JP2002353545A - 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置 - Google Patents

注入同期式又はmopa方式のレーザ装置

Info

Publication number
JP2002353545A
JP2002353545A JP2001267158A JP2001267158A JP2002353545A JP 2002353545 A JP2002353545 A JP 2002353545A JP 2001267158 A JP2001267158 A JP 2001267158A JP 2001267158 A JP2001267158 A JP 2001267158A JP 2002353545 A JP2002353545 A JP 2002353545A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
oscillator
laser light
emission
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001267158A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4877692B2 (ja
Inventor
Kiyoharu Nakao
清春 中尾
Yoshifumi Ueno
能史 植野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP2001267158A priority Critical patent/JP4877692B2/ja
Priority to US10/094,889 priority patent/US7095773B2/en
Publication of JP2002353545A publication Critical patent/JP2002353545A/ja
Priority to US11/212,874 priority patent/US7230966B2/en
Priority to US11/454,856 priority patent/US7499482B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4877692B2 publication Critical patent/JP4877692B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/10084Frequency control by seeding
    • H01S3/10092Coherent seed, e.g. injection locking
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/1301Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude in optical amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/081Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
    • H01S3/0818Unstable resonators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/09702Details of the driver electronics and electric discharge circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/1305Feedback control systems
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/131Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/134Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Abstract

