JPH0981980A - 保護膜形成方法及び保護膜を有する光磁気記録媒体 - Google Patents

保護膜形成方法及び保護膜を有する光磁気記録媒体

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JPH0981980A
JPH0981980A JP25812795A JP25812795A JPH0981980A JP H0981980 A JPH0981980 A JP H0981980A JP 25812795 A JP25812795 A JP 25812795A JP 25812795 A JP25812795 A JP 25812795A JP H0981980 A JPH0981980 A JP H0981980A
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JP
Japan
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curing
resin
protective layer
magneto
protective film
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JP25812795A
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English (en)
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Asato Tanaka
麻人 田中
Masao Komatsu
昌生 小松
Kanako Tsuboya
奏子 坪谷
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は良好なCSS特性を有する磁界変調
光磁気記録媒体を提供することを目的とする。 【解決手段】 基材の表面に硬化性樹脂とこれに溶解し
ない非硬化性液状物との混合物を塗布し、これを硬化す
ることにより凹凸表面を有する樹脂膜を得る事を特徴と
する保護膜形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、保護膜の形成方法及び
保護膜を有する光磁気記録媒体に関する。詳しくは浮上
型磁気ヘッドによるオーバーライト法を用いた光磁気デ
ィスクに関する。
【0002】
【従来の技術とその問題点】光磁気ディスクのオーバー
ライト技術の中でも磁界変調オーバーライト方式は代表
的な方式の1つであるが、多くの場合、この磁界変調記
録に用いられる磁気ヘッドには浮上型磁気ヘッドが用い
られる。特にCSS方式(コンタクト スタート アン
ドストップ方式)によるオーバーライト法が採用された
場合、ディスクの回転開始時及び停止時にディスクと磁
気ヘッドの接触摺動が生じるために双方に摩耗、損傷
や、ディスク表面へのヘッドの吸着、ヘッドクラッシュ
等が生じやすい。
【0003】そこで、磁界変調光磁気ディスクの保護層
は本来の目的である記録層の保護ばかりでなく、磁気ヘ
ッドとディスク間のCSS特性を向上させる目的でも施
される。そのため、磁界変調光磁気ディスクの保護層表
面の粗面化や潤滑性の付与が試みられてきた。このよう
な保護膜の作成は幾つか提唱されている。
【0004】例えばスピンコート法等による塗布及び硬
化を行い、次に機械研磨(例えば特開平4−21964
6)による粗面化処理を施し、しかる後に再度スピンコ
ート法等によって潤滑剤の塗布を行うものがある。ま
た、他の方法として、硬化性樹脂をスクリーン印刷法に
よって塗布する事で粗面を得る方法(例えば特開平1−
251453)や、硬化性樹脂中にフィラーを添加する
方法(例えば特開昭63−229643)などがある
が、いずれも潤滑剤は粗面形成後に、スピンコート等に
よって別途塗布が行われる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】これらの方法は、従来
の光磁気ディスクにおけるスピンコート法のみによる保
護層作成法に比べて工程の複雑化、多段化を招き、従っ
てコストの上昇、スループットの低下を招くこととな
る。そこで本発明は、保護層作製時に、従来用いられて
いるスピンコート法のみを用いて、表面に適度な粗面化
処理が施され、かつ、その表面に潤滑剤等の機能性液状
物が付与された保護層を有する磁界変調光磁気記録媒体
の提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、基材の表面に
硬化性樹脂とこれに溶解しない非硬化性液状物との混合
物を塗布し、これを硬化することにより凹凸表面を有す
る樹脂膜を得る事を特徴とする保護膜形成方法及び、基
板上に少なくとも記録層、保護層を有する光磁気記録媒
体であって、保護層が硬化性樹脂とこれに溶解しない非
硬化性液状物との混合物を硬化することによって形成さ
れた凹凸を有する樹脂膜からなることを特徴とする光磁
気記録媒体である。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において用いられる硬化性樹脂は、光や熱等の何
らかの手段により硬化し得る樹脂であれば良く、例えば
アクリル系樹脂にエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、アルコール
可溶性ポリアミド、ポリアクリルエステル等を共存させ
て架橋させる光(紫外線)硬化樹脂や尿素系樹脂、メラ
ミン系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、アル
キド系樹脂等の熱硬化性樹脂、メタクリル酸メチル等の
電子線硬化樹脂等が挙げられる。
【0008】この中でも生産性等の観点から多官能アク
リレートを含むアクリル系紫外線硬化樹脂が用いられる
事が多い。また、非硬化性液状物は、前記硬化性樹脂中
に溶解することなく微小に分散し、且つ、実質的に硬化
に参加しない性質を持つ液体であれば良く、用いる硬化
性樹脂の種類によって異なるが、例えばヘキサン等の揮
発性の液体等を用いても良い。
【0009】またこの非硬化性液状物として液体潤滑剤
を用いれば保護膜に潤滑性が付与できる。この液体潤滑
剤としては、ポリジメチルシロキサンやポリジメチルシ
ロキサンの末端又は側鎖にアミノ基、エポキシ基、カル
ボキシル基、アルキル基等の感応基を反応させた変性ポ
リジメチルシロキサン等のシリコン系潤滑剤やフッ素系
潤滑剤等が挙げられる。
【0010】また、本発明において、基板及び記録膜に
特に制限はない。本発明の方法を光ディスクに適用する
場合には、基板には通常、樹脂或いはガラス等が用いら
れる。記録膜には希土類−遷移金属の合金膜、磁性人工
格子膜、酸化物磁性体膜、およびそれらの多層膜等が用
いられ、これと合わせて誘電体膜や反射膜との複合積層
膜とされるのが、普通である。
【0011】次に、本発明における保護層の好ましい製
