JP2002057395A - レーザ発振増幅装置 - Google Patents
レーザ発振増幅装置Info
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- JP2002057395A JP2002057395A JP2000238590A JP2000238590A JP2002057395A JP 2002057395 A JP2002057395 A JP 2002057395A JP 2000238590 A JP2000238590 A JP 2000238590A JP 2000238590 A JP2000238590 A JP 2000238590A JP 2002057395 A JP2002057395 A JP 2002057395A
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- yag laser
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- laser light
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Abstract
(57)【要約】
【課題】増幅されたレーザ光のほぼ全てを取り出すこと
ができる高効率で安定性を向上させる。 【解決手段】レーザ発振器１と増幅器６との間の光軸上
に、レーザ発振器１から出力されたＹＡＧレーザ光ｐを
その直線偏光のまま増幅器６に伝播し、かつこの増幅器
６により増幅されたＹＡＧレーザ光ｐ’を直線偏光のま
ま取り出す作用を持ち、第１及び第２のプリズムビーム
スプリッタ２１、２２と、これらプリズムビームスプリ
ッタ２１、２２の間の光軸上に配置された４５°回転の
ファラディーローテータ２３及びλ／２波長板２４とか
ら構成されるアイソレータ２０を配置した。
ができる高効率で安定性を向上させる。 【解決手段】レーザ発振器１と増幅器６との間の光軸上
に、レーザ発振器１から出力されたＹＡＧレーザ光ｐを
その直線偏光のまま増幅器６に伝播し、かつこの増幅器
６により増幅されたＹＡＧレーザ光ｐ’を直線偏光のま
ま取り出す作用を持ち、第１及び第２のプリズムビーム
スプリッタ２１、２２と、これらプリズムビームスプリ
ッタ２１、２２の間の光軸上に配置された４５°回転の
ファラディーローテータ２３及びλ／２波長板２４とか
ら構成されるアイソレータ２０を配置した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ発振器と増
幅器とからなるレーザ発振増幅装置に関する。
幅器とからなるレーザ発振増幅装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光を発振するレーザ発振器は、そ
の適用する技術分野によりパルス幅が短く、かつビーム
品質の高いレーザ光を要求されることがある。このよう
な場合、レーザ発振器においては、共振器長を短くし、
Ｑスイッチ等のスイッチング素子で短パルスを形成し、
かつ空間的にもビーム径を制限して発振モードを抑制す
るなどの制約条件がある。このため、レーザ発振器の単
体で、短パルスで、高ビーム品質、高エネルギー、高出
力のレーザ光を得るのは困難となっている。
の適用する技術分野によりパルス幅が短く、かつビーム
品質の高いレーザ光を要求されることがある。このよう
な場合、レーザ発振器においては、共振器長を短くし、
Ｑスイッチ等のスイッチング素子で短パルスを形成し、
かつ空間的にもビーム径を制限して発振モードを抑制す
るなどの制約条件がある。このため、レーザ発振器の単
体で、短パルスで、高ビーム品質、高エネルギー、高出
力のレーザ光を得るのは困難となっている。
【０００３】このようなことから短パルスで、高ビーム
品質、高エネルギー、高出力のレーザ光を得るために、
レーザ発振器から出力されたレーザ光を増幅器を用いて
増幅する手法が用いられている。
品質、高エネルギー、高出力のレーザ光を得るために、
レーザ発振器から出力されたレーザ光を増幅器を用いて
増幅する手法が用いられている。
【０００４】図４はレーザ発振器と増幅器とからなるレ
ーザ発振増幅装置の構成図である。レーザ発振器１は、
レーザ媒質としてＹＡＧレーザロッド２が用いられてい
る。このＹＡＧレーザロッド２は、片側端面にＹＡＧレ