(57)【要約】 【課題】 常に安定な出力及び波長を得ることが可能
な、注入同期式又はMOPA方式のレーザ装置を提供す
る。 【解決手段】 オシレータ放電によってレーザガスを励
起し、波長を狭帯域化したシードレーザ光(21A)を発振
するオシレータ(11A)と、増幅放電によってシードレー
ザ光(21A)を増幅して出射レーザ光(21B)を出射する増幅
器(11B)と、シードレーザ光(21A)の発光から出射レーザ
光(21B)の発光まで、或いはオシレータ放電の開始から
増幅放電の開始までの遅れ時間(ΔT)を設定する遅延回
路(44)とを備えた注入同期式又はMOPA方式のレーザ
装置において、前記遅れ時間(ΔT)が最適遅れ時間(ΔT
0)となるように、遅延回路(44)の補正を行なう遅延時間
補正回路(41)を備えたことを特徴とする注入同期式又は
MOPA方式のレーザ装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、注入同期式又はM
OPA方式のレーザ装置、或いはガスレーザ装置に関
し、より詳細には注入同期式又はMOPA方式のレーザ
装置において、オシレータと増幅器とを同期させるため
の技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、オシレータから発振したシー
ドレーザ光を増幅器で増幅する注入同期式のレーザ装置
において、シードレーザ光の発光と増幅器内部での出射
レーザ光の発光とを同期させる技術が、例えば特開20
00−156535号公報に開示されている。同公報に
よれば、チタンサファイアレーザ装置から出射したシー
ドレーザ光を、増幅チャンバ内部で増幅放電によって増
幅し、出射レーザ光として出射する。前記同公報に開示
された技術は、オシレータとして、狭帯域化されたチタ
ンサファイアレーザ装置の高調波成分を用いている。し
かしながら、チタンサファイアレーザ装置の高調波成分
は非常に出力が低く、増幅器で増幅可能なだけの出力を
有するシードレーザ光を得るためには、チタンサファイ
アレーザ装置が大型化し、高価なものになってしまう。
【0003】又、エキシマレーザ装置をリソグラフィ用
光源として用いる場合には、周囲の気圧などに応じて、
出射レーザ光の中心波長を変えなければならない場合が
ある。これには、シードレーザ光の中心波長を変える必
要があるが、オシレータがチタンサファイアレーザ装置
である場合には、これが困難である。さらには、フッ素
分子レーザ装置を注入同期式で構成しようとする場合に
は、中心波長がArFエキシマレーザ装置よりもさらに
短い(157nm)ため、オシレータとして適切なレーザ
装置を見つけることが困難である。そのため、リソグラ
フィ用の光源としては、増幅器と同じ放電励起式のエキ
シマレーザ装置又はフッ素分子レーザ装置をオシレータ
とした、注入同期式のレーザ装置が用いられている。
【0004】図18に、従来技術に係る、放電励起式フ
ッ素分子レーザ装置をオシレータとして用いた注入同期
式フッ素分子レーザ装置の構成を示す。図18におい
て、オシレータ11Aは、フッ素及びネオン(Ne)を
含むレーザガスを封入するオシレータチャンバ12Aを
備えている。オシレータチャンバ12Aの所定位置に
は、一対のオシレータ電極14A,15Aが対向して配
置されている。オシレータ11Aは、オシレータ電圧V
Aを出力するオシレータ充電器42Aを備えている。ま
た、このオシレータ電圧VAをパルス圧縮してオシレー
タ電極14A,15A間に転送し、パルス放電を起こす
オシレータ放電回路43Aを備えている。また、増幅器
11Bは、内部に一対の増幅電極14B,15Bを対向
して配置し、レーザガスを封入した増幅チャンバ12B
を備えている。さらに、増幅電圧VBを出力する増幅充
電器42Bと、この増幅電圧VBをパルス圧縮して増幅
電極14B,15B間に転送し、パルス放電を起こす増
幅放電回路43Bとを備えている。オシレータ電圧VA
及び増幅電圧VBを総称して、充電電圧VA,VBと言
う。
【0005】ステッパ等の露光機25から、レーザコン
トローラにトリガ信号Gが出力されると、オシレータ電
極14A,15A間に放電が起きてレーザガスが励起さ
れ、パルス状のシードレーザ光21Aが発生する。シー
ドレーザ光21Aは、狭帯域化ユニット30により、波
長を狭帯域化された状態で発振する。増幅器11Bは遅
延回路44によってトリガ信号Gを所定遅延時間だけ遅
延させてトリガ信号G3を出力し、増幅電極14B,1
5B間に増幅放電を起こす。これにより、シードレーザ
光21Aは、不安定共振器36,37間を往復する間
に、中心波長λc及びスペクトル幅Δλ(以下、これら
を波長特性と呼ぶ)を保った状態で増幅され、出射レー
ザ光21Bとなって出射する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術には、次に述べるような問題がある。即ち、オシ
レータ放電回路43A及び増幅放電回路43Bは、パル
ス圧縮のためのLC共振回路を有しているが、このLC
共振回路に含まれる磁気コアには、電圧・時間積が一定
という特性がある。そのため、オシレータ11A、増幅
器11Bのそれぞれにおいて、高電圧VA,VBの変動
により、トリガ信号Gが入力されてから、電極14,1
5間で放電が起きるまでの時間がパルス発振ごとに変動
する。このような、短期的な時間変動をジッタと言う。
【0007】即ち、トリガ信号Gからオシレータ11A
でシードレーザ光21Aが発光するまでの時間と、トリ
ガ信号Gから増幅器11Bが増幅放電を起こすまでの時
間とが、それぞれ独立に変動する。その結果、トリガ信
号Gから出射レーザ光21Bが出射するまでの時間が短
期的に変動し、加工に不具合が生じることがある。ま
た、シードレーザ光21Aが発光するタイミングと増幅
放電のタイミングとが合わなくなって、シードレーザ光
21Aが好適に増幅されず、出射レーザ光21Bの出
力、中心波長λc、或いはスペクトル幅Δλ等が変動す
るという問題がある。
【0008】本発明は、上記の問題に着目してなされた
ものであり、常に安定な出力及び波長を得ることが可能
な、注入同期式又はMOPA方式のレーザ装置を提供す
ることを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、本発明は、オシレータ放電によっ
てレーザガスを励起し、波長を狭帯域化したシードレー
ザ光を発振するオシレータと、増幅放電によってシード
レーザ光を増幅して出射レーザ光を出射する増幅器と、
シードレーザ光の発光から出射レーザ光の発光まで、或
いはオシレータ放電の開始から増幅放電の開始までの遅
れ時間を設定する遅延回路とを備えた注入同期式又はM
OPA方式のレーザ装置において、前記遅れ時間が最適
遅れ時間となるように、遅延回路の補正を行なう遅延時
間補正回路を備えている。かかる構成によれば、シード
レーザ光に対して最適なタイミングで増幅放電が行なわ
れるように遅れ時間を補正しているので、出射レーザ光
の波長及び出力が最適化される。
【0010】また、本発明は、放電で発生した電磁波に
よってコイルを流れる電流を検出することにより、オシ
レータ放電及び増幅放電の開始をそれぞれ検出する放電
検出器を備えている。このように、オシレータ放電に基
づいてシードレーザ光の発光を検出しているので、例え
ばシードレーザ光の発光が弱かったりして検出されない
ような場合にも、遅れ時間を正確に検出可能である。そ
して、正確に検出された遅れ時間に基づき、これを補正
することにより、出射レーザ光を適正に発振させること
ができる。
【0011】また、本発明は、遅延回路及び遅延時間補
正回路が、シードレーザ光の発光から出射レーザ光の発
光まで、或いはオシレータ放電の開始から増幅放電の開
始までの時間差を測定し、この測定に基づいて遅れ時間
を最適遅れ時間に一致させるようにしている。これによ
り、実測した時間差に基づいて、正確な遅れ時間の制御
が可能である。
【0012】また、本発明は、オシレータ放電によって
レーザガスを励起し、波長を狭帯域化したシードレーザ
光を発振するオシレータと、増幅放電によってシードレ
ーザ光を増幅して出射レーザ光を出射する増幅器と、シ
ードレーザ光の発光から出射レーザ光の発光まで、或い
はオシレータ放電の開始から増幅放電の開始までの遅れ
時間を設定する遅延回路とを備えた注入同期式又はMO
PA方式のレーザ装置において、オシレータ及び増幅器
が、それぞれの放電回路に印加される充電電圧に基づ
き、基準となるトリガ信号からそれぞれの放電の開始ま
での総所要時間のジッタを補正する、ジッタ補正回路を
それぞれ備えている。即ち、放電回路のジッタを補正し
ているので、基準となるトリガ信号から、シードレーザ
光の発光及び出射レーザ光の発光までの総所要時間が短
期的に一定となり、シードレーザ光と出射レーザ光の発
光とを同期させることが容易となる。
【0013】また、本発明は、ジッタ補正回路が、充電
電圧の逆数に基づいて、ジッタを補正している。充電電
圧の逆数は、放電回路の総所要時間に略比例するので、
線形の相関に基づいて補正を行なえ、補正が容易であ
る。
【0014】また、本発明は、放電回路の特性の変化に
基づき、ジッタ補正回路をそれぞれ補正するドリフト補
正回路を備えている。これにより、例えば温度変化等に
よって放電回路の特性が変化しても、ドリフト補正回路
によってジッタを正確に補正することが可能である。従
って、総所要時間が短期的に変動することがなく、シー
ドレーザ光の発光と出射レーザ光の発光とを同期させる
のが容易となる。
【0015】また、本発明は、オシレータ放電によって
レーザガスを励起し、波長を狭帯域化したシードレーザ
光を発振するオシレータと、増幅放電によってシードレ
ーザ光を増幅して出射レーザ光を出射する増幅器と、シ
ードレーザ光の発光から出射レーザ光の発光まで、或い
はオシレータ放電の開始から増幅放電の開始までの遅れ
時間を設定する遅延回路とを備えた注入同期式又はMO
PA方式のレーザ装置において、シードレーザ光及び出
射レーザ光の出力、中心波長、及びスペクトル幅のう
ち、少なくとも一つを検出するレーザモニタを備え、レ
ーザモニタ検出値に基づき、シードレーザ光と出射レー
ザ光とが同期しているか否かを判定している。これによ
り、同期したか否かを正確に判定できる。従って、例え
ばシードレーザ光と出射レーザ光とのタイミングが一致
せずに同期しなかった場合に、異常信号を露光機に出力
することにより、不適切なレーザ光によって加工を行な
うことがなく、常に適切な加工が可能である。また、タ
イミングが一致しなかった場合には、改めて同期するよ
うに補正をかければよく、これによってタイミングを一
致させることが可能となる。
【0016】また、本発明は、オシレータ放電によって
レーザガスを励起し、波長を狭帯域化したシードレーザ
