長分散性光学素子10
6が設置されている。このため波長分散性光学素子10
6は、全反射鏡104と共働して光共振器としての機能
を発揮すると共に、それ単独でレーザー光Lの取り出し
の機能も発揮する。
【0021】レーザー媒質101で発生した光は、波長
分散性光学素子106で反射(回折)されることにより
波長成分が絞られて狭帯域化する。狭帯域化された光
(レーザー光)は、全反射鏡104と波長分散性光学素
子106とで反射され、レーザー媒質101の中を往復
通過し光増幅される。この場合、全反射鏡104がレー
ザー光Lを全反射(100%反射)するので、光損失が
減少しレーザー光LのQ値(光共振器内に蓄えられるエ
ネルギー)が向上する。Q値が向上することにより、発
振光強度が増加し、更に狭帯域発振に至るまでの時間
(発振成立時間)が短縮化される。つまり図2に示すよ
うにレーザー光強度が点線のものから実線のものになる
と、発振成立時間がtB からtA にまで短縮されるので
ある。
分散性光学素子106で反射(回折)されることにより
波長成分が絞られて狭帯域化する。狭帯域化された光
(レーザー光)は、全反射鏡104と波長分散性光学素
子106とで反射され、レーザー媒質101の中を往復
通過し光増幅される。この場合、全反射鏡104がレー
ザー光Lを全反射(100%反射)するので、光損失が
減少しレーザー光LのQ値(光共振器内に蓄えられるエ
ネルギー)が向上する。Q値が向上することにより、発
振光強度が増加し、更に狭帯域発振に至るまでの時間
(発振成立時間)が短縮化される。つまり図2に示すよ
うにレーザー光強度が点線のものから実線のものになる
と、発振成立時間がtB からtA にまで短縮されるので
ある。
【0022】上述したようにして発生した光強度の高い
レーザー光Lは、前述したようにビーム拡大素子105
により光断面積が拡大され、更にレーザー光Lのうち1
次の光成分は波長分散性光学素子106により取り出さ
れる。
レーザー光Lは、前述したようにビーム拡大素子105
により光断面積が拡大され、更にレーザー光Lのうち1
次の光成分は波長分散性光学素子106により取り出さ
れる。
【0023】折り返し鏡107は、波長分散性光学素子
106により取り出された光強度が高く光断面積の大き
なレーザー光L′を全反射してレーザー管102に送
る。したがってレーザー光L′はレーザー媒質101を
通過することにより光増幅されてから出力される。この
場合、レーザー光L′の光断面積が大きいので、レーザ
ー光L′は効果的に増幅され、レーザー管102から出
力(図中左方に出力)された増幅済のレーザー光L′の
光強度はきわめて大きくなっている。
106により取り出された光強度が高く光断面積の大き
なレーザー光L′を全反射してレーザー管102に送
る。したがってレーザー光L′はレーザー媒質101を
通過することにより光増幅されてから出力される。この
場合、レーザー光L′の光断面積が大きいので、レーザ
ー光L′は効果的に増幅され、レーザー管102から出
力(図中左方に出力)された増幅済のレーザー光L′の
光強度はきわめて大きくなっている。
【0024】本実施例では、同一のレーザー媒質101
により、レーザー光(0次の光成分)Lの発振と、レー
ザー光L′(光断面積の大きい1次の光成分)の増幅を
行なっているので、レーザー光Lとレーザー光L′は常
に同期し、従来用いていたような注入同期制御は不要と
なる。このように1つのレーザー媒質101により、レ
ーザー発振とレーザー増幅を行うことが、本発明のポイ
ントの1つである。
により、レーザー光(0次の光成分)Lの発振と、レー
ザー光L′(光断面積の大きい1次の光成分)の増幅を
行なっているので、レーザー光Lとレーザー光L′は常
に同期し、従来用いていたような注入同期制御は不要と
なる。このように1つのレーザー媒質101により、レ
ーザー発振とレーザー増幅を行うことが、本発明のポイ
ントの1つである。
【0025】<第2実施例>図3は本発明の第2実施例
を示す。第2実施例では、レーザー光L′をレーザー媒
質101に2回通過させて、2パス増幅させるようにし
たものである。なお、第1実施例と同一機能をはたす部
分には同一符号を付して同一機能部の説明は省略し、新
たに付け加えた部分の説明をする。
を示す。第2実施例では、レーザー光L′をレーザー媒
質101に2回通過させて、2パス増幅させるようにし
たものである。なお、第1実施例と同一機能をはたす部
分には同一符号を付して同一機能部の説明は省略し、新
たに付け加えた部分の説明をする。
【0026】図3に示すように第2実施例では、折り返
し鏡107とレーザー管102との間に偏光光学素子1
08を備えている。偏光光学素子108は、ある一定の
方向の振動の光(縦方向偏光の光)は透過させ、それと
直角方向の光(横方向偏光の光)は反射させる。
し鏡107とレーザー管102との間に偏光光学素子1
08を備えている。偏光光学素子108は、ある一定の
方向の振動の光(縦方向偏光の光)は透過させ、それと
直角方向の光(横方向偏光の光)は反射させる。