ーザ光の光反射膜２ａが形成されている。このＹＡＧレ
ーザロッド２の軸方向の他の端面側には、ＹＡＧレーザ
出力ミラー３が配置されている。従って、ＹＡＧレーザ
ロッド２に形成された光反射膜２ａとＹＡＧレーザ出力
ミラー３とにより光共振器が形成されている。これらＹ
ＡＧレーザロッド２とＹＡＧレーザ出力ミラー３との間
の光軸上には、偏光素子４及びＥＯ−Ｑスイッチ素子５
が配置されている。
ーザ発振増幅装置の構成図である。レーザ発振器１は、
レーザ媒質としてＹＡＧレーザロッド２が用いられてい
る。このＹＡＧレーザロッド２は、片側端面にＹＡＧレ
ーザ光の光反射膜２ａが形成されている。このＹＡＧレ
ーザロッド２の軸方向の他の端面側には、ＹＡＧレーザ
出力ミラー３が配置されている。従って、ＹＡＧレーザ
ロッド２に形成された光反射膜２ａとＹＡＧレーザ出力
ミラー３とにより光共振器が形成されている。これらＹ
ＡＧレーザロッド２とＹＡＧレーザ出力ミラー３との間
の光軸上には、偏光素子４及びＥＯ−Ｑスイッチ素子５
が配置されている。
【０００５】このようなレーザ発振器１であれば、ＹＡ
Ｇレーザロッド２を励起し、ＥＯ−Ｑスイッチ素子５を
スイッチング動作することで、短パルスで、高ビーム品
質のＹＡＧレーザ光ｐが出力される。なお、このＹＡＧ
レーザ光ｐは、直線偏光となっている。
Ｇレーザロッド２を励起し、ＥＯ−Ｑスイッチ素子５を
スイッチング動作することで、短パルスで、高ビーム品
質のＹＡＧレーザ光ｐが出力される。なお、このＹＡＧ
レーザ光ｐは、直線偏光となっている。
【０００６】一方、増幅器６は、片側端面にＹＡＧレー
ザ光ｐの光反射膜７ａが形成された増幅器ＹＡＧレーザ
ロッド７と、レーザ光入射側にＹＡＧレーザ光ｐを透過
し、かつ励起光ｑを反射する４５°ミラー８とから構成
されている。この４５°ミラー８により増幅器ＹＡＧレ
ーザロッド７は、両端面側からそれぞれ励起光ｑが入射
されることにより励起される。
ザ光ｐの光反射膜７ａが形成された増幅器ＹＡＧレーザ
ロッド７と、レーザ光入射側にＹＡＧレーザ光ｐを透過
し、かつ励起光ｑを反射する４５°ミラー８とから構成
されている。この４５°ミラー８により増幅器ＹＡＧレ
ーザロッド７は、両端面側からそれぞれ励起光ｑが入射
されることにより励起される。
【０００７】このような増幅器６では、この増幅器６に
よりＹＡＧレーザ光ｐを増幅する際に、増幅器ＹＡＧレ
ーザロッド７を励起してＹＡＧレーザ光ｐを透過させて
いる。このとき、ＹＡＧレーザ光ｐを効率よく増幅する
ために、ＹＡＧレーザ光ｐを増幅器ＹＡＧレーザロッド
７内に往復させている。
よりＹＡＧレーザ光ｐを増幅する際に、増幅器ＹＡＧレ
ーザロッド７を励起してＹＡＧレーザ光ｐを透過させて
いる。このとき、ＹＡＧレーザ光ｐを効率よく増幅する
ために、ＹＡＧレーザ光ｐを増幅器ＹＡＧレーザロッド
７内に往復させている。
【０００８】この増幅器ＹＡＧレーザロッド７を励起す
る方法は、このレーザロッド７を横方向から励起する方
法と、増幅器ＹＡＧレーザロッド７の軸方向から励起す
る方法とが一般的である。ＹＡＧレーザ光ｐを効率よく
増幅するには、励起密度を高くするために、増幅器ＹＡ
Ｇレーザロッド７の軸方向から励起する方法が用いられ
る。
る方法は、このレーザロッド７を横方向から励起する方
法と、増幅器ＹＡＧレーザロッド７の軸方向から励起す
る方法とが一般的である。ＹＡＧレーザ光ｐを効率よく
増幅するには、励起密度を高くするために、増幅器ＹＡ
Ｇレーザロッド７の軸方向から励起する方法が用いられ
る。
【０００９】この増幅器ＹＡＧレーザロッド７の軸方向
から励起する方法では、増幅器ＹＡＧレーザロッド７に
多くの量の励起光ｑを入射させるために、増幅器ＹＡＧ
レーザロッド７の前後両方向から励起光ｑを照射させ
る。これにより、増幅器ＹＡＧレーザロッド７の片側
は、ＹＡＧレーザ光ｐと励起光ｑとの両方を同軸に入力
するので、増幅器ＹＡＧレーザロッド７の片側には、Ｙ
ＡＧレーザ光ｐを透過し、かつ励起光ｑを反射させるた
めに、ＹＡＧレーザ光軸に対して４５°の角度で設置す
る上記４５°ミラー８を用いるのが一般的となってい
る。
から励起する方法では、増幅器ＹＡＧレーザロッド７に
多くの量の励起光ｑを入射させるために、増幅器ＹＡＧ
レーザロッド７の前後両方向から励起光ｑを照射させ
る。これにより、増幅器ＹＡＧレーザロッド７の片側
は、ＹＡＧレーザ光ｐと励起光ｑとの両方を同軸に入力
するので、増幅器ＹＡＧレーザロッド７の片側には、Ｙ