光を発振するオシレータにおいて、放電回路に印加され
る充電電圧に基づき、基準となるトリガ信号から放電の
開始までの総所要時間のジッタを補正する制御と、か
つ、総所要時間を一定とする制御とを行なうジッタ補正
回路を備えている。かかる構成によれば、トリガ信号か
ら放電の開始までが常に一定となるので、シードレーザ
光が常に同じタイミングで出射し、加工等に用いる場合
に制御が容易である。また、本発明は、ガスレーザ装置
において、放電回路に印加される充電電圧に基づき、基
準となるトリガ信号から放電の開始までの総所要時間の
ジッタを補正する制御と、かつ、総所要時間を一定とす
る制御とを行なうジッタ補正回路を備えている。
【0017】また、このようなオシレータを用いた注入
同期式又はMOPA方式のレーザ装置においても、出射
レーザ光が常に同じタイミングで出射するので、加工等
に用いる場合に制御が容易である。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、図を参照しながら、本発明
に係る実施形態を詳細に説明する。まず、第1実施形態
について、説明する。図1は、第1実施形態に係る注入
同期式フッ素分子レーザ装置(以下、フッ素分子レーザ
装置11と言う)の構成図を示している。図1におい
て、フッ素分子レーザ装置11は、波長を狭帯域化され
たシードレーザ光21Aを発振するオシレータ11A
と、シードレーザ光21Aを増幅して出射レーザ光21
Bを出射する増幅器11Bとを備えている。フッ素分子
レーザ装置11から出射した出射レーザ光21Bは、ス
テッパなどの露光機25に入射し、加工用光となる。
【0019】フッ素分子レーザ装置11は、装置全体を
制御するレーザコントローラ29を備えている。レーザ
コントローラ29は、露光機25と電気的に接続され
て、相互に通信が可能である。レーザコントローラ29
は、露光機25からレーザ発振の合図となるトリガ信号
Gを受信し、これに伴ってオシレータ11A及び増幅器
11Bにトリガ信号Gを出力する。このとき、トリガ信
号Gは、後述する補正回路31によってタイミングを補
正され、トリガ信号G1としてオシレータ11Aに出力
される。またトリガ信号Gは、補正回路31及び遅延回
路44によって、オシレータ11Aに対するよりも所定
の時間だけ遅れて、トリガ信号G3として増幅器11B
に出力される。
【0020】オシレータ11Aは、例えばフッ素(F
2)及びネオン(Ne)を含むレーザガスを封入するオ
シレータチャンバ12Aと、オシレータチャンバ12A
の両端部に設けられたウィンドウ17A,19Aとを備
えている。尚、レーザガスとしては、フッ素、ネオン、
及びヘリウム(He)でもよく、フッ素及びヘリウムで
もよい。オシレータチャンバ12A内部の所定位置に
は、図1中紙面と垂直方向に、一対のオシレータ電極1
4A,15Aが対向して配置されている。オシレータ放
電回路43Aがトリガ信号G1を受信すると、オシレー
タ充電器42Aから印加されているオシレータ電圧VA
がオシレータ放電回路43Aによってパルス圧縮され、
オシレータ電極14A,15A間にパルス状に印加され
る。これにより、オシレータ電極14A,15A間にオ
シレータ放電が起きてレーザガスが励起され、パルス状
のシードレーザ光21Aが発生する。
【0021】発生したシードレーザ光21Aは、オシレ
ータチャンバ12Aの後部(図1中、紙面左側)に配置
された狭帯域化ユニット30に入射し、プリズム32,
32によって拡大され、グレーティング33に入射す
る。グレーティング33では、回折によって所定の中心
波長λc近傍の波長を有するシードレーザ光21Aのみ
が反射される。これを、狭帯域化と言う。グレーティン
グ33は、レーザコントローラ29に電気的に接続され
た図示しない駆動機構によって、シードレーザ光21A
に対する角度を可変となっている。レーザコントローラ
29は、駆動機構に信号を出力し、上記角度を変えるこ
とにより、シードレーザ光21Aの中心波長λcを所望
する波長に制御することが可能である。
【0022】狭帯域化ユニット30内で狭帯域化された
シードレーザ光21Aは、中心波長λcを有するシード
レーザ光21Aとして、前方(図1中紙面の右方)へ出
射する。シードレーザ光21Aの一部は、ビームスプリ
ッタ22Aで取り出され、レーザモニタ34Aに入射す
る。レーザモニタ34Aは、シードレーザ光21Aの出
力、中心波長λc、及びスペクトル幅Δλ(以下、これ
らをレーザパラメータと呼ぶ)をモニタリングして、レ
ーザコントローラ29に出力している。レーザコントロ
ーラ29は、モニタリングした中心波長λcに基づき、
前記駆動機構に指令信号を出力してグレーティング33
を回転させ、シードレーザ光21Aの中心波長λcを所
望の目標波長λ0に制御している。これを、波長制御と
言う。また、レーザコントローラ29は、モニタリング
したパルス出力に基づき、オシレータ充電器42Aに指
令信号を出力してオシレータ電圧VAを変化させ、シー
ドレーザ光21Aのパルス出力が所望の出力となるよう
に制御している。これを、エネルギー一定制御と言う。
エネルギー一定制御は、増幅器に対しても同様に、出射
レーザ光21Bのパルス出力が所望の出力となるように
行なっている。
【0023】オシレータ11Aを出射したシードレーザ
光21Aは、増幅器11Bに入射する。増幅器11B
は、前後部にフロントウィンドウ17B及びリアウィン
ドウ19Bをそれぞれ固定し、内部にフッ素及びネオン
を封入した増幅チャンバ12Bを備えている。増幅チャ
ンバ12Bの内部には、一対の増幅電極14B,15B
が、図1中紙面に垂直方向に対向して設置されている。
リアウィンドウ19Bの後方には、注入孔45を有する
有孔凹面鏡36が、フロントウィンドウ17Bの前方に
は、注入孔45に対向して凸面鏡37がそれぞれ設けら
れており、不安定共振器を構成している。図1におい
て、オシレータ11Aから発振したシードレーザ光21
Aは、有孔凹面鏡36の注入孔45からリアウィンドウ
19を透過し、増幅器11Bに入射する。増幅充電器4
2Bは、増幅放電回路43Bに増幅電圧VBを印加す
る。増幅電圧VBは、補正回路31及び遅延回路44に
よって補正されたトリガ信号G3に基づき、増幅放電回
路43Bでパルス圧縮されて、増幅電極14B,15B
間にパルス状に印加される。これにより、シードレーザ
光21Aと同期して増幅放電が起き、シードレーザ光2
1Aは、有孔凹面鏡36と凸面鏡37との間で反射され
る間に増幅される。その結果、シードレーザ光21A
は、波長特性を保ったままパルス出力を増幅され、出射
レーザ光21Bとして、凸面鏡37の周囲から出射す
る。
【0024】オシレータ11A及び増幅器11Bは、オ
シレータ放電及び増幅放電が行なわれたことを検出す
る、オシレータ放電検出器35A及び増幅放電検出器3
5Bを、それぞれ備えている。放電検出器35A,35
Bは、例えば図2に示すように、コイル46と、その両
極間を接続する発光ダイオード49とを備えている。放
電が起きると、放電から発生する電磁波によってコイル
46に電磁誘導が生じて電流が流れ、発光ダイオード4
9が発光する。この発光ダイオード49の発光47を光
ファイバ48で光検出器50に導き、光検出器50から
出力する電気信号によって放電を検出している。このよ
うに、発光ダイオード49を用いているので、放電の電
磁波が電気的に遮断され、放電検出器35が誤作動する
ことが少なく、確実に放電を検出可能である。
【0025】また、前述したように、フッ素分子レーザ
装置11は、トリガ信号Gを基準として、オシレータ1
1Aから出射したシードレーザ光21Aと出射レーザ光
21Bとを同期させるための、補正回路31を備えてい
る。補正回路31は、オシレータ電圧VAの変動によっ
てトリガ信号Gから放電が起きるまでの所要時間が短期
的に変動するのを抑制する、ジッタ補正回路39A,3
9Bを備えている。また、長期的な温度変化等によって
放電回路43A,43Bの特性が変化するのに対し、ジ
ッタ補正回路39A,39Bの補正係数をこの特性変化
に合致させるドリフト補正回路40A,40Bを備えて
いる。ジッタ補正回路39A,39Bは、オシレータ1
1A及び増幅器11Bにそれぞれ備えられ、ドリフト補
正回路40A,40Bも同様である。さらに、補正回路
31は、シードレーザ光21Aの発光から出射レーザ光
21Bの発光まで、或いはオシレータ放電の開始から増
幅放電の開始までの遅れ時間ΔTを、所定の最適遅れ時
間ΔT0に合わせる、遅延時間補正回路41を備えてい
る。
【0026】図3に、オシレータ放電回路43Aの回路
構成の一例をブロック図で示す。増幅放電回路43Bに
おいても、回路構成はほぼ同様である。図3において、
オシレータ放電回路43Aは、充電コンデンサC0と、
スイッチング素子SWと、アシストコイルL0と、第1
の可飽和リアクトルL1と、第1のコンデンサC1と、
第2の可飽和リアクトルL2と、第2のコンデンサC2
とを備えている。第1の可飽和リアクトルL1及び第1
のコンデンサC1は第1のLC共振回路51を、第2の
可飽和リアクトルL2及び第2のコンデンサC2は第2
のLC共振回路52を、それぞれ構成している。アシス
トコイルL0、及び第1、第2の可飽和リアクトルL
1,L2は、いずれもそれらの両端に加えられた電圧と
電圧の印加時間との積(これを、電圧・時間積と言う)
が、所定の値になると飽和して、急激に低インピーダン
スとなる。
【0027】オシレータ充電器42Aは、充電コンデン
サC0の両極間に、レーザコントローラ29からの指令
信号に基づいたオシレータ電圧VAを印加する。露光機
25からレーザコントローラ29を介してスイッチング
素子SWにトリガ信号Gが入力されると、スイッチング
素子SWが短絡する。これに伴い、充電コンデンサC0
から、スイッチング素子SWを保護するためのアシスト
コイルL0及び第1のLC共振回路51を通って、第2
のLC共振回路52へと電流が流れる。このとき、第2
のLC共振回路52のインダクタンスは、第1のLC共
振回路51のインダクタンスよりも小さくなるように設
定されており、電流パルスの圧縮が行なわれる。そし
て、第2のコンデンサC2の両極間の電圧が所定の値に
達すると、オシレータ電極14A,15A間にオシレー
タ放電が生じ、レーザ媒質が励起されてパルス状のシー
ドレーザ光21Aが発振する。
【0028】トリガ信号Gから放電開始までの総所要時
間Ttは、スイッチング素子SWが短絡してから放電が
起きるまでの放電回路所要時間Tdと、トリガ信号Gが
各種の図示しないゲート回路を通過する間にかかるゲー
ト所要時間Teとを含んでいる。ゲート所要時間Te
は、電子回路の特性から常に略一定である。これに対
し、発明が解決しようとする課題の項において説明した
ように、放電回路43における放電回路所要時間Tdに