【0027】また全反射鏡109は、図中レーザー管1
02の左側に配置され、レーザー管102から出力され
たレーザー光L′を反射して再びレーザー管102に入
射する。更に全反射鏡109とレーザー管102との間
に1/4波長板110を備えている。1/4波長板11
0は、光が透過すると光に対して1/4の位相差を生じ
させて出力する。
02の左側に配置され、レーザー管102から出力され
たレーザー光L′を反射して再びレーザー管102に入
射する。更に全反射鏡109とレーザー管102との間
に1/4波長板110を備えている。1/4波長板11
0は、光が透過すると光に対して1/4の位相差を生じ
させて出力する。
【0028】本実施例では、折り返し鏡107で反射さ
れるレーザー光L′は、ビーム拡大素子105と波長分
散性光学素子106の作用により、縦方向偏光となって
いる。したがって折り返し鏡107で反射されたレーザ
ー光L′は、偏光光学素子108を透過し、レーザー媒
質101中を図中左方に進みつつ光増幅される。レーザ
ー管102の左側から左方に出力されたレーザー光L′
は、1/4波長板110を通過することにより位相が1
/4ずれる。位相ずれしたレーザー光L′は全反射鏡1
09で反射されてこんどは右方に進み再び1/4波長板
を通過することにより、位相が更に1/4ずれる。よっ
て1/4波長板110を再通過して右方に進むレーザー
光L′は、横偏光となっている。横偏光となって右方に
進むレーザー光L′は再びレーザー媒質101中を進み
光増幅される。2パス増幅されてレーザー管102の右
側から右方に出力されたレーザー光L′は横偏光となっ
ているので、偏光光学素子108で全反射して取り出さ
れる。
れるレーザー光L′は、ビーム拡大素子105と波長分
散性光学素子106の作用により、縦方向偏光となって
いる。したがって折り返し鏡107で反射されたレーザ
ー光L′は、偏光光学素子108を透過し、レーザー媒
質101中を図中左方に進みつつ光増幅される。レーザ
ー管102の左側から左方に出力されたレーザー光L′
は、1/4波長板110を通過することにより位相が1
/4ずれる。位相ずれしたレーザー光L′は全反射鏡1
09で反射されてこんどは右方に進み再び1/4波長板
を通過することにより、位相が更に1/4ずれる。よっ
て1/4波長板110を再通過して右方に進むレーザー
光L′は、横偏光となっている。横偏光となって右方に
進むレーザー光L′は再びレーザー媒質101中を進み
光増幅される。2パス増幅されてレーザー管102の右
側から右方に出力されたレーザー光L′は横偏光となっ
ているので、偏光光学素子108で全反射して取り出さ
れる。
【0029】第2実施例ではレーザー光を2パス増幅し
ているので、取り出したレーザー光L′の光強度は更に
高いものとなる。
ているので、取り出したレーザー光L′の光強度は更に
高いものとなる。
【0030】
【発明の効果】以上実施例と共に具体的に説明したよう
に本発明によれば次のような効果が得られる。
に本発明によれば次のような効果が得られる。
【0031】(1)1つのレーザー媒質により狭帯域化
発振と光増幅ができるため、注入同期制御が不要になる
と共に、装置のコンパクト化ができる。
発振と光増幅ができるため、注入同期制御が不要になる
と共に、装置のコンパクト化ができる。
【0032】(2)光共振器の一方を、全反射鏡として
反射率を100%にしたので、光共振器内での損失が低
下し、光強度が高く発振に至るまでの時間が短縮でき
る。この結果、エキシマレーザーのようにパルス幅の短
いレーザーであっても、1つのレーザー媒質により狭帯
域化発振と光増幅ができるようになった。ちなみに従来
では、光共振器の損失が大きく、生じたレーザー光は光
強度が減衰して小さいので、減衰したレーザー光を同一
のレーザー媒質(発振用のレーザー媒質)に入力して増
幅をしようとしても効率よく増幅できない事状を考慮し
て、別の増幅用のレーザー媒質にレーザー光に入力して
光増幅を行なわざるを得なかった。
反射率を100%にしたので、光共振器内での損失が低
下し、光強度が高く発振に至るまでの時間が短縮でき
る。この結果、エキシマレーザーのようにパルス幅の短
いレーザーであっても、1つのレーザー媒質により狭帯
域化発振と光増幅ができるようになった。ちなみに従来
では、光共振器の損失が大きく、生じたレーザー光は光
強度が減衰して小さいので、減衰したレーザー光を同一
のレーザー媒質(発振用のレーザー媒質)に入力して増
幅をしようとしても効率よく増幅できない事状を考慮し
て、別の増幅用のレーザー媒質にレーザー光に入力して
光増幅を行なわざるを得なかった。
【0033】(3)ビーム拡大素子により拡大し波長分
散性光学素子により取り出した光断面の大きなレーザー
光を、折り返し鏡により反射させて、光増幅のためレー
ザー媒質に入射させるようにしたので、不安定共振器や
ビームエキスパンダのように複雑な光学器具が不要にな
り、構成が簡単になる。
散性光学素子により取り出した光断面の大きなレーザー
光を、折り返し鏡により反射させて、光増幅のためレー