ＡＧレーザ光ｐを透過し、かつ励起光ｑを反射させるた
めに、ＹＡＧレーザ光軸に対して４５°の角度で設置す
る上記４５°ミラー８を用いるのが一般的となってい
る。
【００１０】又、増幅器ＹＡＧレーザロッド７内を往復
するＹＡＧレーザ光ｐが重なるため、それらＹＡＧレー
ザ光ｐを分離する方法として、レーザ光路中にλ／４波
長板９及び偏光子として例えばプリズムビームスプリッ
タ１０が挿入されている。
するＹＡＧレーザ光ｐが重なるため、それらＹＡＧレー
ザ光ｐを分離する方法として、レーザ光路中にλ／４波
長板９及び偏光子として例えばプリズムビームスプリッ
タ１０が挿入されている。
【００１１】従って、レーザ発振器１から出力された直
線偏光のＹＡＧレーザ光ｐは、プリズムビームスプリッ
タ１０を透過した後、λ／４波長板９を透過することに
より円偏光となり、４５°ミラー８を透過して増幅器Ｙ
ＡＧレーザロッド７に入射する。
線偏光のＹＡＧレーザ光ｐは、プリズムビームスプリッ
タ１０を透過した後、λ／４波長板９を透過することに
より円偏光となり、４５°ミラー８を透過して増幅器Ｙ
ＡＧレーザロッド７に入射する。
【００１２】ＹＡＧレーザ光ｐは、増幅器ＹＡＧレーザ
ロッド７の光反射膜７ａで反射することにより増幅器Ｙ
ＡＧレーザロッド７内を往復して増幅される。この増幅
された円偏光のＹＡＧレーザ光ｐは、再びλ／４波長板
９を透過することにより、入力時とは位相９０°ずれた
偏光のＹＡＧレーザ光ｐ’となってプリズムビームスプ
リッタ１０により取り出される。
ロッド７の光反射膜７ａで反射することにより増幅器Ｙ
ＡＧレーザロッド７内を往復して増幅される。この増幅
された円偏光のＹＡＧレーザ光ｐは、再びλ／４波長板
９を透過することにより、入力時とは位相９０°ずれた
偏光のＹＡＧレーザ光ｐ’となってプリズムビームスプ
リッタ１０により取り出される。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記レ
ーザ発振増幅装置では、λ／４波長板９により円偏光に
したＹＡＧレーザ光ｐが４５°ミラー８を透過する際
に、Ｓ偏光とＰ偏光とに位相差が生じる。このため、Ｙ
ＡＧレーザ光ｐの円偏光が維持されずにみだれ、楕円偏
光に変化してしまう。
ーザ発振増幅装置では、λ／４波長板９により円偏光に
したＹＡＧレーザ光ｐが４５°ミラー８を透過する際
に、Ｓ偏光とＰ偏光とに位相差が生じる。このため、Ｙ
ＡＧレーザ光ｐの円偏光が維持されずにみだれ、楕円偏
光に変化してしまう。
【００１４】この結果、楕円偏光のＹＡＧレーザ光ｐが
再度λ／４波長板９を透過するので、この透過後のＹＡ
Ｇレーザ光ｐは、９０°から角度のずれた直線偏光又は
楕円偏光となる。このため、増幅されたＹＡＧレーザ光
ｐ’が全てプリズムビームスプリッタ１０で取り出され
ず、増幅の効率が低下する。
再度λ／４波長板９を透過するので、この透過後のＹＡ
Ｇレーザ光ｐは、９０°から角度のずれた直線偏光又は
楕円偏光となる。このため、増幅されたＹＡＧレーザ光
ｐ’が全てプリズムビームスプリッタ１０で取り出され
ず、増幅の効率が低下する。
【００１５】これと共に、プリズムビームスプリッタ１
０で取り出せないＹＡＧレーザ光ｐ”がレーザ発振器１
に戻ってしまい、このＹＡＧレーザ光ｐ”とレーザ発振
器１から出力されたＹＡＧレーザ光ｐとで干渉が発生
し、パルス毎のＹＡＧレーザ光ｐの安定度を悪くする。
０で取り出せないＹＡＧレーザ光ｐ”がレーザ発振器１
に戻ってしまい、このＹＡＧレーザ光ｐ”とレーザ発振
器１から出力されたＹＡＧレーザ光ｐとで干渉が発生
し、パルス毎のＹＡＧレーザ光ｐの安定度を悪くする。
【００１６】そこで本発明は、増幅されたレーザ光のほ
ぼ全てを取り出すことができる高効率で安定性のよいレ
ーザ発振増幅装置を提供することを目的とする。
ぼ全てを取り出すことができる高効率で安定性のよいレ
ーザ発振増幅装置を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載による本発
明は、レーザ発振器から出力された前記レーザ光を増幅
器により増幅するレーザ発振増幅装置において、前記レ
ーザ発振器と前記増幅器との間に、前記レーザ発振器か
ら出力された前記レーザ光を直線偏光のまま前記増幅器
に伝播し、前記増幅器により増幅されたレーザ光を直線
偏光のまま取り出す光学系を配置したことを特徴とする