は、ジッタと呼ばれる変動が生じる。ジッタは、前記ア
シストコイルL0及び第1、第2のLC共振回路51,
52における各可飽和リアクトルL1,L2の電圧・時
間積が、それぞれ一定であることから起きる。即ち、オ
シレータ電圧VAが変動することにより、アシストコイ
ルL0と各可飽和リアクトルL1,L2とが低インピー
ダンスになるための時間(前記電圧の印加時間)が、変
化するものである。このとき、オシレータ放電回路43
Aのジッタは、アシストコイルL0、第1の可飽和リア
クトルL1、及び第2の可飽和リアクトルL2で、それ
ぞれ生じるジッタの総和である。
【0029】そのため、ジッタを抑えて、トリガ信号G
から放電開始までの総所要時間Ttを一定にするために
は、オシレータ電圧VAの変動を打ち消すように、放電
回路所要時間Tdにジッタ補正時間Tcを加えてやれば
よい。尚、オシレータ電圧VAの変化は、次の2つの原
因によって生じる。それは、(1)前記エネルギー一定
制御により、レーザ光21Aのパルス出力を一定にする
ために、オシレータ電圧VAを変化させる必要がある。
(2)充電器42の特性により、指令信号通りのオシレ
ータ電圧VAを発生させることが難しい。というもので
ある。
【0030】以下に、ジッタ補正回路39A,39Bの
詳細について説明する。尚、説明はオシレータ11A側
のジッタ補正回路39Aについて行なうが、増幅器11
B側のジッタ補正回路39Bに関してもほぼ同様であ
る。図4に、横軸に放電回路所要時間Td、縦軸にオシ
レータ電圧VAの逆数1/VAをとり、両者の関係をグ
ラフで示す。電圧・時間積が一定であるから、放電回路
所要時間Tdは、直線Aに示すように、オシレータ電圧
VAの逆数1/VAに比例する。従って、総所要時間T
tを一定にするためには、放電回路所要時間Tdに、逆
数1/VAに反比例するジッタ補正時間Tcを加えれば
よい。即ち図4に示すように、逆数1/VAと放電回路
所要時間Tdとの関係を示す直線Aに対し、直線Bで示
す逆勾配の補正特性を求める。このとき、直線Bにおい
て、オシレータ電圧VA=VA1に当たる時間Tc1
が、ジッタ補正時間Tcとなる。このジッタ補正時間T
cを放電回路所要時間Tdに加えることにより、総所要
時間Ttは常に一定となる。
【0031】図5に、ジッタ補正回路39Aの回路構成
の一例をブロック図で示す。図5において、ジッタ補正
回路39Aは、割算器53と、積分器54(ランプ波ジ
ェネレータ)と、加減算器62と、コンパレータ55と
を備えている。図6に、図5に示したジッタ補正回路3
9Aにおけるタイミングチャートを示す。図6に示され
た信号は、トリガ信号G、オシレータ電圧VA、トリガ
信号Gに合わせて所定の電圧を積分器54で積分して得
られる補正信号S1、補正信号S1をオフセット1/V
oから減算することによって求められる補正信号S1の
逆勾配を示す補正信号S2、補正されたトリガ信号G
1、及びオシレータ放電検出器35Aで検出されたオシ
レータ放電の放電検出信号Z1である。補正信号S1
は、図4における直線Aの特性を、補正信号S2は、図
4における直線Bの特性を、それぞれ示している。
【0032】図6において、時刻t0から、充電コンデ
ンサC0の両極間に印加されたオシレータ電圧VAが、
常に割算器53に入力されており、割算器53の出力と
して逆数1/VAが求められる。時刻t1にトリガ信号
Gが積分器54に入力されると、積分器54から補正信
号S1が出力され、これを加減算器62でオフセット1
/Voから減算した補正信号S2が、コンパレータ55
に入力される。
【0033】コンパレータ55は、補正信号S2と1/
VAとを比較し、時刻t2に両者が一致したところで、
補正トリガ信号G1を出力する。この、時刻t1からt
2までの時間が、逆数1/VAに反比例する補正時間T
cとなる。時刻t2から、略一定のゲート所要時間Te
が経過した時刻t3に、スイッチング素子SWに補正ト
リガ信号G1が入力し、スイッチング素子SWが短絡す
る。これにより、オシレータ電圧VAが0となる。そし
て、時刻t3から放電回路所要時間Td後に放電が起
き、レーザ発振が起こる。即ち、時刻t1においてトリ
ガ信号Gが入力されてより後のオシレータ電圧VAを測
定し、その逆数1/VAに反比例する補正時間Tcを求
め、これを放電回路所要時間Tdに加えている。これに
より、オシレータ電圧VAの逆数1/VAに正比例する
ジッタがキャンセルされ、トリガ信号Gが出力されてか
らオシレータ放電が起きるまでの総所要時間Tt(=補
正時間Tc+放電回路所要時間Td+ゲート所要時間T
e)が、パルス発振ごとに略一定となる。
【0034】次に、ドリフト補正回路40A,40Bに
ついて説明する。ここで言うドリフト補正とは、ジッタ
のドリフト補正である。LC共振回路に用いられている
磁気コアの電圧・時間積は、雰囲気温度が所定の範囲内
では一定とみなすことができるが、温度が所定の範囲外
となった場合には、変動することが知られている。この
変動により、ジッタ補正回路39Aの積分器54の勾配
が変化(ドリフト)する。この変化により、上述したジ
ッタの補正がうまくゆかなくなるため、補正する必要が
ある。尚、説明はオシレータ11A側のドリフト補正回
路40Aについて行なうが、増幅器11B側のドリフト
補正回路40Bに関してもほぼ同様である。
【0035】図7に、横軸に放電回路所要時間Td、縦
軸にオシレータ電圧VAの逆数1/VAをとり、両者の
関係をグラフで示す。図7に”■”印でプロットされた
データに示すように、逆数1/VAは常に変動してい
る。図7に示すように、オシレータ電圧VAは、常にわ
ずかに変動している。従って、実測した放電回路所要時
間Td2のみから直線A2を求めるドリフト補正では、
放電回路所要時間Tdのドリフトに対応しきれず、補正
がうまくゆかずに誤差が生じる場合がある。
【0036】図8に、厳密にドリフト補正を行なう場合
の、ドリフト補正回路40の回路構成の一例を、ブロッ
ク図で示す。図8において、ドリフト補正回路40は、
AD変換器65と、勾配演算器66と、平均値演算器6
7と、DA変換器68とを備えている。AD変換器65
は、パルス発振が行なわれるごとに、逆数1/VAと放
電回路所要時間Tdとを読み込み、これをAD変換す
る。勾配演算器66は、取り込んだ逆数1/VAb及び
放電回路所要時間Tdbと、これより1パルス前に取り
込んだ逆数1/VAa及び放電回路所要時間Tdaとか
ら、次の数式1に基づいた演算を行ない、Td−1/V
Aグラフの勾配mを求める。 m=(1/VAb−1/VAa)/(Tdb−Tda)…………(1)
【0037】そして、平均値演算器67は、各パルスご
との勾配mに基づき、所定数のパルスにおける平均勾配
m3を算出する。これにより、直線A2よりも正確に逆
数1/VAと放電回路所要時間Tdとの関係を示す、直
線A3が導かれる。この直線A3に基づき、ドリフト補
正回路40Aは、ジッタ補正回路39Aの補正特性を、
直線B1から直線B3に補正することにより、ジッタ補
正時間Tcが、Tc0からTc3となる。これを放電回
路所要時間Tdに加えることにより、長期的なドリフト
を防止する。即ち、平均値演算器67で求めた平均勾配
m3を、直線A1の勾配m1で割った(m3/m1)を
DA変換器68でDA変換し、これを積分器54のゲイ
ンに乗じてゲインを補正する。これにより、ドリフトを
より正確に補正することが可能となっている。
【0038】このように、実際に測定したオシレータ電
圧VA、及び放電回路所要時間Tdに基づいて、ドリフ
トの補正を行なっている。従って、例えば温度変化等に
よって放電回路の特性が変化しても、ジッタをより正確
に補正することが可能である。即ち、総所要時間の短期
的な変動が小さいので、シードレーザ光21Aの発光と
出射レーザ光21Bの発光と、或いは、オシレータ放電
の開始と増幅放電の開始とを同期させるのが容易とな
る。尚、以上の、ジッタ補正回路39A及びドリフト補
正回路40Aに関する説明は、オシレータ11Aばかり
でなく、増幅器11Bに設けられたジッタ補正回路39
B及びドリフト補正回路40Bについても同様である。
【0039】次に、オシレータ11Aの発光と増幅器1
1Bの発光とのタイミングを合わせ、両者を同期させる
ために、遅延回路44を補正する遅延時間補正回路41
について説明する。図9に、遅延時間補正回路41の構
成例をブロック図で示す。図9において、遅延時間補正
回路41は、時間差測定器59と、平均値演算器60
と、加減算器61とを備えている。オシレータ放電検出
器35A及び増幅放電検出器35Bからの、放電検出信
号Z1,Z2に基づき、時間差測定器59は、オシレー
タ放電によってシードレーザ光21Aが発光してから、
増幅放電が行なわれるまでの遅れ時間ΔTを測定する。
そして、この遅れ時間ΔTを平均値演算器60によって
平均化し、平均遅れ時間ΔTNを求める。加減算器61
は、平均遅れ時間ΔTNと、目標とする最適遅れ時間Δ
T0とのずれ量ΔTzを算出し、このずれ量ΔTzを遅
延回路44に出力する。
【0040】遅延回路44は、ずれ量ΔTzに基づき、
トリガ信号Gから最適なタイミングで増幅放電が行なわ
れるように、ジッタ補正回路39Bによって補正された
補正トリガ信号G2をさらに遅らせて、補正トリガ信号
G3を出力する。
【0041】図10に、遅延回路44の構成例をブロッ
ク図で示す。図10において、遅延回路44は、積分器
74と、加減算器75と、コンパレータ76とを備えて
いる。この遅延回路44は、ジッタ補正回路39Aと同
様の機能を有しており、オシレータ電圧の逆数1/VA
に相当するところが、ずれ量ΔTzとなっている。図1
1に、図10に示した遅延回路44におけるタイミング
チャートを示す。図11に示された信号は、補正トリガ
信号G2、補正トリガ信号G2の開始に伴い、積分器7
4で電圧を積分して得られる補正信号S11、補正信号
S11の逆勾配を示す補正信号S12、及び補正トリガ
信号G3である。図11において、時刻t11にトリガ
信号G2が積分器74に入力されると、積分器74が積
分を開始し、補正信号S11が出力される。加減算器7
5は、補正信号S11を所定のオフセットVOFFから減
算し、補正信号S12を出力する。コンパレータ76
は、補正信号S12とずれ量ΔTzとを比較し、時刻t
12に両者が一致したところで、補正トリガ信号G3を
出力する。これにより、ずれ量ΔTzの大きさに基づい
て、補正トリガ信号G3を遅らせるので、シードレーザ
光21Aの発光から出射レーザ光21Bの発光まで、或
いはオシレータ放電の開始から増幅放電の開始までの遅
れ時間ΔTが、最適遅れ時間ΔT0に一致し、好適に増
幅が行なわれる。
【0042】図12に、遅延回路44の構成の他の例を
ブロック図で示す。図12において、遅延回路44は、