法を説明する。まず、硬化性樹脂中に非硬化性液状物を
混合し微細に分散させる。これには通常の攪拌子を用い
るが、更に超音波を用いた攪拌分散装置を用いるのがよ
く、周波数25〜150KHz程度の超音波攪拌分散装
置を用いるのがよい。
【0012】この混合物の塗布には通常スピンコート法
を用いる。保護層の膜厚は薄すぎると保護層の役目を果
たさないため通常1μm以上が好ましい。光ディスクに
適用する場合には、厚すぎると浮上型磁気ヘッドによっ
て生じる磁界が記録層に届かなくなるため、膜厚が1μ
m〜20μmとなるように塗布するのが好ましい。
【0013】塗布後の保護膜は硬化性樹脂中に非硬化性
液状物が島状に分布したものとなる。これを適切な方法
で硬化する事によって硬化性樹脂の部分のみが硬化す
る。非硬化性液状物の部分は硬化に参加しないため、液
状物のまま残る。その結果、保護層には島状に凹部、す
なわち孔が形成され、その孔の内部に非硬化性液状物が
存在した構造となる。
【0014】この孔は通常、円柱状或いはすり鉢状の形
状になるが、この孔の直径が大きいと極端に外観が悪く
なるので、孔の直径は400μm以下が好ましく、直径
が保護層の膜厚よりも小さい孔は形成しにくいので、1
μm以上が好ましい。この孔の大きさは、硬化前に硬化
性樹脂中に粒状に分散させた非硬化性液状物の粒径によ
って制御できる。
【0015】そこで、好ましくは硬化前に硬化性樹脂中
に分散させる非硬化性液状物の平均粒径を、1μm以上
100μm以下、更に好ましくは10μm以上30μm
以下となるように超音波攪拌分散装置等を用いて撹拌す
るのがよい。CSS特性等の、対ヘッド摺動特性は磁気
ヘッドが保護層に接触する面積に大きく依存し、接触面
積が小さいほど摩擦係数が小さくなって、特性が向上す
る。
【0016】この観点から保護層上に多数の孔が形成さ
れると接触面積が減少して特性の向上が期待できる。実
際、顕微鏡写真及びその画像処理結果から保護層全体に
占める孔の全面積の比が30%以上になるとCSSの特
性が向上し、60%以上になると極めて良好な結果が得
られる。
【0017】このような条件を達成するためには、硬化
前の前記混合物中の非硬化性液状物の濃度は、0.5〜
10.0wt.%、好ましくは、1〜4wt.%とする
のがよい。このようにして保護層表面に微細な孔が多数
形成されるが、非硬化性液状物はこの孔から磁気ヘッド
の摺動等によって滲出してくるため、非硬化性液状物と
して液体潤滑剤を用いると潤滑剤を後から塗布する必要
がなく、保護層表面の粗面化と潤滑剤の付与が同時に達
成される。
【0018】また非硬化性液状物として帯電防止剤等の
機能性液体、或いは揮発性液体、及びそれらの混合物等
を用いても良い。揮発性液体及びその混合物は、保護層
の硬化後或いは硬化時に加熱して揮発性の成分のみを保
護層表面から取り除くことによって、保護層上に残る非
硬化性液状物の量を制御する目的で用いる。
【0019】この揮発性液体にはヘキサン等の溶媒が用
いられる。また、上記光磁気記録層と保護膜の間に密着
性及び耐久性向上の目的で、第二の保護層を設けても良
い。
【0020】
【実施例】次に、本発明を実施例により説明するが、本
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。 実施例1 直径90mm、厚さ1.2mmのプレグルーブ付きポリ
カーボネート基板上に、第一誘電体層、磁気記録層、第
二誘電体層、反射層を順にスパッタリング法によって成
膜した。
【0021】この上に硬化性樹脂として、アクリル系紫
外線硬化樹脂である”INC−1011”(商品名)の
ベース剤(INC−1011から潤滑剤を除いた物)
(日本化薬社製)96.0重量部と、非硬化性液状物と
して、メタクリル変性のシリコンオイル”X−22−1
74DX”(商品名)(信越化学社製)4.0重量部の
混合物をスピンコート法によって塗布した後、紫外線を
照射して硬化し、ディスクを作製した。
【0022】この時、混合分散には超音波攪拌機を用い
た。形成された保護膜の膜厚は平均約10μmで、表面
には直径が最大約250μmの孔が多数形成され、保護
膜全体に占める孔部の面積は約67%であった。図1に
実施例1で得られた保護膜の粒子構造の顕微鏡写真を示
した。
【0023】実施例2 硬化性樹脂として”INC−1011”ベース剤を9
9.6重量部と非硬化性液状物として”X−22−17
4DX”を0.4重量部の混合物を用いたこと以外は、
実施例1と全く同様にしてディスクを作製した。保護膜
の膜厚は平均約10μmで、表面には直径が最大約50
μm程度の孔が多数形成され、孔部の面積は約12%で
あった。図2に実施例2で得られた保護膜の粒子構造の
顕微鏡写真を示した。
【0024】比較例1 保護層として硬化性樹脂”INC−1011”ベース剤
のみをスピンコート法で平均10μm塗布、硬化してデ
ィスクを作製した。この保護膜の表面には全く孔が形成
されず、表面は平滑なままであった。このようにして作
製した光磁気記録媒体3種(実施例1,2比較例1)を
用いて、CSS試験、顕微鏡による表面観察及び写真の
撮影を行った。孔部の面積は、CSSテストに用いた保
護膜表面の顕微鏡写真をスキャナーで計算機に取り込
み、汎用画像解析ソフト(Adobe社、PhotoS
hop)を用いて画像処理して求めた。
【0025】具体的には、画像処理は、保護膜表面に形
成された円形の凹部全体或いは凹部のリム(へり)の部
分がその他の部分よりも暗くなっている事を利用し、凹
部を黒色、その他の部分を白色に二値化して表し、その
黒色部と白色部の面積の比から表面に形成された孔部面
積の見積りを行った。CSS試験の結果と孔部面積を表
1にまとめた。
【0026】
【表1】
【0027】表1において通常のコート剤を用いた比較
例1では30回ほどのCSSテストで摩擦係数が増加し
テストを続けられなくなった。また、比較例1のディス
ク表面には摺動による傷が観察された。それに対し実施
例1のディスクでは30000回のCSSテストの後デ
ィスク及びヘッドの表面に傷等はみられず摩擦係数の増
加も見られなかった。また実施例2でも実施例1には及
ばないものの、CSS特性は向上し約500回のCSS
テストが可能であった。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば保
護層表面に微細な凹凸を持ち、かつ潤滑剤等の機能性液
体が存在する保護膜が簡単に形成できる。こうして形成
された保護膜を用いる事で、良好なCSS特性を有する
磁界変調光磁気記録媒体が作製できるのみならず、その
製造法はスピンコートによる塗布と硬化のみで、従来法
に比べて工程が極めて簡素で低コスト化が図れるもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1で得られた保護膜の粒子構造の顕微
鏡写真
【図2】 実施例2で得られた保護膜の粒子構造の顕微
鏡写真