レーザ発振増幅装置である。
明は、レーザ発振器から出力された前記レーザ光を増幅
器により増幅するレーザ発振増幅装置において、前記レ
ーザ発振器と前記増幅器との間に、前記レーザ発振器か
ら出力された前記レーザ光を直線偏光のまま前記増幅器
に伝播し、前記増幅器により増幅されたレーザ光を直線
偏光のまま取り出す光学系を配置したことを特徴とする
レーザ発振増幅装置である。
【００１８】請求項２記載による本発明は、請求項１記
載のレーザ発振増幅装置において、前記光学系は、２つ
のプリズムビームスプリッタと、これらプリズムビーム
スプリッタの間に配置されたファラディーローテータ
と、前記各プリズムビームスプリッタの間に配置された
λ／２波長板とからなるアイソレータであることを特徴
とする。
載のレーザ発振増幅装置において、前記光学系は、２つ
のプリズムビームスプリッタと、これらプリズムビーム
スプリッタの間に配置されたファラディーローテータ
と、前記各プリズムビームスプリッタの間に配置された
λ／２波長板とからなるアイソレータであることを特徴
とする。
【００１９】請求項３記載による本発明は、請求項１記
載のレーザ発振増幅装置において、前記レーザ発振器
は、短パルスで高ビーム品質の前記レーザ光を発振出力
することを特徴とする。
載のレーザ発振増幅装置において、前記レーザ発振器
は、短パルスで高ビーム品質の前記レーザ光を発振出力
することを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。なお、図４と同一部分に
は同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
いて図面を参照して説明する。なお、図４と同一部分に
は同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
【００２１】図１はレーザ発振増幅装置の構成図であ
る。レーザ発振器１と増幅器６との間の光軸上には、ア
イソレータ２０が配置されている。このアイソレータ２
０は、レーザ発振器１から出力されたＹＡＧレーザ光ｐ
をその直線偏光のまま増幅器６に伝播し、かつこの増幅
器６により増幅されたＹＡＧレーザ光ｐ’を直線偏光の
まま取り出す作用を持っている。
る。レーザ発振器１と増幅器６との間の光軸上には、ア
イソレータ２０が配置されている。このアイソレータ２
０は、レーザ発振器１から出力されたＹＡＧレーザ光ｐ
をその直線偏光のまま増幅器６に伝播し、かつこの増幅
器６により増幅されたＹＡＧレーザ光ｐ’を直線偏光の
まま取り出す作用を持っている。
【００２２】具体的にアイソレータ２０は、第１及び第
２のプリズムビームスプリッタ２１、２２と、これらプ
リズムビームスプリッタ２１、２２の間の光軸上に配置
された４５°回転のファラディーローテータ２３及びλ
／２波長板２４とから構成されている。
２のプリズムビームスプリッタ２１、２２と、これらプ
リズムビームスプリッタ２１、２２の間の光軸上に配置
された４５°回転のファラディーローテータ２３及びλ
／２波長板２４とから構成されている。
【００２３】ファラディーローテータ２３は、ＹＡＧレ
ーザ光ｐの偏光角度を４５°回転させるもので、図２に
示すように、例えば入射したＹＡＧレーザ光ｐ１の偏光
方向を４５°回転したＹＡＧレーザ光ｐ２として出射
し、かつ同ＹＡＧレーザ光ｐ２を再び透過させることに
より偏光方向を同一方向に４５°回転させたＹＡＧレー
ザ光ｐ３として出射するものとなっている。
ーザ光ｐの偏光角度を４５°回転させるもので、図２に
示すように、例えば入射したＹＡＧレーザ光ｐ１の偏光
方向を４５°回転したＹＡＧレーザ光ｐ２として出射
し、かつ同ＹＡＧレーザ光ｐ２を再び透過させることに
より偏光方向を同一方向に４５°回転させたＹＡＧレー
ザ光ｐ３として出射するものとなっている。
【００２４】λ／２波長板２４は、図３に示すように、
例えば入射したＹＡＧレーザ光ｐ４の偏光方向を４５°
回転したＹＡＧレーザ光ｐ５として出射し、かつ同ＹＡ
Ｇレーザ光ｐ５を再び透過させることにより偏光方向を
逆方向に４５°回転させて戻したＹＡＧレーザ光ｐ６と
して出射するものとなっている。
例えば入射したＹＡＧレーザ光ｐ４の偏光方向を４５°
回転したＹＡＧレーザ光ｐ５として出射し、かつ同ＹＡ
Ｇレーザ光ｐ５を再び透過させることにより偏光方向を
逆方向に４５°回転させて戻したＹＡＧレーザ光ｐ６と