プリセット回路63と、プリセットカウンタ64とを備
えている。プリセット回路63は、増幅放電の放電検出
信号Z2が所定回数入力されるたびに、ずれ量ΔTzに
比例するプリセット値が入力される。プリセットカウン
タ64は、補正トリガ信号G2が入力されてから、クロ
ックパルスCkの数をカウント開始し、これがプリセッ
ト値に一致すると、補正トリガ信号G3を出力する。こ
れにより、ずれ量ΔTzがなくなるまで補正トリガ信号
G3を遅らせるので、シードレーザ光21Aの発光から
出射レーザ光21Bの発光まで、或いはオシレータ放電
の開始から増幅放電の開始までの遅れ時間ΔTが、最適
遅れ時間ΔT0に一致し、好適に増幅が行なわれる。
【0043】次に、シードレーザ光21Aの発光と出射
レーザ光21Bの発光と、或いは、オシレータ放電の開
始と増幅放電の開始との同期が、好適に行なわれている
か否かを、確認する技術について説明する。前述したよ
うに、レーザコントローラ29は、レーザモニタ34B
の出力信号に基づき、出射レーザ光21Bの出力、中心
波長λc、及びスペクトル幅Δλの少なくともいずれか
一つを検出している。このとき、シードレーザ光21A
の発光と出射レーザ光21Bの発光と、或いは、オシレ
ータ放電の開始と増幅放電の開始との同期が不適切な場
合には、出射レーザ光21Bの出力又は波長パラメータ
が、所定の値から外れることが知られている。従って、
これらレーザパラメータ(出力、中心波長λc、及びス
ペクトル幅Δλ)の検出値が、予め定められた許容範囲
からずれた場合には、レーザコントローラ29は同期し
ていないと判断し、露光機25に同期していないことを
知らせる異常信号を出力する。これにより、不適切な波
長又は出力の出射レーザ光21Bによって、加工が行な
われることが防止される。また、レーザコントローラ
は、シードレーザ光21Aに対しても、レーザパラメー
タの少なくともいずれか一つを検出している。そして、
これらのレーザパラメータが所定の許容範囲外となった
場合にも、同期していないと判断し、露光機25に同期
がしていないことを知らせる異常信号を出力する。
【0044】そして、レーザコントローラ29は、予め
定められたオシレータ電圧VA及びパルス周波数で、オ
シレータ11Aをレーザ発振させる。そして、波長制御
及びエネルギー一定制御を行ない、オシレータ11Aか
ら出射したシードレーザ光21Aのレーザパラメータ
を、許容範囲内に戻す。次にレーザコントローラ29
は、増幅器11Bに増幅放電を行なわせ、出射レーザ光
21を出射させて、そのレーザパラメータをモニタリン
グする。そして、これらがすべて許容範囲にあるよう
に、遅延回路44に指令を出力して強制的に遅延時間を
変え、補正トリガ信号G3の出力タイミングを制御す
る。これにより、同期させる。尚、同期のずれが起きる
と、スペクトル幅Δλが最も大きく影響を受けるので、
レーザコントローラ29は、少なくともスペクトル幅Δ
λに基づいて、同期しているか否かを判定するのがよ
い。
【0045】また、露光機25からの指令に基づいて、
フッ素分子レーザ装置11が所定時間にわたり、レーザ
発振を停止しなければならないような場合がある。この
ような場合には、停止中に温度変化等によってオシレー
タ11Aの中心波長がずれたり、同期しなかったりする
場合がある。また、放電回路の温度変化によって、前述
したドリフトが生じる場合がある。これを防ぐためにフ
ッ素分子レーザ装置11は、所定時間以上停止する場合
には、図示しないシャッタを閉じて出射レーザ光21B
を露光機25に出射しないようにして、連続的に発振を
行なう。これを調整発振と呼ぶが、この調整発振の間、
レーザコントローラ29は、オシレータ11A及び増幅
器11Bのレーザパラメータをそれぞれモニタリング
し、これが許容範囲内にあるようにエネルギー一定制御
及び波長制御を継続する。また、調整発振中にも、ジッ
タ及びドリフトの補正を行なうようにする。これによ
り、フッ素分子レーザ装置11の運転を再開する場合
に、レーザパラメータが許容範囲内にある出射レーザ光
21Bが得られ、迅速に加工の再開が可能である。
【0046】以上説明したように、第1実施形態によれ
ば、注入同期式のフッ素分子レーザ装置11において、
オシレータ11A及び増幅器11Bのそれぞれに、ジッ
タを補正するためのジッタ補正回路39A,39Bを備
えている。これにより、オシレータ11A及び増幅器1
1Bが、それぞれトリガ信号Gに対して一定のタイミン
グで放電を行なうようになり、出射レーザ光21Bが出
射するタイミングが一定になる。従って出射レーザ光2
1Bが、露光機25に常に一定のタイミングで入射する
ので、加工が好適に行なわれる。また、シードレーザ光
21Aの発光と出射レーザ光21Bの発光と、或いは、
オシレータ放電の開始と増幅放電の開始とが常に同期す
るので、所望するレーザパラメータの出射レーザ光21
Bを得ることができ、加工が好適に行なわれる。また、
このようなジッタ補正を、トリガ信号G後のオシレータ
電圧VAに基づいて行なっている。これにより、最新の
オシレータ電圧VAに基づいて、正確な補正が行なえ
る。
【0047】次に、第2実施形態を説明する。第2実施
形態では、トリガ信号Gから出射レーザ光21の出射ま
でに要する時間を、一定にする技術について説明する。
上に述べたドリフト補正によれば、図7に示すように、
放電回路所要時間Tdが、Td0からTd3となり、ジ
ッタ補正時間TcがTc0からTc3となって、どちら
も短くなっている。従って、このままでは、これらの和
にゲート所要時間Teを加えた総所要時間Tt、即ち、
トリガ信号Gが入力されてから、出射レーザ光21Bが
出射するまでの時間が、短くなってしまう。尚、放電回
路43A,43Bの特性により、放電回路所要時間Td
が長くなる場合には、ジッタ補正時間Tcも長くなり、
トリガ信号Gが入力されてから、出射レーザ光21Bが
出射するまでの時間が長くなる。
【0048】ところが、トリガ信号Gを出力してから、
出射レーザ光21Bが露光機25に入射してくるまでの
出射レーザ光所要時間が略一定でないと、出射レーザ光
21Bがいつ入射してくるか不明となり、加工が良好に
行なわれない。そのため本実施形態では、トリガ信号G
が出力されてからシードレーザ光21Aの発光までに要
する、シードレーザ光所要時間が一定となるように補正
を行なっている。上述したように、遅延回路44は、シ
ードレーザ光21Aの発光から出射レーザ光21Bの発
光まで、或いはオシレータ放電の開始から増幅放電の開
始までの遅れ時間ΔTが、最適遅れ時間ΔT0となるよ
うに制御を行なっている。従って、トリガ信号Gからシ
ードレーザ光21Aの発光までのシードレーザ光所要時
間を一定にすることにより、トリガ信号Gから出射レー
ザ光21の出射までの出射レーザ光所要時間を一定とす
ることが可能である。
【0049】図13に、トリガ信号Gから、シードレー
ザ光21Aの発光までのシードレーザ光所要時間を求め
るための、シードレーザ光所要時間検出回路の構成の一
例をブロック図で示す。図13において、シードレーザ
光所要時間検出回路は、フリップフロップ70と、積分
器71と、ホールド演算器72と、平均値演算器73と
を備えている。また、図14に、図13に示したシード
レーザ光所要時間検出回路のタイミングチャートを示
す。図14に示された信号は、トリガ信号G、フリップ
フロップ70の出力信号F、積分器71の出力信号D、
及びオシレータ放電検出器35Aで検出されたオシレー
タ放電の放電検出信号Z1である。
【0050】図14に示すように、トリガ信号Gがフリ
ップフロップ70に入力すると、フリップフロップ70
は、積分器71の動作信号をONにする。これにより、
積分器71が作動を開始し、一定の電圧を積分し続け
る。そして、放電検出信号Z1によってフリップフロッ
プ70が積分器71の動作信号をOFFにすると、積分
が停止する。ホールド演算器72は、この積分器71の
出力信号Dをホールドし、平均値演算器73がこれを平
均化する。積分器71の出力信号Dは、トリガ信号Gか
ら放電検出信号Z1までの時間、即ちシードレーザ光所
要時間に比例している。従って、平均値演算器73の出
力と目標値との差Eは、これまでに発振したシードレー
ザ光所要時間の平均値を示している。
【0051】次に、こうして求めたシードレーザ光所要
時間を、一定となるように補正するための、ジッタ補正
回路39Aについて説明する。図15に、第2実施形態
に係るジッタ補正回路39Aの回路構成の一例をブロッ
ク図で示す。図15に示すように、ジッタ補正回路39
Aは、割算器53と、積分器54と、加減算器62と、
コンパレータ55とを備えており、その構成は図5に示
したものと同様である。第2実施形態によれば、このと
き加減算器62は、オフセット1/Voから補正信号S
2を減算するのに加え、図13に示した平均値演算器7
3の出力と目標値との差Eをも減算している。
【0052】図16に、図15に示したジッタ補正回路
39Aにおけるタイミングチャートを示す。信号の説明
は図6と同様である。上述したように補正信号S2は、
平均値演算器73の出力と目標値との差E及び補正信号
S1をオフセット1/Voから減算されている。その結
果、図16に示すように、補正信号S2は、シードレー
ザ光所要時間に比例した分だけ、上方にオフセットす
る。従って、補正トリガ信号G1の開始が、時刻t2か
ら時刻t21に変化する。時刻t21から、略一定のゲ
ート所要時間Teが経過した時刻t31に、スイッチン
グ素子SWに補正トリガ信号G1が入力し、スイッチン
グ素子SWが導通する。これにより、オシレータ電圧V
Aが0となる。そして、時刻t31から放電回路所要時
間Td後に放電が起き、レーザ発振が起こる。即ち、放
電回路所要時間Tdが短くなっていくに従って、ジッタ
補正時間Tcを長くし、総所要時間Ttを一定にしてい
る。
【0053】また、第2実施形態では、注入同期式フッ
素分子レーザ装置について説明を行なったが、これに限
られるものではない。即ち、本実施形態はオシレータ1
1A単体に関して、トリガ信号の入力からレーザ光の出
射までに要する時間を一定にする技術である。従って、
オシレータと増幅器とを有する注入同期式ではなく、レ
ーザチャンバを1台しか持たないような単体のレーザ装
置に対しても、応用が可能である。このような単体のレ
ーザ装置としては、KrFエキシマレーザ装置、ArF
エキシマレーザ装置、或いはF2分子レーザ装置等のガ
スレーザ装置が考えられる。即ち、ガスレーザ装置か
ら、露光機25のような加工装置にレーザ光を供給する
場合、レーザ光の供給のタイミングがずれることによ
り、加工精度の低下を招くことがある。これに対し、本
実施形態によれば、トリガ信号の入力からレーザ光の出
射までに要する時間を一定にすることにより、加工装置