ザー媒質に入射させるようにしたので、不安定共振器や
ビームエキスパンダのように複雑な光学器具が不要にな
り、構成が簡単になる。
【0034】光増幅のためレーザー光をレーザー媒質に
2回通すようにしたことにより、レーザー光強度をより
高いものにすることができる。
2回通すようにしたことにより、レーザー光強度をより
高いものにすることができる。
【図1】本発明の第1実施例を示す構成図。
【図2】レーザー光強度と発振成立時間との関係を示す
特性図。
特性図。
【図3】本発明の第2実施例を示す構成図。
【図4】従来技術を示す構成図。
【図5】従来技術を示す構成図。
10 発振器 11 レーザー媒質 12 レーザー管 13a,13b アパーチャ 14 出力鏡 15 ビーム拡大素子 16 波長分散性光学素子 20 増幅器 21 レーザー媒質 22 レーザー管 23 不安定共振器 23a 孔付き凹面鏡 23b 凸面鏡 24,25 ミラー 26 ビームエキスパンダ 101 レーザー媒質 102 レーザー管 103a,103b アパーチャ 104 全反射鏡 105 ビーム拡大素子 106 波長分散性光学素子 107 折り返し鏡 108 偏光光学素子 109 全反射鏡 110 1/4波長板 L,L′ レーザー光
Claims (2)
- 【請求項1】 レーザー媒質が封入されたレーザー管
と、 レーザー管を間にして対向配置されており、前記レーザ
ー管から出力された光の拡がり角を制限しつつ通過させ
る一対の拡がり角制限手段と、 前記レーザー管から出力され前記拡がり角制限手段の一
方を通過してきた光を反射し、反射光を往路と同じ光路
に送る位置に設置された全反射鏡と、 前記レーザー管から出力され前記拡がり角制限手段の他
方を通過してきた光が入射する位置に設置され、光がレ
ーザー管から離れる方向に進行・通過するときには光断
面積を拡大し、光がレーザー管に近づく方向に進行・通
過するときには光断面積を縮小するビーム拡大素子と、 前記ビーム拡大素子を進行・通過することにより光断面
積が拡大した光が入射する位置に設置され、回折現象を
利用して、特定次の光は反射して往路と同じ光路に送る
と共に、特定次と1次異なる光は反射して往路と異なる
光路に送る波長分散性光学素子と、 前記波長分散性光学素子により反射された特定次と1次
異なる光を反射することにより前記レーザー管に入力し
て通過させる折り返し鏡と、 でなることを特徴とする狭帯域化エキシマレーザー発振
器。 - 【請求項2】 レーザー媒質が封入されたレーザー管
と、 レーザー管を間にして対向配置されており、前記レーザ
ー管から出力された光の拡がり角を制限しつつ通過させ
る一対の拡がり角制限手段と、 前記レーザー管から出力され前記拡がり角制限手段の一
方を通過してきた光を反射し、反射光を往路と同じ光路
に送る位置に設置された第1の全反射鏡と、 前記レーザー管から出力され前記拡がり角制限手段の他
方を通過してきた光が入射する位置に設置され、光がレ
ーザー管から離れる方向に進行・通過するときには光断
面積を拡大し、光がレーザー管に近づく方向に進行・通
過するときには光断面積を縮小するビーム拡大素子と、 前記ビーム拡大素子を進行・通過することにより光断面
積が拡大した光が入射する位置に設置され、回折現象を
利用して、特定次の光は反射して往路と同じ光路に送る
と共に、特定次と1次異なる光は反射して往路と異なる
光路に送る波長分散性光学素子と、 前記波長分散性光学素子により反射された特定次と1次
異なる光を反射することにより前記レーザー管に入力し
て通過させる折り返し鏡と、 前記折り返し管と前記レーザー管との間に配置した偏光
光学素子と、 前記レーザー管を間にして前記折り返し鏡に対向する位
置に配置され、前記折り返し鏡で反射されて偏光光学素
子及びレーザー管中を通過してきたレーザー光を全反射
することにより前記レーザー管を通過させて前記偏光光
学素子に送る第2の全反射鏡と、 前記第2の全反射鏡と前記レーザー管との間に配置した
1/4波長板と、 を有することを特徴とする狭帯域化エキシマレーザー発
振器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15571495A JPH098389A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 狭帯域化エキシマレーザー発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15571495A JPH098389A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 狭帯域化エキシマレーザー発振器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH098389A true JPH098389A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=15611896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15571495A