して出射するものとなっている。
【００２５】次に、上記の如く構成された装置の作用に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００２６】レーザ発振器１は、ＹＡＧレーザロッド２
を励起し、ＥＯ−Ｑスイッチ素子５をスイッチング動作
することで、短パルスで、高ビーム品質の直線偏光であ
るＹＡＧレーザ光ｐを出力する。
を励起し、ＥＯ−Ｑスイッチ素子５をスイッチング動作
することで、短パルスで、高ビーム品質の直線偏光であ
るＹＡＧレーザ光ｐを出力する。
【００２７】このＹＡＧレーザ光ｐは、第１のプリズム
ビームスプリッタ２１を透過し、ファラディーローテー
タ２３に入射する。このファラディーローテータ２３を
透過することによりＹＡＧレーザ光ｐは、偏光角度が４
５°回転される。
ビームスプリッタ２１を透過し、ファラディーローテー
タ２３に入射する。このファラディーローテータ２３を
透過することによりＹＡＧレーザ光ｐは、偏光角度が４
５°回転される。
【００２８】次に、ＹＡＧレーザ光ｐは、λ／２波長板
２４を透過することによりファラディーローテータ２３
で回転された偏光角度が元に戻されて出射される。
２４を透過することによりファラディーローテータ２３
で回転された偏光角度が元に戻されて出射される。
【００２９】次に、この直線偏光のＹＡＧレーザ光ｐ
は、第２のプリズムビームスプリッタ２２を透過して増
幅器６に入射する。
は、第２のプリズムビームスプリッタ２２を透過して増
幅器６に入射する。
【００３０】この増幅器６では、直線偏光のＹＡＧレー
ザ光ｐを、４５°ミラー８の透過後に、増幅器ＹＡＧレ
ーザロッド７に透過させ、その端面に形成されている光
反射膜７ａで反射させることにより増幅器ＹＡＧレーザ
ロッド７内を往復させて増幅する。
ザ光ｐを、４５°ミラー８の透過後に、増幅器ＹＡＧレ
ーザロッド７に透過させ、その端面に形成されている光
反射膜７ａで反射させることにより増幅器ＹＡＧレーザ
ロッド７内を往復させて増幅する。
【００３１】この増幅された直線偏光のＹＡＧレーザ光
ｐａは、再び、第２のプリズムビームスプリッタ２２、
λ／２波長板２４、ファラディーローテータ２３を透過
する。このとき、直線偏光のＹＡＧレーザ光ｐａは、λ
／２波長板２４及びファラディーローテータ２３を透過
することにより偏光方向が９０°回転する。
ｐａは、再び、第２のプリズムビームスプリッタ２２、
λ／２波長板２４、ファラディーローテータ２３を透過
する。このとき、直線偏光のＹＡＧレーザ光ｐａは、λ
／２波長板２４及びファラディーローテータ２３を透過
することにより偏光方向が９０°回転する。
【００３２】従って、第１のプリズムビームスプリッタ
２１は、偏光方向が９０°回転された直線偏光のＹＡＧ
レーザ光ｐを反射し、増幅されたＹＡＧレーザ光ｐａと
して取り出す。
２１は、偏光方向が９０°回転された直線偏光のＹＡＧ
レーザ光ｐを反射し、増幅されたＹＡＧレーザ光ｐａと
して取り出す。
【００３３】このように上記一実施の形態においては、
レーザ発振器１と増幅器６との間の光軸上に、レーザ発
振器１から出力されたＹＡＧレーザ光ｐをその直線偏光
のまま増幅器６に伝播し、かつこの増幅器６により増幅
されたＹＡＧレーザ光ｐ’を直線偏光のまま取り出す作
用を持ち、第１及び第２のプリズムビームスプリッタ２
１、２２と、これらプリズムビームスプリッタ２１、２
２の間の光軸上に配置された４５°回転のファラディー
ローテータ２３及びλ／２波長板２４とから構成される
アイソレータ２０を配置したので、増幅の過程でＹＡＧ
レーザ光ｐは、常に直線偏光を維持することができ、４
５°ミラー８を透過する際に、Ｓ偏光とＰ偏光との位相
差で楕円偏光となることはなく、増幅後のＹＡＧレーザ
光ｐａのほぼ全てを取り出すことができる。従って、短
パルスで、高ビーム品質、高エネルギー、高出力のレー
ザ光を得ることができ、このＹＡＧレーザ光ｐａの取り
出しも高効率できる。
レーザ発振器１と増幅器６との間の光軸上に、レーザ発
振器１から出力されたＹＡＧレーザ光ｐをその直線偏光
のまま増幅器６に伝播し、かつこの増幅器６により増幅
されたＹＡＧレーザ光ｐ’を直線偏光のまま取り出す作
用を持ち、第１及び第２のプリズムビームスプリッタ２
１、２２と、これらプリズムビームスプリッタ２１、２
２の間の光軸上に配置された４５°回転のファラディー
ローテータ２３及びλ／２波長板２４とから構成される