に常に同じタイミングでレーザ光を供給することがで
き、加工精度の低下が起こらない。
【0054】尚、以上の各実施例では、ジッタ補正回路
39及びドリフト補正回路40をハードウェアで構成す
るように説明したが、これに限られるものではなく、C
PUを用いてソフトウェアで補正することも可能であ
る。但し、説明のようにハードウェアで回路を構成する
ことにより、迅速に補正を行なうことが可能となり、例
えばパルス発振ごとにジッタの補正を行なうことも可能
となっている。
【0055】尚、本発明の説明として、増幅チャンバ1
2Bの前後に有孔凹面鏡36及び凸面鏡37を配置した
増幅器11Bについて説明したが、これに限られるもの
ではない。例えば図17に示すように、増幅チャンバ1
2Bの前後に共振器のない、MOPA(Main Oscillato
r Power Amplifier)方式の増幅器11Bについても有
効である。また、トリガ信号Gが、露光機25から送ら
れるように説明したが、これに限られるものではない。
例えば、レーザコントローラ29から出力されるもので
もよく、他の機器から出力されるものでもよい。さら
に、本発明はフッ素分子レーザ装置に限られるものでは
なく、エキシマレーザ装置等、注入同期式又はMOPA
方式のレーザ装置全般に対して、応用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係るフッ素分子レーザ装置の概
略構成図。
【図2】放電検出器の回路図。
【図3】放電回路の回路図。
【図4】充電電圧の逆数と放電回路所要時間との関係を
示すグラフ。
【図5】ジッタ補正回路のブロック図。
【図6】ジッタ補正回路におけるタイミングチャート。
【図7】充電電圧の逆数と放電回路所要時間との関係を
示すグラフ。
【図8】ドリフト補正回路のブロック図。
【図9】遅延時間補正回路のブロック図。
【図10】遅延回路のブロック図。
【図11】遅延回路のタイミングチャート
【図12】遅延回路の構成の他の例を示すブロック図。
【図13】第2実施形態に係るシードレーザ光所要時間
検出回路のブロック図。
【図14】シードレーザ光所要時間検出回路のタイミン
グチャート
【図15】ジッタ補正回路のブロック図。
【図16】ジッタ補正回路におけるタイミングチャー
ト。
【図17】本発明に係るフッ素分子レーザ装置の構成の
応用例を示す説明図。
【図18】従来技術に係るフッ素分子レーザ装置の構成
図。
【符号の説明】
11:フッ素分子レーザ装置、12:レーザチャンバ、
14:電極、15:電極、17:フロントウィンドウ、
19:リアウィンドウ、21:レーザ光、22:ビーム
スプリッタ、25:露光機、29:レーザコントロー
ラ、30:狭帯域化ユニット、31:補正回路、32:
プリズム、33:グレーティング、34:レーザモニ
タ、35:放電検出器、36:有孔凹面鏡、37:凸面
鏡、39:ジッタ補正回路、40:ドリフト補正回路、
41:遅延時間補正回路、42:充電器、43:放電回
路、44:遅延回路、45:注入孔、46:コイル、4
7:発光、48:光ファイバ、49:発光ダイオード、
50:光検出器、51:第1LC共振回路、52:第2
LC共振回路、53:割算器、54:積分器、55:コ
ンパレータ、56:時間差測定器、57:平均値演算
器、58:割算器、59:時間差測定器、60:平均値
演算器、61:加減算器、62:加減算器、63:プリ
セット回路、64:プリセットカウンタ、65:AD変
換器、66:勾配演算器、67:平均値演算器、68:
DA変換器、70:フリップフロップ、71:積分
器:、72:ホールド演算器、73:平均値演算器、7
4:積分器、75:加減算器、76:コンパレータ。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オシレータ放電によってレーザガスを励
    起し、波長を狭帯域化したシードレーザ光(21A)を発振
    するオシレータ(11A)と、 増幅放電によってシードレーザ光(21A)を増幅して出射
    レーザ光(21B)を出射する増幅器(11B)と、 シードレーザ光(21A)の発光から出射レーザ光(21B)の発
    光まで、或いはオシレータ放電の開始から増幅放電の開
    始までの遅れ時間(ΔT)を設定する遅延回路(44)とを備
    えた注入同期式又はMOPA方式のレーザ装置におい
    て、 前記遅れ時間(ΔT)が最適遅れ時間(ΔT0)となるよう
    に、遅延回路(44)の補正を行なう遅延時間補正回路(41)
    を備えたことを特徴とする注入同期式又はMOPA方式
    のレーザ装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の注入同期式又はMOPA
    方式のレーザ装置において、 放電で発生した電磁波によってコイルを流れる電流を検
    出することにより、オシレータ放電及び増幅放電の開始
    をそれぞれ検出する放電検出器(35A,35B)を備えたこと
    を特徴とする注入同期式又はMOPA方式のレーザ装
    置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の注入同期式又はM
    OPA方式のレーザ装置において、 前記遅延回路(44)及び遅延時間補正回路(41)が、シード
    レーザ光(21A)の発光から出射レーザ光(21B)の発光ま
    で、或いはオシレータ放電の開始から増幅放電の開始ま
    での時間差を測定し、この測定に基づいて前記遅れ時間
    (ΔT)を最適遅れ時間(ΔT0)に一致させるようにしたこ
    とを特徴とする注入同期式又はMOPA方式のレーザ装
    置。
  4. 【請求項4】 オシレータ放電によってレーザガスを励
    起し、波長を狭帯域化したシードレーザ光(21A)を発振
    するオシレータ(11A)と、 増幅放電によってシードレーザ光(21A)を増幅して出射
    レーザ光(21B)を出射する増幅器(11B)と、 シードレーザ光(21A)の発光から出射レーザ光(21B)の発
    光まで、或いはオシレータ放電の開始から増幅放電の開
    始までの遅れ時間(ΔT)を設定する遅延回路(44)とを備
    えた注入同期式又はMOPA方式のレーザ装置におい
    て、 オシレータ(11A)及び増幅器(11B)が、それぞれの放電回
    路(43A,43B)に印加される充電電圧(Vc)に基づき、基準
    となるトリガ信号(G)からそれぞれの放電の開始までの
    総所要時間(Tt)のジッタを補正する、ジッタ補正回路(3
    9A,39B)をそれぞれ備えたことを特徴とする注入同期式
    又はMOPA方式のレーザ装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の注入同期式又はMOPA
    方式のレーザ装置において、 前記ジッタ補正回路(39A,39B)は、充電電圧(VA,VB)の逆
    数(1/VA,1/VB)に基づいてジッタを補正することを特徴
    とする注入同期式又はMOPA方式のレーザ装置。
  6. 【請求項6】 請求項4又は5記載の注入同期式又はM
    OPA方式のレーザ装置において、 放電回路(43A,43B)の特性の変化に基づき、ジッタ補正
    回路(39A,39B)をそれぞれ補正するドリフト補正回路(40
    A,40B)を備えたことを特徴とする注入同期式又はMOP
    A方式のレーザ装置。
  7. 【請求項7】 オシレータ放電によってレーザガスを励
    起し、波長を狭帯域化したシードレーザ光(21A)を発振
    するオシレータ(11A)と、 増幅放電によってシードレーザ光(21A)を増幅して出射
    レーザ光(21B)を出射する増幅器(11B)と、 シードレーザ光(21A)の発光から出射レーザ光(21B)の発
    光まで、或いはオシレータ放電の開始から増幅放電の開
    始までの遅れ時間(ΔT)を設定する遅延回路(44)とを備
    えた注入同期式又はMOPA方式のレーザ装置におい
    て、 シードレーザ光(21A)及び出射レーザ光(21B)の出力、中
    心波長(λc)、及びスペクトル幅(Δλ)のうち、少なく
    とも一つを検出するレーザモニタ(34)を備え、 レーザモニタ(34)の検出値に基づき、シードレーザ光(2
    1A)と増幅放電とが同期しているか否かを判定すること
    を特徴とする注入同期式又はMOPA方式のレーザ装
    置。
  8. 【請求項8】 オシレータ放電によってレーザガスを励
    起し、波長を狭帯域化したシードレーザ光(21A)を発振
    するオシレータ(11A)において、 放電回路(43A)に印加される充電電圧(VA)に基づき、基
    準となるトリガ信号(G)から放電の開始までの総所要時
    間(Tt)のジッタを補正する制御と、 総所要時間(Tt)を一定とする制御とを行なうジッタ補正
    回路(39A)を備えたことを特徴とする注入同期式又はM
    OPA方式のレーザ装置。
  9. 【請求項9】 放電回路(43A)に印加される充電電圧(V
    A)に基づき、基準となるトリガ信号(G)から放電の開始
    までの総所要時間(Tt)のジッタを補正する制御と、総所
    要時間(Tt)を一定とする制御とを行なうジッタ補正回路
    (39A)を備えたことを特徴とするガスレーザ装置。
JP2001267158A 2001-03-21 2001-09-04 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置 Expired - Fee Related JP4877692B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001267158A JP4877692B2 (ja) 2001-03-21 2001-09-04 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置
US10/094,889 US7095773B2 (en) 2001-03-21 2002-03-12 Injection locking type or MOPA type of laser device
US11/212,874 US7230966B2 (en) 2001-03-21 2005-08-29 Injection locking type or MOPA type of laser device
US11/454,856 US7499482B2 (en) 2001-03-21 2006-06-19 Injection locking type or MOPA type of laser device