Withdrawn JPH098389A (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 狭帯域化エキシマレーザー発振器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH098389A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002353545A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-12-06 | Komatsu Ltd | 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置 |
JP2004311766A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Ushio Inc | 露光用2ステージレーザ装置 |
JP2006049839A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-02-16 | Komatsu Ltd | 高出力ガスレーザ装置 |
JP2006165484A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Komatsu Ltd | 多段増幅型レーザシステム |
JP2007281517A (ja) * | 1999-03-19 | 2007-10-25 | Cymer Inc | 可視赤及びirコントロールを備えたf2レーザ |
JP2008022026A (ja) * | 1998-05-20 | 2008-01-31 | Cymer Inc | 高信頼性でモジュラ製造品質の狭帯域高繰り返しレートf2レーザ |
JP2008078372A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Komatsu Ltd | 露光装置用レーザ装置 |
JP2008103604A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Komatsu Ltd | レーザ装置 |
JP2012182397A (ja) * | 2011-03-03 | 2012-09-20 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ装置およびレーザ加工装置 |
-
1995
- 1995-06-22 JP JP15571495A patent/JPH098389A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008022026A (ja) * | 1998-05-20 | 2008-01-31 | Cymer Inc | 高信頼性でモジュラ製造品質の狭帯域高繰り返しレートf2レーザ |
JP2007281517A (ja) * | 1999-03-19 | 2007-10-25 | Cymer Inc | 可視赤及びirコントロールを備えたf2レーザ |
JP2002353545A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-12-06 | Komatsu Ltd | 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置 |
JP2004311766A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Ushio Inc | 露光用2ステージレーザ装置 |
JP2006049839A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-02-16 | Komatsu Ltd | 高出力ガスレーザ装置 |
JP2006165484A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Komatsu Ltd | 多段増幅型レーザシステム |
JP2008078372A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Komatsu Ltd | 露光装置用レーザ装置 |
JP2008103604A (ja) * | 2006-10-20 | 2008-05-01 | Komatsu Ltd | レーザ装置 |
JP2012182397A (ja) * | 2011-03-03 | 2012-09-20 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ装置およびレーザ加工装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020903 |