アイソレータ２０を配置したので、増幅の過程でＹＡＧ
レーザ光ｐは、常に直線偏光を維持することができ、４
５°ミラー８を透過する際に、Ｓ偏光とＰ偏光との位相
差で楕円偏光となることはなく、増幅後のＹＡＧレーザ
光ｐａのほぼ全てを取り出すことができる。従って、短
パルスで、高ビーム品質、高エネルギー、高出力のレー
ザ光を得ることができ、このＹＡＧレーザ光ｐａの取り
出しも高効率できる。
【００３４】又、取り出すことのできない増幅光がレー
ザ発振器１に戻ることにより発生するパルス毎の不安定
性の発生を抑制することができ安定性を向上させること
ができる。
ザ発振器１に戻ることにより発生するパルス毎の不安定
性の発生を抑制することができ安定性を向上させること
ができる。
【００３５】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、増
幅されたレーザ光のほぼ全てを取り出すことができる高
効率で安定性のよいレーザ発振増幅装置を提供できる。
幅されたレーザ光のほぼ全てを取り出すことができる高
効率で安定性のよいレーザ発振増幅装置を提供できる。
【図１】本発明に係わるレーザ発振増幅装置の一実施の
形態を示す構成図。
形態を示す構成図。
【図２】本発明に係わるレーザ発振増幅装置の一実施の
形態におけるファラディーローテータの作用を示す摸式
図。
形態におけるファラディーローテータの作用を示す摸式
図。
【図３】本発明に係わるレーザ発振増幅装置の一実施の
形態におけるλ／２波長板の作用を示す摸式図。
形態におけるλ／２波長板の作用を示す摸式図。
【図４】従来におけるレーザ発振増幅装置の構成図。
１：レーザ発振器 ２：ＹＡＧレーザロッド ２ａ：光反射膜 ３：ＹＡＧレーザ出力ミラー ４：偏光素子 ５：ＥＯ−Ｑスイッチ素子 ６：増幅器 ７：増幅器ＹＡＧレーザロッド ７ａ：光反射膜 ８：４５°ミラー ２０：アイソレータ ２１：第１のプリズムビームスプリッタ ２２：第２のプリズムビームスプリッタ ２３：ファラディーローテータ ２４：λ／２波長板
フロントページの続き (72)発明者 高田 淳 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術センター内 Ｆターム(参考） 5F072 AB01 AK01 JJ02 JJ05 KK15 KK30 SS06 YY17
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ発振器から出力された前記レーザ
光を増幅器により増幅するレーザ発振増幅装置におい
て、 前記レーザ発振器と前記増幅器との間に、前記レーザ発
振器から出力された前記レーザ光を直線偏光のまま前記
増幅器に伝播し、前記増幅器により増幅されたレーザ光
を直線偏光のまま取り出す光学系を配置したことを特徴
とするレーザ発振増幅装置。 - 【請求項２】 前記光学系は、２つのプリズムビームス
プリッタと、これらプリズムビームスプリッタの間に配
置されたファラディーローテータと、前記各プリズムビ
ームスプリッタの間に配置されたλ／２波長板とからな
るアイソレータであることを特徴とする請求項１記載の
レーザ発振増幅装置。 - 【請求項３】 前記レーザ発振器は、短パルスで高ビー
ム品質の前記レーザ光を発振出力することを特徴とする
請求項１記載のレーザ発振増幅装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000238590A JP2002057395A (ja) | 2000-08-07 | 2000-08-07 | レーザ発振増幅装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000238590A JP2002057395A (ja) | 2000-08-07 | 2000-08-07 | レーザ発振増幅装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002057395A true JP2002057395A (ja) | 2002-02-22 |
Family