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001081569 2001-03-21
JP2001-81569 2001-03-21
JP2001081569 2001-03-21
JP2001267158A JP4877692B2 (ja) 2001-03-21 2001-09-04 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011235683A Division JP5368530B2 (ja) 2001-03-21 2011-10-27 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002353545A true JP2002353545A (ja) 2002-12-06
JP4877692B2 JP4877692B2 (ja) 2012-02-15

Family

ID=26611731

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001267158A Expired - Fee Related JP4877692B2 (ja) 2001-03-21 2001-09-04 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置

Country Status (2)

Country Link
US (3) US7095773B2 (ja)
JP (1) JP4877692B2 (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004311766A (ja) * 2003-04-08 2004-11-04 Ushio Inc 露光用2ステージレーザ装置
WO2005015699A1 (ja) * 2003-08-11 2005-02-17 Gigaphoton Inc. 2ステージレーザのパルスエネルギー制御装置及び2ステージレーザシステム
JP2005123229A (ja) * 2003-10-14 2005-05-12 Nec Engineering Ltd 光ファイバ増幅装置及びその制御方法
JP2007512708A (ja) * 2003-11-26 2007-05-17 ティーシーズィー ゲーエムベーハー レーザによりポリシリコン薄膜をアニールする光学系
JP2008085364A (ja) * 2001-08-29 2008-04-10 Cymer Inc 超狭帯域2室式高繰返し率放電ガスレーザシステム
JP2011014913A (ja) * 2010-07-16 2011-01-20 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム
US7965756B2 (en) 2008-08-22 2011-06-21 Gigaphoton Inc. Optical element for gas laser and gas laser apparatus using the same
JP2011518041A (ja) * 2008-03-27 2011-06-23 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド プログラム可能パルス形状を用いたレーザマイクロ加工
JP2011249818A (ja) * 2011-07-04 2011-12-08 Komatsu Ltd 狭帯域化レーザ装置
JP2012506634A (ja) * 2008-10-21 2012-03-15 サイマー インコーポレイテッド 2チャンバガス放電レーザにおけるレーザ制御の方法及び装置
JP2013026271A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Fanuc Ltd 高速、高精度に指令が可能なガスレーザ発振器における指令装置
JP2013141029A (ja) * 2013-04-17 2013-07-18 Gigaphoton Inc レーザ装置の故障診断システム
JP2023508645A (ja) * 2019-12-31 2023-03-03 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー 独立した電圧及びタイミング制御並びに電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステム

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4877692B2 (ja) * 2001-03-21 2012-02-15 株式会社小松製作所 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置
JP3806025B2 (ja) * 2001-11-29 2006-08-09 株式会社小松製作所 ガスレーザ装置
JP3773858B2 (ja) * 2002-01-30 2006-05-10 株式会社小松製作所 注入同期式又はmopa方式のガスレーザ装置
AU2003261337A1 (en) * 2002-07-31 2004-02-16 Cymer, Inc. Control system for a two chamber gas discharge laser
US7308013B2 (en) * 2002-11-05 2007-12-11 Lambda Physik Ag Excimer or molecular fluorine laser system with precision timing
US7158553B2 (en) * 2003-02-14 2007-01-02 Lambda Physik Ag Master oscillator/power amplifier excimer laser system with pulse energy and pointing control
US7282666B2 (en) * 2004-05-07 2007-10-16 Micron Technology, Inc. Method and apparatus to increase throughput of processing using pulsed radiation sources
US7116695B2 (en) * 2004-09-28 2006-10-03 Cymer, Inc. Laser output light pulse beam parameter transient correction system
CN101990729B (zh) 2008-03-31 2013-02-27 伊雷克托科学工业股份有限公司 结合多重激光束以形成高重复率、高平均功率的极化激光束
US7720120B2 (en) 2008-10-21 2010-05-18 Cymer, Inc. Method and apparatus for laser control in a two chamber gas discharge laser
US7756171B2 (en) 2008-10-21 2010-07-13 Cymer, Inc. Method and apparatus for laser control in a two chamber gas discharge laser
US7751453B2 (en) * 2008-10-21 2010-07-06 Cymer, Inc. Method and apparatus for laser control in a two chamber gas discharge laser
JP5612579B2 (ja) 2009-07-29 2014-10-22 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法、およびそのプログラムを記録した記録媒体
US8238400B2 (en) * 2010-08-09 2012-08-07 Coherent Gmbh High-precision synchronization of pulsed gas-discharge lasers
US9001857B2 (en) 2011-08-23 2015-04-07 Raytheon Company High-efficiency, dual current sink laser diode driver
DE102012205308B4 (de) * 2012-03-30 2018-05-30 Trumpf Lasersystems For Semiconductor Manufacturing Gmbh Vorrichtung zur Verstärkung eines Laserstrahls
CN103078246A (zh) * 2012-12-27 2013-05-01 中国科学院安徽光学精密机械研究所 Mopa系统准分子激光同步控制中的信号获取方法
JP6320799B2 (ja) * 2014-03-07 2018-05-09 住友重機械工業株式会社 半導体装置の製造方法
WO2015189895A1 (ja) 2014-06-09 2015-12-17 ギガフォトン株式会社 レーザシステム
WO2017009945A1 (ja) * 2015-07-14 2017-01-19 ギガフォトン株式会社 エキシマレーザ装置
CN110824852A (zh) * 2018-08-13 2020-02-21 台湾积体电路制造股份有限公司 激光系统以及光刻设备
CN111952822B (zh) * 2020-07-29 2021-08-27 中国科学院合肥物质科学研究院 一种基于mopa结构的双腔准分子激光器的光源同步控制系统
US11804690B2 (en) * 2020-11-11 2023-10-31 Seno Medical Instruments, Inc. Laser assembly for an optoacoustic probe
CN112864786B (zh) * 2020-12-30 2022-07-01 中国科学院合肥物质科学研究院 一种用于触发准分子激光器的装置
CN112787209B (zh) * 2020-12-30 2022-04-22 中国科学院合肥物质科学研究院 一种用于触发准分子激光器产生等离子体的电路
CN117441274A (zh) * 2021-04-28 2024-01-23 西默有限公司 用于产生脉冲输出光束的脉冲的磁开关网络的电子模块

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01276785A (ja) * 1988-04-28 1989-11-07 Toshiba Corp 多段増幅パルスレーザの同期制御装置
JPH0236580A (ja) * 1988-07-27 1990-02-06 Nec Corp ハロゲンガス濃度検知方法
JPH0354816A (ja) * 1989-07-24 1991-03-08 Nikon Corp レーザ処理装置
JPH03139892A (ja) * 1989-10-25 1991-06-14 Toshiba Corp 放電タイミング自動調整装置
JPH05259561A (ja) * 1992-03-09 1993-10-08 Toshiba Corp インジェクションロック同調制御装置
JPH08222788A (ja) * 1995-02-13 1996-08-30 Toshiba Corp レーザタイミング制御装置
JPH098389A (ja) * 1995-06-22 1997-01-10 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 狭帯域化エキシマレーザー発振器
JPH11214775A (ja) * 1998-01-26 1999-08-06 Toshiba Corp 電源装置
JPH11289119A (ja) * 1998-04-01 1999-10-19 Komatsu Ltd パルスレーザの発光タイミング制御装置
JP2000012925A (ja) * 1998-06-26 2000-01-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガスレーザ発振装置
JP2000156535A (ja) * 1998-11-20 2000-06-06 Komatsu Ltd インジェクションロック型狭帯域化パルスレーザ装置
JP2000188439A (ja) * 1998-12-22 2000-07-04 Komatsu Ltd パルスレーザの発光タイミング信号制御装置