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材の表面に硬化性樹脂とこれに溶解し
    ない非硬化性液状物との混合物を塗布し、これを硬化す
    ることにより凹凸表面を有する樹脂膜を得る事を特徴と
    する保護膜形成方法。
  2. 【請求項2】 基板上に少なくとも記録層、保護層を有
    する光磁気記録媒体であって、保護層が硬化性樹脂とこ
    れに溶解しない非硬化性液状物との混合物を硬化するこ
    とによって形成された凹凸を有する樹脂膜からなること
    を特徴とする光磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の光磁気記録媒体におい
    て、非硬化性液状物が、液体潤滑剤からなることを特徴
    とする光磁気記録媒体。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の光磁気記録媒体におい
    て、液体潤滑剤が、変性シリコンオイルを含有する組成
    物からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
  5. 【請求項5】 前記保護層が、直径1μm以上400μ
    m以下の孔が多数形成され、かつ孔の内部に上記非硬化
    性液状物が存在することを特徴とする請求項2に記載の
    光磁気記録媒体。
  6. 【請求項6】 前記保護層に形成された孔の全面積が、
    保護層の総面積の30%以上であることを特徴とする請
    求項5に記載の光磁気記録媒体。
JP25812795A 1995-09-11 1995-09-11 保護膜形成方法及び保護膜を有する光磁気記録媒体 Pending JPH0981980A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017099993A1 (en) * 2015-12-08 2017-06-15 3M Innovative Properties Company Magnetic isolator, method of making the same, and device containing the same
WO2017100029A1 (en) * 2015-12-08 2017-06-15 3M Innovative Properties Company Magnetic isolator, method of making the same, and device containing the same
WO2017100030A1 (en) * 2015-12-08 2017-06-15 3M Innovative Properties Company Magnetic isolator, method of making the same, and device containing the same

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US10734725B2 (en) 2015-12-08 2020-08-04 3M Innovative Properties Company Magnetic isolator, method of making the same, and device containing the same

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