ID=18730273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000238590A Pending JP2002057395A (ja) | 2000-08-07 | 2000-08-07 | レーザ発振増幅装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002057395A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016502288A (ja) * | 2012-12-21 | 2016-01-21 | アクサン・テクノロジーズ・インコーポレーテッドＡｘｓｕｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ． | 接合されたｍｅｍｓ波長可変ミラーのｖｃｓｅｌ掃引光源を備えたｏｃｔシステム |
| JP2019207989A (ja) * | 2018-05-30 | 2019-12-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ装置 |
| US10819079B2 (en) | 2015-01-09 | 2020-10-27 | Lsp Technologies, Inc. | Method and apparatus for use in laser shock peening |
| US11858065B2 (en) | 2015-01-09 | 2024-01-02 | Lsp Technologies, Inc. | Method and system for use in laser shock peening and laser bond inspection process |
-
2000
- 2000-08-07 JP JP2000238590A patent/JP2002057395A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2016502288A (ja) * | 2012-12-21 | 2016-01-21 | アクサン・テクノロジーズ・インコーポレーテッドＡｘｓｕｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ． | 接合されたｍｅｍｓ波長可変ミラーのｖｃｓｅｌ掃引光源を備えたｏｃｔシステム |
| US10109979B2 (en) | 2012-12-21 | 2018-10-23 | Axsun Technologies, Inc. | OCT system with bonded MEMS tunable mirror VCSEL swept source |
| US10855053B2 (en) | 2012-12-21 | 2020-12-01 | Axsun Technologies, Inc. | OCT system with bonded MEMS tunable mirror VCSEL swept source |
| US10819079B2 (en) | 2015-01-09 | 2020-10-27 | Lsp Technologies, Inc. | Method and apparatus for use in laser shock peening |
| US11858065B2 (en) | 2015-01-09 | 2024-01-02 | Lsp Technologies, Inc. | Method and system for use in laser shock peening and laser bond inspection process |
| US11955763B2 (en) | 2015-01-09 | 2024-04-09 | Sunrise International, Inc. | Method and apparatus for use in laser shock peening |
| JP2019207989A (ja) * | 2018-05-30 | 2019-12-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ装置 |
| JP7097236B2 (ja) | 2018-05-30 | 2022-07-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ装置 |
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