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5812170A (ja) * 1981-07-14 1983-01-24 Victor Co Of Japan Ltd 円盤状情報記録媒体再生装置のジツタ補正回路
JPH0793470B2 (ja) 1986-10-07 1995-10-09 株式会社東芝 ガスレ−ザ装置
JPH0682880B2 (ja) 1988-03-23 1994-10-19 株式会社東芝 レーザ発振装置のレーザ光出力制御方式
JPH06105821B2 (ja) 1988-10-11 1994-12-21 株式会社東芝 レーザ増幅器装置の励起制御装置
US4987491A (en) * 1989-01-20 1991-01-22 Sanyo Electric Co., Ltd. Jitter compensation circuit for processing jitter components of reproduced video signal
JP3065133B2 (ja) * 1991-08-21 2000-07-12 富士通株式会社 ジッタ補償装置
US5666385A (en) * 1994-11-15 1997-09-09 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Jitter compensation circuit
JP3151153B2 (ja) * 1995-09-20 2001-04-03 定夫 尾股 周波数偏差検出回路及びそれを利用した測定器
US6005880A (en) * 1997-02-14 1999-12-21 Lambda Physik Gmbh Precision variable delay using saturable inductors
JP3734201B2 (ja) 1997-12-11 2006-01-11 株式会社小松製作所 パルスレーザの発光タイミング信号送出装置
US6327286B1 (en) * 1998-04-27 2001-12-04 Cymer, Inc. High speed magnetic modulator voltage and temperature timing compensation circuit
US6016325A (en) * 1998-04-27 2000-01-18 Cymer, Inc. Magnetic modulator voltage and temperature timing compensation circuit
US6442182B1 (en) * 1999-02-12 2002-08-27 Lambda Physik Ag Device for on-line control of output power of vacuum-UV laser
US6381256B1 (en) * 1999-02-10 2002-04-30 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6567450B2 (en) * 1999-12-10 2003-05-20 Cymer, Inc. Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system
JP2000223408A (ja) 1999-02-03 2000-08-11 Hitachi Ltd 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
US6463086B1 (en) * 1999-02-10 2002-10-08 Lambda Physik Ag Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm
US6625191B2 (en) * 1999-12-10 2003-09-23 Cymer, Inc. Very narrow band, two chamber, high rep rate gas discharge laser system
US6801560B2 (en) * 1999-05-10 2004-10-05 Cymer, Inc. Line selected F2 two chamber laser system
US6590922B2 (en) * 1999-09-27 2003-07-08 Cymer, Inc. Injection seeded F2 laser with line selection and discrimination
US6370174B1 (en) * 1999-10-20 2002-04-09 Cymer, Inc. Injection seeded F2 lithography laser
US6381257B1 (en) * 1999-09-27 2002-04-30 Cymer, Inc. Very narrow band injection seeded F2 lithography laser
US6359922B1 (en) * 1999-10-20 2002-03-19 Cymer, Inc. Single chamber gas discharge laser with line narrowed seed beam
US6862307B2 (en) * 2000-05-15 2005-03-01 Lambda Physik Ag Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser
JP4877692B2 (ja) * 2001-03-21 2012-02-15 株式会社小松製作所 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01276785A (ja) * 1988-04-28 1989-11-07 Toshiba Corp 多段増幅パルスレーザの同期制御装置
JPH0236580A (ja) * 1988-07-27 1990-02-06 Nec Corp ハロゲンガス濃度検知方法
JPH0354816A (ja) * 1989-07-24 1991-03-08 Nikon Corp レーザ処理装置
JPH03139892A (ja) * 1989-10-25 1991-06-14 Toshiba Corp 放電タイミング自動調整装置
JPH05259561A (ja) * 1992-03-09 1993-10-08 Toshiba Corp インジェクションロック同調制御装置
JPH08222788A (ja) * 1995-02-13 1996-08-30 Toshiba Corp レーザタイミング制御装置
JPH098389A (ja) * 1995-06-22 1997-01-10 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 狭帯域化エキシマレーザー発振器
JPH11214775A (ja) * 1998-01-26 1999-08-06 Toshiba Corp 電源装置
JPH11289119A (ja) * 1998-04-01 1999-10-19 Komatsu Ltd パルスレーザの発光タイミング制御装置
JP2000012925A (ja) * 1998-06-26 2000-01-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガスレーザ発振装置
JP2000156535A (ja) * 1998-11-20 2000-06-06 Komatsu Ltd インジェクションロック型狭帯域化パルスレーザ装置
JP2000188439A (ja) * 1998-12-22 2000-07-04 Komatsu Ltd パルスレーザの発光タイミング信号制御装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008085364A (ja) * 2001-08-29 2008-04-10 Cymer Inc 超狭帯域2室式高繰返し率放電ガスレーザシステム
JP4489801B2 (ja) * 2001-08-29 2010-06-23 サイマー インコーポレイテッド 超狭帯域2室式高繰返し率放電ガスレーザシステム
JP2004311766A (ja) * 2003-04-08 2004-11-04 Ushio Inc 露光用2ステージレーザ装置
WO2005015699A1 (ja) * 2003-08-11 2005-02-17 Gigaphoton Inc. 2ステージレーザのパルスエネルギー制御装置及び2ステージレーザシステム
JP2005123229A (ja) * 2003-10-14 2005-05-12 Nec Engineering Ltd 光ファイバ増幅装置及びその制御方法
JP2007512708A (ja) * 2003-11-26 2007-05-17 ティーシーズィー ゲーエムベーハー レーザによりポリシリコン薄膜をアニールする光学系
JP2012191221A (ja) * 2003-11-26 2012-10-04 Tcz Llc レーザによりポリシリコン薄膜をアニールする光学系
JP2011518041A (ja) * 2008-03-27 2011-06-23 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド プログラム可能パルス形状を用いたレーザマイクロ加工
US7965756B2 (en) 2008-08-22 2011-06-21 Gigaphoton Inc. Optical element for gas laser and gas laser apparatus using the same
JP2012506634A (ja) * 2008-10-21 2012-03-15 サイマー インコーポレイテッド 2チャンバガス放電レーザにおけるレーザ制御の方法及び装置
JP2015111718A (ja) * 2008-10-21 2015-06-18 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー 2チャンバガス放電レーザにおけるレーザ制御の方法及び装置
JP2011014913A (ja) * 2010-07-16 2011-01-20 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム
JP2011249818A (ja) * 2011-07-04 2011-12-08 Komatsu Ltd 狭帯域化レーザ装置
JP2013026271A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Fanuc Ltd 高速、高精度に指令が可能なガスレーザ発振器における指令装置
US8548018B2 (en) 2011-07-15 2013-10-01 Fanuc Corporation Command apparatus in a gas laser oscillator, capable of command at high speed and with high precision
JP2013141029A (ja) * 2013-04-17 2013-07-18 Gigaphoton Inc レーザ装置の故障診断システム
JP2023508645A (ja) * 2019-12-31 2023-03-03 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー 独立した電圧及びタイミング制御並びに電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステム
JP7411089B2 (ja) 2019-12-31 2024-01-10 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー 独立した電圧及びタイミング制御並びに電力消費削減を伴う、デュアルパルスパワーシステム

Also Published As

Publication number Publication date
US20060239307A1 (en) 2006-10-26
US20050281306A1 (en) 2005-12-22
US7230966B2 (en) 2007-06-12
US7499482B2 (en) 2009-03-03
US20020141470A1 (en) 2002-10-03
JP4877692B2 (ja) 2012-02-15
US7095773B2 (en) 2006-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4877692B2 (ja) 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置
US6721344B2 (en) Injection locking type or MOPA type of laser device
JP3971385B2 (ja) 2室ガス放電レーザシステムのタイミング制御
JP2724993B2 (ja) レーザ加工装置およびレーザ装置
EP1037339B1 (en) Very stable excimer or molecular fluorine laser
JP5718048B2 (ja) レーザ光の帯域幅を安定化及び調節する方法及び装置
US8102889B2 (en) Multi-chamber gas discharge laser bandwidth control through discharge timing
EP1994549B1 (en) Active spectral control of duv light source
JP2003198020A (ja) 露光用フッ素分子レーザシステム
US20140341239A1 (en) Laser system and laser light generation method
JPH08274399A (ja) パルスレーザ装置のパルスエネルギ制御装置と方法
Lipphardt et al. Optical stabilization of a microwave oscillator for fountain clock interrogation
JP3879889B2 (ja) インジェクションロック型狭帯域化パルスレーザ装置
JP5368530B2 (ja) 注入同期式又はmopa方式のレーザ装置
JP2779571B2 (ja) レーザ装置の出力制御装置
JP2006120788A (ja) 注入同期型レーザ装置及び注入同期型レーザ装置のスペクトル線幅調整方法
JP4364757B2 (ja) 2ステージレーザのエネルギ制御装置及び2ステージレーザシステム
WO2023199514A1 (ja) レーザ装置及び電子デバイスの製造方法
JP7416811B2 (ja) レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
WO2022259352A1 (ja) レーザ装置、レーザ発振方法及び電子デバイスの製造方法
JP2004335782A (ja) 注入同期式レーザ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20081022

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20081022

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100302

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100309

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100510

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100928

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110830

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111027

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111122

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111122

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4877692

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141209

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees